KR100423753B1 - 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법 - Google Patents
실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100423753B1 KR100423753B1 KR10-2001-0075363A KR20010075363A KR100423753B1 KR 100423753 B1 KR100423753 B1 KR 100423753B1 KR 20010075363 A KR20010075363 A KR 20010075363A KR 100423753 B1 KR100423753 B1 KR 100423753B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- silicon
- filling
- ingot
- silicon ingot
- melt
- Prior art date
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 218
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 218
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 218
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 238000002844 melting Methods 0.000 title claims description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 title claims description 7
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 title description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 40
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 6
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- KPSZQYZCNSCYGG-UHFFFAOYSA-N [B].[B] Chemical compound [B].[B] KPSZQYZCNSCYGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVMHUALAQYRRBM-UHFFFAOYSA-N [P].[P] Chemical compound [P].[P] QVMHUALAQYRRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011038 discontinuous diafiltration by volume reduction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/02—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/10—Crucibles or containers for supporting the melt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Description
Claims (4)
- 다수개의 실리콘 잉곳 성장 챔버 중 어느 하나의 챔버에서 충진용 실리콘 잉곳을 성장시키는 제1 단계와;성장된 상기 충진용 실리콘 잉곳을 나머지 실리콘 잉곳 성장챔버에 장착하는 제2단계와;상기 충진용 실리콘이 장착된 실리콘 잉곳 성장챔버 내의 석영 도가니에 실리콘 원부자재를 적층하는 제3 단계와;상기 실리콘 원부자재를 가열하여 제1 실리콘 융액을 형성하는 제4 단계와;상기 제1 실리콘 융액에 상기 충진용 실리콘 잉곳을 디핑시키고, 디핑된 상기 충진용 실리콘 잉곳을 용융시켜 제1실리콘 융액보다 큰 부피와 무게를 갖는 제2 실리콘 융액을 형성하는 제5 단계를 포함하여 이루어진 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법.
- 제1항에 있어서,상기 1단계는 상기 충진용 실리콘 잉곳을 성장시키는 챔버 내부의 석영 도가니에 실리콘 원자재를 적층하는 단계와;상기 석영 도가니를 전기히터로 가열하여 상기 충진용 실리콘 잉곳의 성장을 위한 실리콘 융액을 형성하는 단계와;상기 챔버의 구동부에 시드를 장착하여 상기 실리콘 융액에 디핑시키고, 인상 및회전시켜 상기 충진용 실리콘 잉곳을 성장시키는 단계와;상기 충진용 실리콘 잉곳이 성장함에 따라 감소되는 상기 실리콘 융액을 상기 챔버의 보조 공급부에서 공급되는 실리콘 원자재에 의해 계속적으로 충진시키는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법.
- 제2항에 있어서,상기 충진용 잉곳을 성장시키는 단계에는 상기 구동부에 연결된 무게 감지부에서 성장되는 상기 충진용 실리콘 잉곳의 무게를 감지하는 단계와;상기 감지단계에서 감지된 상기 충진용 실리콘 잉곳의 무게가 목적으로 하는 무게에 도달하면 상기 구동부에 의한 잉곳의 인상을 중단하는 단계가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법.
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서상기 충진용 실리콘 잉곳은 단결정 또는 다결정 실리콘 잉곳인 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0075363A KR100423753B1 (ko) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0075363A KR100423753B1 (ko) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030044559A KR20030044559A (ko) | 2003-06-09 |
KR100423753B1 true KR100423753B1 (ko) | 2004-03-22 |
Family
ID=29572328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-0075363A KR100423753B1 (ko) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100423753B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101026390B1 (ko) * | 2008-09-10 | 2011-04-07 | 서울대학교산학협력단 | 쵸크랄스키법을 이용한 단결정 제조 장치 및 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01153589A (ja) * | 1987-12-08 | 1989-06-15 | Nkk Corp | シリコン単結晶の製造装置 |
KR920018250A (ko) * | 1991-03-01 | 1992-10-21 | 뢰머, 시르베 | 초크랄스키 도가니 인출에 있어서 연속적인 액상실리콘 재충전 방법 |
KR930005406A (ko) * | 1991-08-12 | 1993-03-23 | 챨스 알. 루이스 | 디지탈 수신기에서 위상 에러 보정하기 위한 회로 및 방법 |
-
2001
- 2001-11-30 KR KR10-2001-0075363A patent/KR100423753B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01153589A (ja) * | 1987-12-08 | 1989-06-15 | Nkk Corp | シリコン単結晶の製造装置 |
KR920018250A (ko) * | 1991-03-01 | 1992-10-21 | 뢰머, 시르베 | 초크랄스키 도가니 인출에 있어서 연속적인 액상실리콘 재충전 방법 |
KR930005406A (ko) * | 1991-08-12 | 1993-03-23 | 챨스 알. 루이스 | 디지탈 수신기에서 위상 에러 보정하기 위한 회로 및 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20030044559A (ko) | 2003-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5909276B2 (ja) | 最初のチャージだけをドーピングすることによる、均一にドーピングされたシリコンインゴットの成長 | |
JP6222013B2 (ja) | 抵抗率制御方法 | |
JPH03261693A (ja) | 単結晶製造方法 | |
US20110143091A1 (en) | Germanium ingots/wafers having low micro-pit density (mpd) as well as systems and methods for manufacturing same | |
US20180347071A1 (en) | Systems and methods for low-oxygen crystal growth using a double-layer continuous czochralski process | |
KR100423753B1 (ko) | 실리콘 잉곳 성장을 위한 실리콘 융액 형성방법 | |
JP2013133243A (ja) | 単結晶シリコンの製造方法 | |
JP2013151385A (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
TW202328513A (zh) | 製造單晶矽鑄碇之方法 | |
JP5724226B2 (ja) | シリコン単結晶の育成方法 | |
US12110609B2 (en) | Methods for forming a single crystal silicon ingot with reduced crucible erosion | |
JP4187998B2 (ja) | 単結晶の製造方法及び製造装置 | |
KR101025652B1 (ko) | 잔류 융액을 재활용한 태양전지용 결정 제조방법 | |
TW200528592A (en) | Method for manufacturing single crystal semiconductor | |
KR101193653B1 (ko) | 단결정 성장방법 | |
CN114351243B (zh) | 一种n型掺杂硅单晶的制备方法以及所制备的掺杂硅单晶 | |
WO2024024155A1 (ja) | シリコン単結晶 | |
JPH04305091A (ja) | 単結晶引上方法及びその装置 | |
JP2004345888A (ja) | 化合物半導体単結晶の製造方法 | |
KR101129907B1 (ko) | 단결정 성장방법 | |
TW202248470A (zh) | 石英板於單晶矽錠生長期間之用途 | |
JPS6389497A (ja) | 珪素添加ガリウム砒素単結晶の製造方法 | |
JPH03131591A (ja) | 結晶成長方法及び結晶原料溶解装置 | |
JPH04305092A (ja) | 単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20011130 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20040210 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20040308 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20040309 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20070307 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20080102 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20090102 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20091223 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20101222 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120116 Year of fee payment: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20120116 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |