KR100496268B1 - 반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 실리콘 웨이퍼나 글라스 웨이퍼에 반도체 식각 공정을 응용하여 이색으로 문자나 도형을 식각하여 각종 귀금속 등의 장신구에 사용할 수 있도록 하는 반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법에 관한 것이다.

본 발명에 따르면, 실리콘 웨이퍼 위에 레지스트를 도포하는 제1공정과, 크롬 마스크를 상기 레지스트 위에 놓는 제2공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트를 페터닝(patterning)하는 제3공정과, 식각공정을 이용하여 실리콘 웨이퍼를 식각하는 제4공정과, 레지스트를 제거하는 제5공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 도금층을 형성시키는 제6공정과, 다시 전체에 레지스트를 도포하는 제7공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트를 페터닝하는 제8공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 이색도금층을 형성시키는 제9공정과, 레지스트를 제거하는 제10공정을 포함한 반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법이 제공된다.

Description

반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법{The printing method at silicon wafer making use of the semiconductor etching process}

본 발명은 반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 실리콘 웨이퍼나 글라스 웨이퍼에 반도체 식각 공정을 응용하여 이색으로 문자나 도형을 식각하여 각종 귀금속 등의 장신구에 사용할 수 있도록 하는 반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법에 관한 것이다.

로고문자나 상표도형 또는 시계문자 등의 정밀한 모양을 요구하는 것은 주로 금속 포토레지스터를 이용하여 적용하고 있으나, 아직까지 수 ㎛까지의 문자 및 도형을 초정밀하게 새기지는 못하고 있다. 그리고, 각종 장신구에 문양을 넣기 위한 방법으로는 초소형 줄 도구를 이용하여 일면을 파내는 식각작업이 있는데, 이는 까다롭고 많은 시간과 노력이 필요하며 정교하게 각인할 수 없는 문제점이 있다. 또한 색상의 차이가 있어 미관이 좋지 못하고 다른 장신구에 똑같은 모양을 식각하지 못하는 문제점이 있다.

본 발명의 목적은 상기와같은 종래의 문제점을 감안하여 반도체의 식각공정을 응용하여 귀금속에 다양한 방법으로 양각이나 음각 등으로 문자나 도형을 여러가지 색상으로 식각할 수 있는 방법을 제공함에 있다.

이하 본 발명을 첨부 도면에 의거 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 1에 도시된 방법은 실리콘 웨이퍼(1) 위에 레지스트(2)를 도포하는 제1공정과, 크롬 마스크(3)를 상기 레지스트(2) 위에 놓는 제2공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트(2)를 페터닝(patterning)하는 제3공정과, 식각공정을 이용하여 실리콘 웨이퍼(1)를 식각하는 제4공정과, 레지스트(2)를 제거하는 제5공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 도금층(4)을 형성시키는 제6공정과, 다시 전체에 레지스트(2)를 도포하는 제7공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트(2)를 페터닝하는 제8공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 이색도금층(5)을 형성시키는 제9공정과, 레지스트(2)를 제거하는 제10공정을 포함함을 특징으로 한다.

상기와 같은 방법은 두가지 색상으로 표현할 수 있는 방법으로서, 전체에 도금층(4)이 형성되고, 제4공정에서 식각된 요홈부에 제9공정에서 이색도금층(5)을 형성시켜 된다.

이와같이 본 발명에 의해 두가지 이상의 귀금속을 증착 또는 도금할 수 있고, 표면과 문자 또는 그림도색이 미려하여 구분이 가능하다.

도 2에 도시된 방법은 실리콘 웨이퍼(1)를 산화시키는 제1공정과, 레지스트(2)를 실리콘 웨이퍼(1)에 도포하는 제2공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트(2)를 페터닝하는 제3공정과, 산화막(6)을 엣칭하는 제4공정과, 식각공정을 이용하여 실리콘 웨이퍼(1)를 식각하는 제5공정과, 레지스트(2)와 산화막(6)을 제거하는 제6공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 도금층(4)을 형성시키는 제7공정과, 다시 레지스트(2)를 도포하는 제8공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트(2)를 페터닝하는 제9공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 이색도금층(5)을 형성시키는 제10공정과, 레지스트(2)를 제거하는 제11공정을 포함함을 특징으로 한다.

이와같은 도 2에 도시된 방법 또한 두가지 이상의 금속을 증착 또는 도금할 수 있고, 표면과 문자 또는 그림도 색이 미려하여 구분이 가능하며, 산화를 시킴으로 산화막이 보호막 역할을 해서 다음 공정에서의 긁힘을 방지할 수 있어 표면이 미려하고, 산화막의 형성으로 식각률과 식각되는 각도도 바꿀 수 있다. 또한 전기적 특성을 안정시키고 신뢰도를 증가시킨다.

상기와 같이 다양한 방법은 수 ㎝에서 수 ㎛까지 초소형으로 문자 및 도형이 인쇄가 가능하고, 아주 복잡한 형상의 문자 및 도형을 정교하게 인쇄할 수 있으며, 많은 양의 문자 및 도형을 초소형으로 인쇄가 가능하여 작은 악세사리, 기념품, 장신구에 인쇄가 가능하고, 귀금속을 문자나 도형으로 증착 또는 도금함으로써 미관이 좋아지고 품질이 좋아지며, 반도체 식각 공정을 이용함으로써 초소형 초정밀로 가공할 수 있고, 대량 생산이 가능함으로써 시간과 노력이 최소화될 뿐만아니라, 여러가지 색상으로 미세하게 인쇄할 수 있어 매우 다체로운 장식을 구현할 수 있게 된다.

이와같이 된 본 발명은 반도체 식각 공정을 이용함으로써 초소형 초정밀 대량화가 가능한 효과가 있고, 규격에 맞는 인쇄가 가능하여 응용분야가 넓어지는 효과가 있으며, 정밀하게 제조되는 금속레지스터를 이용하여 정교한 문자 및 도형을 귀금속으로 인쇄함에 따라 장신구의 품질을 높일 수 있는 효과가 있고, 재료의 특성상 경량화되고 귀금속 증착 또는 도금으로 인해 부식이 방지되며 장시간 색상이 그대로 유지되는 효과가 있으며, 여러가지 색상으로 장식할 수 있는 효과가 있다.

도 1 내지 도 2는 다양한 방법으로 문양을 인쇄하는 공정도

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1 : 실리콘 웨이퍼 2 : 레지스트 3 : 크롬 마스크

4 : 도금층 5 : 이색도금층 6 : 산화막

Claims (2)

1. 실리콘 웨이퍼(1) 위에 레지스트(2)를 도포하는 제1공정과, 크롬 마스크(3)를 상기 레지스트(2) 위에 놓는 제2공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트(2)를 페터닝(patterning)하는 제3공정과, 식각공정을 이용하여 실리콘 웨이퍼(1)를 식각하는 제4공정과, 레지스트(2)를 제거하는 제5공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 도금층(4)을 형성시키는 제6공정과, 다시 전체에 레지스트(2)를 도포하는 제7공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트(2)를 페터닝하는 제8공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 이색도금층(5)을 형성시키는 제9공정과, 레지스트(2)를 제거하는 제10공정을 포함함을 특징으로 하는 반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법.
2. 실리콘 웨이퍼(1)를 산화시키는 제1공정과, 레지스트(2)를 실리콘 웨이퍼(1)에 도포하는 제2공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트(2)를 페터닝하는 제3공정과, 산화막(6)을 엣칭하는 제4공정과, 식각공정을 이용하여 실리콘 웨이퍼(1)를 식각하는 제5공정과, 레지스트(2)와 산화막(6)을 제거하는 제6공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 도금층(4)을 형성시키는 제7공정과, 다시 레지스트(2)를 도포하는 제8공정과, 로광장비를 이용하여 레지스트(2)를 페터닝하는 제9공정과, 여기에 금이나 은 등의 희귀금속을 증착 또는 도금하여 이색도금층(5)을 형성시키는 제10공정과, 레지스트(2)를 제거하는 제11공정을 포함함을 특징으로 하는 반도체 식각 공정을 이용한 실리콘에 인쇄하는 방법.