KR100487482B1 - 반도체검사설비의웨이퍼이송장치 - Google Patents

반도체검사설비의웨이퍼이송장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100487482B1
KR100487482B1 KR1019970021340A KR19970021340A KR100487482B1 KR 100487482 B1 KR100487482 B1 KR 100487482B1 KR 1019970021340 A KR1019970021340 A KR 1019970021340A KR 19970021340 A KR19970021340 A KR 19970021340A KR 100487482 B1 KR100487482 B1 KR 100487482B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
stage slider
guide rail
wafer transfer
semiconductor inspection
air
Prior art date
Application number
KR1019970021340A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19980085282A (ko
Inventor
김기호
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1019970021340A priority Critical patent/KR100487482B1/ko
Publication of KR19980085282A publication Critical patent/KR19980085282A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100487482B1 publication Critical patent/KR100487482B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706Mechanical details, e.g. roller, belt
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 검사용 웨이퍼를 검사위치까지 이동시키는 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치에 관한 것이다.
본 발명은, 서로 평행한 다수의 가이드 레일과 에어가 방출되는 다수의 방출구가 형성된 다수의 에어 베어링이 하부에 고정되어 있으며, 상기 방출구를 통해서 방출되는 상기 에어의 방출압력에 의해서 상기 가이드 레일 상에서 일정간격 부상되어 수평운동을 할 수 있는 스테이지 슬라이더가 구비되는 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치에 있어서, 상기 스테이지 슬라이더와 가이드 레일 사이에 접촉감지수단이 설치됨을 특징으로 한다.
따라서, 스테이지 슬라이더 하부에 고정된 에어 베어링이 가이드 레일과 접촉하여 마모되고, 상기 마모에 의해서 발생된 파티클이 검사용 웨이퍼를 오염시키는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체 검사 설비의 웨이퍼 이송장치{WAFER TRANSFER APPARATUS OF SEMICONDUCTOR INSPECTION SYSTEM}
본 발명은 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 검사용 웨이퍼를 검사위치까지 이동시키는 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치에 관한 것이다.
통상, 반도체장치 제조공정에서는 포토레지스트에 의해서 특정영역이 마스킹된 웨이퍼 상에 빛을 주사하는 노광공정 등의 직접적인 반도체 패턴을 형성하기 위한 여러 공정들과 다수의 패턴(Pattern)이 형성된 웨이퍼 상에 존재하는 디펙트(Defect)를 검사하는 검사공정 등이 이루어진다. 상기 검사공정은 검사용 웨이퍼가 위치하는 스테이지(Stage)의 미세한 거리오차에 의해서도 검사결과에 이상이 발생하므로, 도1에 도시된 바와 같이 에어(Air)의 방출압력에 의해서 일정간격 부상되어 광학적 검사장치가 설치된 검사위치로 검사용 웨이퍼를 이동시키는 스테이지 슬라이더(Stage slider)가 구비되는 웨이퍼 이송장치에 의해서 이루어진다.
도1을 참조하면, 단부에 한계센서(20)가 설치된 제 1 가이드 레일(12) 및 제 2 가이드 레일(14)이 서로 평행하게 몸체(10) 상부에 설치되어 있다. 상기 가이드 레일(12, 14) 상부에는 제어부(도시되지 않음)의 제어에 의해서 가이드 레일(12, 14) 상에서 이동될 수 있으며, 검사용 웨이퍼가 위치하는 스테이지 슬라이더(Stage slider : 16)가 위치하여 있으며, 상기 스테이지 슬라이더(16)에서 일측으로 연장되어 검사설비를 제어하는 장치가 위치하는 컨트롤 보드 스테이지(Control board stage : 18)가 설치되어 있다.
상기 스테이지 슬라이더(16)와 가이드 레일(12, 14) 사이에는 도2에 도시된 바와 같이 일정량의 에어가 저장된 에어공급원(도시되지 않음)과 연결된 고무호스(도시되지 않음)와 각각 연결되어 상기 고무호스를 통해서 공급되는 에어를 방출하는 3개의 방출구(24)가 형성되어 있으며, 상기 스테이지 슬라이더(16)에 고정되어 있는 다수의 에어 베어링(22)이 설치되어 있다.
따라서, 에어공급원(도시되지 않음)에서 방출된 에어가 고무호스(도시되지 않음)를 통해서 에어 베어링(22) 내부로 공급된 후, 3개의 방출구(24)를 통해서 높은 압력으로 방출되면, 상기 에어의 방출압력에 의해서 검사용 웨이퍼가 위치한 스테이지 슬라이더(16)는 상기 가이드 레일(12, 14) 상부에서 약 2 ㎜ 정도 부상하게 된다.
이후, 제어부(도시되지 않음)의 제어에 의해서 상기 스테이지 슬라이더(16)가 가이드 레일(12, 14) 상에서 이동하게됨에 따라 스테이지 슬라이더(16)는 검사위치로 이동하게 된다.
그런데, 반복적인 공정에 의해서 에어 베어링(22)과 연결된 고무호스(도시되지 않음)는 노화되거나, 스테이지 슬라이더(16)의 이동에 의해서 주변부와 마찰되어 마모되는 등의 원인에 의하여 에어의 누설이 발생하여 에어의 압력이 저하되었다.
이에 따라, 스테이지 슬라이더(16)는 일측으로 경사지게되고, 심할 경우, 에어 베어링(22)이 스테이지 슬라이더(16)와 접촉한 상태에서 이동하게됨에 따라 에어 베어링(22)이 마모되고, 상기 마모에 의해서 발생된 파티클(Particle)은 검사공정이 진행될 웨이퍼를 오염시켰다.
또한, 상기 스테이지 슬라이더(16)의 경사정도를 확인하기 위하여 검사설비를 해체할 경우, 많은 로스타임(Loss time)이 발생되며, 해체작업 후 다시 검사설비를 조립할 때, 정밀성이 요구되는 검사설비에 이상이 발생하는 등의 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 검사 웨이퍼가 위치하며, 가이드 레일 상에서 부상하여 이동하는 스테이지 슬라이더가 상기 가이드 레일과 접촉하여 동작되는 것을 방지하는 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치를 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치는, 서로 평행한 다수의 가이드 레일과 에어가 방출되는 다수의 방출구가 형성된 다수의 에어 베어링이 하부에 고정되어 있으며, 상기 방출구를 통해서 방출되는 상기 에어의 방출압력에 의해서 상기 가이드 레일 상에서 일정간격 부상되어 수평운동을 할 수 있는 스테이지 슬라이더가 구비되는 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치에 있어서, 상기 스테이지 슬라이더와 가이드 레일 사이에 접촉감지수단이 설치됨을 특징으로 한다.
상기 접촉감지수단은 다수개의 검출핀 및 검출판으로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 검출핀은 가이드 레일과 수직 상방향으로 일치되는 상기 스테이지 슬라이더의 변부에 설치되며, 상기 검출핀은 상기 스테이지 슬라이더의 변부에서 상기 가이드 레일 방향으로 돌출되도록 설치되며, 상기 검출판은 상기 가이드 레일 표면에 설치됨이 바람직하다.
그리고, 상기 검출핀 및 검출판은 도전성물질로 이루어짐이 바람직하다.
또한, 상기 검출핀은 니들타입으로 제작될 수 있고, 상기 검출핀은 상기 스테이지 슬라이더의 변부에서 돌출되는 거리가 조절될 수 있도록 제작될 수 있다.
그리고, 상기 검출핀의 상부에는 상기 스테이지 슬라이더의 변부와 체결되는 고정나사가 삽입되는 가변조절홈이 형성될 수 있다.
상기 검출핀 및 검출판은 특정전압을 인가하는 전원과 각각 연결되고, 상기 전원은 전압인가에 따라 상기 스테이지 슬라이더의 수평운동을 제어하는 제어부 및 전압인가에 따라 경고음을 발생하는 알람발생장치와 각각 연결되도록 구성됨이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도3은 본 발명에 따른 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치의 일 실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도3을 참조하면, 단부에 한계센서(20)각 각각 설치되어 있으며, 서로 평행한 제 1 가이드 레일(12) 및 제 2 가이드 레일(14)이 몸체(10) 상부에 설치되어 있다. 상기 가이드 레일(12, 14) 상부에는 제어부(도시되지 않음)의 제어에 의해서 가이드 레일(12, 14) 상에서 이동되며, 검사용 웨이퍼가 위치하는 스테이지 슬라이더(16)가 설치되어 있다.
또한, 상기 스테이지 슬라이더(16)에서 일측으로 연장되어 검사설비를 제어하는 장치가 위치하는 컨트롤 보드 스테이지(18)가 설치되어 있다.
또한, 상기 가이드 레일(12, 14)과 수직 상방향으로 일치되는 상기 스테이지 슬라이더(16)의 변부에는 도4에 도시된 바와 같이 다수의 검출핀(30)들(예를 들어, 4개)이 구비되어 있다. 상기 검출핀(30)들은 각각 상기 스테이지 슬라이더(16)의 변부와 체결되도록 상부에 가변조절홈(34)이 형성되어 있고, 상기 가변조절홈(34)에 삽입되는 고정나사(36)에 의해서 스테이지 슬라이더(16)의 변부와 체결되어 상기 스테이지 슬라이더(16)의 변부에서 소정길이만큼 돌출되도록 고정된다. 상기 검출핀(30)은 도전성 재질로 제작되어 있으며, 상기 검출핀(30)의 가변조절홈(34)에 삽입되는 고정나사(36)의 고정 위치에 따라 상기 스테이지 슬라이더(16)의 변부에서 돌출되는 거리가 조절될 수 있도록 되어 있다. 그리고 상기 검출핀(30)은 접촉부위의 이물질에 의해서 접촉불량이 발생되는 것을 방지하기 위하여 하부로 갈 수록 단면적이 감소되는 니들(Needle)타입으로 제작되어 있다.
그리고, 상기 가이드 레일(12, 14)의 한계센서(20) 주변부 표면에는 도전성 재질의 검출판(32)이 상기 검출핀(30)에 대응하여 설치되어 있다.
상기 검출핀(30) 및 검출판(32)들은 특정전압을 인가하는 전원(도시되지 않음)과 각각 연결되고, 상기 전원은 전압인가에 따라 스테이지 슬라이더(16)의 수평운동을 제어하는 제어부(도시되지 않음)와 연결되어 있다. 또한, 상기 전원은 전압인가에 따라 경고음을 발생하는 알람발생장치(도시되지 않음)와 연결되어 있다.
그리고, 상기 스테이지 슬라이더(16)와 가이드 레일(12, 14) 사이에는 도2에 도시된 바와 같이 에어공급원(도시되지 않음)과 연결된 고무호스(도시되지 않음)와 각각 연결되어 상기 고무호스를 통해서 공급되는 에어를 방출하는 방출구(24)가 형성되어 있으며, 상기 스테이지 슬라이더(16)에 고정되어 있는 다수의 에어 베어링(22)이 설치되어 있다.
따라서, 에어공급원(도시되지 않음)에서 방출된 에어가 고무호스(도시되지 않음)를 통해서 에어 베어링(22) 내부로 공급된 후, 방출구(24)를 통해서 높은 압력으로 방출되면, 상기 에어의 방출압력에 의해서 스테이지 슬라이더(16)는 상기 가이드 레일(12, 14) 상부에서 약 2 ㎜ 정도 부상하게 된다.
이후, 상기 스테이지 슬라이더(16)가 가이드 레일(12, 14) 상부에서 이동하게됨에 따라 스테이지 슬라이더(16) 상에 위치한 검사용 웨이퍼는 광학적 검사장치가 설치된 검사위치로 이동하게 된다.
이때, 반복적인 공정에 의해서 에어공급원(도시되지 않음)에서 방출된 에어를 에어 베어링(22)으로 공급하는 고무호스가 노화되거나 혹은 스테이지 슬라이더(16)의 이동에 의해서 주변부와 마찰되어 마모되는 등의 원인에 의하여 에어의 누설이 발생하여 스테이지 슬라이더(16)가 경사지거나, 상기 스테이지 슬라이더(16)의 부상간격이 감소하게 되면, 스테이지 슬라이더(16)의 수평운동시 적어도 하나의 검출핀(30)과 검출판(32)이 접촉하게 된다.
이에 따라, 접촉된 검출핀(30) 및 검출판(32)과 연결된 전원(도시되지 않음)은 특정전압을 스테이지 슬라이더(16)의 수평운동을 제어하는 제어부(도시되지 않음)와 알람발생장치(도시되지 않음)에 인가하게 된다.
따라서, 제어부는 스테이지 슬라이더(16)의 운동을 정지시키고, 알람발생장치는 경고음을 발생시키게 된다.
따라서, 본 발명에 의하면 반복적인 공정에 의해서 에어공급원에서 방출된 에어를 에어 베어링으로 공급하는 고무호스가 노화되거나 혹은 스테이지 슬라이더의 이동에 의해서 주변부와 마찰되어 마모되는 등의 원인에 의하여 에어의 누설이 발생하고, 이에 따라 상기 스테이지 슬라이더가 경사지거나, 상기 스테이지 슬라이더의 부상간격에 이상이 발생할 경우 검출핀과 검출판이 접촉함에 따라 스테이지 슬라이더의 운동이 정지되고, 경고음이 발생된다.
이에 따라, 스테이지 슬라이더 하부에 고정된 에어 베어링이 가이드 레일과 접촉하여 마모되고, 상기 마모에 의해서 파티클이 발생되어 검사용 웨이퍼를 오염시키는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 상기 스테이지 슬라이더의 경사정도를 확인하기 위하여 검사설비를 해체하는 데 소요되는 로스타임을 단축시킬 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
도1은 종래의 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치의 사시도이다.
도2는 종래의 웨이퍼 이송장치의 가이드 레일 상에서 스테이지 슬라이더가 이동되는 상태를 설명하기 위한 도면이다.
도3은 본 발명에 따른 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치의 일 실시예를 설명하기 위한 사시도이다.
도4는 본 발명에 따른 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치의 검출핀의 결합상태를 설명하기 위한 사시도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 몸체 12 : 제 1 가이드 레일
14 : 제 2 가이드 레일 16 : 스테이지 슬라이더
18 : 컨트롤 보드 스테이지 20 : 한계센서
22 : 에어 베어링 24 : 방출구
30 : 검출핀 32 : 검출판
34 : 가변조절홈 36 : 고정나사

Claims (7)

  1. 서로 평행한 다수의 가이드 레일과 에어가 방출되는 다수의 방출구가 형성된 다수의 에어 베어링이 하부에 고정되어 있으며, 상기 방출구를 통해서 방출되는 상기 에어의 방출압력에 의해서 상기 가이드 레일 상에서 일정간격 부상되어 수평운동을 할 수 있는 스테이지 슬라이더가 구비되는 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치에 있어서,
    상기 스테이지 슬라이더와 상기 가이드 레일 사이에 구비되어, 상기 수평운동시 상기 스테이지 슬라이더와 상기 가이드 레일 간에 접촉되는 것을 감지하는 접촉감지수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 접촉감지수단은 다수의 검출핀 및 검출판을 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 검출핀은 상기 가이드 레일과 수직 상방향으로 일치되는 상기 스테이지 슬라이더의 변부에서 상기 가이드 레일 방향으로 돌출고정되며, 상기 검출판은 상기 가이드 레일 표면에 설치되는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 검출핀 및 상기 검출판은 도전성물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 검출핀은 니들(needle) 타입으로 구비되는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 검출핀은 상기 스테이지 슬라이더의 변부에서 상기 가이드 레일로 돌출 고정되도록 상기 스테이지 슬라이더 변부와 체결되는 고정 나사와, 상기 고정 나사가 삽입되는 가변 조절홈을 구비하여, 사익 고정 나사와 상기 가변 조절홈 간의 체결 위치에 따라 상기 돌출되는 거리가 조절되는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 검출핀 및 상기 검출판은 특정전압을 인가하는 전원과 각각 연결되고, 상기 전원은 상기 특정전압인가에 따라 상기 스테이지 슬라이더의 수평운동을 제어하는 제어부 및 상기 특정전압인가에 따라 경고음을 발생하는 알람발생장치와 연결되도록 구비하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 검사설비의 웨이퍼 이송장치.
KR1019970021340A 1997-05-28 1997-05-28 반도체검사설비의웨이퍼이송장치 KR100487482B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970021340A KR100487482B1 (ko) 1997-05-28 1997-05-28 반도체검사설비의웨이퍼이송장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970021340A KR100487482B1 (ko) 1997-05-28 1997-05-28 반도체검사설비의웨이퍼이송장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19980085282A KR19980085282A (ko) 1998-12-05
KR100487482B1 true KR100487482B1 (ko) 2005-08-05

Family

ID=37303977

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970021340A KR100487482B1 (ko) 1997-05-28 1997-05-28 반도체검사설비의웨이퍼이송장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100487482B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010070780A (ko) * 2001-06-07 2001-07-27 박용석 액정표시장치용 유리기판 반송장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01278038A (ja) * 1988-04-28 1989-11-08 Hitachi Electron Eng Co Ltd ウエハ搬送装置
JPH02291144A (ja) * 1989-05-01 1990-11-30 Nidek Co Ltd ウェーハ搬送装置
KR970013171A (ko) * 1995-08-25 1997-03-29 김주용 웨이퍼 가이드 라인을 이용한 웨이퍼 이송 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01278038A (ja) * 1988-04-28 1989-11-08 Hitachi Electron Eng Co Ltd ウエハ搬送装置
JPH02291144A (ja) * 1989-05-01 1990-11-30 Nidek Co Ltd ウェーハ搬送装置
KR970013171A (ko) * 1995-08-25 1997-03-29 김주용 웨이퍼 가이드 라인을 이용한 웨이퍼 이송 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR19980085282A (ko) 1998-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100641724B1 (ko) 기판처리장치, 슬릿노즐, 피충전체에서의 액체 충전도판정구조 및 기체 혼입도 판정구조
KR100429299B1 (ko) 연동기능을구비한폴리싱장치
US6286202B1 (en) System for mounting a plurality of circuit components on a circuit substrate
KR20070034939A (ko) 광학식 이물 검출 장치 및 이것을 탑재한 처리액도포 장치
KR20090128328A (ko) 도포 장치 및 도포 방법
KR100487482B1 (ko) 반도체검사설비의웨이퍼이송장치
JP4222522B2 (ja) 光学式異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置
KR20060122557A (ko) 반도체 제조 장치의 진공 척
JP2010014552A (ja) アレイテスト装備
JP2006343327A (ja) 基板検査装置
JP2014065011A (ja) 塗布装置および塗布方法
JP2009115711A (ja) 基板処理装置
US5978068A (en) Apparatus for protecting a reference mark used in exposure equipment
KR200319553Y1 (ko) 표시장치용 글라스의 표면 검사장치
JP4428565B2 (ja) 処理液塗布装置
KR100294446B1 (ko) 웨이퍼 스테이지의 방진을 위한 니들면 오일 공급장치
KR102330480B1 (ko) 세정장비 모니터링 장치
KR100715982B1 (ko) 기판 처리 장치
KR100217338B1 (ko) 노광설비의 웨이퍼 정렬 장치
KR200231853Y1 (ko) 스테퍼장비의이물질검출장치
KR20010038769A (ko) 레티클의 이물질 제거 장치
KR19980048011A (ko) 마스크 검사장치
CN117168354A (zh) 刀检方法、刀检装置及电路板加工设备
KR100470363B1 (ko) 엘시디 패널 점등 테스트 시스템
KR20220021513A (ko) 검사 장치 및 검사 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee