KR100521314B1 - 반도체장치제조용웨이퍼이송기구 - Google Patents

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박순종
홍석종
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Abstract

본 발명은 반도체장치 제조공정이 진행되는 공정설비간 웨이퍼의 이동시 사용되는 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 관한 것이다.
본 발명은, 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 있어서, 상기 이송기구의 외측에 표식수단이 구비됨을 특징으로 한다.
따라서, 반도체 공정설비에 설치된 복수의 캐리어 및 캐리어 박스를 빠짐없이 정기적으로 세정함으로서 세정불량에 따른 문제점이 발생하는 것을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체 장치 제조용 웨이퍼 이송기구
본 발명은 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체장치 제조공정이 진행되는 공정설비간 웨이퍼의 이동시 사용되는 캐리어(Carrier)- 및 캐리어 박스(Carrier box)로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 관한 것이다.
통상, 반도체장치는 산화공정, 확산공정, 식각공정, 이온주입공정 등의 일련의 반도체 공정설비를 웨이퍼가 연속적으로 이동하며 반도체장치 제조공정이 진행됨으로서 제작된다. 그리고, 상기 공정설비로 이동되는 웨이퍼는 랏(Lot) 단위로 테플론(Teflon) 또는 폴리프로필렌(Poly-propylene) 등의 재질로 이루어지는 캐리어(Carrier)에 적재되고, 상기 캐리어가 다시 캐리어 박스(Carrier box)에 적재된 상태로 일련의 반도체 공정설비로 이동한다.
그런데, 연속되는 공정에 있어서 상기 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 웨이퍼 이송기구에 파티클(Particle) 또는 각종 케미컬(Chemical)이 흡착되어 있으면 공정이 진행될 웨이퍼가 오염되는 문제점이 발생한다. 이에 따라, 상기 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 웨이퍼 이송기구를 정기적으로 세정하는 세정공정을 진행한다.
그리고, 상기 세정공정은 반도체 공정설비 내부에 설치된 모든 캐리어 및 캐리어 박스에 대해서 일괄적으로 진행되지 못하고 부분적으로 진행되고 있다. 이는, 캐리어 및 캐리어 박스가 반도체 공정설비 내부에 매우 많이 설치되어 있고, 모든 캐리어 및 캐리어 박스를 회수하여 세정공정을 진행하면 반도체 공정설비의 동작을 정지시켜야 하는 문제점이 발생하기 때문이다.
따라서, 특정 캐리어 및 캐리어 박스는 정기적으로 세정공정이 진행되나, 작업자의 부주의 등의 원인에 의해서 작업자에게 선택되지 못한 캐리어 및 캐리어 박스는 심할 경우 4 년 내지 5 년동안 세정되지 않아 반도체공정의 불량요인으로 작용하는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 반도체 공정설비 내부의 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 웨이퍼 이송기구에 모두 표식수단을 형성하여 빠짐없이 정기적으로 세정할 수 있는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구를 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구는, 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 있어서, 상기 이송기구의 외측에 표식수단이 구비됨을 특징으로 한다.
상기 표식수단은 상기 웨이퍼 이송기구의 외측벽을 관통하여 고정된 색상을 가진 핀으로 이루어지거나, 상기 웨이퍼 이송기구 자체의 색상으로 이루어질 수 있다.
그리고, 상기 표식수단은 상기 이송기구의 외측벽에 부착되어 일정기간이 경과되면 색상이 변화되는 스티커로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 표식수단은 투명재질로 몰딩된 바코드와 메모리칩으로 이루어질 수 있다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1 을 참조하면, 일련의 반도체 공정설비로 랏단위의 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 이송기구 즉, 캐리어(10)의 외측벽에 캐리어(10)의 종류를 나타내는 빨강색, 주황색, 노랑색, 초록색, 파랑색, 남색, 보라색 등의 색깔 가운데 선택된 색상이 형성된 핀(12)이 도 2 에 도시된 바와 같이 캐리어(10)의 측벽에 형성된 관통홀(도시되지 않음) 내부에 삽입됨으로서 설치되어 있다. 제작자에 따라 상기 캐리어(10) 자체를 빨강색, 주황색, 노랑색, 초록색, 파랑색, 남색, 보라색 등의 색깔 가운데 선택된 색상으로 제작할 수도 있고, 도면에는 도시되지 않았으나 캐리어(10)가 적재되는 캐리어 박스에도 도 1 에 도시된 바와 같이 색상을 가진 핀(12)을 설치할 수 있다.
이에 따라, 반도체장치 제조과정에 정기적으로 캐리어(10) 및 캐리어 박스에 대한 세정공정이 진행되면, 먼저, 특정 색상의 핀(12)이 설치된 캐리어(10) 또는 캐리어 박스를 회수하여 세정공정을 진행한다. 그리고, 다시 다른 특정 색상의 핀(12)이 설치된 캐리어(10) 또는 캐리어 박스를 회수하여 세정공정을 진행한다. 이후, 전술한 바와 같은 세정공정을 반복적으로 진행함으로서 반도체 공정설비에 설치된 모든 캐리어(10) 및 캐리어 박스에 대한 세정공정을 완료한다.
그리고, 반도체 공정설비 내부에 설치된 모든 캐리어 및 캐리어 박스를 몇가지 선택된 색상으로 제작하면, 전술한 바와 같은 방법을 이용하여 먼저 특정 색상을 가진 캐리어 또는 캐리어 박스를 회수하여 세정공정을 진행한 후, 다시 다른 색상의 캐리어 또는 캐리어 박스를 회수하여 세정하는 공정을 반복적으로 진행함으로서 반도체 공정설비 내부에 설치된 모든 캐리어 및 캐리어 박스에 대한 세정공정을 완료할 수 있다.
도 3 을 참조하면, 캐리어(14) 외측에 일정기간이 경과되면 색상이 변화되는 스티커(16)가 부착되어 있다. 상기 스티커(16)는 도면에는 도시되지 않았으나 제작자에 따라 캐리어 박스에도 부착할 수 있다.
이에 따라, 반도체장치 제조과정에 캐리어(14) 또는 캐리어 박스에 부착된 상기 스티커(16)의 색상이 변화되면, 캐리어(14) 또는 캐리어 박스를 회수하여 세정공정을 진행한다.
도 4 를 참조하면, 캐리어(18)의 외측벽에 투명재질로 몰딩부(24)에 의해서 몰딩(Molding)된 바코드(20) 및 메모리칩(22)이 부착되어 있다. 상기 바코드(20) 및 메모리칩(22)은 도면에는 도시되지 않았으나 제작자에 따라 캐리어 박스에 부착할 수도 있다.
이에 따라, 반도체장치 제조과정에 공정설비로 투입된 캐리어(18) 또는 캐리어 박스는 상기 캐리어(18) 또는 캐리어 박스에 부착된 바코드(20) 및 메모리칩(22)을 레이저빔(Laser beam) 등을 이용하여 리딩(Reading)함으로서 세정공정의 진행여부를 판단하여 세정공정을 진행한다.
따라서, 본 발명에 의하면 반도체 공정설비에 설치된 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 웨이퍼 이송기구를 빠짐없이 정기적으로 세정함으로서 작업자의 부주의 등의 원인에 의해서 세정공정이 진행되지 않아 반도체공정의 불량원인으로 작용하는 것을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
도 1 은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구의 일 실시예를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2 는 도 1 에 도시된 핀의 결합상태를 설명하기 위한 확대 단면도이다.
도 3 은 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구의 다른 실시예를 설명하기 위한 사시도이다.
도 4 는 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 이송기구의 또다른 실시예를 설명하기 위한 사시도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10, 14, 18 : 캐리어 12 : 핀
16 : 스티커 20 : 바코드
22 : 메모리칩 24 : 몰딩부

Claims (2)

  1. 캐리어 및 캐리어 박스로 이루어지는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구에 있어서,
    상기 캐리어의 외측에는 상기 캐리어의 종류를 표지하도록 상기 캐리어의 외측벽을 관통하여 고정된 일정한 색상을 가지는 핀이 구비됨을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 핀은 상기 캐리어 자체의 색상으로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조용 웨이퍼 이송기구.
KR1019970052400A 1997-10-13 1997-10-13 반도체장치제조용웨이퍼이송기구 KR100521314B1 (ko)

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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01145127U (ko) * 1988-03-29 1989-10-05
JPH01156550U (ko) * 1988-04-21 1989-10-27
JPH0244333A (ja) * 1988-08-05 1990-02-14 Fuji Photo Film Co Ltd 合成焼付装置
JPH0284319U (ko) * 1988-12-20 1990-06-29
JPH0357243A (ja) * 1989-07-25 1991-03-12 Nec Corp バーコード埋め込み式のウェハーキャリアボックス
JPH03116041A (ja) * 1989-09-28 1991-05-17 Konica Corp 脱銀性が改良されたハロゲン化銀カラー写真感光材料
KR100191823B1 (ko) * 1996-03-14 1999-06-15 윤종용 반도체용 캐리어 이송박스 및 그의 바코드 리딩 시스템

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01145127U (ko) * 1988-03-29 1989-10-05
JPH01156550U (ko) * 1988-04-21 1989-10-27
JPH0244333A (ja) * 1988-08-05 1990-02-14 Fuji Photo Film Co Ltd 合成焼付装置
JPH0284319U (ko) * 1988-12-20 1990-06-29
JPH0357243A (ja) * 1989-07-25 1991-03-12 Nec Corp バーコード埋め込み式のウェハーキャリアボックス
JPH03116041A (ja) * 1989-09-28 1991-05-17 Konica Corp 脱銀性が改良されたハロゲン化銀カラー写真感光材料
KR100191823B1 (ko) * 1996-03-14 1999-06-15 윤종용 반도체용 캐리어 이송박스 및 그의 바코드 리딩 시스템

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