CN108803209A - 一种激光控制投影仪系统及控制方法、信息处理终端 - Google Patents

Abstract

本发明属于激光投影技术领域，公开了一种激光控制投影仪系统及控制方法、信息处理终端，激光控制投影仪系统包括：光源模块、参数配置模块、中央控制模块、准直处理模块、匀化处理模块、聚焦处理模块、图像校正模块、投影模块。本发明提供图像校正模块可以使得调整后各个像素投影点之间的坐标差仍未目标坐标差；像素投影点的数量并没有减少，像素投影点之间的坐标差保持为目标坐标差；在不损失图像质量的前提下，实现了激光投影仪的自动图像失真校正；同时通过投影模块可以保证合成光线持续保持目标色温值，有效提高激光投影机的色温一致性，从而提高投影图像的质量。

Description

一种激光控制投影仪系统及控制方法、信息处理终端

技术领域

本发明属于激光投影技术领域，尤其涉及一种激光控制投影仪系统及控制方法、信息处理终端。

背景技术

目前，业内常用的现有技术是这样的：

投影仪是一种利用光学元件将工件的轮廓放大,并将其投影到影屏上的光学仪器。它可用透射光作轮廓测量，也可用反射光测量不通孔的表面形状及观察零件表面。投影仪特别适宜测量复杂轮廓和细小工件，如钟表零件、冲压零件、电子元件、样板、模具、螺纹、齿轮和成型刀具等,检验效率高，使用方便；广泛应用于计量室、生产车间，对仪器仪表和钟表行业尤为适用。然而，现有激光投影仪经常出现没有完全正对投射屏幕(例如墙壁或者幕布等)造成图像失真的问题；同时投影时，容易导致色温变化，进而投影图像的质量随之下降。

综上所述，现有技术存在的问题是：

现有激光投影仪经常出现没有完全正对投射屏幕(例如墙壁或者幕布等)造成图像失真的问题；同时投影时，容易导致色温变化，进而投影图像的质量随之下降。

利用微透镜列阵实现光束的分割和叠加是一种典型的光束匀化方法。而在微透镜列阵实现激光光束匀化时，由于微透镜列阵的周期性和激光的相干性，匀化光斑会产生周期性点阵分布现象，降低了光束匀化质量。

图像数据处理中存在的干扰管理没有考虑多维特征，管理效率较低的问题。

发明内容

针对现有技术存在的问题，本发明提供了一种激光控制投影仪系统及控制方法、信息处理终端。

本发明是这样实现的，一种激光控制投影仪系统的控制方法，包括：

通过参数配置模块配置激光投影机的初始参数；

中央控制模块调度准直处理模块通过菲涅尔透镜对所述光源发出的光束进行准直处理；

通过匀化处理模块利用单面微透镜阵列对准直处理后的光束利用中心离轴量打破微透镜列阵的周期性，消除目标面处的点阵效应，进行高均匀性的光斑分布；并基于移动掩模技术制备随机微透镜列阵，进行匀化处理；

通过聚焦处理模块利用积分透镜对匀化处理后的光束进行聚焦处理；

通过图像校正模块对投影的图像进行校正；通过投影模块对校正后的激光投影机进行投影操作；

进一步，匀化处理模块进行匀化处理方法具体包括：

随机微透镜列阵由两片微透镜列阵和一片傅里叶透镜组成，第二片微透镜列阵位于第一片微透镜列阵的焦平面上；最终的匀化光斑在傅里叶透镜的焦平面上获得；目标光斑大小S如式(1)所示，p和f分别为微透镜列阵的子单元口径以及焦距，两片微透镜列阵的口径和焦距一致；F为傅里叶透镜的焦距；

在标量衍射理论下，激光光束传输经过一片微透镜列阵和傅里叶透镜后，匀化光斑的光场分布为微透镜列阵光场分布的傅里叶变换；光束经过微透镜列阵后的光场分布UMLA解析表达如式(2)所示

式中，T(x)为微透镜列阵中子透镜单元的透过率；为微透镜的方形口径函数，p为微透镜的口径；为梳状函数，其周期为为n个子透镜单元组成的微透镜列阵的口径；目标光斑的光场分布Ut＝F{UMLA}，如式(3)所示

F{T(x)}决定最终目标光斑的形状，若子透镜单元的口径为方形，最终的目标光斑为方形；sinc(pfx)决定点阵中每个点的能量分布；梳状函数comb(pfx)决定最终光斑为点阵分布；sinc(npfx)最终调制整体光斑的能量起伏；在第一片微透镜列阵后串联第二片微透镜列阵时，由sinc(npfx)函数所调制的整体匀化光斑的能量起伏趋近平顶分布，最终的匀化光斑受梳状函数调制，呈周期性的点阵分布；由于微透镜列阵为周期性排布，傅里叶透镜对微透镜列阵分割后的周期性子光束进行傅里叶变换作用，由于周期性结构的傅里叶变换仍具有周期性，目标面上必然产生周期性分布的点阵，大大降低了微透镜列阵光束匀化效果。由此分析出发，设计非周期、乃至随机分布的微透镜列阵结构，打破常规微透镜列阵的周期性，可消除激光光束匀化过程中的点阵效应。

进一步，图像校正模块校正方法包括：

首先，获取所述激光投影仪到投射屏幕的垂直距离；

其次，根据所述垂直距离确定相邻像素投影点之间的目标坐标差，所述目标坐标差为激光投影仪按照所述垂直距离正对投射屏幕的情况下相邻像素投影点之间的坐标差；

接着，获取激光投影仪相对于其正对投射屏幕状态的机身转动角度；

然后，选择一个像素投影点作为参考像素投影点，保持参考像素投影点的激光出射角度不变，确定参考像素投影点在投射屏幕上的坐标；

最后，根据所述参考像素投影点在投射屏幕上的坐标和所述目标坐标差确定其余像素投影点在投射屏幕上的预期坐标；根据所述机身转动角度和所述预期坐标调整其余像素投影点的激光出射角度。

进一步，

根据所述参考像素投影点在投射屏幕上的坐标和所述目标坐标差确定其余像素投影点在投射屏幕上的预期坐标，包括：

选取若干个干扰信号的特征参数CP，包括无线信号的频率F、时间T、对于观测点空域角度Θ、极化方向Γ、以及编码方式C，并将参数作为坐标轴建立多维坐标系，对于坐标系的各个坐标轴，分别根据各个干扰特征参数的分辨率确定对应坐标轴的单位量，基于坐标系建立多维特征参数的空间模型,定义为干扰空间：HS_I＝SPACE(CP₁,CP₂…CP_N)，在此干扰空间中的任意一个矢量由坐标进行表示：

其中CP_i为矢量在干扰空间中某一维度的坐标，是对于特征参量CP_i的具体取值，对于单模的干扰信号，在干扰空间中表示为一个单一矢量：

对于多模的干扰信号，即干扰信号的一个或者数个特征参数表现为具有多值特性，在干扰空间中使用干扰特征矢量的集合表示：

所述在选取的若干个干扰信号特征参数之前需要确定干扰信号和参照信号在无线信号领域上的物理参数，包括无线信号的频率F、时间T、对于观测点空域角度Θ、极化方向Γ、以及编码方式C；

用特征参数作为坐标轴建立空间坐标系，定义的干扰空间为：

HS_I＝SPACE(F,T,Θ,Γ,C)；

干扰空间中的任意一个矢量由干扰特征空间中的坐标进行表示：

其中的f，t，θ，γ，c分别是对应于各个维度的坐标值；

对于单模的干扰信号，在干扰空间中表示为一个单一矢量：

其中的f，t，θ，γ，c分别是对应于各个维度的坐标值；

干扰信号为多模信号，即干扰信号的一个或者数个特征参数表现为具有多值特性，在干扰空间中使用干扰特征矢量的集合表示：

在干扰空间中是个矢量集合，代表的是一个满足一定区间约束条件的子空间区域。

进一步，投影模块投影方法包括：

首先，获取激光投影机的目标光源亮度值，所述激光投影机包括光源模组，所述光源模组包括：至少一个激光器，所述光源模组能够发射出至少一种颜色的光线；

然后，根据所述目标光源亮度值查询预设的亮度值与驱动电流值对应关系，确定所述目标光源亮度值所对应的目标驱动电流值；

其中，亮度值与驱动电流值对应关系用于记录所述激光投影机的光源亮度值分别为n种亮度值，且所述至少一种颜色的光线所合成的合成光线的色温值为目标色温值时，产生所述每种颜色的光线的时段内，对应的所述激光器的驱动电流值，所述n大于或等于1；分别将所述每种颜色的光线对应的驱动电流值调整至所述目标驱动电流值。

本发明的另一目的在于提供一种实现所述激光控制投影仪系统的控制方法的计算机程序。

本发明的另一目的在于提供一种实现所述激光控制投影仪系统的控制方法的信息数据处理终端。

本发明的另一目的在于提供一种计算机可读存储介质，包括指令，当其在计算机上运行时，使得计算机执行所述的激光控制投影仪系统的控制方法。

本发明的另一目的在于提供一种激光控制投影仪系统包括：

光源模块，与中央控制模块连接，用于通过激光器发射激光光源；

参数配置模块，与中央控制模块连接，用于配置激光投影机的初始参数；

中央控制模块，与光源模块、参数配置模块、准直处理模块、匀化处理模块、聚焦处理模块、图像校正模块、投影模块连接，用于控制各个模块正常工作；

准直处理模块，与中央控制模块连接，用于通过菲涅尔透镜对所述光源发出的光束进行准直处理；

匀化处理模块，与中央控制模块连接，用于通过单面微透镜阵列对准直处理后的光束进行匀化处理；

聚焦处理模块，与中央控制模块连接，用于通过积分透镜对匀化处理后的光束进行聚焦处理；

图像校正模块，与中央控制模块连接，用于对投影的图像进行校正；

投影模块，与中央控制模块连接，用于对校正后的激光投影机进行投影操作。

本发明的另一目的在于提供一种安装有所述激光控制投影仪系统的激光投影设备。

本发明的优点及积极效果为：

本发明提供图像校正模块根据激光投影仪到投射屏幕的垂直距离，可以计算激光投影仪正对投射屏幕的情况下，各个像素投影点之间的目标坐标差。在激光投影仪的机身相对于其正对投射屏幕状态发生偏转的情况下，应用本公开所提供的方法调整像素激光的出射角度，可以使得调整后各个像素投影点之间的坐标差仍未目标坐标差。像素投影点的数量并没有减少，像素投影点之间的坐标差保持为目标坐标差。如是，在不损失图像质量的前提下，实现了激光投影仪的自动图像失真校正；同时通过投影模块能够根据目标光源亮度值查询预设的亮度值与驱动电流值对应关系，确定目标光源亮度值所对应的目标驱动电流值，进而分别将每种颜色的光线对应的驱动电流值调整至该目标驱动电流值，而该亮度值与驱动电流值对应关系用于记录激光投影机的光源亮度值分别为n种亮度值，且至少一种颜色的光线所合成的合成光线的色温值为目标色温值时，产生每种颜色的光线的时段内，对应的激光器的驱动电流值，也即是，无论目标光源亮度值如何变化，查询该对应关系得到的目标驱动电流值可以使得合成光线的色温值达到目标色温值，因此，可以保证合成光线持续保持目标色温值，有效提高激光投影机的色温一致性，从而提高投影图像的质量。

本发明在分析光束经过微透镜列阵的传播特性基础上，设计列阵中各个子透镜单元的几何中心偏离其光轴，利用中心离轴量的随机性打破微透镜列阵的周期性，消除目标面处的点阵现象，实现高均匀性的光斑分布。采用移动掩模技术制备随机微透镜列阵，并开展激光光束匀化实验。结果表明，该方法能够有效提高激光光束的均匀性，在激光加工、医疗和照明等方向有较大的应用前景。

本发明通过构建的干扰空间模型，利用矢量表示和运算，可以支持图像处理中干扰信号的分析、表示、与具体运算，从而对干扰信号的判定、分析和管理形成数学依据。在干扰空间模型支撑的基础上，可以通过数学的方法为图像干扰管理技术提供指导和帮助；利用数学空间概念形成的干扰空间模型，对图像处理中干扰信号的状态进行分析和表征，创造性的提出了多维度干扰状态空间模型。有利于图像的准确。

附图说明

图1是本发明实施例提供的激光控制投影仪系统结图。

图中：1、光源模块；2、参数配置模块；3、中央控制模块；4、准直处理模块；5、匀化处理模块；6、聚焦处理模块；7、图像校正模块；8、投影模块。

图2是本发明实施例提供的激光控制投影仪系统的控制方法流程图。

具体实施方式

为能进一步了解本发明的发明内容、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下。

如图1所示，本发明实施例提供的激光控制投影仪系统，包括：光源模块1、参数配置模块2、中央控制模块3、准直处理模块4、匀化处理模块5、聚焦处理模块6、图像校正模块7、投影模块8。

光源模块1，与中央控制模块3连接，用于通过激光器发射激光光源；

参数配置模块2，与中央控制模块3连接，用于配置激光投影机的初始参数；

中央控制模块3，与光源模块1、参数配置模块2、准直处理模块4、匀化处理模块5、聚焦处理模块6、图像校正模块7、投影模块8连接，用于控制各个模块正常工作；

准直处理模块4，与中央控制模块3连接，用于通过菲涅尔透镜对所述光源发出的光束进行准直处理；

匀化处理模块5，与中央控制模块3连接，用于通过单面微透镜阵列对准直处理后的光束进行匀化处理；

聚焦处理模块6，与中央控制模块3连接，用于通过积分透镜对匀化处理后的光束进行聚焦处理；

图像校正模块7，与中央控制模块3连接，用于对投影的图像进行校正；

投影模块8，与中央控制模块3连接，用于对校正后的激光投影机进行投影操作。

下面结合具体分析对本发明作进一步描述。

本发明实施例提供的激光控制投影仪系统的控制方法，包括：

S101：通过参数配置模块配置激光投影机的初始参数；

S102：中央控制模块调度准直处理模块通过菲涅尔透镜对所述光源发出的光束进行准直处理；

S103：通过匀化处理模块利用单面微透镜阵列对准直处理后的光束利用中心离轴量打破微透镜列阵的周期性，消除目标面处的点阵效应，进行高均匀性的光斑分布；并基于移动掩模技术制备随机微透镜列阵，进行匀化处理；

S104：通过聚焦处理模块利用积分透镜对匀化处理后的光束进行聚焦处理；

通过图像校正模块对投影的图像进行校正；通过投影模块对校正后的激光投影机进行投影操作。

匀化处理模块进行匀化处理方法具体包括：

随机微透镜列阵由两片微透镜列阵和一片傅里叶透镜组成，第二片微透镜列阵位于第一片微透镜列阵的焦平面上；最终的匀化光斑在傅里叶透镜的焦平面上获得；目标光斑大小S如式(1)所示，p和f分别为微透镜列阵的子单元口径以及焦距，两片微透镜列阵的口径和焦距一致；F为傅里叶透镜的焦距；

在标量衍射理论下，激光光束传输经过一片微透镜列阵和傅里叶透镜后，匀化光斑的光场分布为微透镜列阵光场分布的傅里叶变换；光束经过微透镜列阵后的光场分布UMLA解析表达如式(2)所示

式中，T(x)为微透镜列阵中子透镜单元的透过率；为微透镜的方形口径函数，p为微透镜的口径；为梳状函数，其周期为为n个子透镜单元组成的微透镜列阵的口径；目标光斑的光场分布Ut＝F{UMLA}，如式(3)所示

F{T(x)}决定最终目标光斑的形状，若子透镜单元的口径为方形，最终的目标光斑为方形；sinc(pfx)决定点阵中每个点的能量分布；梳状函数comb(pfx)决定最终光斑为点阵分布；sinc(npfx)最终调制整体光斑的能量起伏；在第一片微透镜列阵后串联第二片微透镜列阵时，由sinc(npfx)函数所调制的整体匀化光斑的能量起伏趋近平顶分布，最终的匀化光斑受梳状函数调制，呈周期性的点阵分布；由于微透镜列阵为周期性排布，傅里叶透镜对微透镜列阵分割后的周期性子光束进行傅里叶变换作用，由于周期性结构的傅里叶变换仍具有周期性，目标面上必然产生周期性分布的点阵，大大降低了微透镜列阵光束匀化效果。由此分析出发，设计非周期、乃至随机分布的微透镜列阵结构，打破常规微透镜列阵的周期性，可消除激光光束匀化过程中的点阵效应。

图像校正模块校正方法包括：

首先，获取所述激光投影仪到投射屏幕的垂直距离；

其次，根据所述垂直距离确定相邻像素投影点之间的目标坐标差，所述目标坐标差为激光投影仪按照所述垂直距离正对投射屏幕的情况下相邻像素投影点之间的坐标差；

接着，获取激光投影仪相对于其正对投射屏幕状态的机身转动角度；

然后，选择一个像素投影点作为参考像素投影点，保持参考像素投影点的激光出射角度不变，确定参考像素投影点在投射屏幕上的坐标；

最后，根据所述参考像素投影点在投射屏幕上的坐标和所述目标坐标差确定其余像素投影点在投射屏幕上的预期坐标；根据所述机身转动角度和所述预期坐标调整其余像素投影点的激光出射角度。

根据所述参考像素投影点在投射屏幕上的坐标和所述目标坐标差确定其余像素投影点在投射屏幕上的预期坐标，包括：

选取若干个干扰信号的特征参数CP，包括无线信号的频率F、时间T、对于观测点空域角度Θ、极化方向Γ、以及编码方式C，并将参数作为坐标轴建立多维坐标系，对于坐标系的各个坐标轴，分别根据各个干扰特征参数的分辨率确定对应坐标轴的单位量，基于坐标系建立多维特征参数的空间模型,定义为干扰空间：HS_I＝SPACE(CP₁,CP₂…CP_N)，在此干扰空间中的任意一个矢量由坐标进行表示：

其中CP_i为矢量在干扰空间中某一维度的坐标，是对于特征参量CP_i的具体取值，对于单模的干扰信号，在干扰空间中表示为一个单一矢量：

对于多模的干扰信号，即干扰信号的一个或者数个特征参数表现为具有多值特性，在干扰空间中使用干扰特征矢量的集合表示：

所述在选取的若干个干扰信号特征参数之前需要确定干扰信号和参照信号在无线信号领域上的物理参数，包括无线信号的频率F、时间T、对于观测点空域角度Θ、极化方向Γ、以及编码方式C；

用特征参数作为坐标轴建立空间坐标系，定义的干扰空间为：

HS_I＝SPACE(F,T,Θ,Γ,C)；

干扰空间中的任意一个矢量由干扰特征空间中的坐标进行表示：

其中的f，t，θ，γ，c分别是对应于各个维度的坐标值；

对于单模的干扰信号，在干扰空间中表示为一个单一矢量：

其中的f，t，θ，γ，c分别是对应于各个维度的坐标值；

干扰信号为多模信号，即干扰信号的一个或者数个特征参数表现为具有多值特性，在干扰空间中使用干扰特征矢量的集合表示：

在干扰空间中是个矢量集合，代表的是一个满足一定区间约束条件的子空间区域。

投影模块投影方法包括：

首先，获取激光投影机的目标光源亮度值，所述激光投影机包括光源模组，所述光源模组包括：至少一个激光器，所述光源模组能够发射出至少一种颜色的光线；

然后，根据所述目标光源亮度值查询预设的亮度值与驱动电流值对应关系，确定所述目标光源亮度值所对应的目标驱动电流值；

其中，亮度值与驱动电流值对应关系用于记录所述激光投影机的光源亮度值分别为n种亮度值，且所述至少一种颜色的光线所合成的合成光线的色温值为目标色温值时，产生所述每种颜色的光线的时段内，对应的所述激光器的驱动电流值，所述n大于或等于1；分别将所述每种颜色的光线对应的驱动电流值调整至所述目标驱动电流值。

本发明投影时，通过光源模块1发射激光光源；通过参数配置模块2配置激光投影机的初始参数；中央控制模块3调度准直处理模块4通过菲涅尔透镜对所述光源发出的光束进行准直处理；通过匀化处理模块5利用单面微透镜阵列对准直处理后的光束进行匀化处理；通过聚焦处理模块6利用积分透镜对匀化处理后的光束进行聚焦处理；通过图像校正模块7对投影的图像进行校正；最后，通过投影模块8对校正后的激光投影机进行投影操作。

在上述实施例中，可以全部或部分地通过软件、硬件、固件或者其任意组合来实现。当使用全部或部分地以计算机程序产品的形式实现，所述计算机程序产品包括一个或多个计算机指令。在计算机上加载或执行所述计算机程序指令时，全部或部分地产生按照本发明实施例所述的流程或功能。所述计算机可以是通用计算机、专用计算机、计算机网络、或者其他可编程装置。所述计算机指令可以存储在计算机可读存储介质中，或者从一个计算机可读存储介质向另一个计算机可读存储介质传输，例如，所述计算机指令可以从一个网站站点、计算机、服务器或数据中心通过有线(例如同轴电缆、光纤、数字用户线(DSL)或无线(例如红外、无线、微波等)方式向另一个网站站点、计算机、服务器或数据中心进行传输)。所述计算机可读取存储介质可以是计算机能够存取的任何可用介质或者是包含一个或多个可用介质集成的服务器、数据中心等数据存储设备。所述可用介质可以是磁性介质，(例如，软盘、硬盘、磁带)、光介质(例如，DVD)、或者半导体介质(例如固态硬盘SolidStateDisk(SSD))等。

以上所述仅是对本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改，等同变化与修饰，均属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1.一种激光控制投影仪系统的控制方法，其特征在于，所述激光控制投影仪系统的控制方法包括：

通过参数配置模块配置激光投影机的初始参数；

中央控制模块调度准直处理模块通过菲涅尔透镜对所述光源发出的光束进行准直处理；

通过匀化处理模块利用单面微透镜阵列对准直处理后的光束利用中心离轴量打破微透镜列阵的周期性，消除目标面处的点阵效应，进行高均匀性的光斑分布；并基于移动掩模技术制备随机微透镜列阵，进行匀化处理；

通过聚焦处理模块利用积分透镜对匀化处理后的光束进行聚焦处理；

通过图像校正模块对投影的图像进行校正；通过投影模块对校正后的激光投影机进行投影操作。

2.如权利要求1所述的激光控制投影仪系统的控制方法，其特征在于，匀化处理模块进行匀化处理方法具体包括：

随机微透镜列阵由两片微透镜列阵和一片傅里叶透镜组成，第二片微透镜列阵位于第一片微透镜列阵的焦平面上；最终的匀化光斑在傅里叶透镜的焦平面上获得；目标光斑大小S如式(1)所示，p和f分别为微透镜列阵的子单元口径以及焦距，两片微透镜列阵的口径和焦距一致；F为傅里叶透镜的焦距；

在标量衍射理论下，激光光束传输经过一片微透镜列阵和傅里叶透镜后，匀化光斑的光场分布为微透镜列阵光场分布的傅里叶变换；光束经过微透镜列阵后的光场分布UMLA解析表达如式(2)所示

式中，T(x)为微透镜列阵中子透镜单元的透过率；为微透镜的方形口径函数，p为微透镜的口径；为梳状函数，其周期为为n个子透镜单元组成的微透镜列阵的口径；目标光斑的光场分布Ut＝F{UMLA}，如式(3)所示

F{T(x)}决定最终目标光斑的形状，若子透镜单元的口径为方形，最终的目标光斑为方形；sinc(pfx)决定点阵中每个点的能量分布；梳状函数comb(pfx)决定最终光斑为点阵分布；sinc(npfx)最终调制整体光斑的能量起伏；在第一片微透镜列阵后串联第二片微透镜列阵时，由sinc(npfx)函数所调制的整体匀化光斑的能量起伏趋近平顶分布，最终的匀化光斑受梳状函数调制，呈周期性的点阵分布。

3.如权利要求1所述的激光控制投影仪系统的控制方法，其特征在于，图像校正模块校正方法包括：

首先，获取所述激光投影仪到投射屏幕的垂直距离；

其次，根据所述垂直距离确定相邻像素投影点之间的目标坐标差，所述目标坐标差为激光投影仪按照所述垂直距离正对投射屏幕的情况下相邻像素投影点之间的坐标差；

接着，获取激光投影仪相对于其正对投射屏幕状态的机身转动角度；

然后，选择一个像素投影点作为参考像素投影点，保持参考像素投影点的激光出射角度不变，确定参考像素投影点在投射屏幕上的坐标；

最后，根据所述参考像素投影点在投射屏幕上的坐标和所述目标坐标差确定其余像素投影点在投射屏幕上的预期坐标；根据所述机身转动角度和所述预期坐标调整其余像素投影点的激光出射角度。

4.如权利要求3所述的激光控制投影仪系统的控制方法，其特征在于，

根据所述参考像素投影点在投射屏幕上的坐标和所述目标坐标差确定其余像素投影点在投射屏幕上的预期坐标，包括：

选取若干个干扰信号的特征参数CP，包括无线信号的频率F、时间T、对于观测点空域角度Θ、极化方向Γ、以及编码方式C，并将参数作为坐标轴建立多维坐标系，对于坐标系的各个坐标轴，分别根据各个干扰特征参数的分辨率确定对应坐标轴的单位量，基于坐标系建立多维特征参数的空间模型,定义为干扰空间：HS_I＝SPACE(CP₁,CP₂…CP_N)，在此干扰空间中的任意一个矢量由坐标进行表示：

其中CP_i为矢量在干扰空间中某一维度的坐标，是对于特征参量CP_i的具体取值，对于单模的干扰信号，在干扰空间中表示为一个单一矢量：

对于多模的干扰信号，即干扰信号的一个或者数个特征参数表现为具有多值特性，在干扰空间中使用干扰特征矢量的集合表示：

所述在选取的若干个干扰信号特征参数之前需要确定干扰信号和参照信号在无线信号领域上的物理参数，包括无线信号的频率F、时间T、对于观测点空域角度Θ、极化方向Γ、以及编码方式C；

用特征参数作为坐标轴建立空间坐标系，定义的干扰空间为：

HS_I＝SPACE(F,T,Θ,Γ,C)；

干扰空间中的任意一个矢量由干扰特征空间中的坐标进行表示：

其中的f，t，θ，γ，c分别是对应于各个维度的坐标值；

对于单模的干扰信号，在干扰空间中表示为一个单一矢量：

其中的f，t，θ，γ，c分别是对应于各个维度的坐标值；

干扰信号为多模信号，即干扰信号的一个或者数个特征参数表现为具有多值特性，在干扰空间中使用干扰特征矢量的集合表示：

在干扰空间中是个矢量集合，代表的是一个满足一定区间约束条件的子空间区域。

5.如权利要求1所述的激光控制投影仪系统的控制方法，其特征在于，投影模块投影方法包括：

首先，获取激光投影机的目标光源亮度值，所述激光投影机包括光源模组，所述光源模组包括：至少一个激光器，所述光源模组能够发射出至少一种颜色的光线；

然后，根据所述目标光源亮度值查询预设的亮度值与驱动电流值对应关系，确定所述目标光源亮度值所对应的目标驱动电流值；

其中，亮度值与驱动电流值对应关系用于记录所述激光投影机的光源亮度值分别为n种亮度值，且所述至少一种颜色的光线所合成的合成光线的色温值为目标色温值时，产生所述每种颜色的光线的时段内，对应的所述激光器的驱动电流值，所述n大于或等于1；分别将所述每种颜色的光线对应的驱动电流值调整至所述目标驱动电流值。

6.一种实现权利要求1～5任意一项所述激光控制投影仪系统的控制方法的计算机程序。

7.一种实现权利要求1～5任意一项所述激光控制投影仪系统的控制方法的信息数据处理终端。

8.一种计算机可读存储介质，包括指令，当其在计算机上运行时，使得计算机执行如权利要求1-5任意一项所述的激光控制投影仪系统的控制方法。

9.一种实现权利要求1所述激光控制投影仪系统的控制方法的激光控制投影仪系统，其特征在于，所述激光控制投影仪系统包括：

光源模块，与中央控制模块连接，用于通过激光器发射激光光源；

参数配置模块，与中央控制模块连接，用于配置激光投影机的初始参数；

中央控制模块，与光源模块、参数配置模块、准直处理模块、匀化处理模块、聚焦处理模块、图像校正模块、投影模块连接，用于控制各个模块正常工作；

准直处理模块，与中央控制模块连接，用于通过菲涅尔透镜对所述光源发出的光束进行准直处理；

匀化处理模块，与中央控制模块连接，用于通过单面微透镜阵列对准直处理后的光束进行匀化处理；

聚焦处理模块，与中央控制模块连接，用于通过积分透镜对匀化处理后的光束进行聚焦处理；

图像校正模块，与中央控制模块连接，用于对投影的图像进行校正；

投影模块，与中央控制模块连接，用于对校正后的激光投影机进行投影操作。

10.一种安装有权利要求9所述激光控制投影仪系统的激光投影设备。