KR100525652B1 - 폴리싱 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- 연마포가 부착된 턴테이블;소정의 압력하에서 상기 연마포에 대하여 폴리싱될 작업 대상물을 유지 및 가압하는 톱링;접촉형 드레서를 구비하여, 상기 접촉형 드레서를 상기 연마포에 접촉시킴으로써 상기 연마포를 드레싱 하는 제 1 드레싱 유닛; 및비접촉형 드레서를 구비하여, 상기 연마포에 가해진 유체 제트로 상기 연마포를 드레싱 하는 제 2 드레싱 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 접촉형 드레서는, 다이아몬드 드레서와 SiC 드레서 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 유체 제트는 5 내지 30 kg/cm2 범위의 압력을 갖는 액체 제트를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 장치.
- 작업 대상물을 폴리싱하기 위해 턴테이블에 부착된 연마포를 컨디셔닝하는 방법으로서,상기 연마포가 사용되기 시작할 때의 초기 컨디셔닝으로서, 접촉형 드레서를 구비한 제 1 드레싱 유닛으로 상기 연마포를 드레싱하는 단계; 및각각 상기 작업 대상물을 폴리싱하는 폴리싱 공정들 사이에서, 비접촉형 드레서를 구비한 제 2 드레싱 유닛으로 상기 연마포를 드레싱하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 연마포 컨디셔닝 방법.
- 제 4항에 있어서,상기 접촉형 드레서는 다이아몬드 드레서 및 SiC 드레서 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 연마포 컨디셔닝 방법.
- 제 4항에 있어서,상기 비접촉형 드레서는 유체 제트를 분출하기 위한 유체 제트 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 연마포 컨디셔닝 방법.
- 작업 대상물을 폴리싱하기 위해 턴테이블에 부착된 연마포를 컨디셔닝하는 방법으로서,상기 연마포가 사용되기 시작할 때의 초기 컨디셔닝으로서, 접촉형 드레서를 구비한 제 1 드레싱 유닛으로 상기 연마포를 드레싱하는 단계; 및각각 상기 작업 대상물을 폴리싱하는 폴리싱 공정들 사이에서, 먼저 상기 제 1 드레싱 유닛으로 상기 연마포를 드레싱하고, 다음에 비접촉형 드레서를 구비한 제 2 드레싱 유닛으로 상기 연마포를 드레싱 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 연마포 컨디셔닝 방법.
- 제 7항에 있어서,상기 접촉형 드레서는 다이아몬드 드레서와 SiC 드레서 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 연마포 컨디셔닝 방법.
- 제 7항에 있어서,상기 비접촉형 드레서는 유체 제트를 분출하기 위한 유체 제트 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 연마포 컨디셔닝 방법.
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