KR100441912B1

KR100441912B1 - 두발 처리 촉진기

Info

Publication number: KR100441912B1
Application number: KR10-2001-0046611A
Authority: KR
Inventors: 시미즈히로히사
Original assignee: 가부시키가이샤 오히로 세이사쿠쇼
Priority date: 2000-10-25
Filing date: 2001-08-01
Publication date: 2004-07-27
Also published as: CN1349777A; DE10149778A1; US6442340B1; TWM269763U; ITTO20010967A1; US20020048453A1; CN1178609C; KR20020063481A; JP2002125746A; JP4435398B2

Abstract

머리털이 난 언저리 부분 전체에 균등하게 열을 조사할 수 있는 두발 처리 촉진기를 제공한다. 머리 정상 부분에 있는 대략 반원 원호상의 머리 정상 유닛 지지부(3)의 선단 부분에 연결된 대략 반원 원호상의 제1 및 제2 히터를 가지는 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)을 가지고, 본체 지지부(5)에 내장된 히터 유닛 구동부(50)에 의해 제1 및 제2 히터 유닛이 좌우로 서로 멀어지거나 좌우로부터 서로 가까워지도록, X 위치 - Y 위치 - Z 위치 - Y 위치 - X 위치로 이동하여 두발의 주위를 요동 회전하면서, 두발의 머리 정상부로부터 각각 좌우 측면에 걸치는 두발 전역에 대하여 열을 조사한다.

Description

두발 처리 촉진기 {HAIR PROCESSING ACCELERATOR}

본 발명은, 이용원이나 미용실에서 두발의 파마, 염색, 건조 등의 처리를 할 때에 두발에 열을 조사하여 이러한 처리를 촉진시키는 두발 처리 촉진기에 관한 것이다.

종래부터, 이용원이나 미용실에서 두발에 대하여 파마나 염색이나 건조 등의 처리를 하는 경우, 히터 등으로 두발에 열을 조사하여 이러한 처리의 진행을 촉진한다. 그리고 그 두발에 열을 조사하는 장치로는, 일본국 특공평4-644호에 기재되어 있는 것으로서 링형 히터가 두부 주위를 회전하면서 열을 조사하여 두발을 가온하는 모발 처리 촉진 장치나, 일본국 특공평7-32729호에 기재되어 있는 장치로서 두부 양측면, 후부, 머리 정상부 등, 각 부분에 열을 조사하는 분할된 복수의 히터가 두발을 가온하는 모발 처리 촉진 제어 장치 등이 있다.

그러나 두발에 대하여 파마나 염색의 처리를 하는 경우, 이러한 처리를 촉진하기 위해서는, 특히 머리털이 난 언저리 부분에 열을 조사할 필요가 있다. 이 점에 관해서, 일본국 특공평4-644호에 기재되어 있는 종래의 모발 처리 촉진 장치는 링형 히터가 축을 중심으로 하여 편심 회전 운동을 하고 두부 주위를 회전하면서 두발을 가온하는 것이어서, 열이 특히 필요한 두발 가장자리의 언저리 부분과 열이 그다지 필요하지 않은 두발의 머리 정상부의 열 분포의 균형이 양호하지 못하여, 파마나 염색이 불균일해지기 쉽다. 또, 일본국 특공평7-32729에 기재되어 있는 모발 처리 촉진 제어 장치에서도 마찬가지로, 머리 정상부, 두부 양측면, 후부에 있는 복수의 히터로는, 열이 특히 필요한 두발 가장자리의 언저리 부분과 열이 그다지 필요하지 않은 두발의 머리 정상부의 열 분포가 균형을 이루지 못하고, 파마나 염색의 불균일해지기 쉽다.

본 발명은, 이러한 문제를 고려하여 이루어진 것으로, 머리 정상부보다 언저리 부분에 많은 열을 조사할 수 있는 두발 처리 촉진기를 제공하는 것을 과제로 한다.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 두발 처리 촉진기의 정면사시도.

도 2는 도 1의 두발 처리부의 A-A'선 단면도.

도 3은 도 2의 두발 처리부의 B-B'선 단면도.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 히터 유닛 구동부를 도시한 도면.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 제1 및 제2 히터 유닛의 회전 범위를 도시한 도면.

도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 히터 유닛의 위치 조정 시의 측면도.

도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 제1 및 제2 히터 유닛이 하한 위치에 있는 도면.

도 8은 본 발명의 제1 실시예에 다른 두발 처리 촉진기의 제1 및 제2 히터 유닛이 반전 위치에 있는 도면.

이러한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 제1항의 두발 처리 촉진기는, 본체 지지부에 고정된 두발의 머리 정상 부분에 있는 대략 반원 원호상의 머리 정상 유닛 지지부와, 그 양 단부 각각이 머리 정상 유닛 지지부의 각 선단부에 회전가능하게 연결되고, 두발의 머리 정상 부분으로부터 각각 좌우 측면에 걸치는 두발 전역에 대하여 열을 조사하도록 대략 반원 원호상의 제1 및 제2 히터를 가지는 제1 및 제2 히터 유닛과, 제1 및 제2 히터 유닛을 서로 역방향으로 회전 구동시키는 유닛 구동부와, 제1 및 제2 히터 유닛의 회전 구동 범위의 상한 위치를 검출하는 상한 스위치와, 제1 및 제2 히터 유닛의 회전 구동 범위의 하한 위치를 검출하는 하한 스위치를 구비하고, 제1 및 제2 히터 유닛은 상한 위치와 하한 위치 사이에서 회전가능하다.

또, 제2항의 두발 처리 촉진기는, 제1항의 두발 처리 촉진기로서, 두발 처리 촉진기 본체가 두발 처리 촉진기 본체에 연결된 지지 막대를 통하여 스탠드의 선단부에 삽입되고, 스탠드와 함께 바닥면을 이동할 수 있다.

또, 제3항의 두발 처리 촉진기는, 제2항의 두발 처리 촉진기로서, 두발 처리촉진기 본체가 지지 막대에 대하여 지지축을 중심으로 전후로 경사이동 가능하고, 지지축의 회전을 잠금으로써, 두발 처리 촉진기 본체의 전후 경사이동 위치를 고정할 수 있다.

또, 제4항의 두발 처리 촉진기는, 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 두발 처리 촉진기로서, 상한 위치는 제1 및 제2 히터 유닛이 서로 평행한 면에 위치하여 머리 정상 유닛 지지부가 위치하는 면과 평행한 평면 상에 위치하는 상태로 있는 위치이며, 하한 위치는 제1 및 제2 히터 유닛이 동일 평면 상에 위치하여 대략 원 형상을 만드는 상태의 위치가 되도록 한다.

또, 제5항의 두발 처리 촉진기는, 제4항의 두발 처리 촉진기로서, 제1 및 제2 히터 유닛이 상한 위치로부터 하한 위치까지 회전하고, 하한 위치로부터 상한 위치와 하한 위치 사이의 소정의 경사 위치까지 회전한 후, 이 경사 위치에서 반전하여 다시 하한 위치까지 회전하고, 다시 하한 위치로부터 상한 위치까지 회전하는 동작을 반복한다.

또, 제6항의 두발 처리 촉진기는, 제5항의 두발 처리 촉진기로서, 경사 위치는 제1 및 제2 히터 유닛이 하한 위치로부터 상한 위치를 향하여 회전할 때의 경과시간을 제어하여 설정하도록 한다.

또, 제7항의 두발 처리 촉진기는, 제4항의 두발 처리 촉진기로서, 제1 및 제2 히터 유닛이 상한 위치로부터 하한 위치까지 회전하고, 하한 위치로부터 상한 위치와 하한 위치 사이의 소정의 경사 위치까지 회전하고, 이 경사 위치에서 소정의 시간을 정지한 후, 다시 경사 위치로부터 상한 위치까지 회전하는 동작을 반복한다.

또, 제8항의 두발 처리 촉진기는, 제7항의 두발 처리 촉진기로서, 경사 위치는 제1 및 제2 히터 유닛이 하한 위치로부터 상한 위치를 향하여 회전할 때의 경과시간을 제어하여 설정하도록 한다.

(제1 실시예)

이하, 도 1 내지 도 8을 참조하여 제1 실시예에 따른 두발 처리 촉진기에 대하여 설명한다.

먼저, 도 1을 이용하여 본 실시예에서의 두발 처리 촉진기의 구조에 대하여 설명한다.

도 1은 본 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 정면사시도이다.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 두발 처리 촉진기는, 본체 지지부(5)에 내장되어 있는 히터 유닛 구동부(도 3의 도면부호 50)에 의해 좌우로 서로 멀어지거나 좌우로부터 서로 가까워지도록 두발의 주위를 요동 회전하면서 두발의 머리 정상 부분으로부터 각각 좌우 측면에 걸치는 두발 전역에 대하여 열을 조사하는 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)을 포함하는 두발 처리부(20)를 가진다. 두발 처리부(20)는 지지 막대(9)를 통하여 스탠드(10)의 선단에 삽입되어 바닥면 상의 임의의 위치에 설치된다.

또, 두발 처리부(20)는 지지 막대(9)에 대하여 지지축(6)을 중심으로 전후로 경사 이동시킬 수 있는데, 지지축 잠금 브래킷(8)에 고정된 손잡이(7)를 위쪽으로 들어 올림으로써 지지축(6)의 회전을 막고 두발 처리부(20)의 전후 경사 이동위치를 고정한다.

이하, 도 2 내지 도 5를 이용하여 두발 처리부(20)의 각 부분에 대하여 상세하게 설명한다.

먼저, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)의 구조와, 양쪽 히터 유닛(1, 2) 및 머리 정상 부분에 있는 머리 정상 유닛 지지부(3)의 연결 부분에 대하여 도 2 및 도 3을 참조하면서 설명한다. 도 2는 도 1의 두발 처리부에 대한 A-A'선 단면도이며, 도 3은 도 2의 두발 처리부에 대한 B-B'선 단면도이다.

도 2에 도시한 것처럼, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)은 두발에 열을 조사하는 히터(11, 12), 히터(11, 12)의 열이 더욱 광범위하게 도달하도록 하는 반사판(14a, 14b), 히터(11, 12) 및 반사판(14a, 14b)의 프레임인 히터 커버(15a, 15b), 그리고 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)의 양 선단 부분에 설치된 제1 및 제2 회전 브래킷(16a, 16b, 17a, 17b)으로 이루어지며, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)과 머리 정상 유닛 지지부(3)는 도 3에 나타낸 바와 같이 제1 및 제2 회전 브래킷(16a, 16b, 17a, 17b)의 부분으로, 회전축(4)과 히터 유닛 구동부(50)의 제1 및 제2 모터 출력축(56, 57)에 의해 연결되어 있다.

다음에, 히터 유닛 구동부(50)에 대하여 도 4 및 도 5를 참조하면서 설명한다. 도 4(a)는 본 실시예에 따른 히터 유닛 구동부(50)의 단면도이고, 도 4(b)는 히터 유닛 구동부(50)의 정면도이며, 도 5는 본 실시예에 따른 제1 및 제2 히터 유닛이 두발의 주위를 요동 회전하는 경우의 회전 범위를 도시한 도면이다.

도 4에 나타낸 것처럼, 히터 유닛 구동부(50)는 모터(51), 모터기어박스(52), 구동 캠(53), 상한 스위치(54a), 하한 스위치(54b), 그리고 제1 및 제2 모터 출력축(56, 57)으로 이루어지는 것이며, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)이 두발의 주위에서 좌우 서로 멀어지거나 좌우 서로 가까워지도록 회전시키는 구동부이다.

제1 및 제2 모터 출력축(56, 57)은 각각이 서로 반대로 회전하도록 기어로 연결되고 모터(51)의 구동에 의해 서로 역방향으로 회전하게 되어 있고, 제1 모터 출력축(56)을 제1 회전브래킷(16b)에, 제2 모터 출력축(57)을 제2 회전 브래킷(17b)에 연결함으로써 모터(51)로부터의 구동 출력을 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)에 전하고, 이에 따라 양 히터 유닛(1, 2)은 전술한 바와 같이 두발 주위를 좌우 서로 요동 회전한다.

구동 캠(53)은 모터 출력축(55)과 연통시킨 축의 다른 쪽 끝에 장착되어 있어서 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)과 함께 요동 회전한다.

상한 및 하한 스위치(54a, 54b)는 구동 캠(53)의 돌기 부분에 의해 눌려서 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)의 상한 및 하한 위치를 검출함으로써 양 히터 유닛(1, 2)의 회전가능 범위를 결정한다. 본 실시예에서는, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)이 도 5에 나타낸 X 위치, 즉 서로 평행하면서 머리 정상 유닛 지지부(3)가 위치하는 면과 평행한 평면에 위치하는 상태와, Y 위치, 즉 동일 평면 상에서 대략 원형 상태를 만드는 상태의 사이를 회전가능 범위로 하고, 양 히터 유닛(1, 2)은 X 위치와 Y 위치 사이의 소정의 Z 위치에서 회전 방향을 반전하여 X 위치 - Y 위치 - Z 위치 - Y 위치 - X 위치로 이동하여 두발의 주위를 요동한다. 이와 같이 양 히터유닛(1, 2)이 X 위치와 Y 위치 사이의 왕복 회전 외에, Z 위치와 Y 위치 사이를 회전함으로써, 그다지 열이 필요하지 않은 머리 정상 부분보다 열이 필요한 언저리 부분에 많은 열을 조사한다. 또, 소정의 Z 위치는 히터 유닛(1, 2)이 Y 위치로부터 X 위치로 이동하는 경과 시간을 제어하여 위치를 설정할 수 있다.

여기서 도 5를 이용하여, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)의 회전 동작에 대하여 상세하게 설명한다. 우선 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)은 X 위치로부터 양 히터 유닛(1, 2)이 좌우로 서로 멀어지도록 Y 위치를 향하여 회전한다. 그리고 하한 스위치(54b)에 의해 Y 위치가 검출되면, 이번에는 Y 위치로부터 양 히터 유닛(1, 2)이 좌우 서로 가까워지도록 X 위치를 향하여 회전한다. 양 히터 유닛(1, 2)이 Y 위치로부터 X 위치로의 회전이 시작되고 나서 미리 설정해 둔 시간이 경과하면, 히터 유닛 구동부(50)에 의해 반전 출력이 출력되고, 양 히터 유닛(1, 2)은 그 설정 시간이 경과했을 때의 지점인 Z 위치에서 반전하여, Z 위치로부터 다시 Y 위치를 향하여 상호 좌우로 멀어지도록 회전한다. 그리고 하한 스위치(54b)에 의해 다시 Y 위치가 검출되면, Y 위치로부터 상한 스위치(54a)에 의해 X 위치가 검출될 때까지 좌우 서로 가까워지도록 회전해 나간다.

다음에, 두발 처리부(20)와 지지 막대(9)의 연결 부분에 대하여 도 2를 참조하면서 설명한다. 도 2에서 보면, 지지축(6)에는 두발 처리부(20)의 섀시(92, 93) 중 지지축(6) 측 섀시(92)와 지지축 잠금 볼트(91)가 고정되어 있고, 지지축 잠금 볼트(81)가 적절한 세기로 단단히 조이고 있는 지지축 잠금 브래킷(8)에는 손잡이(7)가 고정되어 있다. 지지 막대(9)는 내부에 스프링(91)을 갖추고 있으며,스프링(91)의 한쪽 끝은 지지 막대(9)에, 다른 쪽 끝은 지지축(6)에 고정되어 있다. 이 스프링(91)은 섀시(92)가 고정되어 있는 지지축(6)을 스프링의 반발력에 의해 외측으로 밀어내고, 이로 인해 지지축(6)에 고정되어 있는 지지축 잠금 볼트(81)를 섀시(93)의 쪽으로 끌어와 지지 막대(9)를 누름으로써 두발 처리부(20)가 전방으로 쓰러지는 것을 방지한다. 또, 두발 처리부(20)의 위치를 고정하고자 하는 경우에는, 손잡이(7)를 위쪽으로 들어 올린다. 이에 따라, 지지축 잠금 브래킷(8)이 지지축 잠금 볼트(81)에 더욱 단단히 조여지고, 이로 인해 지지축 잠금 브래킷(8)과 지지축(6)이 각각 섀시(93, 92) 쪽으로 더욱 눌려져서 지지축(6)과 섀시(92)의 마찰력, 그리고 지지축 잠금 브래킷(8)과 섀시(93)의 마찰력에 의해 두발 처리부(20)의 위치를 움직이지 않도록 고정할 수가 있다.

또한, 본체 지지부(5)에는 본 두발 처리 촉진기의 전원이나, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)의 제1 및 제2 히터(11, 12)의 온도나 이 히터에 의한 열 조사 시간의 설정, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)을 반전시키는 임의 위치의 설정, 열 조사의 시작 등, 두발 처리 촉진기를 조작하는 스위치가 설치된 조작반(13)이 장착되어 있다.

다음에, 도 6 내지 도 8을 이용하여, 본 실시예에서의 두발 처리 촉진기를 사용하여 서비스를 받는 사람의 두발에 열을 조사하는 동작에 대하여 설명한다. 도 6(a)는 본 실시예에서 두발 처리부(20)의 위치를 조정하기 전의 측면도이고, 도 6(b)는 본 실시예에서 두발 처리부(20)의 위치를 조정할 때의 측면도이며, 도 7은 본 실시예의 두발 처리 촉진기의 제1 및 제2 히터 유닛이 도 5에서 Y 위치에 있을때의 두발 처리부를 나타내는 정면도이며, 도 8은 본 실시예에 따른 두발 처리 촉진기의 제1 및 제2 히터 유닛이 도 5에서 Z 위치에 있을 때의 두발 처리부를 나타내는 정면도이다.

먼저, 미용사(도시하지 않음)는 도 6(a)에 나타낸 상방 유지 위치(X0)에 두발 처리부(20)가 있는 두발 처리 촉진기를 이미용 의자에 앉아 서비스를 받는 사람의 뒤에 설치한다.

그런 다음에, 미용사는 도 6(a)의 상방 유지 위치(X0)에 있는 두발 처리부(20)를 도 6(b)에 나타낸 원하는 위치인 실선 위치(X1)까지 경사 이동한다.

여기서, 지지 막대(9)에 대한 두발 처리부(20)의 구체적인 경사 이동 동작에 대하여 설명하면, 두발 처리부(20)를 도 6(a)의 위치(X0)로부터 도 6(b)의 실선 위치(X1)까지 이동하는 경우, 우선 미용사(도시하지 않음)는 손잡이(7)를 도 6(a)의 잠금 위치로부터 해제 위치로 내려서 두발 처리부(20) 위치의 잠금을 해제한다. 다음에, 미용사는 두발 처리부(20)를 도 6(b)의 사선 위치(X0)로부터 서서히 앞으로 경사 이동하여, 두발 처리부(20)의 히터 유닛(1, 2)이 서비스를 받는 사람의 두발에 열을 충분히 조사할 수 있는 위치, 도 6(b)의 실선 위치(X1)에 도달했을 때 손잡이(7)를 잠금 위치로 올려 두발 처리부(20)의 경사 이동 위치를 고정한다.

이렇게 하여, 두발 처리부(20)의 위치를 서비스를 받는 사람에 맞추어 조정한 후, 미용사는 본 두발 처리 촉진기에 전원을 연결하고 조작반(13) 상에 있는 전원 스위치를 눌러 두발 처리 촉진기에 전원을 넣는다.

그리고 미용사는 조작반(13) 상에 있는 스위치를 조작하여 서비스를 받는 사람이 받고 있는 서비스의 내용, 예를 들면 두발의 파마나 염색, 또는 트리트먼트(treatment) 등에 적당한 히터의 온도나 열 조사 시간을 설정한 후, 열 조사를 시작하는 스위치를 눌러 서비스를 받는 사람의 두발에 대하여 열 조사를 시작한다.

두발 처리부(20)로부터 서비스를 받는 사람의 두발에 대하여 열 조사가 시작되는 동시에, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)이 서비스를 받는 사람의 두발 주위를 요동 회전하기 시작한다. 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)은 전술한 바와 같이 하여 X 위치 - Y 위치 - Z 위치 - Y 위치 - X 위치로 회전한다. 여기서 미용사가, 현 시점에서 미리 설정되어 있었던 반전 위치가 서비스를 받는 사람의 두발에 대하여 조금 낮고, 언저리 부분에 열이 충분히 조사되고 있지 않는다고 느낀 경우에는, Y 위치로부터 Z 위치까지 이동하는 데 걸리는 경과시간을 조작반(13)에서 길게 재설정하여, Z 위치를 현 시점보다 높게 할 수가 있다.

조작반(13)에 의해 설정된 히터로부터의 열 조사 시간이 경과하면, 히터(11, 12)가 자동적으로 꺼져 서비스를 받는 사람의 두발에 대한 열의 조사가 종료된다. 이에 따라, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)은 도 1에 나타낸 상태로 자동으로 되돌아가게 된다. 미용사는 조작반(13)의 전원을 차단하고, 두발 처리 촉진기를 서비스를 받는 사람의 뒤로부터 이 후의 서비스를 할 때에 방해가 되지 않는 장소로 이동한다.

이상과 같이, 본 실시예에서의 두발 처리 촉진기에 의하면, 서비스를 받는 사람의 머리 정상 부분에 있는 머리 정상 유닛 지지부(3)에 대하여, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)을 회전축(4a, 4b)에 의해 회전가능하게 연결하고, 히터 유닛 구동부(50)를 회전축(4b)에 끼워서, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)이 머리 정상 부분으로부터 좌우로 서로 멀어지도록, 또는 좌우로부터 서로 가까워지도록 요동 회전시키며, 그 회전 동작은 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)이 서로 평행한 면에 위치하고 머리 정상 유닛 지지부(3)가 위치하는 면과 평행한 평면 상에 위치하는 상태인 상한 위치로부터, 제1 및 제2 히터 유닛이 동일 평면 상에 위치하여 대략 원 형상을 만드는 하한 위치까지 회전하여, 하한 위치로부터 소정의 경사 위치까지 회전한 후, 이 소정의 경사 위치에서 히터 유닛 구동부(50)에 의해 반전 출력되어 다시 하한 위치까지 회전한 후, 이 하한 위치로부터 상한 위치까지 회전하도록 하였기 때문에, 열이 그다지 필요하지 않는 머리 정상 부분보다 열이 필요한 언저리 부분에 열을 대부분 조사할 수가 있다.

또, 본 실시예의 두발 처리 촉진기에 따르면, 반전하는 위치를 하한 위치로부터의 경과 시간을 제어함으로써 설정하도록 하였기 때문에, 서비스를 받는 사람의 머리에 맞추어 반전 위치를 이동시킬 수 있다.

또, 본 실시예에서는, 제1 및 제2 히터 유닛(1, 2)의 회전 동작을 소정의 경사 위치에서 반전시켜 다시 하한 위치까지 회전한 후, 상한 위치까지 회전하도록 하였지만, 이러한 소정의 경사 위치에서 반전하는 것이 아니라, 일정 시간 정지한 후에 상한 위치로 회전하도록 하더라도 같은 효과가 얻어진다.

제1항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 본체 지지부에 고정되고 머리 정상 부분에 있는 대략 반원 원호상의 머리 정상 유닛 지지부와, 그 양단 부분 각각이 머리 정상 유닛 지지부의 각 선단 부분에 회전가능하게 연결되어 두발의 머리 정상 부분으로부터 각각 좌우 측면에 걸치는 두발 전역에 대하여 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 제1 및 제2 히터를 가지는 제1 및 제2 히터 유닛과, 제1 및 제2 히터 유닛을 서로 역방향으로 회전 구동시키는 유닛 구동부와, 제1 및 제2 히터 유닛의 회전 구동 범위의 상한 위치를 검출하는 상한 스위치와, 제1 및 제2 히터 유닛의 회전 구동 범위의 하한 위치를 검출하는 하한 스위치를 구비하고, 제1 및 제2 히터 유닛은 상한 위치와 하한 위치 사이에서 회전가능하도록 하였기 때문에, 제1 및 제2 히터 유닛을 머리 정상 유닛 지지부에 대하여 좌우 서로 멀어지도록, 또는 좌우 서로 가까워지도록 요동 회전시켜서 서비스를 받는 사람의 두발에 대하여 열을 조사할 수 있다.

또, 제2항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제1항의 두발 처리 촉진기로서, 두발 처리 촉진기 본체가 두발 처리 촉진기 본체에 연결된 지지 막대를 통하여 스탠드의 선단부에 삽입되고, 스탠드와 함께 바닥면을 이동할 수 있도록 하였기 때문에, 본 두발 처리 촉진기를 임의의 위치에 설치할 수가 있다.

또, 제3항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제2항의 두발 처리 촉진기로서, 두발 처리 촉진기 본체가 지지 막대에 대하여 지지축을 중심으로 전후로 경사이동 가능하고, 지지축의 회전을 잠금으로써, 두발 처리 촉진기 본체의 전후 경사이동 위치를 고정할 수 있도록 하였기 때문에, 서비스를 받는 사람의 머리 위치에 맞추어 본 두발 처리 촉진기 본체를 전후로 경사 이동시킬 수 있다.

또, 제4항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 두발 처리 촉진기로서, 상한 위치는 제1 및 제2 히터 유닛이 서로 평행한 면에 위치하여 머리 정상 유닛 지지부가 위치하는 면과 평행한 평면 상에 위치하는 상태로 있는 위치이며, 하한 위치는 제1 및 제2 히터 유닛이 동일 평면 상에 위치하여 대략 원 형상을 만드는 상태의 위치가 되도록 하였기 때문에, 서비스를 받는 사람의 머리털이 난 언저리 부분 전체에 대하여 열을 조사할 수 있다.

또, 제5항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제4항의 두발 처리 촉진기로서, 제1 및 제2 히터 유닛이 상한 위치로부터 하한 위치까지 회전하고, 하한 위치로부터 상한 위치와 하한 위치 사이의 소정의 경사 위치까지 회전한 후, 이 경사 위치에서 반전하여 다시 하한 위치까지 회전하고, 다시 하한 위치로부터 상한 위치까지 회전하는 동작을 반복하도록 하였기 때문에, 열이 그다지 필요하지 않은 머리 정상 부분보다 열이 필요한 언저리 부분에 열을 대부분 조사할 수가 있다.

또, 제6항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제5항의 두발 처리 촉진기로서, 경사 위치는 제1 및 제2 히터 유닛이 하한 위치로부터 상한 위치를 향하여 회전할 때의 경과시간을 제어하여 설정하도록 하였기 때문에, 제1 및 제2 히터 유닛을 반전시키는 위치를 원하는 위치로 설정할 수 있다.

또, 제7항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제4항의 두발 처리 촉진기로서, 제1 및 제2 히터 유닛이 상한 위치로부터 하한 위치까지 회전하고, 하한 위치로부터 상한 위치와 하한 위치 사이의 소정의 경사 위치까지 회전하고, 이 경사 위치에서 소정의 시간을 정지한 후, 다시 경사 위치로부터 상한 위치까지 회전하는 동작을 반복하도록 하였기 때문에, 열이 그다지 필요하지 않은 머리 정상 부분보다 열이 필요한 언저리 부분에 열을 대부분 조사할 수가 있다.

또, 제8항의 두발 처리 촉진기에 따르면, 제7항의 두발 처리 촉진기로서, 경사 위치는 제1 및 제2 히터 유닛이 하한 위치로부터 상한 위치를 향하여 회전할 때의 경과시간을 제어하여 설정하도록 하였기 때문에, 제1 및 제2 히터 유닛이 일시 정지하는 위치를 원하는 위치로 설정할 수 있다.

Claims

본체 지지부에 고정되고 머리 정상 부분에 있는 대략 반원 원호상의 머리 정상 유닛 지지부,

그 양단 부분 각각이 상기 머리 정상 유닛 지지부의 각 선단 부분에 회전가능하게 연결되어 머리 정상 부분으로부터 각각 좌우 측면에 걸치는 두발 전역에 대하여 열을 조사하는 대략 반원 원호상의 제1 및 제2 히터를 가지는 제1 및 제2 히터 유닛,

상기 제1 및 제2 히터 유닛을 서로 역방향으로 회전 구동하는 유닛 구동부,

상기 제1 및 제2 히터 유닛의 상기 회전 구동 범위에서의 상한 위치를 검출하는 상한 스위치, 그리고

상기 제1 및 제2 히터 유닛의 상기 회전 구동 범위에서의 하한 위치를 검출하는 하한 스위치

를 포함하며,

상기 제1 및 제2 히터 유닛은 상기 상한 위치와 상기 하한 위치 사이에서 회전가능한

두발 처리 촉진기.
제1항에 있어서,

상기 두발 처리 촉진기의 본체가 상기 두발 처리 촉진기의 본체에 연결된 지지 막대를 통하여 스탠드의 선단부에 삽입되고, 상기 스탠드와 함께 바닥면을 이동할 수 있는 두발 처리 촉진기.
제2항에 있어서,

상기 두발 처리 촉진기 본체가 지지축을 중심으로 상기 지지 막대에 대하여 전후로 경사 이동가능하고, 상기 지지축의 회전을 잠금으로써 상기 두발 처리 촉진기 본체의 전후 경사이동 위치를 고정할 수 있는 두발 처리 촉진기.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 상한 위치는 상기 제1 및 제2 히터 유닛이 서로 평행한 면에 위치하고 상기 머리 정상 유닛 지지부가 위치하는 면과 평행한 평면 상에 위치하는 상태의 위치이며, 상기 하한 위치는 상기 제1 및 제2 히터 유닛이 동일 평면 상에 위치하여 대략 원 형상을 만드는 상태의 위치인 두발 처리 촉진기.
제4항에 있어서,

상기 제1 및 제2 히터 유닛은, 상기 상한 위치로부터 상기 하한 위치까지 회전하고, 상기 하한 위치로부터 상기 상한 위치와 상기 하한 위치 사이의 소정의 경사 위치까지 회전한 후, 상기 경사 위치에서 반전하여 다시 상기 하한 위치까지 회전하고, 다시 상기 하한 위치로부터 상기 상한 위치까지 회전하는 동작을 반복하는 두발 처리 촉진기.
제5항에 있어서,

상기 경사 위치는 상기 제1 및 제2 히터 유닛이 상기 하한 위치로부터 상기 상한 위치를 향하여 회전할 때의 경과 시간을 제어하여 설정하는 두발 처리 촉진기.
제4항에 있어서,

상기 제1 및 제2 히터 유닛은, 상기 상한 위치로부터 상기 하한 위치까지 회전하고, 상기 하한 위치로부터 상기 상한 위치와 상기 하한 위치 사이의 소정의 경사 위치까지 회전하고, 상기 경사 위치에서 소정의 시간 동안 정지한 후, 다시 상기 경사 위치로부터 상기 상한 위치까지 회전하는 동작을 반복하는 두발 처리 촉진기.
제7항에 있어서,

상기 경사 위치는 상기 제1 및 제2 히터 유닛이 상기 하한 위치로부터 상기 상한 위치를 향하여 회전할 때의 경과 시간을 제어하여 설정하는 두발 처리 촉진기.