KR100493141B1 - 도광판 패턴의 자동화된 설계 방법 및 그 시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명은 시뮬레이터를 이용하여 도광판 패턴을 신속하고 효율적으로 설계할 수 있는 방법 및 그 시스템, 장치 및 소프트웨어에 관한 것으로서, 본 발명의 도광판 패턴 설계 방법은, 입력수단, 출력수단, 저장수단, 중앙처리장치, 도트(dot)위치 생성수단, 시뮬레이터, 휘도계산 수단 및 도트밀도 보정수단을 포함하는 것으로서, 그 중앙처리장치가, (a) 상기 입력수단을 이용하여 소정의 도트 밀도를 가진 도광판 패턴을 입력받는 단계; (b) 상기 입력수단을 이용하여 상기 도트들의 형태변수 및 도광판 변수를 입력받는 단계; (c) 전단계에서 입력된 도트 밀도를 바탕으로 상기 도트위치 생성수단을 이용하여 각 도트들에 대한 좌표변수를 생성하는 단계; (d) 상기 시뮬레이터에 상기 도트들의 좌표변수, 형태변수 및 도광판 변수들을 입력하는 단계; (e) 상기 시뮬레이터를 이용하여 전단계에서 입력된 도광판 패턴이 나타낼 도광판 휘도 분포를 모사하는 단계; (f) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 모사된 도광판의 전체 평균휘도값을 구하는 단계; (g) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 도광판을 분할한 각 분석섹터별로 개별휘도값을 구하는 단계; 및,(h) 상기 도트밀도 보정수단을 이용하여 상기 평균휘도값 및 개별휘도값을 바탕으로 각 분석섹터의 도트 밀도를 가감하여 새로운 도광판 패턴의 도트 밀도를 생성하는 단계;를 포함하는 도광판 패턴 설계 방법을 수행하는 것을 특징으로 한다.

Description

도광판 패턴의 자동화된 설계 방법 및 그 시스템{A METHOD FOR AUTOMATIC DESIGNING PATTERNS OF LIGHT GUIDE PLATE AND SYSTEMS THEREOF}

본 발명은 도광판 패턴 설계 방법 및 그 시스템에 관한 것으로서, 좀 더 상세하게는 도광판 표면의 도트 패턴을 자동적으로 설계하는 방법 및 그 시스템에 관한 것이다.

잘 알려져 있듯이, 도광판이란 LCD처럼 스스로 빛을 내지 못하는 디스플레이 장치 배면에서, 측면에 위치한 광원으로부터(side view) 발생한 빛을 디스플레이 전면으로 향하게 하는, PMMA나 기타 이와 유사한 재질로 만들어진 판형 모듈을 의미한다.

도광판이 측면 광원으로부터 빛을 굴절시켜 전면으로 향하게 하는 주된 기재는 광원으로부터 발생한 빛이 도광판 내부로 입사된 후 도광판의 배면에 형성된 굴절 도트(dot)에서 반사되거나 산란되어 그 경로가 변경되기 때문인데, 이러한 도트는 보통 잉크 등으로 인쇄된 형태를 사용하거나 또는 기계적으로 형성된 노치(notch), 피트(pit) 또는 딤플(dimple) 등의 형태를 띈다.

전술한 도트들의 도광판 표면에서의 배치 형태를 도트 패턴(dot pattern)이라 칭하는데, 이러한 도트 패턴이 가져야 할 가장 중요한 특성 중 하나는 이 도광판을 사용했을 때 빛이 될 수 있는 한 넓게 골고루 퍼져서 도광판 전면에 걸쳐 균일한 휘도가 나타날 수 있도록 하여야 한다는 것이다.

일반적으로 광원에 가까운 쪽이 먼 곳보다 휘도가 높고 또한 도트들의 밀도가 높은 지점이 도트들의 밀도가 상대적으로 작은 지점보다 휘도가 높으므로, 도광판의 휘도 균질성을 좌우하는 변수는 크게 광원의 위치 및 도트들의 밀도 분포라고 할 수 있다. 그 중에서 광원의 위치는 어차피 사전에 정해지는 것이므로, 휘도 균질성을 위해서는 도트 패턴의 설계가 매우 중요한 위치를 점하는 기술이라 할 수 있다.

이러한 도광판 패턴은 전자제품마다 그 설계를 달리 해야한다. 왜냐하면, 가령, LCD를 쓰는 전자장치는 휴대폰부터 컴퓨터 모니터나 벽걸이 TV 등에 걸쳐 다양한 형태를 띄고 있으므로 그에 따라 도광판의 넓이 및 모양이 모두 달라져 매 제품마다 그 모양 및 넓이, 광원의 특성에 따른 고유한 도광판 패턴 설계가 이루어져야 하기 때문이다.

현재까지 사용되는 도광판 패턴의 설계 방식은 매우 원시적이고 비효율적인 방법을 사용하였다. 그 중에서 가장 기본적으로 사용하던 방식은, 새로운 도광판 패턴을 설계할 때 비슷한 크기와 면적을 가진 종전의 도광판 패턴을 그대로 본떠서 새로운 도광판에 적용한 프로토 타입(proto type)을 시험적으로 제작한 후, 그 패턴에서 균일한 휘도가 얻어지는지를 육안으로 확인하고, 균일하지 않은 부분들이 발견되면 이 부분들에 배치된 도트 밀도를 다른 부분에 비해 상대적으로 가감한 2차 프로토 타입의 도광판을 다시 제작하여 동일한 과정을 거쳐 최적 설계를 얻는 방식이었다. 즉, 매번마다 도광판을 직접 제작하여 이를 육안으로 관찰하고 경험치를 이용하여 이를 보정하는 원시적인 방법을 사용하여 왔다.

새로운 도광판 형태마다 새로운 형틀을 제작해서 새로운 도광판 프로토 타입을 실제 제작해야 하는 이러한 종전 방식은, 비용 및 시간적인 측면에서 볼 때 매우 비효율적인 설계 방식이다.

이는 특히 최근에 급부상한 산업인 휴대폰 제조업의 경우에 있어서 더욱 심각한데, 한 휴대폰 메이커마다 매년 몇 십개 이상의 신모델이 출시되는 요즘의 상황에서 지나치게 많은 인력과 비용 및 시간이 소요되는 이러한 원시적인 설계 방식은, 자칫 해당 휴대폰 메이커를 시장 선점의 경쟁에서 도태시킬 수도 있을 만큼 낡은 방법이라 할 수 있다.

따라서 이러한 원시적인 방법을 탈피하여 새롭고 효율화된 도광판 설계 방법이 요구되고 있는 실정이다.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하고자 하는 것으로서, 실제 도광판을 제작하지 않고도 컴퓨터 시뮬레이션을 이용하여 설계된 도광판의 휘도 패턴을 구하고 이를 자동적으로 피드백시킴으로써 최적화된 도광판 패턴을 손쉽게 구하는 방법 및 그 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.

따라서 이러한 본 발명의 특징을 이용하면 무엇보다도 새로운 도광판의 제작시에 소요되는 비용 및 시간을 획기적으로 줄일 수 있게 되는 것이다.

또한 본 발명은 상기 방식으로 작동하도록 컴퓨터를 구동시키는 소프트웨어의 구조 및 그 작동방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.

또한 본 발명은 상기 방법으로 작동하는 도광판 자동설계 시스템의 구조 및 그 작동방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 도광판 패턴 설계 방법은 입력수단, 출력수단, 저장수단, 중앙처리장치, 도트(dot)위치 생성수단, 시뮬레이터, 휘도계산 수단 및 도트밀도 보정수단을 포함하는 것으로서, 그 중앙처리장치가, (a) 상기 입력수단을 이용하여 소정의 도트 밀도를 가진 도광판 패턴을 입력받는 단계; (b) 상기 입력수단을 이용하여 상기 도트들의 형태변수 및 도광판 변수를 입력받는 단계; (c) 전단계에서 입력된 도트 밀도를 바탕으로 상기 도트위치 생성수단을 이용하여 각 도트들에 대한 좌표변수를 생성하는 단계; (d) 상기 시뮬레이터에 상기 도트들의 좌표변수, 형태변수 및 도광판 변수들을 입력하는 단계; (e) 상기 시뮬레이터를 이용하여 전단계에서 입력된 도광판 패턴이 나타낼 도광판 휘도 분포를 모사하는 단계; (f) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 모사된 도광판의 전체 평균휘도값을 구하는 단계; (g) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 도광판을 분할한 각 분석섹터별로 개별휘도값을 구하는 단계; 및,(h) 상기 도트밀도 보정수단을 이용하여 상기 평균휘도값 및 개별휘도값을 바탕으로 각 분석섹터의 도트 밀도를 가감하여 새로운 도광판 패턴의 도트 밀도를 생성하는 단계;를 포함하는 도광판 패턴 설계 방법을 수행하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 실시예인 입력수단, 출력수단, 저장수단, 중앙처리장치를 가진 컴퓨터를 구동시키는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기록매체에 있어서, 상기 컴퓨터 프로그램은 도트(dot)위치 생성수단, 시뮬레이터, 휘도계산 수단 및 도트밀도 보정수단을 포함하고, 상기 컴퓨터 프로그램이, (a) 상기 입력수단을 이용하여 소정의 도트 밀도를 가진 도광판 패턴을 입력받는 단계; (b) 상기 입력수단을 이용하여 상기 도트들의 형태변수 및 도광판 변수를 입력받는 단계; (c) 전단계에서 입력된 도트 밀도를 바탕으로 상기 도트위치 생성수단을 이용하여 각 도트들에 대한 좌표변수를 생성하는 단계; (d) 상기 시뮬레이터에 상기 도트들의 좌표변수, 형태변수 및 도광판 변수들을 입력하는 단계; (e) 상기 시뮬레이터를 이용하여 전단계에서 입력된 도광판 패턴이 나타낼 도광판 휘도 분포를 모사하는 단계; (f) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 모사된 도광판의 전체 평균휘도값을 구하는 단계; (g) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 도광판을 분할한 각 분석섹터별로 개별휘도값을 구하는 단계; 및, (h) 상기 도트밀도 보정수단을 이용하여 상기 평균휘도값 및 개별휘도값을 바탕으로 각 분석섹터의 도트 밀도를 가감하여 새로운 도광판 패턴의 도트 밀도를 생성하는 단계;를 포함하는 도광판 패턴 설계 방법을 수행하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 실시예인 도광판 패턴 설계 장치는, 입력수단, 출력수단, 저장수단, 중앙처리장치, 도트(dot)위치 생성수단, 시뮬레이터, 휘도계산 수단 및 도트밀도 보정수단을 포함하고, (a) 상기 입력수단을 이용하여 소정의 도트 밀도를 가진 도광판 패턴을 입력받는 단계; (b) 상기 입력수단을 이용하여 상기 도트들의 형태변수 및 도광판 변수를 입력받는 단계; (c) 전단계에서 입력된 도트 밀도를 바탕으로 상기 도트위치 생성수단을 이용하여 각 도트들에 대한 좌표변수를 생성하는 단계; (d) 상기 시뮬레이터에 상기 도트들의 좌표변수, 형태변수 및 도광판 변수들을 입력하는 단계; (e) 상기 시뮬레이터를 이용하여 전단계에서 입력된 도광판 패턴이 나타낼 도광판 휘도 분포를 모사하는 단계; (f) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 모사된 도광판의 전체 평균휘도값을 구하는 단계; (g) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 도광판을 분할한 각 분석섹터별로 개별휘도값을 구하는 단계; 및, (h) 상기 도트밀도 보정수단을 이용하여 상기 평균휘도값 및 개별휘도값을 바탕으로 각 분석섹터의 도트 밀도를 가감하여 새로운 도광판 패턴의 도트 밀도를 생성하는 단계;를 포함하는 도광판 패턴 설계 방법을 수행하는 것을 특징으로 한다.

전술한 도광판은 그 측면에 배치되는 LED 등의 점광원 또는 CCFL 등의 직선형 광원 중 어느 한 광원과 함께 사용될 수 있다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들에 대해서 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명인 도광판 패턴 설계 시스템의 구성도이다. 도 1의 시스템은, 컴퓨터를 구동시키는 것으로서, 데이터를 입력하는 입력수단과, 데이터를 저장하는 저장수단, 데이터를 계산하는 CPU, 그리고 데이터를 출력하는 모니터 등의 출력수단 등의 하드웨어 장치를 포함한다. 또한 도광판의 각 구역별로 그 밀도가 설정된 도트들의 좌표를 설정하는 도트위치 생성수단, 생성된 도트들의 좌표 및 기타 광학 데이터를 제공받아 광학적인 상황을 모사하는 시뮬레이터, 그리고 상기 시뮬레이터에서 출력된 결과에 대해 그 휘도를 분석하는 휘도계산수단, 그리고 계산된 휘도로부터 각 구역별로 도트밀도를 재설정해주는 도트밀도 보정수단을 포함하여 구성된다.

하드웨어 또는 소프트웨어 중 어느 하나로 구현되는 상기 각 수단들은 하나의 컴퓨터내에 모두 구현될 수 있지만(stand-alone type), 유무선으로 연결되어 일부는 서버로서 일부는 클라이언트로서 작동하는 네트워크 컴퓨터들에서도 유기적으로 구현되어 작동될 수 있다(network type).

본 발명인 도광판 패턴 설계 시스템에서, 제일 먼저 수행되는 단계는 도광판을 설계하고자 하는 사용자가 상기 입력 수단을 이용하여 T 01패턴을 생성하는 것이다.

본 발명에서 T 01 패턴이란 설계 대상인 도광판의 각 영역별로 사용자가 스스로 설정한 도트 밀도를 말한다. 이는 가장 원시적이고 기초적인 도광판 패턴인데, 이를 설정하는 구체적인 방식은 상기 입력수단을 이용하여 전체 도광판의 크기를 입력하고 각 영역별로 도트 밀도를 설정해주거나 또는 어느 특정 지점, 가령 광원과 제일 근접한 지점의 도트 밀도를 입력한 후 사전에 설정된 지수함수나 기타 함수를 이용하여 자동적으로 영역별로 도트 밀도가 계산되어 설정되도록 하는 것이다.

도 2a에서는 사용자에 의해 임의로 설정된 상기 T 01의 도트 밀도에 대한 한 실시예가 광원으로부터의 거리별로 나타나 있으며, 이 실시예의 모식적인 도광판 형태가 도 2b에 도시되어 있다. 이 실시예는, 가로축의 길이가 50mm, 세로축의 길이가 60mm인 도광판의 어느 한 측면에 인접한 광원의 Y축 좌표값을 0으로 둔 후, Y축 방향으로 거리가 증가함에 따라 도트 밀도가 증가되도록 설정된 임의의 도광판 도트 밀도 패턴인 것이다.

여기서 도트 밀도가 Y 값에 따라 증가되도록 설정한 것은, 광원으로부터의 거리가 멀어질수록 휘도가 작아질 것이므로 이를 상쇄하여 전체적으로 균일한 휘도를 발하게 하기 위한 것으로서, 도광판에서 도트가 많아질수록 휘도가 커진다는 자연법칙을 이용한 것이다.

상기 Y축 거리에 따른 증가분은 전술한 지수함수, 선형비례 외에 사용자의 경험에 따른 임의값이 입력될 수 있는데, 이처럼 T 01에서 도트 밀도를 임의로 설정할 수 있는 것은 후술하는 반복 과정에서 최적화에 접근할 수 있기 때문이다.

도 2b의 패턴은 도 2a의 입력에 따라 동일한 Y 거리에 위치한 모든 지점, 즉 도면에서 볼 때 같은 높이는 모두 같은 도트 밀도를 갖는 단순 패턴이므로 본 발명의 시뮬레이터를 구동시키기 위한 초기값 이상의 의미 밖에는 없다. 따라서 상기 T 01의 도트 패턴이 실제 구현된 도광판을 점광원 LED와 함께 사용할 경우, 광원에 가까운 부분은 너무 밝고 그 측면에는 암영역이 만들어지며 도광판 전체의 휘도도 불균일할 것이다.

본 발명은 이 T 01을 기초로 하여 시뮬레이터(simulator)를 구동시키고 그로부터 매번 추출되는 새로운 패턴을 T11, T21 등으로 설정하면서 이를 반복하여(iteration) 최적화된 도광판 패턴 설계를 자동적으로 찾아내게 된다.

상기 T 01의 도트 밀도 패턴을 설정하면, 그 다음 단계는 이를 이용하여 광학 시뮬레이터에서 이를 모사한 휘도가 어떻게 나오는지를 확인하는 단계이다.

본 발명에서 사용하는 시뮬레이터는 도트가 가진 필요한 변수들을 입력하면 그로부터 도광판의 밝기 분포를 도광판 전 영역에 걸쳐 계산할 수 있은 것이면 충분하고, 이러한 시뮬레이터의 한 예로는 프랑스 옵티스(optis)사의 스페오스(SPEOS)가 사용될 수 있다.

시뮬레이터는 광학적인 상황을 연출하는 것이므로 개별적인 도트들에 관한 정보를 모두 알아야 하고 따라서 시뮬레이터를 구동시키기 위해서는 상기 T 01에서 설정된 도트 밀도를 구체적인 시뮬레이터의 입력 데이터로 변환시켜줘야 한다.

일단, 시뮬레이터에 입력하기 위한 중요 변수 중 하나는 도트들의 위치 정보, 즉 X, Y, Z 좌표이며 이는 본 발명의 한 구성 요소인 도트위치 생성수단이 전 단계에서 마련된 도트 밀도를 바탕으로 생성한다.

그 생성 방식에 대해 상세히 설명하면, 우선 도 1의 도트위치 생성수단에 상기 입력수단에서 입력된 도트들의 밀도 정보가 제공된다. 이 때 도트 밀도는 각 위치정보와 함께 연동되어 입력수단으로부터 저장수단을 거쳐 도트위치 생성수딘에 전달될 수 있다.

도트위치 생성수단은 제공된 상기 밀도 분포, 즉 T 01을 바탕으로 도트들의 X, Y, Z 좌표를 만드는데, 해당하는 지점내에서 해당 도트를 주기적으로(peoridically) 배치하는 방법과 난수적으로(randomly) 배치하는 방법 중 어느 하나를 사용하여 각 도트의 좌표를 생성할 수 있다.

주기적으로 배치하는 경우, 가령 전체 면적이 5mm×5mm내에 250개의 도트를 위치시킨다면 각 도트들은 0.01mm간격을 두고 균일하게 배치되므로, 그 X, Y, Z 좌표들도 가장 모서리에 배치된 점의 좌표(0, 0, 0)로부터 X, Y 축에 대해 0.01mm만큼 증가하게 설정하면 된다. 2차원적인 도광판에 대한 것이므로 Z 좌표는 모두 0 이다. 상기 도 2a의 T 01에서는 Y축 구간별로 도트 밀도가 설정되어 있으므로 주기적인 배치는 이 밀도에 따라 X축 길이와 Y축 길이가 형성하는 사각형 면적을 도트갯수로 나누어 좌표를 설정할 것이다.

도트들의 위치를 설정하는 또 다른 방식인 난수적 배치방식은 도트위치 생성수단의 한 구성요소인 난수 생성기(도시되지 않음)를 이용하여 단위 면적내에서 도트들의 좌표를 임의로 설정하는 것이다. 즉, 해당 면적의 밀도 조건을 만족시키면서 도트들의 좌표를 난수적으로 생성하는 것이다.

두 방법 중 어느 방법을 사용해도 무방하지만, 실제 공정에서 발생하는 공정 편차 등을 고려하면 난수 생성기를 이용하는 후자의 방식이 좀 더 현실적인 모사를 가능케 해 주는 방법이라 할 수 있다.

전술한 둘 중 어느 하나의 방식을 이용하여 상기 T 01에 배치될 각 도트들의 X,Y,Z 좌표를 설정한 한 예가 마이크로소프트사의 엑셀 파일(excel file) 형태로 도 2c에 도시되어 있다. 이 파일은 후에 시뮬레이터에 입력될 스크립트 파일(script file)로 사용된다.

도 2c의 예에서는 타원형의 도트를 상정하였으며, 각 숫자행은 하나의 도트에 대한 데이터들이다. 숫자들에 대해서 구체적으로 설명하면, 처음 세 숫자는 각 도트의 X, Y, Z 좌표값이고 그 다음 여섯 숫자는 각 세 개씩 두 그룹으로 이루어지며 이는 타원의 장축과 단축의 방향을 나타내는 두 개의 벡터를 표시한 것이다. 또한 그 다음의 세 개 숫자는 타원형인 도트가 가진 X, Y, Z축 방향으로의 길이를 나타낸다.

본 발명에서 도트들의 형태변수라 함은, 상기 숫자행의 전반부에 위치한 좌표변수를 제외한, 시뮬레이터를 구동시키기 위해 필요한 도트들의 나머지 정보를 모두 포함하는 개념으로서, 타원이라면 상기 장축과 단축 정보, 그리고 각 축 방향으로의 크기 정보(dimension)가 된다. 또한 만약 도트가 구 형상이라면, 구의 직경만이 도트 변수에 포함되며 만약 도트가 실린더라면 실린더의 직경 및 그 높이에 대한 방향과 크기가 될 것이다. 기타 다른 형상의 도트에 대해서도 그 형상을 정의할 수 있는 변수들을 도트의 형태변수라 칭하며 이는 도트위치 생성수단이 만든 죄표변수와 함께 시뮬레이터에 입력된다.

이러한 좌표값 생성이 완료되면, 이를 시뮬레이터에 모두 입력한다. 입력은 상기 도트위치 생성수단이 만든 도트들의 좌표파일 및 형태파일, 가령 도 2c 형태의 스크립트 파일을 시뮬레이터가 저장장치로부터 자동적으로 읽어들이는 방식이다. 또한 이 단계를 전후하여 광원의 위치와 밝기, 도광판의 굴절율, 도광판의 두께, 공정 오차 등모사를 위해 필요한 광학 변수들(이하 '도광판 변수' 라 한다) 을 입력수단을 통해 입력하여 시뮬레이터에 제공한다. 또한 이러한 변수들에 더하여 상기 X, Y, Z 좌표값의 정확도가 소수 몇 째 자리까지 입력될 것인가와 추후 분석에서 도광판 전체를 몇 개의 섹터(sector)로 나누어서 분석할 것인가도 이 단계에서 입력될 수 있다. 이 분석섹터에 관해서는 이후에 상세히 설명한다.

시뮬레이터 구동에 필요한 이러한 광학적인 변수들을 모두 설정하여 입력한 다음, 시뮬레이터를 구동시킨다. 이 구동의 목적은 전술한 바와 같이 상기 T 01의 패턴이 도광판에서 전체적으로 어떤 휘도 분포로 발현될 것인가를 모사하는 것이다.

도 3은 상기의 T 01에 대해 시뮬레이터 구동을 거쳐 얻어진 휘도 분포인 T 02의 한 예를 상기 출력수단의 한 예인 모니터에 도시한 상황이다. 각 경계선들은 휘도가 구분되는 경계를 표시한 것이고, 그 내부의 숫자는 전체적으로 제일 밝은 부분의 휘도를 100으로 두었을 때의 상대적인 휘도를 숫자로 표시한 것이다.

시뮬레이터 구동 전에 이미 예측되었다시피, 상기 T 02에서는 광원에 가까운 부분이 전반적으로 광원에서 먼 부분보다 밝은 형상을 타나내고 있으며, 또한 광원 바로 앞부분은 도광판 전체 휘도에 비추어 볼 때 지나치게 밝은 영역(Too Bright Region)이 형성되고 그 측면에는 지나치게 어두운 암영역(Dark Region)이 형성된다.

그 다음 단계에서는 시뮬레이터 구동후에 나타난 이러한 불균일한 휘도를 가진 T 02 를 보정하는 단계를 거친다. 보정 단계에서 사용하는 기본적인 자연법칙은 전술한 바와 같이 도광판의 도트 밀도와 휘도는 비례한다는 것이다. 즉, 휘도가 상대적으로 낮은 구역에서는 도트 밀도를 올리고 반대로 휘도가 상대적으로 높은 구역에서는 도트 밀도를 낮추는 방식으로 상기 T 02를 보정한다.

본 발명의 도광판 패턴 설계 시스템은 이러한 보정 단계를 거치기 위해서 우선 도광판의 각 영역을 동일한 면적을 가진 사각형의 면적으로 나누어 미세하게 분할한 다음, 각 사각형에 대해서 개별적인 분석을 행한다. 이러한 사각형을 이하에서는 분석섹터라 칭하는데, 각 분석섹터의 좌표는 그 중심점의 좌표로 설정할 수 있으며, 상기 분석섹터들은 개별적으로 각각의 휘도값을 가진다. 이는 각 분석섹터들이 얼마나 밝고 어두운 것인가를 나타내는 해당 구역에서의 평균휘도값으로서 이하 '개별휘도값' 이라 한다.

도 4에는 상기 분석섹터로 나뉜 한 형태를 모식적으로 보여주고 있는데, 특히 우측에는 분석섹터의 한 예인 임의의 분석섹터 A를 확대하여 이 분석섹터의 좌표값 및 그 개별휘도값이 나타나 있다. 이처럼 본 발명의 도광판 패턴 설계 시스템은 그 내부의 휘도계산 수단을 이용하여 상기 시뮬레이터를 거친 결과인 T 02에 대해 각 분석섹터의 개별휘도값을 계산한 다음, 그 좌표와 연동시켜 디지털 데이터 형태로 저장수단에 저장한다.

이러한 각 분석섹터별 휘도 계산이 수행된 후, 휘도계산 수단은 도광판 전체의 평균 휘도값(이하 '평균휘도값' 이라 한다)을 구한다. 즉, 상기 T 02 휘도 분포에 대해, 개별휘도값 및 그 휘도가 나타나는 분석섹터의 면적을 곱하고 이러한 과정을 모든 분석섹터들에 대하여 반복하여 각 결과치를 전부 더한 후 도광판 전체 면적으로 이를 나누어 전체적인 평균휘도값을 구하는 것이다. 이 전체 평균휘도값은 이 도광판의 각 부분이 도달해야 하는 목표값으로서, 이 목표값에 각 부분들이 도달하면 도광판 전체는 동일한 휘도를 나타내게 되는 것이다. 상기 T 02에서 이를 수행하면, 이 도광판의 전체 평균휘도값은 예를 들어 67이라고 구해질 수 있다.

또한 도시된 예에서는 분석섹터의 갯수가 많지 않고 개별 분석섹터가 차지하는 면적이 넓지만, 이는 설명을 위한 예시적인 도시일 뿐이며 실제 본 발명자들이 수행한 실험에서는 약 4만개의 분석 섹터를 이용하였다. 이러한 분석섹터는 그 갯수가 많을수록 향후 분석에서의 정확도 또는 해상도가 향상되지만 지나치게 많으면 계산에 부담이 될 수 있으므로, 그 적정 범위를 제시한다면, 휴대폰 도광판의 경우 약 1000여개에서 약 40000만개 사이가 적당한 것으로 여러 실험을 거쳐 판단되었다. 하지만, 이 범위에 본 발명이 국한되는 것은 아니다.

상기 분석섹터별 개별휘도값 및 도광판 전체의 평균휘도값이 휘도계산 수단에 의해 수행되어 디지털 파일로 저장되면, 이 데이터는 도트밀도 보정수단에 전달되고 도트밀도 보정수단은 상기 각 분석섹터 및 그에 대응하는 개별휘도값을 평균휘도값과 비교하여 각 분석섹터들이 상기 전체 평균휘도값에 도달하도록 하는 새로운 도트 밀도들을 분석섹터별로 설정한다. 즉, 전체 평균휘도값보다 높은 개별휘도값을 나타내는 섹터에 대해서는 지금보다 도트 밀도를 낮추고 평균휘도값보다 낮은 휘도를 나타내는 분석섹터에 대해서는 T 01 때보다 도트 밀도를 향상시키는 것이다.

이러한 도트 밀도의 보정은 사전에 저장된 여러가지 로직(logic) 중 어느 하나를 따를 수 있다. 이하에서는 이러한 도트밀도 보정 로직에 대해 설명한다.

상기 도트 밀도를 조절하는 보정 로직 중 하나인 제1 로직은, 상기 전체 평균휘도값과 각 개별휘도값과의 차이를 구한 후, 그 차이값의 크기가 몇 %에 해당하는지를 구하여 이 백분율만큼 해당 섹터의 도트 밀도를 향상시키거나 줄이는 것이다.

이를 좀 더 상세히 설명하기 위해서, 예를 들면, 개별휘도값을 50으로 가지고 도트 밀도는 40인 임의의 분석섹터는 상기 평균휘도값 67에 대비해 볼 때 17만큼 휘도가 작게 나오는 비교적 어두운 섹터이다. 이에 대해 도트밀도를 보정하기 위해서 상기 휘도차를 백분율로 환산하면 34%(17/50 × 100)만큼 휘도가 작은 것이다. 따라서 이 백분율만큼 도트 밀도를 향상시킨다. 즉, 이 섹터가 가져야할 새로운 도트 밀도는 54(40 × 1.34)개가 된다. 이런 방식으로 개별 섹터들마다 도트 밀도를 보정해주어 새로운 패턴을 생성한다.

도트 밀도와 휘도가 반드시 상기처럼 선형적인 비례 관계에 있는 것은 아니다. 즉, 상기에서 설명한 방식 외에도 각 섹터의 Y 좌표값에 따라 가중치를 주거나 또는 지수함수나 그 밖에 이와 유사한 함수로 둘을 비례하도록 설정할 수도 있다. 어차피 여러 번에 걸쳐(iteration) 시뮬레이션을 하고 이로부터 최적 설계에 도달하므로 상기 도트 밀도와 휘도값이 비례상태라는 것만 유지된다면, 어떤 함수를 사용하여 도트 밀도를 보정하더라도 그리 큰 영향을 미치는 것은 아니기 때문이다. 따라서 본 발명이 상기 선형적인 비례관계로만 도트 밀도와 휘도를 계산하는 실시예에 국한되는 것은 아님을 밝힌다.

도트 밀도를 조절하는 제2 보정 로직은, 각 분석섹터의 도트 밀도를 일괄적으로 소정 갯수만큼 증가시키거나 소정 갯수만큼 감소시키는 것이다. 가령, 예를 들어 전술한 섹터의 개별휘도값은 전체 평균휘도값보다 작으므로 가령 12개의 도트 밀도를 증대시켜 총 52개의 도트 밀도를 갖도록 하고, 개별휘도값이 82로서 전체 평균휘도값보다 크고 도트 밀도가 43개인 또 다른 섹터에 대해서는 12개의 도트를 감소시켜 총 31개의 도트 밀도가 되도록 조절하는 방식으로 각 분석섹터들의 도트 밀도를 조절하여 T 11을 생성하는 것이다.

여기서 소정 갯수의 도트를 증가시키거나 감소시키는 것은 패턴 생성 모듈이 총 4만개의 분석섹터들에 대한 계산을 해야하므로 계산 부담을 줄이기 위한 것이다. 또한 상기 가감 수치인 12개는 사전에 설정된 임의의 숫자이며, 추후의 T 21, T 31, T 41 등을 구하는 계속적인 근사 과정(iteration)에서 그 가감되는 도트 밀도를 상기 12개에서 5개, 3개 식으로 그 크기를 줄여가면, 결국 목표인 전체 평균휘도값에 근접되는 도트 밀도가 개별 분석섹터별로 구해질 것이다. 또한, 여기서 예로 드는 상기 숫자들은 모두 설명을 위한 예시에 불과함은 당업자라면 금방 이해할 수 있을 것이다.

이러한 방법 중 어느 하나를 사용하여 도트 밀도를 각 섹터별로 조절하면서 도트밀도 보정수단은 최종적으로 새로운 패턴인 T 11에 해당하는 도트 밀도를 구한다.

상기 도트밀도 보정에 있어서, 도트 밀도가 실제 가공할 수 없을 정도로 지나치게 높은 경우에는 전체적으로 동일한 정도만큼 도트 밀도를 줄여 실제 가공가능한 갯수로 변환할 수 있다. 예들 들면, T 11의 어느 한 분석섹터가 가령 도트 밀도가 1mm ×1mm내에 10000개 이상이 배치되어야 한다고 도출될 경우, 아무리 정밀한 레이저 가공을 한다 하더라도 이 정도 밀도는 가공 자체가 불가능하거나 또는 가공에 지나친 비용과 시간이 소요될 것이므로 이를 가령 그 1%인 100개로 줄이고자 하는 것이다. 이 때 해당 섹터만 감한다는 것은 있을 수 없으므로 나머지 개별섹터들에 대해서도 모두 계산된 밀도의 1%로 감해주는 보정을 행하여야 하는 것은 당연한 일이다.

상기 T 11은 그 자체로 균일한 휘도를 낼 수 있는 최종 패턴일 수도 있지만 일반적으로 이 단계에서 얻어지는 패턴은 완전히 균일한 휘도를 낼 수는 없는, 최종 패턴을 얻기 위한 중간 단계의 형태가 얻어진다.

이러한 상황을 판단하기 위해서, 본 발명의 도광판 패턴 설계 시스템은 상기 T 11의 변수들을 다시 한 번 상기 시뮬레이터에 입력하고 시뮬레이터를 구동시킨다. 이미 T 11에서 각 섹터별로 새로운 도트 밀도가 구해져 있으므로, 이 도트 밀도에 맞도록 전술한 도트위치 생성수단을 이용하여 각 도트의 X, Y 좌표를 설정하는 것은 어렵지 않고 그 밖에 도광판 크기나 재질, 광원 등에 관한 사항은 나머지 변수는 T 01때와 동일하다.

T 11에 대해 시뮬레이터를 구동시켜 도 5에 도시된 모사 결과치인 T 12를 얻을 수 있다. T 12에서는 전 단계인 T 02에 비해서 휘도 경계선들이 많이 없어지고 또한 광원 바로 앞부분과 그 측부간의 지나친 휘도 차이도 많이 해소되었음을 알 수 있다. 즉, 전체적으로 개별 섹터들의 휘도가 목표로 하는 전체 평균휘도값에 근접하는 것이다.

이 T 12에 대해 다시 한 번 상기와 같은 과정을 되풀이한다. 즉, 다시 한 번 각 분석섹터들의 개별휘도값을 구한 다음, 이를 전체 평균휘도값에 대비시켜 대응하는 도트 밀도를 가감시킨다. 가감 로직은 전술한 T 11을 구할 때와 동일한 로직을 사용한다.

이러한 과정을 거쳐 새로운 도트 밀도가 개별 섹터별로 설정된 T 21을 구할 수 있다.

이 T 21을 다시 상기 시뮬레이터에서 구동시켜 얻은 결과인 T 22가 도 6에 모식적으로 나타나 있는데 이제는 전체적으로 거의 균일한 휘도가 나타남을 볼 수 있다.

이러한 방식으로 상기 T N1을 얻는 과정을 여러 번 더 거치면, 점점 전체 휘도는 균일해질 것이고 최종적으로는 실제 도광판을 제작해도 좋을 만큼의 휘도 균일도를 가진 패턴을 얻을 수 있게 될 것이다. 이러한 상황은 매 T N1 패턴을 얻을 때마다 시뮬레이터를 구동시키고 그에 따른 결과치를 모니터상에서 육안으로 관찰하여 알 수 있다.

만족할만한 균일 휘도를 가진 T N1이 도출되었다고 판단되면, 그로부터 필요한 데이터를 추출하여 실제 도광판을 제작한다. 실제 도광판 제작에 필요한 데이터는 각 도트의 위치 정보와 형태 정보 등이 될 것이고 이는 저장수단에서 수치제어 프로그램을 장착한 도트 가공 머신으로 제공한 후, 프로토 타입의 도광판을 실제 제작한다.

상기 실제 제작된 도광판이 시뮬레이터에서처럼 균일한 휘도를 나타내는지를 알기 위해서는 이 프로토 타입에 광원을 장착한 후 실험을 수행해서 휘도 분포를 육안 등으로 확인해야 한다. 그리고 그 결과치가 만족스럽지 못할 경우, 그 원인을 찾아 상기 본 발명의 단계 어느곳엔가 이를 피드백한다면 본 발명은 추후에 좀 더 만족스러운 결과를 도출할 수 있을 것이다.

이처럼 시뮬레이션과 실제가 다른 경우는, 가령 도트 밀도 보정 방식이 전술한 단순 비례가 아니거나 또는 미처 생각하지 못한 또 다른 변수들의 등장인데, 이러한 사항들은 새로운 보정치 또는 새로운 변수로서 상기 과정에 피드백시키면 될 뿐이고 본 발명의 작동방식을 근본적으로 변경시키는 것은 아님을, 당업자라면 손쉽게 이해할 수 있을 것이다.

도 7은 전술한 본 발명의 도광판 패턴 설계 시스템의 작동 방법을 순서대로 나열한 플로우차트이다.

먼저 여러 번의 반복 수행을 행하므로 각 단계를 구분하기 위한 변수 N을 0으로 설정한다.

그 다음 T N1, 즉 N=0인 이 단계에서는 T 01의 도트밀도를 도 2a처럼 사용자가 임의로 설정하여 입력하면, 도트위치 생성수단이 이로부터 각 도트의 좌표값을 생성하여 시뮬레이터에 입력한다. 또한, 상기 단계를 전후하여 시뮬레이션에 필요한 형태변수 및 도광판 변수들도 함께 입력한다.

상기 입력 후 시뮬레이터를 구동하면 그 결과치인 T 02가 생성된다.

상기 T 02를 시각적으로 출력수단에 출력한 후 사용자가 판단컨데 그 휘도가 균일한지를 검증하고, 균일하다면 실제 도광판 제작을 위해 그 데이터들을 저장수단에 완전히 저장하거나 수치제어 가공장치에 전달한 후 모든 단계를 종료한다. 하지만, 그 결과가 만족스럽지 않다고 판단되면 이하의 반복 수행 단계를 거친다.

우선, 분석섹터를 설정하고 휘도께산 수단이 전체 평균휘도값과 개별휘도값을 구한다. 만약 전단계에서 이미 설정된 분석섹터가 있어 이를 그대로 이용할 경우에는 이 단계는 수행하지 않고 지나갈 수 있다.

그 다음, 평균휘도값과 개별휘도값을 이용하여 도트밀도 보정수단이 새로운 도트 밀도 분포를 가진 T 11을 구한다. 이 단계에서는 상기 N값을 하나 상승시켜 앞의 T 01과 구분한다.

그 다음 상기 T 11을 입력하여 전술한 도트위치 생성수단이 다시 각각의 도트 좌표을 구하고 다시 시뮬레이션을 행하는 등은 전술한 바와 같다.

만족할만한 휘도 분포를 보일때까지 이러한 단계를 반복수행한다.

본 발명의 상기 실시예는 다양한 변형예를 가질 수 있다.

가령, 상기 모사된 도트는 스크린 프린팅으로 인쇄된 잉크 도트이거나 또는 기계적으로 도광판에 만들어진 도트를 모두 포함하는 개념이며 그 형태에 있어서도 전술한 타원형 외에 렌즈형, 구형, 각기둥형, 각뿔형 및 기타 도광판의 패턴으로 사용가능하며 그 변수를 설정할 수 있는 모든 형태가 이에 해당한다.

또한 각 T N1을 거칠수록 전술한 분석섹터의 갯수를 줄이거나 늘려서 분석의 해상도 또는 효율성을 증대시킬 수도 있다.

또한 각 분석섹터가 나타내는 휘도값 중 정규분포의 양단의 소정 범위내에 위치하는 이상 데이터(abnormal data)는 시뮬레이터가 잘못 판단한 휘도로 인정하여 추후 계산에 영향을 미치지 않도록 제거할 수도 있다.

이를 좀 더 상세히 설명하면, 상기 개별휘도값을 정규분포로 배치할 경우 그 평균값은 상기 전체 평균휘도값과 일치할 것이다. 따라서 이를 중심으로 상기 개별휘도값은 종형(bell type) 분포를 보일 것인데, 이 정규분포의 양단에 위치하여 상기 평균휘도값과 소정값 이상, 가령 ± 70% 이상의 차이를 나타내는 값들은 시뮬레이터가 잘못 계산한 값으로 인정할 여지가 있으므로 이들을 제거하여 계산의 정확성을 향상시킬 수도 있다.

본 발명은 도시된 LED 등을 광원으로 사용한 경우 이외에 CCFL을 광원으로 사용한 경우에도 적용될 수 있음은 물론이다. 이 경우 분석섹터는 전술한 바둑판 형상 외에에 CCFL과 평행한 다수 개의 직사각형으로 구성될 수 있다.

도 8은 CCFL과 같은 직선형 측면 광원을 사용하는 경우에 있어, 도광판 패턴 설계 방법을 나타낸 도면이다.

먼저, 도 8a는 현재 사용되고 있는 CCFL 및 그에 따른 도광판을 모식적으로 나타낸 것으로서, 광원인 CCFL이 도광판의 측면에 배치되는 측면광원(side view) 형태이고 도트 패턴 및 그루브 패턴 중 그루브 패턴을 사용한 경우를 상황이다.

도 8b는 상기 도 8a의 패턴, 즉 그루브가 일정 간격으로 배치된 상황인 T 01에 대해서 본 발명의 시뮬레이터를 거친 결과인 휘도 분포이다. 각 선은 휘도의 경계값을 나타낸 것으로서 전체적으로 균일하지 않은 휘도를 나타내는 것을 볼 수 있다.

또한, CCFL같은 직선형 광원을 쓸 경우, 도광판 전체의 휘도 분포에서 광원으로부터 동일한 거리만큼 이격된 지점들은 모두 비슷한 휘도를 나타내는 것을 볼 수 있다. 따라서 LED 등의 점광원을 사용하는 전술한 실시예들과는 달리 직선형 광원에 대한 도광판 패턴을 설계할 경우에는 X 축 방향으로의 어느 한 직선, 가령 X1에 걸쳐진 도광판 패턴 밀도만을 설계해서 이를 Y축 방향으로 동일하게 확장하기만 하면 충분히 도광판 전체에 대한 패턴 설계가 완성된다.

도 8c는 상기 도 8a 및 도 8b를 종합적으로 다시 한 번 표현한 것으로서, 도광판 하부의 그루브 패턴이 일정 간격으로 배치되어 있는 T 01패턴과 그에 따른 모사된 휘도 분포, 즉 도 8b의 X1선을 따라 모사되는 휘도 분포 상황이 광원인 CCFL로부터의 거리에 따라 표현되어 있다.

이러한 휘도 분포를 보이는 T 01패턴은 전술한 실시예들과 마찬가지로 목표로 하는 도광판 전체의 평균 휘도값을 구하고 X축 방향을 도광판을 등간격(w)로 분할한 분석섹터를 설정한다. 그 다음, 각 분석섹터별로 하부의 그루브 또는 패턴의 밀도 조정 단계를 거친다. 도 8d는 최초 T 01의 패턴 분포를 조절하여 개별휘도값이 평균휘도값에 좀 더 근접하도록 조절된 T 11의 패턴을 모식적으로 나타낸 것이다. 이처럼 패턴 또는 그루브 밀도를 조절하는 로직은 전술한 점광원 때와 동일한 방법을 사용한다.

본 발명의 구동 방식에서 가장 주목해야 할 점은 실제 도광판을 만들기 이전 단계는 모두 컴퓨터 시뮬레이션으로 움직이며, 또한 제작자의 육안으로 휘도를 판단하고 수작업으로 도트 밀도를 보정하여 그 다음 패턴을 설계하는 방식이 아니라 시뮬레이터 및 도트 밀도 보정 수단간에 교환되는 디지털 데이터 값에 의해 이 단계들이 자동적으로 진행된다는 것이다.

따라서 사용자는 단지 시뮬레이터 결과치를 육안으로 확인한 후 새로운 도트 밀도 패턴을 만들것인지만을 결정하면 되므로, 기존 방식과는 비교할 수 없을 정도로 빠른 시간안에 정확한 패턴을 얻을 수 있게 된다.

결과적으로 이러한 본 발명을 이용하여 새로운 디스플레이 기기에 사용될 새로운 형태의 도광판 패턴을 설계할 경우, 종래의 방식에 비해 월등히 빠르고 신속하게 최적 패턴을 찾아낼 수 있으며, 무엇보다도 실제 금형을 여러 개 만들지 않아도 되므로 그 설계 비용이 월등히 감소하게 된다.

이러한 본 발명을 이해한 이 분야의 평균적 지식을 가진 엔지니어라면, 본 발명의 범주내에서 다양한 변형예를 손쉽게 생각해 낼 수 있을 것이다.

따라서 본 발명의 권리범위는 상기 실시예에만 국한되는 것이 아님은 당연한 일이다.

도 1은 본 발명인 패턴 설계 시스템의 구조도.

도 2는 T 01패턴의 도트 밀도 및 그에 따른 도광판 형상의 모식도.

도 3은 시뮬레이터 결과치인 T 02의 휘도분포 모식도.

도 4는 분석섹터를 상기 T 02에 설정하는 도면.

도 5는 T 11에 대한 시뮬레이션 결과인 휘도분포 모식도.

도 6은 T 21에 대한 시뮬레이션 결과인 휘도분포 모식도.

도 7은 본 발명인 패턴 설계 방법의 순서도.

도 8은 직선형 측면광원을 사용하는 도광판의 패턴 설계 방법을 나타낸 모식도.

Claims (18)

1. 입력수단, 출력수단, 저장수단, 중앙처리장치, 도트(dot)위치 생성수단, 시뮬레이터, 휘도계산 수단 및 도트밀도 보정수단을 포함하는 도광판 패턴 설계 시스템을 이용한 도광판 패턴 설계 방법에 있어서, 상기 중앙처리장치가,

   (a) 상기 입력수단을 이용하여 소정의 도트 밀도를 가진 도광판 패턴을 입력받는 단계;

   (b) 상기 입력수단을 이용하여 상기 도트들의 형태변수 및 도광판 변수를 입력받는 단계;

   (c) 전단계에서 입력된 도트 밀도를 바탕으로 상기 도트위치 생성수단을 이용하여 각 도트들에 대한 좌표변수를 생성하는 단계;

   (d) 상기 시뮬레이터에 상기 도트들의 좌표변수, 형태변수 및 도광판 변수들을 입력하는 단계;

   (e) 상기 시뮬레이터를 이용하여 전단계에서 입력된 도광판 패턴이 나타낼 도광판 휘도 분포를 모사하는 단계;

   (f) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 모사된 도광판의 전체 평균휘도값을 구하는 단계;

   (g) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 도광판을 분할한 각 분석섹터별로 개별휘도값을 구하는 단계; 및,

   (h) 상기 도트밀도 보정수단을 이용하여 상기 평균휘도값 및 개별휘도값을 바탕으로 각 분석섹터의 도트 밀도를 가감하여 새로운 도광판 패턴의 도트 밀도를 생성하는 단계;

   를 포함하는 도광판 패턴 설계 방법을 수행하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 단계(e) 후에 상기 출력장치를 이용하여 상기 모사된 휘도 분포를 시각적으로 표현하는 단계를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
3. 제1항 및 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단계(h)에서 얻어진 새로운 도광판 패턴의 도트 밀도를 바탕으로 단계(c) 내지 단계(h)를 반복 수행하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 단계(c)에서는 상기 도트들을 도광판 상에서 규칙적으로 배열하도록 그 좌표값을 생성하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
5. 제1항에 있어서, 상기 단계(c)에서는 상기 도트들을 난수적으로 배열하도록 그 좌표값을 생성하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
6. 제1항에 있어서, 상기 단계(g)의 개별휘도값 중 상기 평균휘도값과 소정값 이상의 차이를 나타내는 값들을 제거한 후 상기 단계(h)를 수행하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
7. 제1항에 있어서, 상기 도트 밀도를 가감하는 단계는 상기 전체 평균휘도값과 개별 평균휘도값간의 차이값에 선형비례하도록 상기 도트 밀도를 가감하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
8. 제1항에 있어서, 상기 단계(h)의 도트 밀도를 가감하는 것은 상기 평균휘도값과 개별휘도값간의 차이값에 비례하도록 도트 갯수를 가감하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
9. 제1항에 있어서, 상기 단계(f) 내지 (g)에서 구해진 휘도값은 디지털 데이터 형태인 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
10. 제1항에 있어서, 상기 도트는 상기 도광판에 만들어질 잉크 도트 및 기계적 도트 중 어느 하나를 모사한 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
11. 제1항에 있어서, 상기 도트는 렌즈형, 구형, 각기둥형, 각뿔형 중 어느 한 형태를 모사한 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
12. 제1항에 있어서, 상기 도광판은 그 측면에 배치되는 점광원 및 직선형 광원 중 어느 한 광원과 함께 사용되는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.
13. 입력수단, 출력수단, 저장수단, 중앙처리장치를 가진 컴퓨터를 구동시키는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기록매체에 있어서,

    상기 컴퓨터 프로그램은 도트(dot)위치 생성수단, 시뮬레이터, 휘도계산 수단 및 도트밀도 보정수단을 포함하고, 상기 컴퓨터 프로그램이,

    (a) 상기 입력수단을 이용하여 소정의 도트 밀도를 가진 도광판 패턴을 입력받는 단계;

    (b) 상기 입력수단을 이용하여 상기 도트들의 형태변수 및 도광판 변수를 입력받는 단계;

    (c) 전단계에서 입력된 도트 밀도를 바탕으로 상기 도트위치 생성수단을 이용하여 각 도트들에 대한 좌표변수를 생성하는 단계;

    (d) 상기 시뮬레이터에 상기 도트들의 좌표변수, 형태변수 및 도광판 변수들을 입력하는 단계;

    (e) 상기 시뮬레이터를 이용하여 전단계에서 입력된 도광판 패턴이 나타낼 도광판 휘도 분포를 모사하는 단계;

    (f) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 모사된 도광판의 전체 평균휘도값을 구하는 단계;

    (g) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 도광판을 분할한 각 분석섹터별로 개별휘도값을 구하는 단계; 및,

    (h) 상기 도트밀도 보정수단을 이용하여 상기 평균휘도값 및 개별휘도값을 바탕으로 각 분석섹터의 도트 밀도를 가감하여 새로운 도광판 패턴의 도트 밀도를 생성하는 단계;

    를 포함하는 도광판 패턴 설계 방법을 수행하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램을 기록한 기록매체.
14. 제13항에 있어서, 상기 단계(f) 내지 (g)에서 구해진 휘도값은 디지털 데이터 형태인 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램을 기록한 기록매체.
15. 제13항에 있어서, 상기 도광판은 그 측면에 배치되는 점광원 및 직선형 광원 중 어느 한 광원과 함께 사용되는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램을 기록한 기록매체.
16. 입력수단, 출력수단, 저장수단, 중앙처리장치, 도트(dot)위치 생성수단, 시뮬레이터, 휘도계산 수단 및 도트밀도 보정수단을 포함하는 도광판 패턴 설계 장치에 있어서, 상기 도광판 패턴 설계 장치가,

    (a) 상기 입력수단을 이용하여 소정의 도트 밀도를 가진 도광판 패턴을 입력받는 단계;

    (b) 상기 입력수단을 이용하여 상기 도트들의 형태변수 및 도광판 변수를 입력받는 단계;

    (c) 전단계에서 입력된 도트 밀도를 바탕으로 상기 도트위치 생성수단을 이용하여 각 도트들에 대한 좌표변수를 생성하는 단계;

    (d) 상기 시뮬레이터에 상기 도트들의 좌표변수, 형태변수 및 도광판 변수들을 입력하는 단계;

    (e) 상기 시뮬레이터를 이용하여 전단계에서 입력된 도광판 패턴이 나타낼 도광판 휘도 분포를 모사하는 단계;

    (f) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 모사된 도광판의 전체 평균휘도값을 구하는 단계;

    (g) 상기 휘도계산 수단을 이용하여 상기 도광판을 분할한 각 분석섹터별로 개별휘도값을 구하는 단계; 및,

    (h) 상기 도트밀도 보정수단을 이용하여 상기 평균휘도값 및 개별휘도값을 바탕으로 각 분석섹터의 도트 밀도를 가감하여 새로운 도광판 패턴의 도트 밀도를 생성하는 단계;

    를 포함하는 도광판 패턴 설계 방법을 수행하는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 장치.
17. 제16항에 있어서, 상기 도광판은 그 측면에 배치되는 점광원 및 직선형 광원 중 어느 한 광원과 함께 사용되는 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 장치.
18. 제1항에 있어서, 상기 단계(f) 내지 (g)에서 구해진 휘도값은 디지털 데이터 형태인 것을 특징으로 하는 도광판 패턴 설계 방법.