KR100424641B1 - 플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법 - Google Patents

Abstract

격벽 형성시, 소성 공정을 필요로 하지 않고 전극 및 유전체층의 형성에 스크린 인쇄법이 적용 가능한 플라즈마 디스플레이 및 이의 제조 방법을 제공하기 위하여, 플라즈마 디스플레이는 기판 유리에 일체로 구성되는 복수의 격벽과, 이 격벽들 사이에 배치되는 전극 배치용 격벽과, 이 전극 배치용 격벽의 상단에 설치되는 전극 및 유전체층을 포함한다. 또한, 이 플라즈마 디스플레이의 제조 방법은 기판 유리 상에 각 격벽을 일체로 형성하는 격벽 형성공정과, 각 격벽 사이위치에 전극 배치용 격벽을 설치하는 전극 배치용 격벽 형성공정과, 각 전극 배치용 격벽 상단에 전극을 설치하는 전극 형성공정과, 각 전극 상에 유전체층을 설치하는 유전체층 형성공정을 포함한다.

Description

플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법{PLASMA DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 표시장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게 말하자면 표시장치로서 이용되는 플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

종래에 플라즈마 디스플레이는, 도 36에 도시한 바와 같이, 서로 대향하는 2장의 기판 유리(1,2)에 의해 구성되는 바, 이 기판 유리(1)에 있어 다른 기판 유리(2)에 대향하는 일면에는, 복수의 전극들(4)이 형성되고 이 전극들(4)은 MgO 등으로 이루어지는 보호막을 갖는 투명한 유전체층(3)으로 덮어져 있다. 또한, 다른 기판 유리(2)의 대향면에는, 상기 전극들(4)과 직교하는 방향으로 반사율이 높은 유전체층(5)으로 덮어진 복수의 전극들(6)이 배치되고, 이 위에는 가스 방전을 행하는 공간인 방전셀(7)을 형성하기 위해 상기 전극들(6)과 평행하면서 이들 각 전극(6)의 사이에 위치하는 복수의 격벽(8)이 설치되어 있다. 또한, 각 방전셀(7)의 내측에는 R,G,B(적,녹,청)에 대응하는 형광체(9)가 배치되어 있다.

상기 플라즈마 디스플레이는 이들 대향하는 2장의 기판 유리(1,2)를 합쳐 각 방전셀(7) 내부에 Ne,He 등의 희가스를 봉입하고 주위를 실유리 등으로 봉착한 구성을 가지며, 각각 외부로 인출된 상기 전극들(4),(6)과 접속된 단자에 선택적으로 전압을 인가하여, 선택적으로 방전셀(7)내의 각 전극(4),(6) 사이에 방전을 발생시킴으로써, 이 방전에 의해 방전셀(7) 내의 형광체(9)로부터 발광되는 여기광을 외부에 표시하도록 되어 있다.

이와 같은 플라즈마 디스플레이에 있어, 상기 기판 유리(2)는, 가령 이하에 개략적으로 설명하는 방법에 의해 제조될 수 있다.

먼저, 원기판 유리에 대하여 복수의 전극(6)을 인쇄 등의 방법으로 패턴 형성하고 소성하여 고정한 후, 이들 전극(6)이 형성된 원기판 유리 상에 상기 반사율이 높은 유전체층(5)을 도포하고 소성한다. 그 후, 이들 전극(6) 및 유전체층(5)의 위를 포함해서 원기판 유리 상의 전면을 덮도록 격벽 재료를 도포한다. 그리고, 드라이필름 레지스트(DFR) 등의 포토 레지스트로 패턴을 형성한 후, 샌드 브레이스트(sand blast) 등으로 상기 포토 레지스트의 패턴 이외에 해당되는 격벽 재료를 제거한다.

즉, 상기 샌드 브레이스트를 통해 입경이 20∼30㎛ 정도의 유리 비드나 탄산 칼슘 등의 연마재를 노즐로 내뿜어 상기 부분의 격벽 재료를 절삭한다. 이것으로 상기 포토 레지스트의 패턴 하측 부분의 격벽 재료가 절삭되지 않고 남아서 격벽(8)이 형성된다. 이 격벽(8) 이외의 절삭 부분으로는 상기 유전체층(5)이 노출되나 이 유전체층(5)은 미리 소성에 의해 경화되어 상기 격벽 재료보다 단단하게 되어 있기 때문에 이 유전체층(5)의 표면에서 상기 샌드 브레이스트의 절삭은 멈추게 된다. 이 후, 소성을 행하여 상기 격벽(6)의 가공을 완료한다.

그 다음으로 상기 격벽(6)에 의해서 분리되어 있는 각각의 방전셀(7) 내에 스크린 인쇄법을 이용하여 형광체(9) 화소를 형성한다. 여기서 상기 스크린 인쇄법은, 스크린을 개재하여 행하는 인쇄 기법을 이용하여, 형광체가 혼입되어 있는 페이스트를 소정의 방전셀 (7) 내에 유입시킨 후 이를 건조시키는 방법이다.

한편, 상기 격벽 재료는 인쇄 건조 후의 형상을 유지하기 위한 바인더인 유기물의 함유량을 될 수 있는 한 적게 하여 절삭 가공하기 쉬운 재질로 되어 있고, 이에 대해 상기 유전체층(5)은 소성이 가해지는 것에 의해 절삭되기가 어렵도록 되어 있다. 그러나, 일반적으로 유리(상기 원기판 유리)는, 이러한 소성에 의한 열을 받게 되면 불가피하게 열수축 등의 변형을 일으키게 되므로 이의 변형을 피하기 위해서는, 될 수 있는 한 소성 온도를 내리거나 또는 소성 회수를 줄이는 것이 생산성 향상을 위해 바람직하다.

이를 위해, 일본국 특개평 8-212918호에는 원기판 유리를 바로 에칭 가공하여 격벽을 형성하는 방법이 제안되어 있다. 이 기술을 통해서는 격벽을 형성함에있어 상기한 격벽 재료를 이용하여 격벽을 형성하는 경우와는 달리 소성 공정이 필요치 않은 이점을 얻을 수 있다.

그런데, 상기 기술에서는 각 격벽 사이에 배치되는 전극 및 유전체층이 각 격벽 형성 후에 통상 스크린 인쇄법으로 형성되나, 통상 격벽의 높이가 약 150㎛ 이상으로 이루어져 이들 사이의 깊숙한 홈 저부까지 각 재료를 도달시키는 것이 어려워 스크린 인쇄법을 적용하는 것이 곤란한 문제가 있다.

본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로서, 본 발명의 목적은 격벽을 형성함에 있어 소성 공정을 필요로 하지 않고, 또한 전극 및 유전체층의 형성에 스크린 인쇄법을 적용할 수 있는 플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이를 도시한 일부 분해 사시도이고,

도 2는 도 1의 화살표 A 방향에서 보고 도시한 본 발명의 제1 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이의 단면도이고,

도 3은 도 2의 B-B 선 단면도이고,

도 4 내지 도 6, 도 8 및 도 9는 본 발명에 제1 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이의 제조 방법의 공정을 나타내는 단면도이고,

도 7은 도 6의 C의 확대 도면이고,

도 10 내지 도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이의 제조 방법의 공정을 나타내는 단면도이고,

도 13 내지 도 15는 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이의 제조 방법의 공정을 나타내는 단면도이고,

도 16 및 도 17은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이의 제조 방법의 공정을 나타내는 단면도이고,

도 18 내지 도 20은 본 발명의 제5 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이의 제조 방법의 공정을 나타내는 단면도이고,

도 21 내지 도 23은 본 발명의 제6 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이의 제조 방법의 공정을 나타내는 단면도이고,

도 24는 본 발명의 제7 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이를 도시한 부분 분해 사시도이고,

도 25는 도 24의 화살표 D 방향에서 본 단면도이고,

도 26은 도 25의 E-E 선 단면도이고,

도 27 내지 도 30, 도 32 내지 도 35는 본 발명의 제7 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이의 제조 방법의 공정을 나타내는 단면도이고,

도 31은 도 30의 F부의 확대 도면이고,

도 36은 종래의 플라즈마 디스플레이를 도시한 부분 분해 사시도이다.

본 발명의 플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법은, 상기한 과제를 해결하기 위하여 이하의 수단을 채용하였다.

즉, 청구항 1 기재의 플라즈마 디스플레이는, 대향하는 기판유리사이에 복수의 격벽에서 구획형성된 방전셀을 복수가지는 플라즈마 디스플레이에 있어서, 상기 각 격벽은, 이들이 설치되는 쪽의 상기 기판유리와 일체로 구성되고,이들 각 격벽사이에는, 전극배치용격벽이 배치되고,이들 전극배치용격벽상단에, 전극 및 유전체층이 설치된 것을 특징으로 한다.

상기 청구항 1 기재의 플라즈마 디스플레이에 의하면, 각 격벽은, 기판유리를 절삭하는 등의 만법에 의해서 기판유리상에 일체형성시킬 수 있기때문에, 격벽재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과같이, 각 격벽을 경화시키기 위한 소성을 기판유리에 가할 필요가 없다. 또한, 각 전극 및 유전체층은, 종래와같이 각 격벽사이위치가 깊숙한 저부에 배설되는 것은 아니고, 이 저부보다 돌출된 각 전극배치용격벽상단에 배설되는 구성이기때문에, 스크린인쇄법에 의해서 전극이나 유전체층을 설치하는 데 있어,종래와같이 이들 재료를 각 격벽사이가 깊숙하기까지 보내주지 않고 끝난다.

청구항 2 기재의 플라즈마 디스플레이는, 청구항 1 기재의 플라즈마 디스플레이에 있어서, 또한,상기 각 격벽상단에 유전체층이 설치됨과 동시에, 상기 각 격벽상의 상기 유전체층상단과, 상기 각 전극 배치용 격벽 상의 상기 유전체층 상단이 동일한 높이로 된 것을 특징으로 한다.

상기 청구항 2 기재의 플라즈마 디스플레이에 의하면, 전극 배치용 격벽 상단뿐만 아니라, 격벽 상에도 유전체층을 설치하고,각 격벽상의 유전체층 상단과, 각 전극 배치용 격벽 상의 유전체층 상단을 동일한 높이로 했기 때문에, 각 격벽이 설치되는 측의 기판 유리인 배면판을, 다른 쪽(타면)의 기판 유리인 전면판에 거듭 맞붙였을 때에, 배면판과 전면판과의 맞붙여 면에 간극을 형성하는 일없이 봉착할 수가 있다.

청구항 3 기재의 플라즈마 디스플레이는, 청구항 1 기재의 플라즈마 디스플레이에 있어서, 또한,상기 각 격벽 상단에 유전체층이 설치됨과 동시에, 상기 각 격벽상의 상기 유전체층상단이, 상기 각 전극 배치용 격벽상의 상기 유전체층상단보다 높게 된 것을 특징으로 한다.

상기 청구항 3 기재의 플라즈마 디스플레이에 의하면, 각 격벽상의 유전체층상단이, 각 전극 배치용 격벽상의 유전체층 상단보다 높게 설정되어 있기 때문에, 배면판과 전면판을 맞붙였을 때에, 배면판의 전극 배치용 격벽상의 유전체층과 전면판과의 사이에 간극이 형성된다. 본 발명의 플라즈마 디스플레이로서는, 전극 배치용 격벽의 존재에 따라 각 방전셀이 2개의 분할 방전셀로 분할되지만, 각 방전셀을 구성하는 2개의 분할 방전셀이 전극 배치용 격벽 상의 간극을 통하여 접속된다. 그 결과, 각 방전셀을 구성하는 2개의 분할 방전셀을 함께 방전시킬 수 있어, 방전효율을 향상할 수가 있기때문에, 구동전압을 저감시킬 수 있다.

청구항 4 기재의 플라즈마 디스플레이는, 청구항 1으로부터 청구항 3까지의 어느 한 항 기재의 플라즈마 디스플레이에 있어서, 상기 각 격벽상단과, 상기 각 전극 배치용 격벽 상단과의 양쪽에, 상기 전극이 설치된 것을 특징으로 한다.

상기 청구항 4 기재의 플라즈마 디스플레이에 의하면, 각 격벽상과 각 전극 배치용 격벽 상에 같은 막 두께의 유전체층을 형성함으로써, 용이하게 각 격벽상의 유전체층상단과, 각 전극 배치용 격벽 상의 유전체층 상단을 동일높이로 할 수 있다.

청구항 5 기재의 플라즈마 디스플레이는, 청구항 1으로부터 청구항 3까지의 어느 한 항 기재의 플라즈마 디스플레이에 있어서, 상기 각 격벽과 상기 각 전극 배치용 격벽 가운데 상기 각 전극 배치용 격벽 상단에만 상기 전극이 설치된 것을 특징으로 한다.

상기 청구항 5 기재의 플라즈마 디스플레이에 의하면, 각 격벽 상에 더미로서의 전극을 형성하지 않아도 되기 때문에, 비싼 전극재료를 절약하여 제조비용을 저감시킬 수 있다.

상기 청구항 6 기재의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법은, 대향하는 기판유리 사이에 복수의 격벽로 구획 형성된 방전셀을 복수로 가지는 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 있어서, 상기 각 격벽이 설치되는 쪽의 상기 기판 유리상에 상기 각 격벽을 일체로 형성하는 격벽형성공정과, 상기 각 격벽 사이 위치에 전극 배치용 격벽을 설치하는 전극 배치용 격벽 형성공정과, 상기 각 전극 배치용 격벽 상단에 전극을 설치하는 전극형성공정과, 상기 각 전극상에 유전체층을 설치하는 유전체층형성공정을 가지는 것을 특징으로 한다.

상기 청구항 6 기재의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 의하면, 상기 청구항 1와 같은 작용을 얻을 수 있다. 즉, 각 격벽은, 기판유리를 절삭하는 등의 방법에 의해서 기판 유리상에 일체로 형성시킬 수 있기 때문에, 격벽재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이, 각 격벽을 경화시키기 위한 소성을 기판유리에 가할 필요가 없다. 또한, 각 전극 및 유전체층은, 종래와 같이 각 격벽 사이로 깊숙한 저부에 배설되는 것은 아니고, 이 저부보다 돌출된 각 전극 배치용 격벽 상단에 배설되는 구성이기 때문에, 스크린 인쇄법에 의해서 전극이나 유전체층을 설치하는 데 있어, 종래와같이 이들 재료를 각 격벽 사이로 깊숙한 위치까지 보내주지 않고 끝난다.

청구항 7 기재의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법은, 청구항 6 기재의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 있어서, 상기 격벽형성공정과 상기 전극 배치용 격벽 형성공정을 동시에 행하는 것을 특징으로 한다.

상기 청구항 7 기재의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 의하면, 이들 격벽형성공정과 전 극배치용 격벽 형성공정을 공통의 공정으로서 일괄해서 행함으로써 공수를 줄여 제조비용을 삭감시킬 수 있다. 나아가서는,각 격벽높이와 각 전극 형성용 격벽 높이를, 같은 높이 치수로 용이하게 정밀도있게 양호히 일치시켜 형성시킬 수 있다.

청구항 8 기재의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법은, 청구항 7 기재의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 있어서, 상기 격벽형성공정과 상기 전극 배치용 격벽 형성공정과 상기 전극형성공정, 또는 상기 격벽형성공정과 상기 전극 배치용 격벽 형성공정과 상기 전극형성공정과 상기 유전체층 형성공정을 동시에 행하는 것을 특징으로 한다.

상기 청구항 8 기재의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 의하면, 격벽형성공정과 전극 배치용 격벽형성공정과 전극형성공정 또는, 격벽형성공정과 전극 배치용 격벽 형성공정과 전극형성공정과 유전체층 형성공정을 공통의 공정으로서 일괄해서 행하기 때문에 공수를 줄여 제조비용을 삭감시킬 수 있다.

이하, 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법에 관한 제1∼제7 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명하도록 하지만, 본 발명은 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.

[제1 실시예]

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이를 도시한 분해 사시도이고, 도 2는 이 플라즈마 디스플레이를 도 1의 화살표 A 방향에서 본 단면도이고, 도 3은 이 플라즈마 디스플레이를 도 2의 B-B 단면으로부터 본 단면도이고, 도 4에서 도 9는 이 플라즈마 디스플레이의 제조 공정을 도시한 도면으로서, 이들은 도 1의 화살표 A 방향에서 본 도면에 상당하는 단면도들이다.

본 제1 실시예의 플라즈마 디스플레이는, 도 1∼도 3에 도시한 바와 같이, 서로 대향하는 2장의 기판 유리(11,12)에 의해 구성되고, 이들 기판 유리에 있어 일 기판 유리(11)의 다른 기판 유리(12)에 대향하는 일면에는, 복수조의 전극(14)이 형성되는 바, 이 전극들(14)은 MgO 등으로 이루어지는 보호막(13a)을 가지는 투명한 유전체층(13)으로 덮어 있다.

또한, 기판 유리(11)를 대향하는 다른 기판 유리(12)의 대향면에는, 기판 유리(12)와 일체로 구성된 복수의 격벽(15)에 의해서 구획 형성된 홈형의 방전셀(16)이 복수 설치되고, 각 격벽(15) 사이에는 전극 배치용 격벽(17)이 각각 배치되며, 이들 전극 배치용 격벽(17)의 상단에는 전극(18) 및 유전체층(19)이 설치되어 있다. 물론, 각 격벽(15) 상단에도 동일하게 전극(18) 및 유전체층(19)이 설치되어 있다.

상기에서 기판 유리(l2) 상의 각 구성 요소 간의 배치 관계는, 다음과 같다. 즉, 각 격벽(15),방전셀(16), 전극 배치용 격벽(17), 전극(18) 및 유전체층(19)은, 서로 평행을 이루고 더욱이 상기 기판 유리(11)측의 각 전극(14)에 대하여 직교하는 방향으로 길이 방향을 따라 형성되어 있다. 그리고, 각 전극 배치용 격벽(17)은, 각 격벽(15) 사이 홈의 폭 방향의 대략 중앙 부분에 위치하여 기판 유리(12)와 일체로 구성된다. 이들 각 전극 배치용 격벽(17) 및 각 격벽(15)의 각 상단에는, 이들 격벽(15)(17)을 따라 선형의 전극(18)이 설치되고, 또한 이들 전극(18) 상단을 덮도록 동일하게 선형의 각 유전체층(19)이 설치되어 있다.

본 실시예에서 각 격벽(15)과 전극 배치용 격벽(17)이 동일한 높이로 설정되고, 또한, 격벽(15) 상의 전극(18)과 전극 배치용 격벽(17) 상의 전극(18) 및 격벽(15) 상의 유전체층(19)과 전극 배치용 격벽(17)상의 유전체층(19)은 같은 막 두께로 형성된다. 이러한 구성에 의해 각 격벽(15) 상의 유전체층(19) 상단과, 각 전극 배치용 격벽(17) 상의 유전체층(19) 상단은 동일한 높이로 설정된다.

또한, 전극(18) 가운데 각 전극 배치용 격벽(17)상단에 위치한 전극(18)은, 전기적인 접속이 이루어져 상기 기판 유리(11)측의 전극(14)과의 사이에 방전을 행하기 위하여 설치된 것인데 반해, 각 격벽(15) 상단에 설치되는 전극(18)은, 기판 유리(11)에 다른 기판 유리(12)를 맞붙였을 때에, 전극(18)의 두께만큼 상기 유전체층(13)의 보호막(13a)과 각 격벽(15) 상단과의 사이에 간극이 생기는 것을 방지하기 위해, 각 격벽(15) 상의 유전체층(19)과, 각 전극 배치용 격벽(17) 상의 유전체층(19)을 동일한 높이로 일치시키도록 설치된 것이다.

각 전극 배치용 격벽(17)은, 각 격벽(15) 사이에 위치하는 상기 각 방전셀(16)을 균등한 2개의 공간인 분할 방전셀(16A,16B)로 구획하고 있다. 이들 분할 방전셀(16A,16B)은 가스 방전을 행하는 공간으로 이용되며 그 저부 부분에는 각기 R,G,B(적,녹,청)에 대응하는 형광체(20)가 배치되어 있다.

여기서 이들 형광체(20)는, 각 격벽(15) 사이마다 R(적), G(녹), B(청) 중 어느 하나에 대응하여 배치되나, 전극 배치용 격벽(17)을 경계로 하는 양측의 분할 방전셀(16A,16B) 사이에는 같은 색의 형광체(20)가 배치되도록 되어 있다.

이상으로 설명된 대향하는 2장의 기판 유리(11,12)는, 서로 포개진 후에 각 방전셀(16) 내부에 Ne,He 등의 희가스를 봉인한 상태에서 실유리 등으로 봉착되는 구성을 갖는다.

여기서 상기 전극(14) 및 전극(18)은 각각 외부로 인출되며, 상기 플라즈마 디스플레이는 상기 전극들에 접속된 단자에 선택적으로 전압을 인가하여 선택적으로 방전셀(16) 내의 각 전극(14,18)사이에 방전을 발생시킴으로써 이 방전에 의해서 방전셀(16) 내-분할 방전셀(16A,16B) 내-의 형광체(20)로부터 발광되는 여기광을 외부에 표시하도록 되어 있다.

다만, 전술한 바와 같이, 기판 유리(12)에 설치된 각 전극(18) 중 방전을 발생시키기 위해서 접속되어 있는 것이 전극 배치용 격벽(17) 상단에 배치된 전극(18)이므로, 각 격벽(15) 상단에 배치된 다른 전극(18)은, 전기적으로 접속하지 않고 플로트 전극으로서 이용되거나 또는 방전에 지장없도록 접지되는 구성을 이루게 된다.

한편, 상기한 플라즈마 디스플레이의 기판 유리(12)는, 이하에 개략적으로 설명되는 방법에 의해서 제조된다. 즉, 원기판 유리를 절삭하여 이것과 일체로 격벽(15)을 형성하는 격벽 형성공정과, 동일하게 원기판 유리를 절삭하여 각 격벽 사이 위치에 전극 배치용 격벽(17)을 원기판 유리와 일체로 형성하는 전극 배치용 격벽 형성공정과, 이들 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 각 상단에 전극(18)을 형성하는 전극 형성공정과, 이들 전극(18)의 각 상단에 유전체층(19)을 형성하는 유전체층 형성 공정과, 각 방전셀(16) 내-분할방전셀(16A,16B)-내에 형광체(20)를 형성하는 형광체 형성공정을 거쳐 제조된다.

상기에서 격벽 형성공정과 전극 배치용 격벽 형성공정은 동시에 행해지며 이하, 편의상 이를 통합하여 전체 격벽 형성공정이라고 칭한다.

상기 각 공정을 상세하게 설명하면, 우선 전체 격벽 형성공정에서는, 상기 원기판 유리를 세정하여 건조시킨 뒤, 그 윗면에, 내(耐) 샌드 블라스트성(샌드 블라스트에 대한 내절삭성)을 가지는 드라이필름 레지스트 등의 시트형 포토레지스트를 압착한다 (도시하지 않음).

그리고, 이 포토레지스트를 마스크 등에 의해 노광 현상하여, 도 4에 도시한 바와 같이, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 위치 및 형상에 대응하는 소정의 패턴의 포토레지스트(12P)를 형성한다. 도면에서 인용 부호 12A는 원기판 유리를 나타낸다.

다음으로 상기 원기판 유리(12A)의 포토레지스트(12P)가 형성되어 있지 않은 부분을 샌드 블라스트법에 의해 절삭하고 이후 도 5에 도시한 바와 같이, 포토레지스트(12P)를 박리하는 것으로, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 형성한다.

이로 인해 이들 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17) 사이에 놓이는 공간이 각각 분할 방전셀(16A,16B)로서 형성되고, 전극 배치용 격벽(17)을 경계로 한 양측의 공간이 한 쌍의 분할 방전셀(16A,16B)로 이루어진 방전셀(16)로 구성된다.

상기 샌드 블라스트에 있어서, 탄산 칼슘 또는 유리 비드 등을 사용하는 경우에는, 소다 라임 유리 등의 재질로 이루어지는 원기판 유리(12A)에 대하여 절삭력이 약하고 절삭이 충분히 행해지지 않는 우려가 있으므로, 충분한 절삭력을 가지는 탄화 규소분말 또는 알루미나를 사용하는 것이 바람직하다.

이 경우, 원기판 유리(12A)에 대한 접착력 및 내 샌드 블라스트성의 정도에 따라 드라이 필름 레지스트(예: 동경응화(東京應化) 제조, 상품명「BF403」 등)를 선택하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 전체 격벽 형성 공정에서 샌드 블라스트법에 의해 원기판 유리(12A)와 일체로 되도록 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 형성하는 것으로 하였으나 본 발명은 이에 한하지 않고, 화학적인 에칭법이나 형성형에 의해서 형성하는 방법 등도 채용 가능하다.

계속해서, 상기 전극 형성공정, 상기 유전체층 형성공정, 상기 형광체 형성공정의 순서로 순차적인 제조를 진행해 간다.

즉, 전극 형성공정에서는, 은 페이스트(예: Namics사 제조, 상품명 「XFP-5369-50L」 등)를 스크린 인쇄법에 의해 상기 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 각 상단을 덮도록 도포한다. 이 때, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 각 상단면 부분만을 덮도록 상기 은 페이스트를 도포할 수도 있고, 상기 상단면 부분으로부터 상단 근방 양 측면 부분에 이르도록 도포할 수도 있다.

이 후, 예를 들어 150℃의 가열 조건으로 10분간 유지하여 건조시키고, 또 550℃의 가열 조건으로 10분간의 소성을 가함으로써, 도 6에 나타낸 바와 같이, 전극(18)의 형성을 완료한다. 전술한 바와 같이, 격벽(15) 상에 배치되는 전극(18)은, 도 7에 도시한 바와 같이, 그 양 이웃의 전극 배치용 격벽(17)에 대한 높이 상태를 일치시켜, 상기 기판 유리(11)의 유전체층(13)과의 사이에 간극(g)을 발생하게 하지 않도록 하기 위해 설치되는 것이다. 따라서, 이들 전극(18) 가운데 격벽(15)상에 배치된 전극은, 전기적으로 접속하지 않는 플로트 전극으로서 이용되거나 또는 방전에 지장없도록 접지된다. 이와 같이 형성된 상기 전극(18)의 두께는, 가령 5㎛로 적용되는 것이 바람직하다.

다음으로 유전체층 형성공정에서는, 유전체 페이스트(예: 주우 금속 광산(住友 金屬 鑛山)사 제조, 상품명「GLP-86087」 등)를 스크린 인쇄법에 의해, 상기 전극(18)의 위에서 덮도록 도포한다. 이 때, 각 전극(18)의 각 상단면 부분만을 덮 도록 상기 유전체 페이스트를 도포할 수도 있고, 상기 상단면 부분으로부터 전극(18)의 상단 근방 양측면 부분, 나아가서는 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 상단 근방 양측면 부분도 덮도록 도포할 수도 있다.

이 후, 예를 들어 150℃의 가열 조건으로 10분간 유지하여 건조시키고, 또 550℃의 가열 조건으로 10분간의 소성을 함으로써 도 8에 나타낸 바와 같이, 유전체층(19)의 형성을 완료한다. 이와 같이 하여 형성된 유전체층(19)의 두께는 가령, 10㎛로 적용되는 것이 바람직하다.

다음으로 형광체 형성공정에서는, 도 1에 도시한 적, 녹, 청(R, G, B)에 대응하여 각 방전셀(16) 내의 저부 즉, 각 분할 방전셀(16A,16B) 내의 각 저부에, 스크린, 마스크 등을 이용하여 각각 적, 녹, 청(R, G, B)에 대응한 3종류의 형광체페이스트를 선택적으로 인쇄한다. 이 때, 각 전극 배치용 격벽(17)을 경계로 하여 양측의 분할 방전셀(16A,16B)의 색이 같은 색이 되도록 형광체 페이스트의 도포를행하도록 한다.

또한, 형광체 분말로는, 예를 들어, 화성(化成) 오푸트니크스사 제조의 녹색 형광체(상품명「P1G1」), 적색 형광체(상품명「KX504A」), 청색 형광체(상품명「KX501A」)를 각각 스크린 인쇄용 비히클(예: 오야(奧野)제약사 제조)에 적량 혼합한 것을 사용하여, 스크린 인쇄법에 의해 소정의 패턴으로 형성하도록 한다. 이 후, 예를 들어 150℃의 가열 조건으로 10분간 유지하여 건조시키고, 또 450℃의 피크 가열 조건으로 10분간 소성함으로써 도 9에 나타낸 바와 같이, 형광체(20)의 형성을 완료한다.

이상의 각 공정을 거쳐 제조된 기판 유리(12)는, 별도로 제조된 상기 기판 유리(11)와의 사이로, 도시하지 않는 터미널부에서 전극(14)과 전극(18)을 각각 외부에 끌어내어 접속함과 동시에, 방전셀(16) 내부를 Ne, He 등의 희가스로 치환하고, 기판 유리(11),(12)를 서로 맞붙여 그 주위를 도시하지 않는 실유리 등으로 에 의하여 봉착하는 것에 의해, 도 1에 나타낸 플라즈마 디스플레이를 완성한다.

본 실시예의 플라즈마 디스플레이에서는, 기판 유리(12)에 있어서, 각 격벽(15)이 원기판 유리(12A)와 일체로 구성되고, 이들 각 격벽(15) 사이에는 전극 배치용 격벽(17)이 원기판 유리(12A)와 일체로 형성되고, 이들 전극 배치용 격벽(17)의 각 상단에 전극(18) 및 유전체층(19)이 설치되어 있는 구성을 채용하였다.

또한, 그 제조 방법에서는, 원기판 유리(12A) 상에 각 격벽(15)을 일체로 형성하는 격벽 형성공정과, 각 격벽 사이 위치에 전극 배치용 격벽(17)을 형성하는 전극 배치용 격벽 형성공정과, 각 전극 배치용 격벽(17)의 상단에 전극(18)을 설치하는 전극 형성공정과, 각 전극(18)상에 유전체층(19)을 설치하는 유전체층 형성공정을 갖는 방법을 채용하였다.

따라서, 본 실시예의 플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법에 의하면, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)은, 원기판 유리(12A)를 절삭하는 방법에 의해서 원기판 유리(12A) 상에 일체로 형성되는 것이 가능하므로, 격벽 재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이, 각 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 경화시키기 위한 소성을 원기판 유리(12A)에 가할 필요가 없다.

또한, 각 전극(18) 및 유전체층(19)은, 종래와 같이 각 격벽 사이의 위치인 깊숙한 저부에 배설되지 않고, 이 저부보다 돌출된 각 전극 배치용 격벽(17)의 상단에 배설되기 때문에, 스크린 인쇄법에 의해 전극(18)이나 유전체층(19)을 형성함에 있어 종래와 같이 이들 재료를 각 격벽(15) 사이로 깊숙한 위치까지 보내지 않고 이의 형성을 마칠 수 있다.

따라서, 본 발명은 상기 격벽(15)을 형성함에 있어 소성 공정을 필요로 하지 않고, 더욱이 상기 전극(18) 및 유전체층(19)의 형성에 스크린 인쇄법이 적용 가능하도록 한다.

또한, 본 실시예의 플라즈마 디스플레이는, 기판 유리(12)에 있어서, 각 격벽(15) 상단과 각 전극 배치용 격벽(17) 상단 양쪽에 막 두께가 동등한 전극(18)을설치하고 그 위에 막 두께가 동등한 유전체층(19)을 설치하는 것으로, 각 격벽(l 5)상의 유전체층(19) 상단과, 각 전극 배치용 격벽(17) 상의 유전체층(19) 상단을 동일 높이로 하는 구성을 채용하였다. 이 구성에 의하면, 각 격벽(15)이 설치되는 측의 기판 유리(12)인 배면판을, 다른 쪽의 기판 유리(11)인 전면판에 맞붙였을 때에, 배면판과 전면판이 맞붙는 면에 간극이 형성되는 일없이 용이하게 실링할 수가 있다. 즉, 인접하는 방전셀(16) 사이나 분할 방전셀(16A,16B) 사이를 용이하게 실링하는 것이 가능하게 된다.

또한, 본 실시예의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법은, 상기 격벽 형성공정과 상기 전극 배치용 격벽 형성공정을 동시에 행하는 방법을 채용하였다. 이 제조 방법에 의하면, 이들 격벽 형성공정과 전극 배치용 격벽 형성공정을 공통의 공정으로서 행할 수 있어, 공수를 줄여 제조비용을 삭감시키는 것이 가능하게 된다. 나아가 각 격벽(15)의 높이와 각 전극 형성용 격벽(17)의 높이를, 같은 높이 치수로 용이하고도 정밀도가 양호하게 일치시켜 형성하는 것도 가능해진다.

또한, 본 실시예의 제조 방법에서는, 전체 격벽 형성공정, 전극 형성공정, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정의 순서로 제조를 행하는 것으로 하였으나, 본 발명은 이의 순서로 한정되지 않고 전극 형성공정 후에 유전체층 형성공정을 행하는 것과, 전체 격벽 형성공정 후에 형광체 형성공정을 행하는 것이 규정되어 있으면 좋다. 이하, 본 발명의 제2∼제4 실시예에 의한 제조 방법에 대해 설명하도록 한다.

[제2 실시예]

도 10∼도 12를 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 대해 설명하도록 한다.

상기 제1 실시예에 의한 제조 방법에서는, 전체 격벽 형성공정, 전극 형성공정, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정의 순서로 제조 가공을 행하여 기판 유리(12)를 제조하는데 반해, 본 제2 실시예에서는 전극 형성공정, 전체 격벽 형성공정, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정의 순서로 제조 가공을 행하여 기판 유리(12)를 제조하게 된다.

한편, 본 제2 실시예에 있어 유전체층 형성공정과, 형광체 형성공정 및 기판유리(12)를 제조하는 것부터 플라즈마 디스플레이를 제조하는 방법에 관해서는 제1 실시예와 동일하므로 그 자세한 설명은 생략하도록 한다. 더욱이, 본 제2 실시예에 있어, 제1 실시예와 같은 구성 요소에 대해서는 같은 참조 부호를 부여하고 그 설명은 생략하기로 한다.

먼저, 전극 형성공정에서 원기판 유리(12A)를 세정하여 건조시킨 뒤, 스크린인쇄법에 의해 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 상단의 위치 및 형상 즉, 전극(18)의 위치 및 형상에 대응시켜 은 페이스트를 도포한다. 이 후, 가령 150℃의 가열 조건으로 10분간 유지하여 건조시키고, 또 550℃의 가열 조건으로 10분간 소성하여 도 10에 도시한 바와 같이, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 상단의 위치 및 형상에 대응하여 전극(18)을 형성한다.

다음으로 전체 격벽 형성공정에서, 각 전극(18)을 형성한 원기판 유리(12A)의 상면 전체에 내 샌드 블라스트성을 가지는 드라이필름 레지스트 등의 시트형 포토레지스트를 압착하여, 이 포토레지스트를 마스크 등을 이용하여 노광 현상함으로써, 도 11에 도시한 바와 같이, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 위치 및 형상에 대응하여, 즉, 각 전극(18)의 위치 및 형상에 대응하여 소정의 패턴의 포토레지스트(12P)를 형성한다.

그 다음으로, 원기판 유리(12A) 표면으로 포토레지스트(12P)가 형성되어 있지 않은 부분을 샌드 블라스트블라스트블라스트포토레지스트(12P)를 박리 하여, 도 12에 도시한 바와 같이, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 형성한다.

이에 따라 이들 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17) 사이에 놓이는 공간이 각각 분할 방전셀(16A,16B)로 형성되고, 전극 배치용 격벽(17)을 경계로 한 양측의 공간인 한 쌍의 분할 방전셀(16A,16B)으로 방전셀(16)이 구성된다.

이후로는 제1 실시예의 설명에서와 같이, 유전체층(19), 형광체(20)를 형성하여 기판 유리(12)를 제조하고, 또한 이 기판 유리(12)로부터 제1 실시예와 같은 플라즈마 디스플레이를 제조할 수가 있다.

이처럼 본 제2 실시예에서와 같이 전극 형성공정, 전체 격벽 형성공정, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정의 순서로 제조 가공을 행하여 기판 유리(12)를 제조하는 것에 의해서도 상기 제1 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이를 제조할 수가 있고 더욱이, 제1 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이의 제조 방법과 동등의 효과를 얻을 수 있다.

즉, 본 제2 실시예의 제조 방법에 의하면, 격벽 재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이, 각 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 경화시키기 위한 소성을 원기판 유리(12A)에 가할 필요가 없고, 또 격벽(15)을 형성함에 있어 소성공정을 필요치 않고 더욱이 전극(18) 및 유전체층(19)의 형성에 스크린 인쇄법이 적용 가능하게 된다.

[제3 실시예]

도 13∼도 15를 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 대해 설명한다.

이 제3 실시예에 의한 제조 방법은 상기한 제2 실시예와 거의 동일하며 제2 실시예와 다른 점은, 은 페이스트의 소성과 원기판 유리(12A)를 샌드 블라스트로 절삭한 다음 포토레지스트(12P)의 제거를 동일한 공정에서 행하는 점이다.

한편, 본 제3 실시예에 있어서, 유전체층 형성공정과, 형광체 형성공정 및 기판 유리(12)를 제조하는 것부터 플라즈마 디스플레이를 제조하는 방법에 대해서는 상기한 제1 실시예와 동일하므로 이에 대한 설명은 생략하도록 한다. 또한, 본 제3 실시예에 있어서, 제1 실시예와 같은 구성 요소에 대해서는 같은 참조 부호를 부여하도록 하며, 그 설명은 생략하도록 한다.

먼저, 전극 형성공정에서, 원기판 유리(12A)를 세정하여 건조시킨 뒤, 도 13에 도시한 바와 같이, 스크린 인쇄법으로 격벽(15), 전극 배치용 격벽(17)의 상단위치 및 형상(전극 18의 위치 및 형상)에 대응시켜 은 페이스트(18A)를 도포한다.그 후, 예를 들어 150℃의 가열 조건으로 10분간 유지하여 건조한다. 여기에서, 은 페이스트(18A)의 소성은 행하지 않는다. 그리고, 전극 형성공정 중에, 즉 은 페이스트(18A)의 소성을 행하기 전에, 다음 전체 격벽 형성공정으로 옮긴다.

다음으로 전체 격벽 형성공정에 있어서, 은 페이스트(18A)를 도포한 원기판유리(12A)의 상면전체에, 내 샌드 브라스트성을 가지는 포토레지스트를 인쇄하고 이 포토레지스트를 마스크 등에 의해 노광 현상함으로써, 도 14에 도시한 바와 같이, 격벽(15),전극 배치용 격벽(17)의 위치 및 형상, 즉, 각 은 페이스트(18A)의 위치 및 형상으로 대응시켜 소정의 패턴으로 포토레지스트(12P)를 형성한다. 그 후, 원기판 유리(12A) 표면의 포토레지스트(12P)가 형성되어 있지 않은 부분을 샌드 브라스트으로 절삭함으로써, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 형성한다.

계속해서, 전체 격벽 형성공정에서의 포토레지스트(12P)의 제거와 전극 형성공정에서의 은 페이스트(18A)의 소성을 동시에 행한다. 즉, 도 15에 도시한 바와 같이, 예를 들어 550℃의 가열조건으로 10분간의 소성을 행하는 것으로, 은 페이스트(18A)의 소성을 행하여 전극(18)을 형성함과 동시에, 포토레지스트(12P)를 소실시킨다.

이렇게 해서 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17) 사이에 놓이는 공간이 각각 분할 방전셀(16A,16B)로서 형성되고, 전극 배치용 격벽(17)을 경계로 하는 양측의 공간인 한 쌍의 분할 방전셀(16A,16B)로 방전셀(16)이 구성된다. 그 후, 제1 실시예에서 설명한 바와 같이, 유전체층(19),형광체(20)를 형성하는 것으로 기판 유리(12)가 제조되어, 더욱이 이 기판 유리(12)로부터 제1 실시예와 같은 형태의 플라즈마 디스플레이를 제조할 수가 있다.

본 제3 실시예의 제조 방법에 의하면, 제1, 제2 실시예와 같은 효과를 얻을 수 있다. 즉, 이 제3 실시예의 제조 방법에 의하면, 격벽 재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이, 각 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 경화시키기 위한 소성을 원기판 유리(12A)에 가할 필요가 없고, 또한, 격벽(15)을 형성함에 있어 소성 공정을 필요로 하지 않고, 게다가 전극(18) 및 유전체층(19)의 형성에 스크린인쇄법이 적용 가능하다.

또한, 본 제3 실시예에 의하면, 은 페이스트(18A)의 소성과 포토레지스트(12 P)의 제거를 동일한 공정에서 행할 수 있기 때문에, 제1, 제2 실시예와 비교하여 제조 공정을 단축화할 수가 있다.

[제4 실시예]

도 16, 도 17을 참조하여 본 발명의 제4 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 대해 설명한다.

본 제4 실시예에 의한 제조 방법은, 전극형성공정, 전체 격벽형성공정, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정의 순서로 제조 가공하여 기판 유리(12)를 제조하는 점에 있어서는, 상기한 제2,3 실시예와 같다. 다만, 본 제4 실시예가 상기한 제2,3 실시예와 다른 점은, 전극(18)에 원기판 유리(12A)를 샌드 블라스트로 절삭할 때에 마스크의 기능을 갖게 하여, 격벽(15) 및 전극배치용 격벽(17) 패턴의 포토레지스트(12P)를 형성하지 않는 것이다.

또한, 본 제4 실시예에 있어서, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정 및 기판유리(12)를 제조하는 것부터 플라즈마 디스플레이를 제조하는 방법에 관해서는 제1 실시예와 동일하므로 그에 대한 설명은 생략한다. 또한, 본 제4 실시에 있어서, 제1 실시예와 같은 구성 요소에 대해서는 같은 참조 부호를 부여하며 그 설명은 생략한다.

먼저, 전극형성공정에서, 원기판 유리(12A)를 세정하여 건조시킨 뒤, 스크린인쇄법으로 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 상단 위치 및 형상 즉, 전극(18)의 위치 및 형상에 대응하여 은 페이스트를 도포한다. 그 후, 예를 들어 150℃의 가열 조건으로 10 분간 유지하여 건조시키고, 또 550℃의 가열 조건으로 10분간의 소성을 가함으로써, 도 16에 도시한 바와 같이, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 상단 위치 및 형상에 대응하여 전극(18)을 형성한다.

본 제4 실시예서는, 상기 전극(18)을 원기판 유리(12A)를 샌드 블라스트법으로 절삭시, 마스크로서 기능시키기 때문에, 상기 전극(18)이 내 샌드 브라스트성을 가지도록 상기 전극(18)을 형성한다. 즉, 소성 후에 내 샌드 블라스트성을 가지는 은 페이스트를 이용하여 상기 전극(18)을 형성한다.

또한, 본 제4 실시예에서는 상기 전극(18)을 원기판 유리(12A)를 샌드 블라스트법으로 절삭할 때에 마스크로서 기능시키므로, 상기 전극(18)이 형성되지 않는 자리에 격벽이 형성되지 않는다. 따라서, 상기한 공정에서 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 모든 형성 개소에 대응하여 전극(18)을 형성해야 한다.

다음으로 전체 격벽 형성공정에서, 각 전극(18)을 마스크로 하여 원기판 유리(12A)의 표면에 전극(18)이 형성되어 있지 않은 부분을 샌드 블라스트으로 절삭함으로써, 도 17에 도시한 바와 같이, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 형성한다. 이로 인해 상기 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17) 사이에 놓이는 공간이 각각 분할 방전셀(16A,16B)로서 형성되고, 전극 배치용 격벽(17)을 경계로 하는 양측의 공간인 한 쌍의 분할 방전셀(16A,16B)로 방전셀(l6)이 구성된다.

이 후, 제1 실시예에서 설명한 바와 같이, 유전체층(19), 형광체(20)를 형성하는 것으로 기판 유리(12)가 제조되고, 또 이 기판 유리(12)로부터 제1 실시예의 플라즈마 디스플레이를 제조할 수가 있다.

더욱이, 본 제4 실시예에서는, 원기판 유리(12A)를 샌드 브라스트로 절삭하기 전에, 은 페이스트 소성하였으나, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 은 페이스트의 소성을 원기판 유리(12A)를 샌드 브라스트로 절삭한 뒤에 행하더라도 무방하다. 이 경우에는, 내 샌드 브라스트성을 가지는 은 페이스트를 이용하여, 소성 전에 은 페이스트를 마스크로 하여 원기판 유리(12A)의 절삭을 행하면 된다. 이 때 내 샌드 블라스트성을 가지는 은 페이스트로서는, 구체적으로 분말, 유리 프릿 및 내 샌드 블라스트성을 가지는 수지 성분 등으로 예시할 수가 있다.

본 제4 실시예의 제조 방법에 의하면, 제1∼제3 실시예의 형태와 같은 효과를 얻을 수 있다. 즉, 본 실시의 형태의 제조 방법에 의하면, 격벽 재료를 도포 및 절삭하는 종래 제조 방법처럼, 각 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 경화시키기 위한 소성을 원기판 유리(12A)에 가할 필요가 없고, 또, 격벽(15)을 형성함에 있어 소성공정을 필요로 하지 않고, 뿐만 아니라 전극(18) 및 유전체층(19)의 형성에 스크린 인쇄법이 적용 가능하다.

또한, 본 제4 실시예에 의하면, 포토레지스트의 도포, 노광, 현상, 제거공정이 불필요하기 때문에, 제1∼제3 실시예와 비교하여 제조 공정의 단축화와 제조비용의 저감을 도모할 수 있다.

이상과 같이 제1∼제4 실시예의 제조 방법에서는, 전체 격벽 형성공정, 전극형성공정, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정을 별도의 공정으로서 제조 가공하는 경우로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 이들 공정 중 복수의 공정을 일괄해서 동시에 행하는 것도 가능하다. 이하, 제5,제6 실시예로서, 상기한 공정 중 복수의 공정을 일괄해서 동시에 행하는 것을 특징으로 하는 본 발명의 다른 제조 방법에 대해서 설명한다.

[제5 실시예]

도 18∼도 20를 참조하여, 본 발명의 제5 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 대해 설명한다. 본 제5 실시예에서는 전체 격벽형성공정과 전극형성공정을 일괄해서 동시에 행하는 것을 특징으로 하고 있다.

또한, 본 제5 실시예에 있어서, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정 및 기판유리(12)를 제조하는 것부터 플라즈마 디스플레이를 제조하는 방법에 관해서는 제1 실시예와 동일하므로 그에 대한 설명은 생략한다. 또한, 본 제4 실시에 있어서, 제1 실시예와 같은 구성 요소에 대해서는 같은 참조 부호를 부여하며 그 설명은 생략한다.

먼저, 원기판 유리(12A)를 세정하여 건조시킨 뒤, 원기판 유리(12A)의 전면에 은 페이스트를 도포하고, 그 후, 예를 들어 150℃의 가열 조건으로 10 분간 유지하여 건조시키고, 또 550℃의 가열 조건으로 10 분간의 소성을 가함으로써 도 18에 도시한 바와 같이, 원기판 유리(12A)의 전면에 전극재(18B)를 형성한다.

이어서, 상기 전극재(18B)를 형성한 원기판 유리(12A)의 상면 전체에, 내 샌드 블라스트성을 가지는 드라이 필름레지스트 등의 시트형 포토레지스트를 압착하여, 이 포토레지스트를 마스크 등에 따라 노광,현상함으로써, 도 19에 도시한 바와 같이, 격벽(15)및 전극 배치용 격벽(17)의 위치 및 형상에 대응하여 소정의 패턴을 갖는 포토레지스트(12P)를 형성한다.

그 후, 상기 원기판 유리(12A) 표면 및 전극재(18B)의 포토레지스트(12P)가 형성되어 있지 않은 부분을 샌드 블라스트로 절삭하고 나서 상기 포토레지스트(12P)를 박리하는 것으로, 도 20에 도시한 바와 같이, 격벽(15), 전극 배치용 격벽(17) 및 전극(18)을 일괄해서 형성할 수가 있다. 이로 인해 상기 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17) 사이에 놓이는 공간이 각각 분할 방전셀(16A,16B)로서 형성되고, 전극 배치용 격벽(17)을 경계로 하는 양측의 공간인 한 쌍의 분할 방전셀(16A,16B)으로 방전셀(16)이 구성된다.

이 후, 제1 실시예에서 설명한 바와 같이, 유전체층(19), 형광체(20)를 형성함으로써 기판유리(12)가 제조되고, 또 이 기판유리(12)로부터 제1 실시예와 같은 플라즈마 디스플레이를 제조할 수가 있다.

본 제5 실시예의 제조 방법에 의하면, 제1∼제4 실시예와 같은 효과를 얻을 수 있다. 즉, 본 제5 실시예 제조 방법에 의하면, 격벽재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이, 각 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 경화시키기 위한 소성을 원기판 유리(12A)에 가할 필요가 없고, 또, 격벽(15)을 형성함에 있어 소성공정을 필요로 하지 않고, 또한 전극(18) 및 유전체층(19)의 형성에 스크린 인쇄법이 적용 가능하다.

또한, 본 제5 실시예에 의하면, 전체 격벽형성공정과 전극형성공정을 공통의공정으로서 일괄해서 행할 수 있기 때문에, 제1∼제4 실시예의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 비교하여, 제조 공정의 단축화와 제조비용의 저감을 도모할 수 있다.

[제6 실시예]

도 21∼도 23을 참조하여 본 발명의 제6 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 대해 설명한다.

상기한 제5 실시예의 제조 방법에서는, 전체 격벽형성공정과 전극형성공정을 일괄해서 동시에 행하는 방법을 채용한데 대하여, 본 제6 실시예에서는, 전체 격벽형성공정과 전극형성공정과 유전체층 형성공정을 일괄해서 동시에 행하는 것을 특징으로 하고 있다.

또한, 본 제6 실시예에 있어서, 형광체 형성공정 및 기판유리(12)를 제조하는 것부터 플라즈마 디스플레이를 제조하는 방법에 관해서는 제1 실시예와 동일하므로 그에 대한 설명은 생략한다. 또한, 본 제4 실시에 있어서, 제1 실시예와 같은 구성 요소에 대해서는 같은 참조 부호를 부여하며 그 설명은 생략한다.

먼저, 원기판 유리(12A)를 세정하여 건조시킨 뒤, 원기판 유리(12A)의 전면에 은 페이스트를 도포하고, 그 후, 상기한 제5 실시예와 같이, 건조, 소성함으로써, 원기판 유리(12A)의 전면에 전극재(18B)를 형성한다. 이어서, 전극재(18B)를 형성한 원기판 유리(12A)의 전면에 유전체 페이스트를 도포하여, 그 후, 예를 들어 150℃의 가열 조건으로 10분간 유지하여 건조시키고, 또 550℃의 가열 조건으로 10분간의 소성을 가함으로써 도 21에 도시한 바와 같이, 원기판 유리(12A)의 전면에전극재(18B)와 유전체(19A)를 형성한다.

또한, 전극 페이스트를 형성한 뒤, 건조, 소성하지 않고, 유전체 페이스트를 형성하고 전극 페이스트와 유전체 페이스트를 동시에 건조, 소성하여, 도 21에 도시한 바와 같이, 원기판 유리(12A)의 전면에 전극재(18B)와 유전체(19A)를 형성할 수도 있다.

이어서, 유전체(19A)를 형성한 원기판 유리(12A)의 상면 전체에, 내 샌드 블라스트성을 가지는 드라이 필름레지스트 등의 시트형 포토레지스트를 압착하고, 이 포토레지스트를 마스크 등을 이용하여 노광,현상함으로써, 도 22에 도시한 바와 같이, 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)의 위치 및 형상에 대응하여 소정의 패턴으로 포토레지스트(12P)를 형성한다.

그 후, 원기판 유리(12A) 표면, 전극재(18B), 유전체(19A)에 있어 포토레지스트(12P)가 형성되어 있지 않은 부분을 샌드 블라스트로 절삭하고 나서, 포토레지스트(12P)를 박리하는 것으로, 도 23에 도시한 바와 같이, 격벽(15), 전극 배치용 격벽(17), 전극(18), 유전체층(19)을 일괄 형성할 수가 있다. 이로 인해 이들 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17) 사이에 놓이는 공간이 각각 분할 방전셀(16A,16B)로 형성되고, 전극 배치용 격벽(17)을 경계로 하는 양측의 공간인 한 쌍의 분할 방전셀(16A,16B)로 방전셀(16)이 구성된다.

그 후, 제1 실시예에서 설명한 바와 같이, 형광체(20)를 형성함으로써 기판유리(12)가 제조되고, 또 이 기판 유리(12)로부터 제1 실시예에서 설명한 플라즈마 디스플레이를 제조할 수가 있다.

본 제6 실시예에의 제조 방법에 의하면, 제1∼제5 실시예와 같은 효과를 얻을 수 있다. 즉, 본 제6 실시예의 제조 방법에 의하면, 격벽 재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이, 각 격벽(15) 및 전극 배치용 격벽(17)을 경화시키기 위한 소성을 원기판 유리(12A)에 가할 필요가 없고, 또, 격벽(15)을 형성함에 있어 소성 공정을 필요로 하지 않고, 또한 전극(18) 및 유전체층(19)의 형성에 스크린인쇄법이 적용 가능하다.

또한, 본 제6 실시예에 의하면, 전체 격벽형성공정과 전극형성공정과 유전체층 형성공정을 공통의 공정으로서 일괄해서 행할 수 있기 때문에, 제1∼제5 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 비교하여, 제조 공정의 단축화와 제조비용의 저감을 도모할 수 있다.

[제7 실시예]

다음으로 본 발명의 제7 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법에 대해 설명한다.

도 24는 본 발명의 제7 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이를 도시한 부분 분해 사시도이고, 도 25는 이 플라즈마 디스플레이를 도 24의 화살표 D 방향에서 본 단면도이고, 도 26은 이 플라즈마 디스플레이를 도 25의 E-E 단면으로부터 본 단면도이고, 도 27∼도 35는 이 플라즈마 디스플레이의 제조 공정을 도시한 도면으로서, 도 24의 화살표 D 방향에서 보고 도시한 단면도이다.

본 제7 실시예의 플라즈마 디스플레이는, 상기한 제1 실시예의 플라즈마 디스플레이와 비교하여 상기 기판 유리(11)(전면판)는 같은 구조이지만, 상기 기판유리(12)(배면판)의 구조가 다르므로, 이후 설명에 있어서는 전면판예 대해서는 같은 부호 11를 이용하여 기판 유리(11)로 하고, 배면판에는 새로운 부호 32를 이용하여 기판 유리(32)로 설명한다.

본 제7 실시예의 플라즈마 디스플레이는, 도 24∼도 26에 도시한 바와 같이, 서로 대향하는 2장의 기판유리(11),(32)에 의해 구성되고, 기판유리(32)를 대향하는 기판유리(11)의 일면에는, MgO 등으로 이루어진 보호막(13a)을 갖는 투명한 유전체층(13)에 의해 덮어지는 복수의 전극(14)이 구성된다. 또한, 다른 쪽의 기판유리(32)의 대향면에는, 기판유리(32)와 일체로 구성된 복수의 격벽(35)에 의해 구획 형성되는 홈형의 방전셀(36)이 복수로 설치되고, 이 각 격벽(35) 사이에는, 전극 배치용 격벽(37)이 각각 배설되어 있다. 또한, 이들 각 격벽(35)과 각 전극 배치용 격벽(37) 가운데 각 전극 배치용 격벽(37)의 상단에만 전극(38)이 설치되고 아울러, 이 전극(38)의 상단 및 각 격벽(35)상단의 양쪽에 유전체층(39)이 설치된 구성을 갖는다.

상기 기판 유리(32)에 있어서 상기 각 구성 요소의 배치관계는, 이하와 같다. 즉, 각 격벽(35), 각 방전셀(36), 각 전극 배치용 격벽(37), 각 전극(38) 및 각 유전체층(39)은 서로 평행을 이루고 또한, 상기 기판유리(11)측 각 전극(14)에 대하여 직교하는 방향을 따라 길게 형성되어 있다. 그리고, 각 전극 배치용 격벽(37)은, 각 격벽(35) 사이의 홈 폭 방향의 대략 중앙에 위치하면서 기판유리(32)와 일체로 구성된다. 그리고, 각 전극 배치용 격벽(37)의 상단에는, 이것에 따른 선형의 상기 전극(38)이 형성되고, 더욱이 이들 전극(38) 상단을 덮도록 동일한 패턴으로 선형의 상기 각 유전체층(39)이 형성되어 있다. 한편, 각 격벽(35)의 상단에는 이것에 따른 선형의 각 유전체층(39)이 형성되어 있다.

전술한 바와 같이, 본 제7 실시예에서는, 각 격벽(35)과 각 전극 배치용 격벽(37) 가운데 각 전극 배치용 격벽(37)의 상단에만 전극(38)이 설치되어 있다. 또한, 각 격벽(35)과 각 전극 배치용 격벽(37)이 동일한 높이로 설정되고 있고, 또한, 각 격벽(35) 상의 유전체층(39)이, 각 전극 배치용 격벽(37) 상의 유전체층(39)보다 전극(38)의 막 두께만 두텁게 형성되어 있다. 이러한 구성의 채용에 따라각 격벽(15) 상의 유전체층(39) 상단과, 각 전극 배치용 격벽(37) 상의 유전체층(39) 상단이 동일한 높이로 설정되어 있다. 이로 인해 기판유리(11)(전면판)에 기판유리(32)(배면판)를 맞붙였을 때에, 맞붙는 면에 간극을 발생하지 않게 된다.

상기 각 전극 배치용 격벽(37)은 각 격벽(35)사이에 위치하는 상기 각 방전셀(36)을, 균등한 2개의 공간인 분할 방전셀(36A,36B)로 구획하고 있다. 이들 분할방전셀(36A,36B)(방전셀36)은, 가스 방전을 행하는 공간으로서 이용되며 그 저부 부분에 각각 R,G,B(적, 녹, 청)에 대응하는 형광체(40)가 배치되어 있다.

이들 형광체(40)는, 각 격벽(35) 사이마다 R(적), G(녹), B(청) 중 어느 하나에 대응하여 배치되지만, 전극 배치용 격벽(37)을 경계로 하는 양측의 분할 방전셀(36A,36B) 사이에서는, 동색의 형광체(40)가 배치되도록 되어 있다.

이상의 대향하는 2장의 기판유리(11),(32)는, 서로 포개어진 뒤, 각 방전셀(36) 내부에 Ne, He 등의 희가스를 봉입한 상태에서 주위를 실유리 등으로봉입하여 구성되는 구조를 갖는다.

상기에서 전극(14) 및 전극(38)은, 각각 외부로 인출되며 이들에 접속된 단자에 선택적으로 전압을 인가하는 것으로, 선택적으로 방전셀(36)내의 각 전극(14),(38) 사이에 방전을 발생시키고, 이 방전에 의해서 방전셀(36)내(분할 방전셀36A,36B 내)의 형광체(40)로부터의 여기광을 외부에 표시하도록 되어 있다.

상기한 플라즈마 디스플레이에 있어 기판 유리(32)는, 이하에 개략적으로 설명하는 방법에 의해서 제조된다. 즉, 원기판 유리 상면에 전극(38)을 형성하는 전극형성공정과, 각 전극(38)의 상단 및 상기 원기판 유리상면에 있어 격벽(35)의 상단이 형성되는 위치에 각각 유전체층(39)을 형성하는 유전체층 형성공정과, 상기 원기판 유리를 절삭하여 이것과 일체로 격벽(35)을 형성하는 격벽형성공정과, 동일하게 원기판 유리를 절삭하여 각 격벽(35) 사이위치에 전극 배치용 격벽(37)을 원기판 유리와 일체로 형성하는 전극 배치용 격벽 형성공정과, 각 방전셀(36)내(분할방전셀 36A,36B 내)에 형광체(40)를 형성하는 형광체 형성공정을 거쳐 제조된다. 여기에서, 상기 격벽형성공정과 상기 전극 배치용 격벽 형성공정은 일괄해서 동시에 행해지며 이하, 통합하여 전체 격벽형성공정이라 부르기로 한다.

상기 각 공정을 상세하게 설명하면, 우선 전극형성공정에서는 원기판 유리를 세정하여 건조시킨 뒤, 도 27에 도시한 바와 같이, 이 원기판 유리(32A) 상면의 전면에 Cr,Cu,Cr의 순서로 전극시트(38A)를 압착시킨다.

그 후, 도 28에 도시한 바와 같이, 형성할 전극(38)의 형상 및 피치 간격에 대응하는 패턴을 갖는 에칭 레지스트(32P)를 전극시트(38A) 상면에 접착시켜 마스킹을 실시한다. 이 때, 전극 배치용 격벽(37)의 상단에만 전극(38)을 형성하도록 에칭 레지스트(32P)를 패터닝한다.

그 후, 전극시트(38A)에 있어 에칭 레지스트(32P)로 덮어진 부분을 남기고 기타 부분을 제거하는 것으로, 도 29에 나타낸 바와 같이 전극(38)의 형성을 완료한다.

다음으로 상기 유전체층 형성공정으로 넘어간다. 이 공정에서는 유전체 페이스트(예를 들어, 주우(住友)금속광산사 제조의 상품명「GLP-86087」 등)를 스크린인쇄법으로서 그 다음 형성할 격벽(35) 및 전극 배치용 격벽(37)의 상단의 위치 및 형상에 대응하여 인쇄한다. 이 때, 격벽(35) 상의 유전체 페이스트가 전극 배치용 격벽(37)상의 페이스트보다 전극(38)의 막 두께만큼 두텁게 되도록 형성한다. 또, 유전체 페이스트를 격벽(35) 상과 전극 배치용 격벽(37) 상과 나눠 인쇄함으로써, 유전체 페이스트의 막 두께를 격벽(35)과 전극 배치용 격벽(37) 상으로 바꿀 수 있다.

더욱이, 전극(38)의 두께가 유전체층(39)의 두께에 비교해서여 무시할 수 있는 정도로 얇은 경우에는, 유전체 페이스트를 격벽(35) 상과 전극 배치용 격벽(37) 상으로 나누어 인쇄할 필요는 없고, 동시에 대략 같은 막 두께로 형성하면 된다.

이상과 같이 하여 유전체 페이스트를 형성한 뒤, 예를 들어 150℃의 가열 조건으로 10 분간 유지하여 건조시키고, 또 550℃의 가열 조건으로 10 분간의 소성을 가함으로써 도 30,도 31에 나타낸 바와 같이 유전체층(39)의 형성을 완료한다.

다음으로 상기한 전체 격벽형성공정으로 이동한다. 이 공정에서는, 먼저, 내샌드 블라스트성을 가지는 드라이 필름레지스트 등의 시트형 포토레지스트를 압착한다(도시하지 않음). 그리고, 이 포토레지스트를 마스크 등을 이용하여 노광,현상함으로써, 도 32에 도시한 바와 같이, 상기 각 방전셀(36)의 위치 및 형상에 대응하여 소정의 패턴으로 포토레지스트(32Q)를 형성한다.

그 후, 원기판 유리(32A)에 있어 포토레지스트(32Q)가 형성되어 있지 않은 부분을 샌드 블라스트로 절삭하여 도 33에 나타낸 상태로 이룬다. 또 그 후, 포토레지스트(32Q)를 박리하여 건조시킴으로써, 도 34에 도시한 바와 같이, 격벽(35) 및 전극 배치용 격벽(37)의 형성을 완료한다. 이리하여 이들 격벽(35) 및 전극 배치용 격벽(37) 사이에 놓이는 공간이 각각 분할 방전셀(36A,36B)로 형성되고, 전극배치용 격벽(37)을 경계로 하는 양측의 공간이 한 쌍의 분할 방전셀(36A,36B)로서, 방전셀(36)이 구성된다.

상기한 샌드 블라스트에 있어서, 탄산칼슘 또는 유리 비드 등을 사용하는 경우에는, 소다라임유리 등의 재질로 이루어지는 원기판 유리(32A) 에 대하여 절삭력이 약해 절삭이 충분히 행해지지 않는 우려가 있으므로, 충분한 절삭력을 가지는 탄화 규소분말 또는 알루미나를 사용하는 것이 바람직하다.

이 경우, 원기판 유리(32A)에 대한 접착력 및 내 샌드 블라스트성의 높이로 드라이필름 레지스트를 선택하는 것이 바람직하다.

아울러, 상기 전체 격벽형성공정에서는, 샌드 블라스트법에 의해서 원기판 유리(32A)와 일체가 되도록 격벽(35) 및 전극 배치용 격벽(37)을 형성하는 것으로 하였지만, 이것에 한하지 않고 화학적 에칭법에 의해서 형성하는 방법 등도 채용가능하다.

다음으로 상기 형광체 형성공정으로 이동한다. 이 공정에서는, 도 24에 도시한 적, 녹, 청(R,G,B)에 대응하여 각 방전셀(36) 내 저부(즉, 각 분할방전셀 36A,36B 내의 각 저부)에, 스크린, 마스크 등을 이용하여 각각 적, 녹, 청(R,G, B)에 대응한 3종류의 형광체 페이스트를 선택적으로 인쇄한다. 이 때, 각 전극 배치용 격벽(37)을 경계로 하는 양측의 분할 방전셀(36A,36B)의 색이 동색이 되도록 형광체 페이스트의 도포를 행한다.

이 때, 상기 형광체 분말로는, 가령 화성(化成) 오푸트니크스사 제조의 녹색 형광체(상품명「PlG1」), 적색 형광체(상품명「KX504A」), 청색 형광체(상품명「KX501A」)를 각각 스크린 인쇄용 비히클(예: 오야(奧野)제약사 제조)에 적량 혼합한 것을 사용하고, 스크린 인쇄법에 의해 소정의 패턴으로 형성하도록 한다. 그 후, 예를 들어 150℃ 의 가열 조건으로 10 분간 유지하여 건조시키고, 또 450℃ 의 피크 가열 조건으로 10 분간의 소성을 가함으로써 도 35에 도시한 바와 같이, 형광체(40)의 형성을 완료한다.

이상의 각 공정을 거쳐 제조된 기판유리(32)는, 별도로 제조된 상기 기판유리(11)와의 사이에서 도시하지 않는 터미널부에 전극(14)과 전극(38)을 각각 외부로 끌어내어 접속함과 동시에, 방전셀(36) 내부를 Ne, He 등의 희가스로 치환하고, 기판 유리(11),(32)끼리를 서로 맞붙이고 그 주위를 도시하지 않는 실유리 등으로 봉입함으로써, 도 24에 도시한 것과 같은 플라즈마 디스플레이로 완성된다.

본 제7 실시예의 플라즈마 디스플레이에서는, 상기한 제1 실시예와 같이, 기판유리(32)에 있어서, 각 격벽(35)이 원기판 유리(32A)와 일체로 구성되고, 이들 각 격벽(35)사이에는 전극 배치용 격벽(37)이 원기판 유리(32A)와 일체로 형성되고, 이들 전극 배치용 격벽(37)의 각 상단에 전극(38) 및 유전체층(39)이 형성되어 있는 구성을 채용하였다.

또한, 그 제조 방법에서는, 원기판 유리(32A)의 상면에 전극(38)을 형성하는 전극형성공정과, 이들 전극(38)의 상단 및 원기판 유리(32A) 상면에 있어 격벽(35)의 상단이 형성되는 위치에 유전체층(39)을 형성하는 유전체층 형성공정과, 원기판유리(32A)를 절삭하여 이것과 일체로 격벽(35)을 형성하는 격벽형성공정과, 동일하게 원기판 유리(32A)를 절삭하여 각 격벽(35) 사이 위치에 전극 배치용 격벽(37)을 원기판 유리(32A)와 일체로 형성하는 전극 배치용 격벽 형성공정과, 각 방전셀(36) 내에 형광체(40)를 형성하는 형광체형성공정을 갖는 방법을 채용하였다.

따라서, 본 제7 실시예의 플라즈마 디스플레이 및 그 제조 방법에 의하면, 격벽(35) 및 전극 배치용 격벽(37)을, 원기판 유리(32A)를 절삭하는 방법에 의해서 원기판 유리(32A) 상에 일체로 형성시킬 수 있기 때문에, 상기 격벽 재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이 각 격벽(35) 및 전극 배치용 격벽(37)을 경화시키기 위한 소성을 원기판 유리(32A)에 가할 필요가 없다.

또한, 각 전극(38) 및 유전체층(39)은, 종래와 같이 각 격벽(35) 사이 위치에 깊숙한 저부로 배설되지 않고 이 저부보다 돌출된 각 전극 배치용 격벽(37)의 상단에 배설되어 구성되기 때문에, 스크린 인쇄법으로 전극(38)이나 유전체층(39)을 형성하는데 있어, 종래와 같이 이들 재료를 각 격벽(35) 사이로 깊숙한 위치까지 보내주지 않고 끝낼 수 있다. 따라서, 격벽(35)의 형성함에 있어 소성공정을 필요로 하지 않고, 또한 전극(38) 및 유전체층(39)의 형성을 스크린 인쇄법으로 용이하게 적용하는 것이 가능하다.

또, 본 실시예의 플라즈마 디스플레이는, 기판유리(32)에 있어서, 각 전극 배치용 격벽(37) 상만으로 전극(38)을 설치하고, 각 격벽(35) 상의 유전체층(39)이 각 전극 배치용 격벽(37) 상의 유전체층(39) 보다 전극(38)의 막 두께만큼 두텁게되도록 유전체층(39)을 형성함으로써, 각 격벽(35) 상의 유전체층(39) 상단과, 각 전극 배치용 격벽(37) 상의 유전체층(39) 상단을 동일 높이로 하는 구성을 채용하였다. 이 구성에 의하면, 각 격벽(35)이 설치되는 측의 기판유리(32)인 배면판을, 다른 쪽(타면)의 기판유리(11)인 전면판에 거듭 맞붙였을 때에, 배면판과 전면판과의 맞붙인 면에 간극이 형성되는 일없이 용이하게 봉착할 수가 있다. 즉, 인접하는 방전셀(36) 사이나, 분할 방전셀(36A,36B) 사이를 용이하게 봉착하는 것이 가능하게 된다.

또한, 본 실시예의 플라즈마 디스플레이는, 기판유리(32)에 있어서, 각 격벽(35)과 각 전극 배치용 격벽(37) 가운데 각 전극 배치용 격벽(37)의 상단에만 전극(38)이 설치되어 있는 구성을 채용하였다. 이 구성에 의하면, 각 격벽(35) 상에는 더미로서 전극을 형성하지 않기 때문에, 전극재료(전극시트)를 절약하여 제조비용을 저감시키는 것이 가능하게 된다.

또한, 본 실시예의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법은, 상기 격벽형성공정과 상기 전극 배치용 격벽 형성공정을 동시에 행하는 방법을 채용했다. 이 제조 방법에 의하면, 이들 격벽 형성공정과 전극 배치용 격벽 형성공정을 공통의 전체 격벽 형성공정으로서 행하는 수 있으므로, 공수를 줄여 제조비용을 삭감시키는 것이 가능하게 된다. 나아가서는, 각 격벽(35)의 높이와 각 전극 형성용 격벽(37)의 높이를 같은 높이 치수로 용이하고 정밀도있게 양호히 일치시켜 형성시키는 것도 가능하다.

또한, 본 실시예의 제조 방법으로서는, 전극형성공정, 유전체층 형성공정, 전체 격벽형성공정, 형광체형성공정의 순서로 제조 가공을 행하는 것으로 하였지만, 순번은 이것에 한하지 않고, 전극형성공정 후에 유전체층 형성공정을 행하는 것과, 전체 격벽형성공정 후에 형광체 형성공정을 행하는 것이 규정되어 있으면 양호하며, 가령 상기 제1 실시예와 같이, 전체 격벽형성공정 후에 전극형성공정, 유전체층 형성공정, 형광체 형성공정이라는 순서로 제조 가공을 행하더라도 좋다.

또한, 본 발명은 전체 격벽형성공정, 전극형성공정, 유전체층형성공정, 형광체형성공정을 별도의 공정으로 제조 가공을 행하는 경우에 한정되지 않고, 제5 및 제6 실시예에서 설명한 바와 같이, 전체 격벽형성공정과 전극형성공정, 또는 전체 격벽형성공정과 전극형성공정과 유전체층 형성공정을 동시에 행하는 방법을 채용할 수도 있다.

또한, 제1 및 제7 실시예에서는, 각 격벽상 유전체층 상단과 각 전극 배치용 격벽 상의 유전체층 상단을 동일한 높이로 하는 구성을 채용했지만, 본 발명은 이것에 한정되지는 않는다.

각 격벽 상의 유전체층 상단과 각 전극 배치용 격벽 상의 유전체층 상단을동일하지 않은 높이로 하면서도, 각 색을 표시하는 방전셀 사이에 방전누설이 생기지 않도록 각 방전셀을 구획하는 격벽 상의 유전체층 상단의 높이를 균일화할 수 있는 경우에는, 각 격벽상의 유전체층 상단이, 각 전극 배치용 격벽상의 유전체층상단보다 10㎛∼50㎛ 정도 높아지도록 유전체층을 형성하는 것이 바람직하다.

이처럼 각 격벽 상의 유전체층 상단을 각 전극 배치용 격벽 상의 유전체층 상단보다 높게 함으로써, 배면판과 전면판을 맞붙였을 때에 배면판의 각 전극 배치용 격벽 상의 유전체층 상단과 전면판과의 사이에 간극이 형성되므로, 각 방전셀을 구성하는 2개의 분할 방전셀이 이 간극을 통하여 접속된다. 그 결과, 각 방전셀을 구성하는 2개의 분할 방전셀을 함께 방전시킬 수 있어 방전효율을 향상할 수 있으므로 구동 전압을 저감시킬 수 있다. 또, 제7 실시예에서 설명한 바와 같이, 유전체 페이스트를 격벽 상과 전극 배치용 격벽 상으로 나눠 인쇄함으로써, 유전체층의 막 두께를 격벽 상과 전극 배치용 격벽 상으로 바꿀 수 있다.

이상으로 설명한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이는, 각 격벽이 이들이 설치되는 쪽의 기판유리와 일체로 구성되고, 이들 각 격벽 사이에는, 전극 배치용 격벽이 배치되며 이들 전극 배치용 격벽 상단에는 전극 및 유전체층이 설치되어 있는 구성을 채용한다. 이 구성에 의하면, 각 격벽은, 기판유리를 절삭하는 등의 방법에 의해 기판 유리 상에 일체로 형성될 수 있기 때문에, 격벽 재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이, 각 격벽을 경화시키기 위한 소성을 기판유리에 가할 필요가 없다.

또한, 각 전극 및 유전체층은, 종래와 같이 각 격벽 사이로 깊숙한 저부에 배설되지 않고, 이 저부보다 돌출된 각 전극 배치용 격벽 상단에 배설되기 때문에, 스크린 인쇄법에 의해서 전극이나 유전체층을 설치함에 있어, 종래와 같이 이들 재료를 각 격벽 사이로 깊숙한 위치까지 보내주지 않고 끝낼 수 있다. 따라서, 격벽을 형성함에 있어 소성공정을 필요로 하지 않고, 또한 전극 및 유전체층의 형성에 스크린 인쇄법이 적용 가능하다.

또한, 본 발명의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법은, 각 격벽이 설치되는 쪽의 기판 유리상에 각 격벽을 일체로 형성하는 격벽형성공정과, 각 격벽 사이 위치에 전극 배치용 격벽을 설치하는 전극 배치용 격벽형성공정과, 각 전극 배치용 격벽 상단에 전극을 설치하는 전극형성공정과, 각 전극상에 유전체층을 설치하는 유전체층 형성공정을 갖는 방법을 채용한다.

이 제조 방법에 의하면, 상기 본 발명의 플라즈마 디스플레이와 같은 효과를 얻을 수 있다. 즉, 각 격벽은, 기판유리를 절삭하는 등의 방법에 의해서 기판 유리상에 일체로 형성될 수 있기 때문에, 격벽 재료를 도포 및 절삭하는 종래의 제조 방법과 같이, 각 격벽을 경화시키기 위한 소성을 기판유리에 가할 필요가 없다.

또한, 각 전극 및 유전체층은, 종래와 같이 각 격벽 사이로 깊숙한 저부에 배설되지 않고, 이 저부보다 돌출된 각 전극 배치용 격벽 상단에 배설되기 때문에, 스크린 인쇄법에 의해서 전극이나 유전체층을 설치함에 있어, 종래와 같이 이들 재료를 각 격벽 사이로 깊숙한 위치까지 보내주지 않고 끝낼 수 있다. 따라서, 격벽을 형성함에 있어 소성공정을 필요로 하지 않고, 또한 전극 및 유전체층의 형성에스크린 인쇄법이 적용 가능하다.

또한, 본 발명의 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 있어서, 격벽형성공정, 전극 배치용 격벽 형성공정, 전극형성공정, 유전체층 형성공정 가운데 복수의 공정을 동시에 행하는 것보다 공수를 줄여 제조비용을 삭감시키는 것이 가능하게 된다.

Claims (8)

1. (정정)

   대향하는 기판 유리 사이에 복수의 격벽으로 구획 형성된 방전셀을 복수로 갖는 플라즈마 디스플레이에 있어서,

   상기 각 격벽이 이들이 설치되는 쪽의 상기 기판 유리와 일체로 구성되고, 이들 각 격벽 사이에는 전극 배치용 격벽이 배치되며,

   이들 전극 배치용 격벽의 다른 부위을 제외하고 상단에만 전극 및 유전체층이 설치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 각 격벽의 상단에 유전체층이 설치되고 이 각 격벽 상의 상기 유전체층 상단과 상기 각 전극 배치용 격벽 상의 상기 유전체층 상단이 동일한 높이로 이루어짐을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 각 격벽의 상단에 유전체층이 설치되고 이 각 격벽상의 상기 유전체층상단이 상기 각 전극 배치용 격벽 상의 상기 유전체층 상단보다 높게 이루어짐을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 각 격벽의 상단 및 상기 각 전극 배치용 격벽의 상단 모두에 상기 전극이 설치됨을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이.
5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 각 격벽과 상기 각 전극 배치용 격벽 중, 상기 각 전극 배치용 격벽의 상단에만 상기 전극이 설치됨을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이.
6. (정정)

   대향하는 기판 유리 사이에 복수의 격벽으로 구획 형성된 방전셀을 복수로 갖는 플라즈마 디스플레이의 제조 방법에 있어서,

   상기 각 격벽이 설치되는 쪽의 상기 기판 유리 상에 상기 각 격벽을 일체로 형성하는 격벽 형성공정과;

   상기 각 격벽 사이의 위치에 전극 배치용 격벽을 설치하는 전극 배치용 격벽 형성공정과;

   상기 각 전극 배치용 격벽 상단에만 전극을 설치하는 전극 형성공정; 및

   상기 각 전극 상에 유전체층을 설치하는 유전체층 형성공정

   을 포함함을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 제조 방법.
7. 제 6 항에 있어서,

   상기 격벽 형성공정과 상기 전극 배치용 격벽 형성공정을 동시에 행하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 제조 방법.
8. 제 7 항에 있어서,

   상기 격벽 형성공정, 상기 전극 배치용 격벽 형성공정 및 상기 전극 형성공정 또는, 상기 격벽 형성공정, 상기 전극 배치용 격벽 형성공정, 상기 전극 형성공정 및 상기 유전체층 형성공정을 동시에 행하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 제조 방법.