KR100483231B1 - 엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 장치 - Google Patents

엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100483231B1
KR100483231B1 KR10-2001-0071807A KR20010071807A KR100483231B1 KR 100483231 B1 KR100483231 B1 KR 100483231B1 KR 20010071807 A KR20010071807 A KR 20010071807A KR 100483231 B1 KR100483231 B1 KR 100483231B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
roller
light
convex lens
light source
pattern
Prior art date
Application number
KR10-2001-0071807A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030041073A (ko
Inventor
이순권
Original Assignee
주식회사 광성엥글라빙
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 광성엥글라빙 filed Critical 주식회사 광성엥글라빙
Priority to KR10-2001-0071807A priority Critical patent/KR100483231B1/ko
Publication of KR20030041073A publication Critical patent/KR20030041073A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100483231B1 publication Critical patent/KR100483231B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • B29D99/0032Producing rolling bodies, e.g. rollers, wheels, pulleys or pinions
    • B29D99/0035Producing rolling bodies, e.g. rollers, wheels, pulleys or pinions rollers or cylinders having an axial length of several times the diameter, e.g. for embossing, pressing, or printing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44DECORATIVE ARTS
    • B44BMACHINES, APPARATUS OR TOOLS FOR ARTISTIC WORK, e.g. FOR SCULPTURING, GUILLOCHING, CARVING, BRANDING, INLAYING
    • B44B5/00Machines or apparatus for embossing decorations or marks, e.g. embossing coins
    • B44B5/0004Machines or apparatus for embossing decorations or marks, e.g. embossing coins characterised by the movement of the embossing tool(s), or the movement of the work, during the embossing operation
    • B44B5/0009Rotating embossing tools
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/80Etching
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70258Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 에칭에 의해 요철무늬 성형용 엠보싱 롤러를 제작함에 있어서, 보다 섬세한 무늬를 성형키 위한 것으로 특히 금속롤러의 표면을 에칭 가공시키는 전단계인 롤러표면에 대한 무늬 인화(印畵)단계에서 그 노광방법 및 장치를 개선하여 미세한 무늬를 표현할 수 있게 한 것에 관한 것으로,
내산감광제가 도포된 롤러의 주면에 무니가 표현된 필름을 감은 롤러에, 광원의 자외선빛을 볼록렌즈를 통하여 조사되게 하되, 볼록렌즈를 그 촛점거리가 롤러의 표면과 일치되는 거리의 위치에 설치하여 볼록렌즈를 통한 자외선빛이 그 촛점부위의 필름에 직선상으로 노광되게 하고,
롤러의 축방향 길이와 같은 광원과, 그 광원과 같은 길이의 반원주상의 볼록렌즈를, 브라켓트에 의해 고정한 광원유니트를 형성하여 그 유니트를, 볼록렌즈와, 롤러간에 촛점거리와 일치되는 위치에 설치하여 구성한 것이다.

Description

엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 장치{Exposing method and device for etching surface of embossing roller to light}
본 발명은 에칭에 의해 요철무늬 성형용 엠보싱 롤러를 제작함에 있어서, 보다 섬세한 무늬를 성형키 위한 것으로 특히 금속롤러의 표면을 에칭가공시키는 전단계인 롤러표면에 대한 무늬 인화(印畵)단계에서 그 노광방법 및 장치를 개선하여 미세한 무늬를 표현할 수 있게 한 것에 관한 것이다.
에칭에 의해 롤러의 표면을 엠보싱 가공하기 위하여는 통상적으로는 필름의 표면에 성형코저 하는 무늬를 형성하는 필름형성공정과, 롤러의 표면에 내산감광제을 도포하는 공정과, 내산감광제가 도포된 롤러의 주면에 전기한 필름을 점착하는 공정과, 필름이 점착된 롤러에 빛을 노광시켜 내산감광제가 인화되게 하는 공정과, 표면에 도안무늬가 인화된 롤러를 에칭액에 담궈 인화된 여백부분을 부식시키는 에칭공정으로 이루어진다.
이러한 엠보싱 가공공정 중 빛을 노광시켜 인화시키는 인화공정시에 도 4 및 도 5의 도시와 같이 광원(10)으로 부터 투광판(20)을 통해 빛이 조사되어 필름(30)의 무늬중 투명부분(40)으로 롤러(50)의 내산감광제가 자외선 빛에 닿은 부분이 검게타서 단단해져 롤러 표면에 남게되므로 무늬를 인화 형성할 수 있는 것이다.
그러나 롤러(50)의 경우 롤러(50)를 일방향으로 회전시켜 가면서 광원을 지나게 하여 빛을 노광시키는 것이므로 광원으로의 진입시와 이탈시에 넓은 경사각도로 퍼지는 빛의 주사각도와 롤러의 곡면으로 인한 경사각도로 인하여 불투명 부분에도 빛이 새어 들게 되므로 실제 도안된 선보다 더 굵게 인화되는 현상이 발생하여 미세한 무늬의 표현이 잘 되지 않아 결국 완성된 무늬의 섬세성이 저하되는 문제가 발생하였다.
특히, 큰 요철무늬 내에 다시 작은 요철무늬를 형성하는 반복 노광시에는 필름과 롤러의 사이에 더욱 큰 틈이 발생하여 전기한 빛의 퍼짐현상이 더욱 심하게 발생되므로 반복 노광이 극히 곤란한 문제가 있다.
본 발명은 엠보싱 롤러를 제작키 위해 필름에 의해 롤러의 표면에 도안된 무늬를 노광에 의해 인화하는 인화공정에 있어서,
전기한 바와 같은 문제점을 제거코저 롤러의 표면에 점착된 필름의 표면에 빛을 주사함에 있어서, 볼록렌즈를 이용하여 빛을 모아서 그 촛점부분과 노광부분을 일치시키므로서 빛이 넓은 방향으로 노광되지 않고, 수직방향으로 좁게 노광되므로서 빛의 퍼짐현상이 발생하지 않게 하는 동시에 넓은 면적의 빛을 좁게 모아 노광시키므로서 순간적인 노광효과를 볼 수 있고, 2중의 요철무늬를 형성키 위한 반복 노광도 가능하게 한 엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 그 장치를 제공함에 본 발명의 목적이 있다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부도면에 의하여 상세히 설명한다.
도 2 는 본 발명 노광상태의 측면설명도이다.
주면에 내산감광제을 도포한 후, 무늬가 표현된 필름을 감은 롤러에 대하여 광원의 빛을 볼록렌즈를 통하여 롤러의 표면에 집중 조사되게 하되, 볼록렌즈를 그 촛점거리가 필름의 표면과 일치되는 거리의 위치에 롤러와 이격설치하여 볼록렌즈를 통과한 빛이 그 촛점부위의 롤러에 직선상으로 노광되게 한 것이다.
이와 같은 노광방법을 구현키 위해서는 도 1의 도시와 같이, 롤러의 축방향 길이보다 같거나 긴 광원(1)과, 그 광원(1)과 같은 길이의 반원주상의 볼록렌즈(2)를 브라켓트(3)에 의해 고정한 광원 유니트(4)를 형성하여, 그 유니트(4)를 볼록렌즈(2)와 롤러(5)간에 촛점거리와 일치되는 위치에 설치 구성한 장치가 필요하다.
이와 같은 본 발명의 작용을 공정별로 설명한다.
롤러(5)의 주면에 내산감광제(7)을 도포한 후 그 주면에 표현코저 하는 무늬가 도안된 필름(6)을 감고 이를 본 발명의 광원 유니트의 하부에 볼록렌즈의 촛점거리와 일치되게 설치한 후, 광원을 점등시키고 별도의 회전기구에 의해 롤러를 회전시키게 되면 광원으로부터의 빛이 볼록렌즈에 의해 모아져 촛점과 일치되는 롤러 표면에 선상으로 비추어진다.
그러므로 이를 통과하는 롤러는 광원으로부터 필름(6)의 투명부분(8)을 통과하는 빛을 경사상이 아닌 항상 수직방향으로만 받게 되어 빛의 퍼짐현상이 발생하지 않고, 그 표면에 도포된 내산감광제가 필름의 무늬와 동일한 모양 및 크기로 인화층(9)이 형성되어 극히 섬세한 모양이라도 그대로 인화 표현될 수 있는 것이다.
또, 이미 형성된 요철무늬내에 작은 요철무늬를 형성키 위한 반복노광시에 필름과 요철면 사이에 비교적 큰 틈이 발생하더라도 좁은 성상의 수직방향의 빛에 의해 옆으로 빛이 퍼지는 퍼짐현상을 방지하므로서 반복 노광도 가능하며, 광원의 빛을 한 군데로 모아서 노광시키는 것이므로 집중적인 빛에 의해 순간적인 노광이 이루어지므로서 그 노광효과가 상승되는 것이다.
이렇게 섬세한 무늬의 필림을 점착한 롤러는 네가필름의 투명부를 통과하여 광선이 닿은 부분이 단단해져서 현상액을 도포하면 투명부분에 내산감광제만 남고 광선을 받지않은 부분을 방리되어 섬세한 무늬가 인화된다. 이러한 롤러를 에칭액에 담구거나 에칭액을 도포하게 되면 내산 감광제가 방리된 부분만의 금속이 부식되면서 도안무늬와 동일한 형태의 요철무늬가 발생되면서 엠보싱 롤러가 완성되는 것이다.
이상과 같은 본 발명은 엠보싱 롤러의 표면에 대한 노광방법 및 장치를 개선함으로서 빛퍼짐현상을 방지하여 극히 미세한 무늬의 변형없는 인화를 가능하게 하여 미세하고 섬세한 무늬의 표현이 가능하며 2중의 노광작업이 가능하여 보다 섬세한 무늬의 엠보싱 롤럴ㄹ 제공할 수 있는 효과가 있다.
도 1 은 본 발명 노광장치의 개략사시도
도 2 는 본발명에 의한 노광작동설명도
도 3 은 본 발명 노광부분의 확대설명도
도 4 는 기존 노광장치의 개략도
도 5 는 기존 노광부분의 확대설명도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1 : 광원 2 : 볼록렌즈
3 : 브라켓트 4 : 광원유니트
5 : 롤러 6 : 필름
7 : 내산감광제 8 : 투명부분
9 : 인화층

Claims (2)

  1. 내산감광제가 도포된 롤러의 주면에 무늬가 표현된 필름을 감은 롤러에, 광원의 빛을 볼록렌즈를 통하여 조사되게 하되, 볼록렌즈를 그 촛점거리가 롤러의 표면과 일치되는 거리의 위치에 설치하여 볼록렌즈를 통한 빛이 그 촛점부위의 롤러에 직선상으로 노광되게 함을 특징으로 하는 엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법.
  2. 롤러의 축방향 길이와 같은 광원(1)과, 그 광원(1)과 같은 길이의 반원주상의 볼록렌즈(2)를, 브라켓트(3)에 의해 고정한 광원유니트(4)를 형성하여 그 유니트(4)를, 볼록렌즈(2)와, 롤러(5)간에 촛점거리와 일치되는 위치에 설치하여 구성함을 특징으로 하는 엠보싱 롤러의 에칭면 노광장치.
KR10-2001-0071807A 2001-11-19 2001-11-19 엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 장치 KR100483231B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2001-0071807A KR100483231B1 (ko) 2001-11-19 2001-11-19 엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2001-0071807A KR100483231B1 (ko) 2001-11-19 2001-11-19 엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030041073A KR20030041073A (ko) 2003-05-23
KR100483231B1 true KR100483231B1 (ko) 2005-04-15

Family

ID=29570074

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2001-0071807A KR100483231B1 (ko) 2001-11-19 2001-11-19 엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100483231B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104635433B (zh) * 2015-01-26 2016-08-17 青岛理工大学 外置滚对平面微纳米光刻压印光源装置
KR102079427B1 (ko) * 2017-10-25 2020-02-19 부산대학교 산학협력단 곡면체의 간섭패턴 제작장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5147763A (en) * 1988-10-19 1992-09-15 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing molding stamper for data recording medium substrate
KR930023487A (ko) * 1992-05-06 1993-12-18 조희재 금속시트재의 표면처리 방법 및 장치
JPH0821746A (ja) * 1994-07-08 1996-01-23 Canon Inc 光学式エンコーダースケール用ロール状スタンパー及びそれを用いた光学式エンコーダースケールの製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5147763A (en) * 1988-10-19 1992-09-15 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing molding stamper for data recording medium substrate
KR930023487A (ko) * 1992-05-06 1993-12-18 조희재 금속시트재의 표면처리 방법 및 장치
JPH0821746A (ja) * 1994-07-08 1996-01-23 Canon Inc 光学式エンコーダースケール用ロール状スタンパー及びそれを用いた光学式エンコーダースケールの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20030041073A (ko) 2003-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100988437B1 (ko) 네가티브 포토레지스트를 이용한 유리 또는 금속 식각방법 및 이를 이용한 클리쉐의 제조방법
KR960000179B1 (ko) 에너지 절약형 포토마스크
KR100483231B1 (ko) 엠보싱 롤러의 에칭면 노광방법 및 장치
JPH0142134B2 (ko)
JPH05147359A (ja) 微細パターンの形成方法
JP4674105B2 (ja) 回路パターン転写装置及び方法
US20060134559A1 (en) Method for forming patterns on a semiconductor device
TW201306689A (zh) 形成圖案之方法及採用該方法形成有圖案之殼體
KR20090047146A (ko) 임프린트용 스탬프 및 이의 제조방법
WO2015043321A1 (zh) 一种纳米压印光刻装置及其方法
KR20050032869A (ko) 전기장에 의하여 반도체 소자의 미세패턴을 형성하는노광장치 및 그 방법
KR19980061912A (ko) 무늬 각인용 롤(roll)을 제조하는 방법 및 이를 수행하기 위한 장치
JPH086070A (ja) 液晶表示素子の製造方法
JP2007095859A (ja) リソグラフィ方法
JP2013110330A (ja) ナノインプリント用テンプレートの欠陥修正方法
JP2005056981A (ja) 露光マスク
JP2002072497A (ja) 露光方法
CN86107270A (zh) 把光掩膜定位在印刷线路板上的装置
JPS6357771B2 (ko)
JP3958969B2 (ja) レリーフ板の塗装方法とそのレリーフ板。
KR20210080771A (ko) 유리 기판 패터닝 방법
JP2008309985A (ja) カラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法
KR930010268B1 (ko) 새도우 마스크(shadow mask)제조방법
KR100244765B1 (ko) 반도체 소자의 미세 패턴 방법
KR100827506B1 (ko) 이머젼 리소그라피 공정을 이용한 반도체 소자 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee