KR100438700B1 - 투과층 형성방법, 장치 및 디스크 기판 - Google Patents

투과층 형성방법, 장치 및 디스크 기판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 투과층 형성방법, 장치 및 디스크 기판을 개시한다.
본 발명에 따른 투과층 형성방법은 (a) 상기 디스크 기판의 중심에 형성된 축공을 통해 수지가 누설되지 않도록 뚜껑부재를 사용하여 상기 축공을 차폐하는 단계; (b) 상기 디스크 기판의 상측에서 상기 디스크 기판의 중심을 향하여 수지를 토출하는 단계; 및 (c) 상기 뚜껑부재를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 보다 균일한 투과층을 얻을 수 있다.

Description

투과층 형성방법, 장치 및 디스크 기판{Method for forming reflection layer of a disc substrate, apparatus thereof, and disc substrate therefrom}
본 발명은 디스크 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 디스크의 투과층을 형성시키는 방법, 장치, 및 이에 따른 디스크 기판에 관한 것이다.
도 1은 일반적인 광 디스크의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 광 디스크는 디스크 기판(10)과 투과층(15)을 포함하며, 그 중심에는 축공(14)이 형성되어 있다. 디스크 기판(10)의 두께 T는 HD-DVD의 경우 1.1mm이고 투과층(15)의 두께 d는 0.1mm로서 총 두께는 1.2mm가 된다. 특히 재생장치로부터 조사된 레이저빔이 투과층(15)의 표면에 정확히 초점을 맞출 수 있도록 하기 위해서는 투과층(15)의 두께는 100㎛ ±3㎛ 이내에 포함되어야 한다. 이와 같은 박막 투과층(15)을 형성시키는 방법의 하나는 스핀(spin) 코팅법이다.
도 2는 종래 스핀 코팅법에 따른 투과층 형성방법을 설명하기 위한 참고도이다.
종래 스핀 코팅법은 도 2에 도시된 바와 같이 저속회전하는 디스크 기판(10)의 기판면의 일 지점에 액상의 자외선 경화성 수지(13)를 떨어뜨린 다음 디스크 기판(10)을 고속으로 회전시킨다. 자외선 경화성 수지(13)는 원심력에 의해 디스크 기판(10)의 반경방향으로 퍼져나가 기판 전체에 도포된다. 다음으로, 도포된 자외선 경화성 수지(13)에 자외선을 조사하여 경화시킨다.
스핀 코팅법에 의해 박막 투과층(15)을 형성시킴에 있어 투과층(15)의 두께는 스핀닝(spinning) 속도, 스피닝 시간, 자외선 경화성 수지(13)의 토출위치, 토출양, 등의 가공조건과 점도(viscosity) 등의 수지특성에 좌우된다. 특히, 100㎛ 정도의 두께로 코팅하기 위해서는 자외선 경화성 수지(13)의 점도가 수백 cps(centi-poise) 이상이 되어야 한다. 점도가 증가할수록 생성된 막두께의 균일성(uniformity)은 증가하지만 동시에 분자간의 인력 또한 증가하므로 수지가 토출되는 위치에 민감한 영향을 받게 된다.
도 3은 토출위치와 균일성과의 관계를 보여주는 그래프이다.
도 3은, 예를 들어, 점도 5000 cps, 토출량 5g, 및 스피닝 속도 700 rpm 조건에서 각각 디스크 기판(10)의 축공(중심), 반지름 20 mm, 30 mm, 40 mm, 45 mm에서 각각 자외선 경화성 수지(13)를 토출하였을 때 생성된 투과층(15)의 막두께의 균일성을 보여주고 있다. 이로부터 자외선 경화성 수지(13)가 디스크 기판(10)의 중심(축공(14))에서 토출되었을 때 생성되는 투과층(15)의 막두께가 가장 균일함이 확인할 수 있다.
그런데, 전술한 바와 같이, 종래 스핀 코팅법은 자외선 경화성 수지를 디스크 기판의 중심이 아닌, 기판면의 일 지점에 토출시키는 방법에 따르고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 수지를 디스크 기판의 중심에 토출시켜 보다 높은 균일성을 갖는 투과층을 형성할 수 있는 투과층 형성방법, 장치 및 그 디스크 기판을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 보다 넓은 기록면을 확보할 수 있는 투과층 형성방법, 장치 및 그 디스크 기판을 제공하는 것이다.
도 1은 일반적인 광 디스크의 단면도,
도 2는 종래 스핀 코팅법을 설명하기 위한 참고도,
도 3은 토출위치와 균일성과의 관계를 보여주는 그래프,
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 투과층 형성장치의 일부 단면도,
도 5 내지 7은 본 발명에 따라 디스크 기판을 스핀들 테이블에 밀착시키는 방법을 설명하기 위한 참고도,
도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 장치의 일부 단면도,
도 9는 본 발명에 따른 뚜껑부재의 다양한 단면도,
도 10은 본 발명에 따른 바람직한 뚜껑부재의 크기를 설명하기 위한 참고도,
도 11은 투과층 형성방법을 설명하기 위한 플로우챠트,
도 12는 본 발명에 따른 투과층과 종래 방법에 따라 형성된 투과층의 단면에 대한 비교도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
40: 디스크 기판 41: 토출헤더
42: 토출노즐 43: 수지
44: 스핀들 테이블 46: 회전 지지대
47: 중심축 48: 뚜껑부재
상기 목적은 본 발명에 따라, 디스크 기판에 투과층을 형성하는 방법에 있어서, (a) 상기 디스크 기판의 중심에 형성된 축공을 통해 수지가 누설되지 않도록 뚜껑부재를 사용하여 상기 축공을 차폐하는 단계; (b) 상기 디스크 기판의 상측에서 상기 디스크 기판의 중심을 향하여 수지를 토출하는 단계; 및 (c) 상기 뚜껑부재를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투과층 형성방법에 의해 달성된다.
여기서, 상기 (a)단계는 (a1) 상기 뚜껑부재의 돌기부를 상기 디스크 기판의 축공에 삽입하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 (a)단계 이전에 (a0) 스핀들 테이블로부터 돌출되도록 마련된 중심축을 상기 디스크 기판의 축공에 삽입하여 상기 디스크 기판을 상기 중심축의 둘레에 마련된 회전 지지대에 장착하는 단계를 더 포함하며, 상기 회전 지지대의 높이와 상기 디스크 기판의 두께의 합은 상기 중심축의 길이와 상기 돌기부의 길이의 합보다 크거나 같은 것이 바람직하다.
나아가 상기 (a)단계는 (a2) 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 상기 스핀들 테이블에 밀착시키는 단계를 더 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 이때, 상기 (a2)단계는 회전 지지대에 형성된 적어도 하나의 중공을 통해 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대 사이가 진공상태가 되도록 공기를 외부로 유출시켜 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 상기 스핀들 테이블에 밀착시키는 단계이거나, 상기 중심축에 형성된 적어도 하나의 중공을 통해 상기 뚜껑부재와 상기 중심축 사이가 진공상태가 되도록 공기를 외부로 유출시켜 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 상기 스핀들 테이블에 밀착시키는 단계이거나, 상기 중심축의 내측에 매설된 자석을 통해 상기 뚜껑부재와 상기 중심축을 부착시킴으로써 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 상기 스핀들 테이블에 밀착시키는 단계임이 효과적이다.
또한, 상기 (b)단계 이후에 (b-1) 상기 디스크 기판을 회전시켜 상기 수지를 상기 디스크 기판에 균일하게 도포하는 단계; 및 (b-3) 도포된 수지를 경화시키는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
한편, 본 발명의 다른 분야에 따르면 상기 목적은 디스크 기판에 투과층을 형성하는 장치에 있어서, 상기 디스크 기판이 장착되어 회전되도록 상기 디스크 기판을 지지하는 지지부; 및 상기 디스크 기판의 중심을 향해 수지를 토출하는 수지토출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치에 의해서도 달성된다.
상기 지지부는 상기 디스크 기판의 중심에 형성된 축공을 통해 수지가 누설되지 않도록 상기 축공을 밀폐하는 돌기부가 형성된 뚜껑부재를 포함하는 것이 바람직하며, 스핀들 모터; 상기 스핀들 모터에 회전가능하도록 연결된 스핀들 테이블; 상기 스핀들 모터와 상기 스핀들 테이블을 연결하며 상기 스핀들 테이블을 통과하여 상기 스핀들 모터의 대향측으로 돌출된 중심축; 및 상기 스핀들 테이블의 상기 중심축의 둘레에 배치되어 상기 디스크 기판이 장착되는 회전 지지대를 더 포함하는 것이 바람직하다.
상기 회전 지지대의 높이와 상기 디스크 기판의 두께의 합은 상기 중심축의 길이와 상기 돌기부의 길이의 합보다 크거나 같은 것이 더욱 바람직하다.
상기 회전 지지대에는 상기 뚜껑부재와 상기 회전 지지대의 사이가 진공상태가 되도록 공기를 외부로 유출시켜 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 밀착시키기 위한 적어도 하나의 중공이 형성되어 있거나, 상기 중심축에는 상기 뚜껑부재와 상기 중심축 사이가 진공상태가 되도록 공기를 외부로 유출시켜 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 밀착시키기 위한 적어도 하나의 중공이 형성되어 있거나, 상기 중심축의 내측에는 상기 뚜껑부재와 상기 중심축을 부착시킴으로써 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 밀착시키기 위한 자석이 매설되어 있으며, 상기 회전 지지대는 잔류물이 용이하게 제거될 수 있도록 소정 코팅물질로 코팅되어 있는 것이 특히 바람직하다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 장치의 일부 단면도이다.
도 4를 참조하면, 투과층을 형성하기 위한 장치는 수지(43)를 토출하는 수지토출부와 디스크 기판(40)이 장착되어 회전되도록 디스크 기판(40)을 지지하는 지지부를 구비한다. 수지토출부는 수지(43)를 토출하는 토출노즐(42) 및 토출노즐(42)이 마련된 토출헤더(41)를 포함한다. 지지부는 스핀들 모터(도시되지 않음), 회전가능하도록 중심축(47)을 통해 스핀들 모터에 연결된 스핀들 테이블(44), 회전가능하도록 스핀들 테이블(44)에 중심축(47)을 둘러싸며 설치된회전 지지대(46)를 포함한다. 회전 지지대(46)의 재질은 특별한 제한을 갖지 않으며 플라스틱, 금속, 등 모두 사용가능하다.
본 실시예에 따라 중심축(47)은 디스크 기판(40)의 축공에 삽입되도록 회전 지지대(46)의 외측으로 돌출되어 있으며 회전 지지대(46)는 디스크 기판(40)을 지지한다. 회전 지지대(46)의 반경은 디스크 기판(40)의 그것보다 작다. 장착된 디스크 기판(40)의 중심에 형성된 축공에는 뚜껑부재(48)가 설치된다. 뚜껑부재(48)는 본 발명에 따라 수지(43)가 토출될 때 축공으로 누설되지 않도록 축공을 차폐하는 역할을 담당하는 것으로, 헤더부(48a)와 돌기부(48b)로 구성된다. 뚜껑부재(48)가 부착되면 헤더부(48a)의 하측은 기판면에 밀착되고 돌기부(48b)는 축공에 삽입된다. 헤더부(48)의 반경은 축공을 차폐하기 위해 축공의 그것보다 크다. 돌기부(48b)는 디스크 기판(40)을 고속으로 회전시킬 때 흔들리는 것을 방지해준다.
특히, 본 실시예에 따라 회전 지지대(46)의 높이 h와 디스크 기판(40)의 두께 d의 합은 중심축(47)의 길이 ℓ와 돌기부(48b)의 길이 p의 합보다 크거나 같고, 돌기부(48b)의 길이 p는 디스크 기판(40)의 두께 d보다 작거나 같으며 이를 식으로 나타내면 다음과 같다.
h + d ≥ ℓ + p,
d ≥p
한편, 스핀들 모터에 의해 디스크 기판(40)을 고속 회전시키기 위해서는 디스크 기판(40), 회전 지지대(46), 및 스핀들 테이블(44)을 밀착시켜야 한다. 종래 스핀 코팅법에 따르면 회전시 디스크 기판을 스핀들 테이블에 밀착시키기 위해 디스크 기판과 스핀들 테이블의 사이에 존재하는 공기를 모두 외부로 유출시켜 진공상태로 만드는 방법이 널리 사용된다. 이같은 방법은 본 발명에도 그대로 채용될 수 있는 바, 이를 위한 구성은 다음과 같다.
도 5를 참조하면, 회전 지지대(46)와 스핀들 테이블(44)에는 적어도 하나의 중공(도시되지 않음)이 연통되도록 형성되어 있다. 이에 따라 뚜껑부재(48)와 회전 지지대(46)의 사이가 진공상태가 되도록 스핀들 테이블(44)의 외측으로 공기를 뽑아냄으로써 디스크 기판(40)과 회전 지지대(46)를 스핀들 테이블(44)에 밀착시킬 수 있게 된다.
도 6을 참조하면, 중심축(47)과 스핀들 테이블(44)에는 적어도 하나의 중공(도시되지 않음)이 연통되도록 형성되어 있다. 이에 따라 뚜껑부재(48)와 중심축(47)의 사이가 진공상태가 되도록 스핀들 테이블(44)의 외측으로 공기를 뽑아냄으로써 디스크 기판(40)과 회전 지지대(46)를 스핀들 테이블(44)에 밀착시킬 수 있게 된다.
도 7은 디스크 기판(40)과 회전 지지대(46)를 스핀들 테이블(44)에 밀착시키기 위한 다른 예이다,
도 7을 참조하면, 중심축(47)의 내측에는 자석(70)이 매설되어 있다. 매설된 자석(70)의 자력을 크게 하기 위해서는 전자석인 것이 더욱 바람직하다. 이에 의해, 뚜껑부재(48)와 중심축(47)을 밀착시킴으로써 디스크 기판(40)과 회전 지지대(46)를 스핀들 테이블(44)에 밀착시킬 수 있게 된다.
도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 장치의 일부 단면도이다.
도 8을 참조하면, 투과층을 형성하기 위한 장치는 수지(83)를 토출하는 수지토출부와 디스크 기판(80)이 장착되어 회전되도록 디스크 기판(80)을 지지하는 지지부를 구비한다. 수지토출부는 수지(83)를 토출하는 토출노즐(82) 및 토출노즐(82)이 마련된 토출헤더(81)를 포함한다. 지지부는 스핀들 모터(도시되지 않음), 회전가능하도록 중심축(87)을 통해 스핀들 모터에 연결된 스핀들 테이블(84), 회전가능하도록 스핀들 테이블(84)에 중심축(87)을 둘러싸며 설치된 회전 지지대(86)를 포함한다.
본 실시예에 따라 중심축(87)은 회전 지지대(86)의 내측에 매립되어 있다. 회전 지지대(86)의 중심에는 삽입공(도시되지않음)이 형성되어 있다. 회전 지지대(86)의 반경은 디스크 기판(80)의 그것보다 작다. 디스크 기판(80)은 중심에 형성된 축공이 회전 지지대(86)에 형성된 삽입공에 연통되도록 장착된 다음 뚜껑부재(88)가 설치된다. 뚜껑부재(88)는 본 발명에 따라 수지(83)가 토출될 때 축공으로 누설되지 않도록 축공을 차폐하는 역할을 담당하는 것으로, 헤더부(88a)와 돌기부(88b)로 구성된다. 뚜껑부재(88)가 장착되면 헤더부(88a)의 하측은 기판면에 밀착되고 돌기부(88b)는 디스크 기판(80)의 축공 및 회전 지지대(86)에 형성되어 있는 삽입공에 삽입된다. 헤더부(88)의 반경은 축공을 차폐하기 위해 축공의 그것보다 크다. 돌기부(88b)는 디스크 기판(80)을 통과하여 회전 지지대(86)에 삽입됨으로써 디스크 기판(80)을 고속으로 회전시킬 때 흔들리는 것을 방지해준다.
본 실시예에서의 뚜껑부재(88)는 본 발명에 따라 수지(83)가 토출될 때 축공으로 누설되지 않도록 축공을 차폐하는 역할을 담당하는 것으로, 헤더부(88a)와 돌기부(88b)로 구성된다. 뚜껑부재(88)가 부착되면 헤더부(88a)의 하측은 기판면에 밀착되고 돌기부(88b)는 축공에 삽입된다. 헤더부(88)의 반경은 축공을 차폐하기 위해 축공의 그것보다 크다. 돌기부(88b)는 디스크 기판(80)을 고속으로 회전시킬 때 흔들리는 것을 방지해준다.
본 실시예에서도 회전 지지대(86)의 높이 h와 디스크 기판(80)의 두께 d의 합은 중심축(87)의 길이 ℓ와 돌기부(88b)의 길이 p의 합보다 크거나 같지만, 돌기부(48b)의 길이 p는 디스크 기판(40)의 두께 d보다 크며, 이를 식으로 나타내면 다음과 같다.
h + d ≥ ℓ + p
p > d
한편, 스핀들 모터에 의해 디스크 기판(80)을 고속 회전시키기 위해서는 디스크 기판(80), 회전 지지대(86), 및 스핀들 테이블(84)을 밀착시켜야 한다. 이를 위한 구성은 도 5 내지 7을 참조하여 설명한 제1 실시예의 경우와 동일하다.
도 9는 본 발명에 따른 뚜껑부재의 다양한 단면도이다.
도 9를 참조하면, 전술한 제1 및 2 실시예에서와 달리 뚜껑부재는 다양한 형상으로 제조될 수 있음을 알 수 있다. (a)를 참조하면 뚜껑부재의 헤더부는 단면이 이등변 사다리꼴인 원반형상을 가지며, (b)와 (c)는 단면이 반 타원인 원반현상을 가짐을 알 수 있다. (d)는 헤더부없이 돌기부만이 형성된 뚜껑부재를 나타낸다.
뚜껑부재의 재질로는 특별한 제한을 갖지 않는다. 플라스틱, 금속 등으로 제작하는 것도 가능하다. 다만 뚜껑부재에 잔류하게 되는 수지의 양을 최소화시켜 뚜껑부재를 제거할 때 형성될 수 있는 투과층의 바(barr)를 줄이기 위해서는 뚜껑부재의 표면장력을 최소화할 수 있는 물질, 예를 들면 테프론(Tefron)으로 코팅하면 더욱 바람직하다.
도 10은 본 발명에 따른 바람직한 뚜껑부재의 크기를 설명하기 위한 참고도이다.
디스크의 리드인 영역과 클램핑 영역의 크기는 뚜껑부재의 크기에 영향을 미치는 요소 중의 하나이다. 다시 말해, 클램핑 영역은 균일한 표면을 가져야 하므로 투과층이 시작되는 부분이 포함되어 있지 않아야 한다. 또한, 리드인 영역부터는 데이터가 기록되어야 하므로 투과층이 반드시 형성되어야 하다. 이같은 조건을 고려하면 투과층의 말단은 디스크 기판(100)의 중심부터 스탬핑 영역이 시작되는 지점의 일 지점 (A)에서부터 형성되거나 스탬핑 영역과 리드인 영역 사이의 일 지점 (B)에서부터 형성될 수 있다.
현재 생산되고 있거나 앞으로 생산될 예정인 디스크 중 몇 가지의 스펙(specification)은 다음과 같다.
직경 Φ120mm Φ80mm Φ45mm
리드인 영역 Φ33 - 36mm Φ33 - 36mm Φ33 - 36mm
클램핑 영역 Φ23 - 26mm Φ23 - 26mm Φ23 - 26mm
축공(중심홀) Φ15mm Φ15mm Φ15mm
용량 25GB 7.8GB 650MB
점도 5000 cps인 자외선 경화성 수지를 사용하여 위의 세 기판을 포함한 다양한 기판에 대해 0.1 mm의 투과층을 형성하는 경우, 도 10을 참조하여 설명한 조건을 고려한 결과, (A)의 경우 뚜껑부재의 헤더부의 반경은 Φ22 mm 이하, 두께는 0.35 mm 이하인 것이 바람직하다. (B)의 경우 헤더부의 반경은 Φ27 - 32 mm, 두께는 0.35 mm 이하인 것이 바람직하다. 여기서, 뚜껑부재의 두께는 자외선 경화성 수지의 점도가 감소하면 두꺼워지며 반대로 점도가 증가하면 더 얇아진다.
상기와 같은 구성에 의해 본 발명에 따른 투과층 형성방법을 설명하면 다음과 같다.
도 11은 투과층 형성방법을 설명하기 위한 플로우챠트이다.
도 11을 참조하면, 먼저 디스크 기판을 투과층을 형성시키고자 하는 면이 위쪽으로 향하도록 스핀들 테이블에 장착한 다음 디스크 기판의 중심에 형성된 축공을 뚜껑부재로 차폐한다(1101단계). 다음으로, 스핀들 모터의 회전력을 이용하여 디스크 기판을 저속으로 회전시키면서 토출헤더의 토출노즐을 통해 자외선 경화성 수지를 디스크 기판의 중심에 소정 양 토출한다(1102단계). 이어서, 스핀들 모터를 제어하여 스핀들 테이블에 장착된 디스크 기판을 고속으로 회전시킨다. 회전에 의한 원심력은 자외선 경화성 수지를 디스크 기판의 반경방향으로 퍼져나가게 하고 디스크 기판의 표면 전체에 균일하게 도포시킨다(1103단계). 이어서, 뚜껑부재를 제거한 다음 자외선을 조사하여 수지를 경화시킨다(1104단계).
도 12는 본 발명에 따른 투과층과 종래 방법에 따라 형성된 투과층의 단면에 대한 비교도이다.
도 12를 참조하면, (a)는 종래 투과층을 나타내며, (b)는 본 발명에 따른 투과층을 나타낸다. 종래에는 뚜껑부재를 사용하지 않고 디스크 기판(1100)의 기판면의 일 지점에 수지를 토출하므로 투과층(111)의 시작부분의 두께가 균일하지 않다. 그러나, 본 발명에 따르면 뚜껑부재를 장착한 다음에 디스크 기판의 축공(중심홀)을 향해 수지를 토출한 다음 뚜껑부재를 제거하므로 투과층(112)의 두께는 균일하게 형성된다.
한편, 본 발명에 따른 디스크 제조방법을 적용하여 실제로 디스크를 형성시킨 실측치는 다음과 같다.
<디스크 제조조건>
o 스탬퍼(Stamper):
트랙 피치(Track pitch) 인-그루브(In-groove) 타입 0.32 ㎛
전사 특성을 확인하기 위해 반경 22mm에서 60mm까지 트랙 기록
o 사출성형:
도 1의 120mm, 두께 1.1mm의 디스크 기판 사출시 반경 58.5mm까지 전사 양호
- 사출 조건
고정측 몰드(Mold) 온도 125℃, 가동측 몰드(Mold) 온도 125℃, 스프루 부시(Sprue bush) 온도 90℃, 수지 온도: 최대 380℃, 형체력: 35ton/sec25ton/sec 10ton/50sec
위와 같은 조건으로 사출성형을 실시하여 기계 특성 0.3℃ 이하를 얻었고 에지 부분까지 수지의 유동 플로우가 안정적임이 확인되었다.
o 스퍼터링(sputtering):
외측 마스크의 정밀도 r = 59.7 ±0.2 mm, 마스크 에지 부분의 두께 불균일 영역: 0.2mm, 4 층막 구조: Ag Alloy/ZnSSiO2/SbGeTe/ZnSSiO2
o 스핀 코딩:
직경 22 ~ 44mm 두께 0.24 ~ 0.78mm의 다양한 형상을 갖는 뚜껑부재를 사용하여 디스크 기판(60)의 축공을 차폐하고 그 위에 다음과 같은 조건으로 스핀 코팅을 실시하였으며 대부분이 경우 반경 17 ~ 57mm까지 100 ±2㎛정도의 두께와 균일성을 얻었다.
- 스핀 코팅 조건
점도 5000 cps, 스피닝 시간 60~70 sec, 스피닝 속도 700 rpm, 경화 시간 3000 w의 램프로 3 sec
o 기록 재생 실험결과:
반경 17 ~ 58mm까지 균일한 특성을 얻을 수 있었다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따르면 뚜껑부재를 제공함으로써 디스크 기판의 축공에 수지를 토출하는 중심토출법을 가능하게 한다. 이에, 보다 균일한 투과층을 형성시킬 수 있다. 따라서, 투과층의 두께가 디스크 기판의 전 영역에서 보다 일정해지며 기록영역을 증가시킬 수 있게 되며 따라서 기록용량을 증가시킬 수 있다. 나아가, 종래의 스핀 코팅장치에 본 발명에 따라 회전 지지대를 설치하고 뚜껑부재를 마련하여 장착한다면 본 발명에 따른 장치와 방법을 실시할 수 있게 되므로 기존 장비의 활용율을 높일 수 있다.

Claims (21)

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  10. 디스크 기판에 투과층을 형성하는 장치에 있어서,
    상기 디스크 기판이 장착되어 회전되도록 상기 디스크 기판을 지지하는 지지부; 및 상기 디스크 기판의 중심을 향해 수지를 토출하는 수지토출부를 포함하고,
    상기 지지부는, 상기 디스크 기판의 중심에 형성된 축공을 통해 수지가 누설되지 않도록 상기 축공을 밀폐하는 돌기부가 형성된 뚜껑부재; 스핀들 모터; 상기 스핀들 모터에 회전가능하도록 연결된 스핀들 테이블; 상기 스핀들 모터와 상기 스핀들 테이블을 연결하며 상기 스핀들 테이블을 통과하여 상기 스핀들 모터의 대향측으로 돌출된 중심축; 및 상기 스핀들 테이블의 상기 중심축의 둘레에 배치되어 상기 디스크 기판이 장착되는 회전 지지대를 포함하고,
    상기 회전 지지대의 높이(h)와 상기 디스크 기판의 두께(d)의 합은 상기 중심축의 길이(l)와 상기 돌기부의 길이(p)의 합보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 장치.
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  13. 제10항에 있어서,
    상기 회전 지지대에는 상기 뚜껑부재와 상기 회전 지지대의 사이가 진공상태가 되도록 공기를 외부로 유출시켜 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 밀착시키기 위한 적어도 하나의 중공이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  14. 제10항에 있어서,
    상기 중심축에는 상기 뚜껑부재와 상기 중심축 사이가 진공상태가 되도록 공기를 외부로 유출시켜 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 밀착시키기 위한 적어도 하나의 중공이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  15. 제10항에 있어서,
    상기 중심축의 내측에는 상기 뚜껑부재와 상기 중심축을 부착시킴으로써 상기 디스크 기판과 상기 회전 지지대를 밀착시키기 위한 자석이 매설되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 회전 지지대는 잔류물이 용이하게 제거될 수 있도록 소정 코팅물질로 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  17. 제10항에 있어서,
    상기 스핀들 모터의 중심축은 상기 디스크 기판의 축공에 삽입되도록 상기 회전 지지대의 외측으로 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 제10항에 있어서,
    상기 회전 지지대의 반경은 상기 디스크 기판의 그것보다 작은 것을 특징으로 하는 장치.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100823245B1 (ko) * 2001-08-21 2008-04-17 삼성전자주식회사 디스크 제조장치 및 그 투과층 형성방법
JP2004095108A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Global Mach Kk 光学記録媒体の製造方法
KR100587351B1 (ko) * 2004-01-19 2006-06-08 엘지전자 주식회사 회전식 코팅 장치
KR100922428B1 (ko) * 2004-06-18 2009-10-16 (주)엘지하우시스 광디스크 스핀코팅용 장치 및 이를 이용한 광디스크제조방법
KR100859797B1 (ko) * 2004-06-18 2008-09-23 주식회사 엘지화학 광디스크 스핀코팅용 장치
KR100779518B1 (ko) * 2004-06-18 2007-11-27 주식회사 엘지화학 광디스크 스핀코팅용 장치
KR20060026665A (ko) * 2004-09-21 2006-03-24 주식회사 엘지화학 스핀코팅용 턴테이블장치
US7694643B1 (en) * 2005-07-15 2010-04-13 Dongguan Anwell Digital Machinery Co., Ltd. (CN) Sandwiched structure for optical discs
US7276119B1 (en) * 2005-07-15 2007-10-02 Anwell Precision Technology (Hk) Method and apparatus for producing cover layers in Blu-ray discs
JP2007157309A (ja) * 2005-12-09 2007-06-21 Ricoh Co Ltd 光ディスク製造方法、スピンコート装置及び光ディスク製造装置
WO2014195130A1 (de) * 2013-06-06 2014-12-11 Sulzer Metco Ag Verfahren zum beschichten einer teilfläche eines werkstücks und abschirmelement

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR890010866A (ko) * 1987-12-01 1989-08-11 다께바야시 쇼오고 정보 기록 디스크
US5541910A (en) * 1992-02-06 1996-07-30 Tdk Corporation Optical disk substrate and optical disk using the same
JPH11110818A (ja) * 1997-09-30 1999-04-23 Pioneer Electron Corp 光記録媒体
KR20000051973A (ko) * 1999-01-28 2000-08-16 구자홍 광디스크
KR20010030714A (ko) * 1997-09-27 2001-04-16 사토 히로시 회전식 도포방법 및 도포장치

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL95276A (en) 1989-09-05 1994-02-27 Eaton Corp Reversible plunger for disc valve
DE69130434T2 (de) * 1990-06-29 1999-04-29 Canon Kk Platte zum Arbeiten unter Vakuum
EP0833315B1 (en) * 1996-07-31 2004-11-24 Kitano Engineering Co., Ltd. Method of correcting nonalignment of a storage disc
JP4066471B2 (ja) 1997-02-14 2008-03-26 ソニー株式会社 光学記録媒体の製造方法および製造装置
JP3918221B2 (ja) 1997-03-12 2007-05-23 ソニー株式会社 保護膜形成装置及び保護膜形成方法
JP3651187B2 (ja) 1997-06-27 2005-05-25 ソニー株式会社 光記録媒体
JP3557863B2 (ja) 1997-08-20 2004-08-25 ソニー株式会社 保護膜形成装置及び保護膜形成方法
US6077349A (en) * 1997-08-20 2000-06-20 Sony Corporation Method and apparatus for manufacturing disc-shaped recording medium
JP3557866B2 (ja) 1997-09-12 2004-08-25 ソニー株式会社 ディスク状記録媒体の製造装置
JPH11195251A (ja) 1997-12-26 1999-07-21 Sony Corp 光記録媒体の製造装置及び製造方法
JP3695109B2 (ja) 1997-12-26 2005-09-14 ソニー株式会社 光記録媒体の製造装置
JPH11213459A (ja) 1998-01-30 1999-08-06 Sony Corp 光記録媒体の製造方法及び製造装置
WO2001063606A1 (en) * 2000-02-25 2001-08-30 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a circular optical storage disc and circular optical storage disc
KR100823245B1 (ko) * 2001-08-21 2008-04-17 삼성전자주식회사 디스크 제조장치 및 그 투과층 형성방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR890010866A (ko) * 1987-12-01 1989-08-11 다께바야시 쇼오고 정보 기록 디스크
US5541910A (en) * 1992-02-06 1996-07-30 Tdk Corporation Optical disk substrate and optical disk using the same
KR20010030714A (ko) * 1997-09-27 2001-04-16 사토 히로시 회전식 도포방법 및 도포장치
JPH11110818A (ja) * 1997-09-30 1999-04-23 Pioneer Electron Corp 光記録媒体
KR20000051973A (ko) * 1999-01-28 2000-08-16 구자홍 광디스크

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Publication number Publication date
JP2003059131A (ja) 2003-02-28
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