KR100420845B1 - 양쪽성 전분 및 양이온성 컨디셔너를 함유하는 미용학적조성물 및 이의 용도 - Google Patents
양쪽성 전분 및 양이온성 컨디셔너를 함유하는 미용학적조성물 및 이의 용도 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은, 미용학적으로 허용가능한 매질내에, 하나 이상의 특정 양쪽성 전분, 그리고 4차 암모늄염 계면활성제, 알킬디알릴아민 또는 디알킬디알릴암모늄의 시클로중합체, 주사슬내 4차 암모늄기를 함유하는 양이온성 중합체 및 양이온성 실리콘으로부터 선택되는 하나 이상의 양이온성 컨디셔너(conditioner)를 함유하는 미용학적 조성물에 관한 것이다.
상기 조합물은 양호한 미용학적 특성: 평활성, 광택성, 유연성을 제공한다.
상기 조성물은 특히 케라틴 물질 예컨대 모발 또는 피부의 세척 및/또는 컨디셔닝에 사용된다.
Description
본 발명은, 미용학적으로 허용가능한 매질내에, 하나 이상의 특정 양이온성 컨디셔너 및 하나 이상의 양쪽성 전분을 함유하는 미용학적 조성물에 관한 것이다.
양쪽성 제제의 작용 또는 기계적 혹은 화학적 트리트먼트, 예컨대 염료, 표백제 및/또는 퍼머의 작용하에 다양한 정도로 감광화(즉, 손상 및/또는 취화(脆化) )되는 모발은 종종 엉킴풀기 및 스타일링되기 어렵고, 부드러움이 부족하다는 것이 공지되어 있다.
모발의 엉킴풀기를 촉진시키고 부드러움 및 유연성을 제공하기 위해, 케라틴 섬유 예컨대 모발을 위한 세척 또는 케어용 조성물에서, 컨디셔너, 특히 양이온성 중합체 또는 실리콘을 사용하는 것이 이미 권장되고 있다. 그러나, 상기 언급된 미용학적 이점은 또한 건조 모발상에서 바람직하지 않다고 고려되는 임의 미용학적 효과, 즉 헤어스타일의 직모성(모발 광택성 부족), 평활성 부족(모근에서부터 모발 끝까지 균일하지 않은 모발)을 불행히도 수반한다.
또한, 상기 목적을 위한 양이온성 중합체의 용도는 다양한 단점이 있다. 모발에 대한 이의 고친화성으로 인해, 상기 중합체의 일부가 반복 사용동안 광범위로 점착되고, 역효과, 예컨대 불쾌한 하중감, 모발의 뻣뻣함 및 스타일링시 효과가 있는 섬유간 접착을 초래한다. 상기 단점은 활력 및 밀도가 부족한 미세 모발의 경우에 집중된다.
요약해서, 컨디셔너를 함유하는 현대 미용학적 조성물은 완전히 만족스럽지 않다.
본 출원인은 현재 하기 정의된 양쪽성 전분 및 임의 컨디셔너의 조합물이 상기 단점을 극복할 수 있다는 것을 발견하였다.
그래서, 상기 방식으로 수행된 상당한 연구후에, 현재, 본 출원인에 의해, 특정 양쪽성 전분을 컨디셔너에 기재한 종래 기술의 조성물, 특히 모발 조성물에 도입함으로써, 상기 조성물의 사용에 통상 연관되는 문제, 즉, 특히, 직모성(반복 적용후 부담감) 그리고 모발의 평활성 및 유연성 부족을 한정하거나, 더욱이 제거하면서, 동시에 컨디셔너 기재 조성물에 연관되는 기타 이로운 미용학적 특성을 유지시킬 수 있다는 것을 발견하였다.
더욱이, 특히 목욕 거품 또는 샤워 겔의 형태로 피부에 적용되는 경우, 본 발명의 조성물은 피부의 부드러움 향상을 제공한다.
그래서, 본 발명에 있어서, 현재 미용학적으로 허용가능한 매질내에, a) 하기 정의된 하나 이상의 양쪽성 전분, 및 b) 하기로부터 선택된 하나 이상의 양이온성 컨디셔너를 함유하는 미용학적 조성물이 제안된다:
- 하기 정의된 다중4가(polyquaternary) 암모늄 중합체,
- 양이온성 실리콘,
- 4차 암모늄염 형태의 계면활성제, 및
- 알킬디알릴아민 또는 디알킬디알릴암모늄의 시클로중합체.
본 발명의 또다른 주제는 상기 정의된 컨디셔너를 함유하는 미용학적 조성물의 제조에서 또는 제조용으로 하기 정의된 양쪽성 전분의 용도에 관한 것이다.
본 발명의 다양한 주제는 이제 더욱 자세히 기재할 것이다. 본 발명에서 사용되는 화합물의 모든 의미 및 정의는 본 발명의 모든 주제에서 유효하다.
본 발명의 명세서에서, 용어 "컨디셔너"는 모발의 미용학적 특성, 특히 이의 부드러움, 엉킴풀기, 감촉 및 정전기를 향상시키는 작용을 하는 임의 제제를 의미한다.
본 발명에 따른 조성물은 필수적으로 하기 화학식의 화합물로부터 선택된 양쪽성 전분을 함유한다:
[식중,
St-O 는 전분 분자를 나타내고,
R 은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 메틸 라디칼을 나타내고,
R' 는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, 메틸 라디칼 또는 -COOH 기를 나타내고,
n 은 2 또는 3 의 정수이고,
M 은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속, 예컨대, Na, K 또는 Li, NH4, 4차 암모늄 또는 유기 아민을 나타내고,
R" 는 수소 원자 또는 C1-18알킬 라디칼을 나타낸다].
상기 화합물은 특히 참조 방식으로 포함되는 미국 특허 5 455 340 및 4 017460 에 개시되어 있다.
전분 분자는 임의 식물성 전분, 예컨대, 특히, 옥수수, 감자, 귀리, 쌀, 타피오카, 사탕수수, 보리 또는 밀로부터 유도된다. 상기 언급된 전분 가수분해물을 또한 사용할 수 있다. 전분은 바람직하게는 감자로부터 유도된다.
특히 화학식 1 또는 2 의 전분을 사용한다. 더욱 특히 2-클로로에틸아미노디프로피온산으로 변형된 전분, 즉, R, R' 및 R" 그리고 M 이 수소 원자를 나타내고 n 이 2 인 화학식 1 또는 2 의 전분을 사용한다.
본 발명에 따른 양쪽성 전분을 본 발명에 따른 조성물에서 조성물의 총량에 대해 통상 0.01 중량% 내지 10 중량% 및 바람직하게는 0.1 중량% 내지 5 중량% 농도로 사용할 수 있다.
다중 4차 암모늄 중합체를 하기로부터 선택한다:
(1) 하기 화학식 5 에 대응하는 반복 단위체를 함유하는 이중 4차 암모늄 중합체:
[식중,
R13, R14, R15및 R16은, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-20지방족, 지환족 또는 아릴지방족 라디칼, 또는 저급 히드록시알킬지방족 라디칼을 나타내거나, 대신R13, R14, R15및 R16은, 함께 또는 개별적으로, 부착되는 질소 원자와 함께, 질소 원자가 아닌 제 2 헤테로 원자를 임의 함유하는 헤테로고리를 구성하거나, 대신 R13, R14, R15및 R16은, 니트릴, 에스테르, 아실 또는 아미드기 또는 기 -CO-O-R17-D 또는 -CO-NH-R17-D (여기에서 R17이 알킬렌이고 D 가 4차 암모늄기이다) 로 치환되는 선형 또는 분지형 C1-C6알킬 라디칼을 나타내고;
A1및 B1은, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화될 수 있고, 주사슬내에 연결되거나 삽입되는 하나 이상의 방향족 고리 또는 하나 이상의 산소 또는 황 원자 또는 술폭시드, 술폰, 디술파이드, 아미노, 알킬아미노, 히드록실, 4차 암모늄, 우레이도, 아미드 또는 에스테르기를 함유할 수 있는 C2-20폴리메틸렌기를 나타내고;
X-는 무기산 또는 유기산으로부터 유도된 음이온을 나타내고;
A1, R13및 R15는, 부착되는 2 개의 질소 원자와 함께, 피페라진 고리를 형성할 수 있고; 또한, A1이 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼을 나타내면, B1은 또한 기 (CH2)n-CO-D-OC-(CH2)n- :
(여기에서 D 는 하기를 나타낸다:
a) 화학식 -O-Z-O- 의 글리콜 잔기(식중, Z 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 나타내거나 하기 화학식중 하나에 대응하는 기를 나타낸다:
-(CH2-CH2-O)x-CH2-CH2-
-[CH2-CH(CH3)-O]y-CH2-CH(CH3)-
(식중, x 및 y 는 한정되고 유일한 중합도를 나타내는 1 내지 4 의 정수, 또는 평균 중합도를 나타내는 1 내지 4 의 임의 수를 나타낸다));
b) 비스-2차 디아민 잔기, 예컨대, 피페라진 유도체;
c) 화학식 -NH-Y-NH- 의 비스-1차 디아민 잔기(식중, Y 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 나타내거나, 대신 2가 라디칼 -CH2-CH2-S-S-CH2-CH2- 을 나타낸다);
d) 화학식 -NH-CO-NH- 의 우레일렌기)
를 나타낼 수 있고;
바람직하게는, X-는 음이온, 예컨대 클로라이드 또는 브로마이드이다].
상기 중합체는 통상 수평균 분자량이 1000 내지 100000 이다.
상기 형태의 중합체는 특히 프랑스 특허 2 320 330, 2 270 846, 2 316 271, 2 336 434 및 2 413 907 그리고 미국 특허 2 273 780, 2 375 853, 2 388 614, 2 454 547, 3 206 462, 2 261 002, 2 271 378, 3 874 870, 4 001 432, 3 929 990, 3 996 904, 4 005 193, 4 025 617, 4 025 627, 4 025 653, 4 026 945 및 4 027 020 에 기재되어 있다.
더욱 특히 하기 화학식 6 에 대응하는 반복 단위체로 이루어진 중합체를 사용할 수 있다:
[식중, R1, R2, R3및 R4는, 동일 또는 상이할 수 있고, 약 탄소수 1 내지 4 의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼을 나타내고, n 및 p 는 약 2 내지 20 범위의 정수이고, X-는 무기산 또는 유기산으로부터 유도된 음이온이다].
특히 바람직한 화학식 6 의 한 화합물은, R1, R2, R3및 R4가 메틸 라디칼을 나타내고 n = 3, p = 6 및 X = Cl 인 것(INCI (CTFA) 명명법에 따라 헥사디메트린 클로라이드로 공지됨)이다.
(2) 하기 화학식 7 의 반복 단위체로 이루어진 다중 4차 암모늄 중합체:
[식중,
R18, R19, R20및 R21은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 메틸, 에틸, 프로필, β-히드록시에틸, β-히드록시프로필 또는 -CH2CH2(OCH2CH2)pOH 라디칼 (여기에서, p 는 0 또는 1 내지 6 이다) 을 나타내고, 단 R18, R19, R20및 R21은 동시에 수소 원자를 나타내지 않고,
r 및 s 는, 동일 또는 상이할 수 있고, 1 내지 6 의 정수이고,
q 는 0 또는 1 내지 34 의 정수이고,
X-는 무기산 또는 유기산, 예컨대 할라이드의 음이온을 나타내고,
D 는 없거나 기 -(CH2)t-CO- (여기에서 t 는 4 또는 7 을 나타낸다) 를 나타낼 수 있고,
A 는 디할라이드 라디칼 또는 바람직하게는 -CH2-CH2-O-CH2-CH2- 를 나타낸다].
상기 화합물은 특히 특허 출원 EP-A-122 324 에 기재되어 있다.
상기 화합물 중에서, 예를 들어, 미라놀(Miranol)사에 의해 시판되는 생성물 상품명 "Mirapol A 15", "Mirapol AD1", "Mirapol AZ1" 및 "Mirapol 175" 을 언급할 수 있다.
본 발명에 있어서, 용어 "양이온성 실리콘" 은 하나 이상의 1차, 2차 또는 3차 아민 또는 4차 암모늄기를 함유하는 임의 실리콘을 나타낸다. 그래서 하기를 언급할 수 있다:
(a) CTFA 사전에서 "아모디메티콘(amodimethicone)" 으로 참조되고 하기 화학식 8 에 대응하는 폴리실록산:
[식중, x' 및 y' 는 분자 중량에 의존하는 정수이고, 통상 상기 중량평균 분자량은 약 5000 내지 500000 이다];
(b) 하기 화학식 9 에 대응하는 아미노실리콘:
[식중,
G 는 수소 원자 또는 페닐, OH 또는 C1-C8알킬기, 예를 들어 메틸이고,
a 는 0 또는 1 내지 3 의 정수, 특히 0 을 나타내고,
b 는 0 또는 1, 특히 1 을 나타내고,
m 및 n 은 (m + n) 합이 구체적으로 1 내지 2000 및 특히 50 내지 150 범위일 수 있는 수이고, n 이 0 내지 1999 및 구체적으로 49 내지 149 의 수를 나타내는 것이 가능하고 m 이 1 내지 2000 및 구체적으로 1 내지 10 의 수를 나타내는 것이 가능하며;
R' 는 화학식 -CqH2qL 의 1가 라디칼이다 (여기에서, q 는 2 내지 8 의 수이고 L 은 하기 기로부터 선택된 임의 4차화 아민기이다:
-NR"-CH2-CH2-N'(R")2
-N(R")2
-Nρ(R")3A-
-NHρ(R")2A-
-NH2 ρ(R")A-
-N(R")-CH2-CH2-NρR"H2A-
(여기에서 R" 는 수소, 페닐, 벤질, 또는 포화 1가 탄화수소 라디칼, 예를 들어, C1-20알킬 라디칼을 나타내고, A-는 할라이드 이온, 예컨대, 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드를 나타낸다))].
상기 정의에 대응하는 생성물은 하기 화학식 10 에 대응하는 "트리메틸실릴아모디메티콘"으로서 공지된 실리콘이다:
[식중, n 및 m 은 상기 제공된 의미를 갖는다(참조. 화학식 9)].
상기 중합체는 예를 들어 특허 출원 EP-A-95238 에 기재되어 있다.
(c) 하기 화학식 11 에 대응하는 아미노실리콘:
[식중,
R5는 C1-181가 탄화수소 라디칼, 특히 C1-C18알킬 또는 C2-C18알케닐 라디칼, 예를 들어 메틸을 나타내고;
R6은 2가 탄화수소 라디칼, 특히 C1-C18알킬렌 라디칼 또는 SiC 결합에 의해 Si 에 연결된 2가 C1-C18, 예를 들어, C1-C8, 알킬렌옥시 라디칼을 나타내고;
Q-는 음이온, 예컨대, 할라이드 이온, 특히 클로라이드, 또는 유기산 염(아세테이트 등)이고;
r 은 2 내지 20 및 특히 2 내지 8 의 평균 통계치를 나타내고;
s 는 20 내지 200 및 특히 20 내지 50 의 평균 통계치를 나타낸다].
더욱 특히 상기 아미노실리콘은 특허 US 4 185 087 에 기재되어 있다.
상기 종류에 해당하는 실리콘은 유니온 카바이드(Union Carbide)사에 의해 "Ucar Silicone ALE 56" 명칭으로 시판되는 실리콘이다.
(d) 하기 화학식 12 의 4차 암모늄 실리콘:
[식중,
R7은, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-181가 탄화수소 라디칼, 및 특히 C1-C18알킬 라디칼, C2-C18알케닐 라디칼 또는 탄소수 5 또는 6 을 포함하는 고리, 예를 들어, 메틸을 나타내고;
R6은 2가 탄화수소 라디칼, 특히 C1-C18알킬렌 라디칼 또는 SiC 결합에 의해 Si 에 연결된 2가 C1-C18, 예를 들어, C1-C8, 알킬렌옥시 라디칼을 나타내고;
R8은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, C1-C181가 탄화수소 라디칼, 및 특히 C1-C18알킬 라디칼, C2-C18알케닐 라디칼 또는 라디칼 -R6-NHCOR7을 나타내고;
X-는 음이온, 예컨대, 할라이드 이온, 특히 클로라이드, 또는 유기산 염(아세테이트 등)이고;
r 은 2 내지 200 및 특히 5 내지 100 의 평균 통계치를 나타낸다].
상기 실리콘은, 예를 들어, 출원 EP-A-0 530 974 에 기재되어 있다.
상기 종류에 해당하는 실리콘은 골드슈미트(Goldschmidt)사에 의해 Abil Quat 3270, Abil Quat 3272 및 Abil Quat 3474 명칭으로 시판되는 실리콘이다.
(e) 하기 화학식 13 의 아미노실리콘:
[식중,
- R1, R2, R3및 R4는, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-C4알킬 라디칼 또는 페닐기를 나타내고,
- R5는 C1-C4알킬 라디칼 또는 히드록실기를 나타내고,
- n 은 1 내지 5 의 정수이고,
- m 은 1 내지 5 의 정수이고,
x 는 아민수가 0.01 내지 1 meq/g 이도록 선택된다].
본 발명에 있어서, 아미노실리콘은 오일 형태, 수성, 알콜성 또는 수성-알콜성 용액 형태, 분산액 형태 또는 에멀션 형태일 수 있다.
특히 유리한 한가지 구현예는 에멀션, 특히 마이크로에멀션 또는 나노에멀션 형태의 이의 용도이다.
예를 들어, 아모디메티콘 이외에, 수지(獸脂) 지방산으로부터 유도된 양이온성 계면활성제(탈로우트리모늄(CTFA)으로 참조)를 비이온성 계면활성제("Nonoxynol 10" 명칭으로 공지)와 조합으로 함유하는, 다우 코닝(Dow Corning)사에 의해 "Cationic Emulsion DC 929" 명칭으로 시판되는 생성물을 사용할 수 있다.
예를 들어, 아모디메티콘 이외에, 양이온성 계면활성제, 트리메틸세틸암모늄 클로라이드를 비이온성 계면활성제(trideceth-12) 와 조합으로 함유하는 다우 코닝사에 의해 "Catonic Emulsion DC 939" 명칭으로 시판되는 생성물을 또한 사용할 수 있다.
본 발명에 따라 사용할 수 있는 기타 상품은, 조합으로, 화학식 10 의 트리메틸실릴아모디메티콘, 화학식 C8H17-C6H4-(OCH2CH2)n-OH (식중 n = 40) 의 비이온성 계면활성제(octoxynol-40 으로 공지), 화학식 C12H25-(OCH2CH2)n-OH (식중 n = 6) 의 기타 비이온성 계면활성제(isolaureth-6 으로 공지), 및 글리콜을 함유하는, 다우 코팅사에 의해 "Dow Corning Q2 7224" 명칭으로 시판되는 생성물이다.
본 발명에 따른 4차 암모늄염 형태의 양이온성 계면활성제는 통상 하기로부터 선택된다:
A) 하기 화학식 14 의 4차 암모늄염:
[식중,
X 는 할라이드(클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드) 또는 (C1-C6)알킬 술페이트, 더욱 특히 메틸 술페이트, 포스페이트, 알킬 또는 알킬아릴 술포네이트, 유기산, 예컨대 아세테이트 또는 락테이트로부터 유도된 음이온의 군으로부터 선택된 음이온이고,
i) 라디칼 R1내지 R3은, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-4선형 또는 분지형 지방족 라디칼, 또는 방향족 라디칼, 예컨대 아릴 또는 알킬아릴을 나타낸다. 지방족 라디칼은 헤테로 원자, 예컨대, 특히, 산소, 질소, 황 또는 할로겐을 함유할 수 있다. 지방족 라디칼은, 예를 들어, 알킬, 알콕시 및 알킬아미드 라디칼로부터 선택되고,
R4는 C16-30선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타낸다.
양이온성 계면활성제는 바람직하게는 베헤닐트리메틸암모늄염(예를 들어 클로라이드)이다.
ii) 라디칼 R1및 R2는, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-4선형 또는 분지형 지방족 라디칼, 또는 방향족 라디칼, 예컨대 아릴 또는 알킬아릴을 나타낸다. 지방족 라디칼은 헤테로 원자, 예컨대, 특히, 산소, 질소, 황 또는 할로겐을 함유할 수 있다. 지방족 라디칼은, 예를 들어, 알킬, 알콕시, 알킬아미드 및 약 탄소수 1 내지 4 의 히드록시알킬 라디칼로부터 선택되고;
R3및 R4는, 동일 또는 상이할 수 있고, C12-30선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 하나 이상의 에스테르 또는 아미드 작용기를 함유한다.
R3및 R4는 특히 (C12-C22)알킬아미도(C2-C6)알킬 및 (C12-C22)알킬아세테이트 라디칼로부터 선택된다.
양이온성 계면활성제는 바람직하게는 스테아르아미도프로필디메틸(미리스틸 아세테이트)암모늄염(예를 들어 클로라이드)이다];바람직하게는, 화학식 14 의 양이온성 계면활성제는 탄소수 8 내지 30 의 둘 이상의 지방 사슬을 함유하는 것, 탄소수 16 초과의 하나 이상의 지방 사슬을 함유하는 것 그리고 하나 이상의 방향족 라디칼을 함유하는 것으로부터 선택된다.
B) - 이미다졸리늄의 4차 암모늄염, 예컨대, 하기 화학식 15 의 염:
[식중, R5는 C8-30알케닐 또는 알킬 라디칼, 예를 들어, 수지의 지방산 유도체를 나타내고, R6은 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼 또는 C8-30알케닐 또는 알킬 라디칼을 나타내고, R7은 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R8은 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, X 는 할라이드, 포스페이트, 아세테이트, 락테이트, 알킬 술페이트, 알킬 술포네이트 또는 알킬아릴 술포네이트의 군으로부터 선택된 음이온이다. R5및 R6은 바람직하게는 C12-21알케닐 또는 알킬 라디칼의 혼합물, 예컨대, 수지의 지방산 유도체를 나타내고, R7은 메틸을 나타내고 R8은 수소를 나타낸다]. 상기 생성물은, 예를 들어, 위트코(Witco)사에 의해 "Rewoquat" W75, W90, W75PG 및 W75HPG 명칭으로 시판되는, 쿼터늄(Quaternium)-27(CTFA 1997) 또는 쿼터늄-83(CTFA 1997) 이다;
C) - 하기 화학식 16 의 이중 4차 암모늄염:
[식중, R9는 C16-30지방족 라디칼을 나타내고, R10, R11, R12, R13및 R14는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 및 C1-4알킬 라디칼로부터 선택되고, X-는 할라이드, 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트 및 메틸 술페이트의 군으로부터 선택된 음이온이다]. 상기 이중 4차 암모늄염은 특히 프로판탈로우디암모늄 디클로라이드를 함유한다;
D) - 하기 화학식 17 의, 하나 이상의 에스테르 작용기를 함유하는 4차 암모늄염:
[식중,
- R15는 C1-C6알킬 라디칼 및 C1-C6히드록시알킬 또는 디히드록시알킬 라디칼로부터 선택되고;
- R16은 하기로부터 선택되고:
- 라디칼,
- 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C22탄화수소 기재 라디칼
R20,
- 수소 원자;
- R18은 하기로부터 선택되고:
- 라디칼,
- 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C6탄화수소 기재 라디칼
R22,
- 수소 원자;
- R17, R19및 R21은, 동일 또는 상이할 수 있고, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C7-C21탄화수소 기재 라디칼로부터 선택되고;
- n, p 및 r 은, 동일 또는 상이할 수 있고, 2 내지 6 의 정수이고;
- y 는 1 내지 10 의 정수이고;
- x 및 z 는, 동일 또는 상이할 수 있고, 0 내지 10 의 정수이고;
- X-는 단순 또는 복합 유기 또는 무기 음이온이고;
단 x + y + z 합은 1 내지 15 이고, x 가 0 인 경우, R16은 R20을 나타내고, z 가 0 인 경우, R18은 R22를 나타낸다].
더욱 특히 하기인 화학식 17 의 암모늄염을 사용한다:
- R15는 메틸 또는 에틸 라디칼이고;
- x 및 y 는 1 이고;
- z 는 0 또는 1 이고;
- n, p 및 r 은 2 이고;
- R16은 하기로부터 선택되고:
- 라디칼,
- 메틸, 에틸 또는 C14-C22탄화수소 기재 라디칼,
- 수소 원자;
- R17, R19및 R21은, 동일 또는 상이할 수 있고, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C7-C21탄화수소 기재 라디칼로부터 선택되고,
- R18은 하기로부터 선택된다:
- 라디칼,
- 수소 원자.
상기 화합물은, 예를 들어, 헨켈(Henkel)사에 의해 Dehyquart, 스테판 (Stepan)사에 의해 Stepanquat, 세카(Ceca)사에 의해 Noxamium, 및 레보-위트코 (Rewo-Witco)사에 의해 Rewoquat WE 18 명칭으로 시판된다.
바람직한 4차 암모늄염 중에서 반 디크(Van Dyk)사에 의해 "Ceraphyl 70", 및 위트코사에 의해 쿼터늄-27 또는 쿼터늄-83 명칭으로 시판되는, 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드 및 스테아르아미도프로필디메틸(미리스틸 아세테이트)암모늄 클로라이드가 있다.
알킬디알릴아민 또는 디알킬디알릴암모늄의 시클로중합체는, 사슬의 주성분으로서, 하기 화학식 18 또는 19 에 해당하는 단위체를 함유하는 단독중합체 또는 공중합체로부터 선택된다:
[식중, k 및 t 는 0 또는 1 이고, k + t 합은 1 이고; R12는 수소 원자 또는 메틸 라디칼을 나타내고; R10및 R11은, 서로 독립적으로, C1-22알킬기, 알킬기가 바람직하게는 C1-5인 히드록시알킬기, 저급 C1-C4아미도알킬기를 나타내거나, R10및 R11은, 부착되는 질소 원자와 함께, 헤테로고리기, 예컨대, 피페리딜 또는 모르폴리닐을 나타낼 수 있고; Y-는 음이온, 예컨대, 브로마이드, 클로라이드, 아세테이트, 보레이트, 시트레이트, 타르트레이트, 비술페이트, 비술파이트, 술페이트 또는 포스페이트이다]. 상기 중합체는 특히 프랑스 특허 2,080,759 및 이의 첨부 증명서 2,190,406 에 기재된다.
R10및 R11은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 C1-4알킬기를 나타낸다.
상기 정의된 중합체 중에서, 더욱 특히 칼곤(Calgon)사에 의해 "Merquat100" 명칭으로 시판되는 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독중합체(저 중량평균 분자량의 동족체) 및 "Merquat 550" 명칭으로 시판되는 디알릴디메틸암모늄 클로라이드 및 아크릴아미드의 공중합체를 언급할 수 있다.
물론, 컨디셔너의 혼합물을 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 양이온성 컨디셔너(들)은, 최종 조성물의 총중량에 대해, 0.001 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 5 중량% 및 더욱 특히 0.1 내지 3 중량% 를 나타낼 수 있다.
본 발명의 조성물은 또한 유리하게는 하나 이상의 계면활성제를 함유할 수 있고, 통상 조성물의 총중량에 대해, 통상 약 0.1 내지 60 중량%, 바람직하게는 3 내지 40 중량% 및 더욱 바람직하게는 5 내지 30 중량% 로 존재한다.
상기 계면활성제는 음이온성, 양쪽성, 비이온성 계면활성제, 또는 이들의 혼합물로부터 선택될 수 있다.
본 발명을 실행하는데 적합한 계면활성제는 특히 하기이다:
(i)음이온성 계면활성제(들):
본 발명의 명세서에서, 이의 성질은 결정적으로 중요하지 않다.
그래서, 본 발명의 명세서에서 단독 또는 혼합물로 사용될 수 있는 음이온성 계면활성제의 예로서, 특히 하기 화합물의 염 (특히 알칼리염, 구체적으로 나트륨염, 암모늄염, 아민염, 아미노 알콜염 또는 마그네슘염) (비제한 목록) 을 언급할 수 있다: 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트, 알킬아미도에테르 술페이트, 알킬아릴폴리에테르 술페이트, 모노글리세리드 술페이트; 알킬 술포네이트, 알킬 포스페이트, 알킬아미드 술포네이트, 알킬아릴 술포네이트, α-올레핀 술포네이트, 파라핀 술포네이트; 알킬 술포숙시네이트, 알킬 에테르 술포숙시네이트, 알킬아미드 술포숙시네이트; 알킬 술포숙시나메이트; 알킬 술포아세테이트; 알킬 에테르 포스페이트; 아실 사르코시네이트; 아실 이세티오네이트 및 N-아실타우레이트, 바람직하게는 탄소수 8 내지 24 의 모든 상기 각종 화합물의 알킬 또는 아실 라디칼, 및 바람직하게는 페닐기 또는 벤질기를 나타내는 아릴 라디칼. 또한 사용될 수 있는 음이온성 계면활성제 중에서, 지방산염, 예컨대, 올레산, 리시놀산, 팔미트산 및 스테아르산, 코코넛 오일 산 또는 수소화 코코넛 오일 산의 염; 아실 라디칼이 탄소수 8 내지 20 인 아실 락틸레이트를 언급할 수 있다. 약음이온성 계면활성제, 예컨대 알킬-D-갈락토시두론산 및 이의 염, 뿐만 아니라 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24) 알킬 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24) 알킬아릴 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24) 알킬아미도 에테르 카르복실산 및 이의 염, 특히 에틸렌 옥시드기 2 내지 50 을 함유하는 것, 그리고 이들의 혼합물을 또한 사용할 수 있다.
음이온성 계면활성제 중에서, 본 발명에 있어서 알킬 술페이트염 및 알킬 에테르 술페이트염 그리고 이들의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.
(ii)비이온성 계면활성제(들):
비이온성 계면활성제는, 스스로 또한, 자체로 공지된 화합물 (참조. 특히 이에 관해 "Handbook of Surfactants" (엠.알. 포터(M.R. Porter) 저, Blackie Son(Glasgow and London) 발행, 1991, pp. 116-178)) 이고, 본 발명의 명세서에서, 이의 성질은 결정적인 특징이 아니다. 그래서, 이들은 특히 (비제한 목록) 폴리에톡시화, 폴리프로폭시화 또는 폴리글리세롤화 지방산, 알킬페놀, α-디올 또는 예를 들어 탄소수 8 내지 18 의 지방 사슬을 갖는 알콜로부터 선택되고, 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드기의 수가 특히 2 내지 50 이고 글리세롤기의 수가 특히 2 내지 30 인 것이 가능하다. 또한 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드의 공중합체, 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드와 지방 알콜의 축합물; 바람직하게는 에틸렌 옥시드 2 내지 30 몰의 폴리에톡시화 지방 아미드, 평균 1 내지 5, 특히 1.5 내지 4 글리세롤기를 함유하는 폴리글리세롤화 지방 아미드; 2 내지 30 몰의 에틸렌 옥시드를 갖는 소르비탄의 옥시에틸렌화 지방산 에스테르; 수크로스의 지방산 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜의 지방산 에스테르, 알킬폴리글리코시드, N-알킬글루카민 유도체, 아민 옥시드, 예컨대 (C10-C14)알킬아민 옥시드 또는 N-아실아미노프로필모르폴린 옥시드를 언급할 수 있다.
(iii)양쪽성 계면활성제(들):
본 발명의 명세서에서 성질이 결정적인 특징이 아닌 양쪽성 계면활성제는 특히 (비제한 목록), 지방족 라디칼이 탄소수 8 내지 22 및 하나 이상의 수용성 음이온기(예를 들어 카르복실레이트, 술포네이트, 술페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트)를 함유하는 선형 또는 분지형 사슬인 지방족 2차 또는 3차 아민 유도체일 수 있고; 또한 (C8-C20)알킬베타인, 술포베타인, (C8-C20)알킬아미도(C1-C6)알킬베타인또는 (C8-C20)알킬아미도(C1-C6)알킬술포베타인을 언급할 수 있다.
아민 유도체 중에서, 미국 특허 2,528,378 및 2,781,354 에 기재되고 하기 구조를 갖는, Miranol 명칭으로 시판되는 생성물을 언급할 수 있다:
R2-CONHCH2CH2-N(R3)(R4)(CH2COO-)
[식중, R2는 가수분해된 코코넛 오일에 존재하는 산 R2-COOH 로부터 유도된 알킬 라디칼, 헵틸, 노닐 또는 운데실 라디칼을 나타내고, R3은 β-히드록시에틸기를 나타내고 R4는 카르복시메틸기를 나타낸다]; 및
R5-CONHCH2CH2-N(B)(C)
[식중,
B 는 -CH2CH2OX' 를 나타내고, C 는 -(CH2)z-Y' (z = 1 또는 2) 를 나타내고,
X' 는 -CH2CH2-COOH 기 또는 수소 원자를 나타내고,
Y' 는 -COOH 또는 -CH2-CHOH-SO3H 라디칼을 나타내고,
R5는 코코넛 오일 또는 가수분해된 아마인유에 존재하는 산 R9-COOH 의 알킬 라디칼, 특히, C7, C9, C11또는 C13알킬 라디칼, C17알킬 라디칼 및 이의 이소형, 불포화 C17라디칼을 나타낸다].
상기 화합물은 CTFA 사전 (제 5 판, 1993) 에서 디소듐 코코암포디아세테이트, 디소듐 라우로암포디아세테이트, 디소듐 카프릴암포디아세테이트, 디소듐 카프릴로암포디아세테이트, 디소듐 코코암포디프로피오네이트, 디소듐 라우로암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴로암포 디프로피오네이트, 라우로암포디프로피온산, 코코암포디프로피온산으로 분류된다.
예로서, 롱쁠랑(Rhone-Poulenc)사에 의해 상품명 Miranol C2M Concentrate 로 시판되는 코코암포디아세테이트를 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서, 계면활성제의 혼합물, 특히 음이온성 계면활성제의 혼합물 및 음이온성 계면활성제와 양쪽성 또는 비이온성 계면활성제의 혼합물을 사용할 수 있다. 특히 바람직한 혼합물은 하나 이상의 음이온성 계면활성제와 하나 이상의 양쪽성 계면활성제의 혼합물이다.
나트륨, 트리에탄올아민 또는 암모늄의 (C12-C14)알킬 술포네이트, 2.2 몰의 에틸렌 옥시드로 옥시에틸렌화된 나트륨, 트리에탄올아민 또는 암모늄의 (C12-C14)알킬 에테르 술페이트, 나트륨 코코일 이세티오네이트 및 나트륨 (C14-C16)-α-올레핀 술포네이트, 그리고 이들의 혼합물로부터 선택된 음이온성 계면활성제와 하기의 양쪽성 계면활성제를 바람직하게 사용한다:
- 양쪽성 계면활성제, 예컨대 38 % 활성 물질 함유 수용액으로서 상품명 "Miranol C2M Conc.", 또는 Miranol C32 명칭으로 특히 롱쁠랑사에 의해 시판되는, 디소듐 코코암포디프로피오네이트 또는 소듐 코코암포프로피오네이트로 공지된 아민 유도체; 또는
- 쯔비터이온형의 양쪽성 계면활성제, 예컨대, 알킬베타인, 특히 헨켈사에 의해 32 % AM 함유 수용액으로서 "Dehyton AB 30" 명칭으로 시판되는 코코베타인.
본 발명의 조성물은 또한 (연합성 또는 비연합성) 증점제, 방향제, 진주층 제제, 보존제, 실리콘 또는 비(非)실리콘 햇볕차단제, 비타민, 프로비타민, 본 발명에 따른 것이 아닌 양이온성 중합체, 양쪽성, 음이온성 또는 비이온성 중합체, 단백질, 단백질 가수분해물, 18-메틸에이코산산, 히드록시산, 판테놀, 휘발성 또는 비(非)휘발성, 고리형 또는 선형 또는 가교형, 변형 또는 비(非)변형 실리콘, 및 본 발명에 따른 조성물의 성질에 영향을 미치지 않는 미용품에 종래 사용되는 임의 기타 첨가제로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 함유할 수 있다.
상기 첨가제는 본 발명에 따른 조성물에서 조성물의 총중량에 대해 0 내지 20 중량% 범위일 수 있는 분율로 존재한다. 각 첨가제의 정확한 양은 이의 성질 및 이의 작용에 따라 당업자에 의해 미리 측정된다.
본 발명에 따른 조성물은 최종 pH 가 통상 2 내지 10 이다. 상기 pH 는 바람직하게는 3 내지 6.5 이다. (유기 또는 무기) 염기, 예를 들어 암모니아수, 또는 1차, 2차 또는 3차 (폴리)아민, 예컨대, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 이소프로판올아민 또는 1,3-프로판디아민을 조성물에 첨가, 또는 대신 산, 바람직하게는 카르복실산, 예컨대, 시트르산의 첨가로 pH 를 편리하게 원하는 값으로 조절한다.
본 발명에 따른 조성물을 더욱 특히 케라틴 물질, 예컨대, 모발, 피부, 속눈썹, 눈썹, 손톱 또는 두피, 및 더욱 특히 모발의 세척 또는 트리트먼트용으로 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 린스-아웃(rinse-out) 또는 리브-인(leave-in) 컨디셔너 조성물일 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 세정 조성물, 예컨대, 샴푸, 샤워 겔 또는 목욕 거품일 수 있고 또한 메이크업 제거 용품일 수 있다. 본 발명의 상기 구현예에서, 조성물은 통상 수성인 세척 베이스(base)를 포함한다.
세척 베이스를 임의 형성하는 계면활성제(들)은 공평하게 단독 또는 혼합물로서 상기 정의된 바와 같이 음이온성, 양쪽성 및 비이온성 계면활성제일 수 있다.
세척 베이스의 양과 질은 최종 조성물에 충분한 발포력 및/또는 세정력을 제공하는데 충분한 것이다.
그래서, 본 발명에 있어서, 세척 베이스는 최종 조성물의 총중량의 4 내지 50 중량%, 바람직하게는 6 내지 35 중량% 및 더욱 바람직하게는 8 내지 25 중량% 를 나타낼 수 있다.
본 발명의 주제는 또한, 상기 정의된 대로 미용학적 조성물을 케라틴 물질에 적용하고 그 다음 임의로 물로 씻어내는 것을 특징으로 하는, 케라틴 물질, 예컨대, 피부 또는 모발 트리트먼트 방법이다.
그래서, 본 발명에 따른 상기 방법은 헤어스타일을 유지시키고 피부, 모발 또는 임의 기타 케라틴 물질로부터 트리트먼트, 케어, 세척 또는 메이크업 제거를 허용한다.
본 발명의 조성물은 또한 퍼머, 스트레이트, 염색 또는 표백 조성물의 형태,또는 대신 모발의 염색, 표백, 퍼머 또는 스트레이트 전후, 또는 대신 퍼머 혹은 모발 스트레이트 작업의 두 단계의 사이에 적용되는 린스-아웃 조성물의 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 피부 케어 및/또는 모발 케어용 수성 또는 수성-알콜성 로션의 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 미용학적 조성물은 겔, 밀크, 크림, 에멀션, 증점 로션 또는 무쓰의 형태일 수 있고 피부, 손톱, 속눈썹, 입술 및 더욱 특히 모발용으로 사용될 수 있다.
조성물은 증발 형태 또는 무쓰 형태로 조성물을 적용시키기 위해 각종 형태, 특히 증발기, 펌프 분산제 병 또는 에어로졸 용기로 포장될 수 있다. 상기 포장 형태는 예를 들어 모발 트리트먼트용 분무기, 락카 또는 무쓰를 수득하기를 원하는 경우에 나타난다.
명세서 전반에 있어서, 표시된 백분률은 중량 기준이다.
본 발명은 이제 하기 실시예의 도움으로 더욱 완전히 증명될 것이고, 기재된 구현예에 제한되는 것으로 고려되지 않아야 한다.
실시예에서, AM 은 활성 물질이다.
실시예에서, 상용 명칭은 하기 정의를 갖는다:
실시예 1
하기 조성물을 갖는 본 발명에 따른 린스-아웃 컨디셔너를 제조한다:
조 성 물 | 본 발명 A | B |
수산화나트륨으로 중화된 2-클로로에틸아미노디프로피온산으로 변형된 감자 전분(National Starch 제 Structure Solanace) | 1.5 g | 1.5 g |
40 % 활성 물질 함유 수용액으로서 디알릴디메틸암모늄 클로라이드(칼곤제 Merquat 100) | 0.5 g AM | |
양쪽성 중합체:40 % AM 함유 수용액으로서 디알릴디메틸암모늄 클로라이드, 아크릴산 및 아크릴아미드의삼원공중합체 | - | 0.5 g AM |
탈염수 적당량 | 100.0 g | 100.0 g |
상기 조성물을 세척 및 건조 모발에 적용한다. 이들을 모발상에서 2 분 동안 방치시킨후 물로 씻어낸다.
본 발명에 따른 조성물 A 로 트리트먼트된 모발은 조성물 B 로 트리트먼트된 모발보다 젖은 경우 더욱 평활성이고 더욱 유연하며 마른 경우 더욱 조밀하고 더욱 광택성이다.
실시예 2
하기 조성물을 갖는 본 발명에 따른 린스-아웃 컨디셔너를 제조한다:
- 수산화나트륨으로 중화된 2-클로로에틸아미노디프로
피온산으로 변형된 감자 전분
(National Starch 제 Structure Solanace) 1.5 g
- 미리스틸, 세틸 및 스테아릴 미리스테이트, 팔미테이트
및 스테아레이트의 혼합물 0.5 g
- 35 % 활성 물질 함유 양이온성 에멀션으로 시판되는
아모디메티콘(다우 코닝제 Fluid DC 939) 1.4 g AM
- 80 % AM 함유 수용액으로서 베헤닐트리메틸암모늄
클로라이드(Clariant 제 Genamin KDMP) 1.2 g AM
- 세틸 알콜 및 스테아릴 알콜의 혼합물(50/50 중량) 2.5 g
- 91 % AM 함유 라우릴디메티콘 코폴리올
(다우 코닝제 Q2-5200) 0.23 g AM
- 시트르산 0.1 g
- 방향제, 보존제 적당량
- 물 적당량 100 g
본 발명에 따른 조성물로 트리트먼트된 모발은 젖은 경우 평활성이고 유연하며 마른 경우 조밀하고 광택성이다.
실시예 3
하기 조성물을 갖는 본 발명에 따른 샴푸를 제조한다:
에틸렌 옥시드 2.2 몰 함유 나트륨 라우릴에테르 술페이트(70/30 C12/C14)32 % AM 함유 수용액으로서 코코일베타인Rhodia 사에 의해 Jaguar C13S 명칭으로 시판되는히드록시프로필 구아 트리메틸암모늄 클로라이드수산화나트륨으로 중화된 2-클로로에틸아미노디프로피온산으로 변형된 감자 전분(National Starch 제 Structure Solanace)점도 60000 cSt 의 폴리디메틸실록산35 % AM 함유 양이온성 에멀션으로서 아모디메티콘(다우 코닝제 DC939)1-(헥사데실옥시)-2-옥타데카놀/세틸 알콜 혼합물코코넛 모노이소프로판올아미드보존제, 방향제시트르산 적당량탈염수 적당량 | 15.5 g AM3 g AM0.1 g0.3 g2.7 g1.05 g AM2.5 g0.5 g적당량pH 5.5100 g |
약 12 g 의 조성물을 미리 보습된 모발에 적용함으로써 샴푸감기를 실행한다. 샴푸에 거품이 일게 하고 그 다음 물로 완전히 씻어낸다.
상기 조성물로 트리트먼트된 모발은 부드럽고, 광택성이며 쉽게 엉킴이 풀어진다.
실시예 4
하기 조성물을 갖는 본 발명에 따른 린스-아웃 컨디셔너를 제조한다:
- 수산화나트륨으로 중화된 2-클로로에틸아미노디프로
피온산으로 변형된 감자 전분
(National Starch 제 Structure Solanace) 1 g
- 미리스틸, 세틸 및 스테아릴 미리스테이트, 팔미테이트
및 스테아레이트의 혼합물 0.5 g
- α,ω-비닐기를 함유하는 폴리디메틸실록산/α,ω-히드
로게노기를 함유하는 폴리디메틸실록산의 공중합체의
67 % AM 함유 양이온성 에멀션(다우 코닝제 DC-1997) 1.4 g AM
- 80 % AM 함유 수용액으로서 베헤닐트리메틸암모늄
클로라이드(Clariant 제 Genamin KDMP) 1.2 g AM
- 세틸 알콜 및 스테아릴 알콜의 혼합물(50/50 중량) 3 g
- 91 % AM 함유 라우릴디메티콘 코폴리올
(다우 코닝제 Q2-5200) 0.23 g AM
- 시트르산 0.1 g
- 방향제, 보존제 적당량
- 물 적당량 100 g
실시예 5
하기 조성물을 갖는 본 발명에 따른 린스-아웃 컨디셔너를 제조한다:
- 수산화나트륨으로 중화된 2-클로로에틸아미노디프로
피온산으로 변형된 감자 전분
(National Starch 제 Structure Solanace) 1 g
- 칸델릴라 왁스 0.3 g
- N-올레오일디히드로스핑고신 0.1 g
- 20 % AM 함유 비이온성 에멀션으로서
트리메틸실릴 아모디메티콘 0.92 g AM
- 80 % AM 함유 수용액으로서 베헤닐트리메틸암모늄 0.88 g AM
클로라이드(Clariant 제 Genamin KDMP)
- 프로필렌 글리콜내 75 % AM 함유 쿼터늄(quaternium)-87 2.5 g AM
(레보제 Rewoquat PG 75)
- 스테아릴 알콜 1 g
- 옥시에틸렌화 소르비탄 모노라우레이트 0.3 g
- 4차화 밀 단백질 가수분해물 0.06 g
- 방향제, 보존제 적당량
- 물 적당량 100 g
본 발명은 특정 양쪽성 전분을 컨디셔너에 기재한 종래 기술의 조성물, 특히 모발 조성물에 도입함으로써 직모성(반복 적용후 부담감) 그리고 모발의 평활성 및 유연성 부족을 제거하면서 동시에 컨디셔너 기재 조성물에 연관되는 기타 이로운 미용학적 특성을 유지시킬 수 있다. 특히 목욕 거품 또는 샤워 겔의 형태로 피부에 적용되는 경우, 본 발명의 조성물은 피부의 부드러움 향상을 제공한다.
Claims (31)
- 미용학적으로 허용가능한 매질내에, 하기 a) 및 b) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 미용학적 조성물:a) 하기 화학식 1 내지 4 의 화합물로부터 선택되는 하나 이상의 양쪽성 전분:[화학식 1][화학식 2][화학식 3][화학식 4][식중,St-O 는 전분 분자를 나타내고,R 은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 메틸 라디칼을 나타내고,R' 는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, 메틸 라디칼 또는 -COOH 기를 나타내고,n 은 2 또는 3 의 정수이고,M 은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속, NH4, 4차 암모늄 또는 유기 아민을 나타내고,R" 는 수소 원자 또는 C1-18알킬 라디칼을 나타낸다]; 및b) 하기로부터 선택된 하나 이상의 양이온성 컨디셔너(conditioner):- 양이온성 실리콘,- 4차 암모늄염 형태의 계면활성제,- 사슬의 주성분으로서, 하기 화학식 18 또는 19 에 대응하는 단위체를 함유하는 단독중합체 및 공중합체로부터 선택되는, 알킬디알릴아민 또는 디알킬디알릴암모늄의 시클로중합체:[화학식 18][화학식 19][식중, k 및 t 는 0 또는 1 이고, k + t 합은 1 이고; R12는 수소 원자 또는 메틸 라디칼을 나타내고; R10및 R11은, 서로 독립적으로, C1-22알킬기, 알킬기가 C1-5인 히드록시알킬기, 저급 C1-C4아미도알킬기를 나타내거나, R10및 R11은, 부착되는 질소 원자와 함께, 피페리딜 또는 모르폴리닐과 같은 헤테로고리기를 나타낼 수 있고; Y-는 브로마이드, 클로라이드, 아세테이트, 보레이트, 시트레이트, 타르트레이트, 비술페이트, 비술파이트, 술페이트 또는 포스페이트와 같은 음이온이다], 및- 하기로부터 선택된 다중 4차(polyquaternary) 암모늄 중합체:(1) 하기 화학식 5 에 대응하는 반복 단위체를 함유하는 이중 4차(diquarternary) 암모늄 중합체:[화학식 5][식중,R13, R14, R15및 R16은, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-20지방족, 지환족 또는 아릴지방족 라디칼 또는 저급 히드록시알킬지방족 라디칼을 나타내거나, 대신 R13, R14, R15및 R16은, 함께 또는 개별적으로, 부착되는 질소 원자와 함께, 질소 원자가 아닌 제 2 헤테로 원자를 임의 함유하는 헤테로고리를 구성하거나, 대신 R13, R14, R15및 R16은, 니트릴, 에스테르, 아실 또는 아미드기 또는 기 -CO-O-R17-D 또는 -CO-NH-R17-D (여기에서 R17이 알킬렌이고 D 가 4차 암모늄기이다) 로 치환되는 선형 또는 분지형 C1-C6알킬 라디칼을 나타내고;A1및 B1은, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화될 수 있고, 주사슬내에 연결되거나 삽입되는 하나 이상의 방향족 고리 또는 하나 이상의 산소 또는 황 원자 또는 술폭시드, 술폰, 디술파이드, 아미노, 알킬아미노, 히드록실, 4차 암모늄, 우레이도, 아미드 또는 에스테르기를 함유할 수 있는 C2-20폴리메틸렌기를 나타내고;X-는 무기산 또는 유기산으로부터 유도된 음이온을 나타내고;A1, R13및 R15는, 부착되는 2 개의 질소 원자와 함께, 피페라진 고리를 형성할 수 있고; 또한, A1이 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 라디칼을 나타내면, B1은 또한 기 (CH2)n-CO-D-OC-(CH2)n- :(여기에서 D 는 하기를 나타낸다:a) 화학식 -O-Z-O- 의 글리콜 잔기(식중, Z 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 나타내거나 하기 화학식중 하나에 대응하는 기를 나타낸다:-(CH2-CH2-O)x-CH2-CH2--[CH2-CH(CH3)-O]y-CH2-CH(CH3)-(식중, x 및 y 는 한정되고 유일한 중합도를 나타내는 1 내지 4 의 정수, 또는 평균 중합도를 나타내는 1 내지 4 의 임의 수를 나타낸다));b) 피페라진 유도체와 같은 비스-2차 디아민 잔기;c) 화학식 -NH-Y-NH- 의 비스-1차 디아민 잔기(식중, Y 는 선형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 나타내거나, 대신 2가 라디칼 -CH2-CH2-S-S-CH2-CH2- 을 나타낸다);d) 화학식 -NH-CO-NH- 의 우레일렌기)를 나타낸다];(2) 하기 화학식 7 의 단위체로 이루어진 다중 4차 암모늄 중합체:[화학식 7][식중,R18, R19, R20및 R21은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 메틸, 에틸, 프로필, β-히드록시에틸, β-히드록시프로필 또는 -CH2CH2(OCH2CH2)pOH 라디칼 (여기에서, p 는 0 또는 1 내지 6 이다) 을 나타내고, 단 R18, R19, R20및 R21은 동시에 수소 원자를 나타내지 않고,r 및 s 는, 동일 또는 상이할 수 있고, 1 내지 6 의 정수이고,q 는 0 또는 1 내지 34 의 정수이고,X-는 할라이드와 같은 무기산 또는 유기산의 음이온을 나타내고,D 는 없거나 기 -(CH2)t-CO- (여기에서 t 는 4 또는 7 을 나타낸다) 를 나타낼 수 있고,A 는 디할라이드 라디칼 또는 -CH2-CH2-O-CH2-CH2- 를 나타낸다].
- 제 1 항에 있어서, 전분이 화학식 1 또는 2 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 2 항에 있어서, R, R' 및 R" 가 수소 원자이고 n 이 2 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 양이온성 실리콘이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:(a) CTFA 사전에서 "아모디메티콘(amodimethicone)" 으로 참조되고 하기 화학식 8 에 대응하는 폴리실록산:[화학식 8][식중, x' 및 y' 는 분자 중량에 의존하는 정수이고, 통상 상기 중량평균 분자량은 약 5000 내지 500000 이다];(b) 하기 화학식에 9 대응하는 아미노실리콘:[화학식 9]R'aG3-a-Si(OSiG2)n-(OSiGbR'2-b)m-O-SiG3-a-R'a[식중,G 는 수소 원자 또는 페닐, OH 또는 C1-C8알킬기이고,a 는 0 또는 1 내지 3 의 정수를 나타내고,b 는 0 또는 1 을 나타내고,m 및 n 은 (m + n) 합이 구체적으로 1 내지 2000 범위일 수 있는 수이고, n 이 0 내지 1999 의 수를 나타내는 것이 가능하고 m 이 1 내지 2000 의 수를 나타내는 것이 가능하며;R' 는 화학식 -CqH2qL 의 1가 라디칼이다 (여기에서, q 는 2 내지 8 의 수이고 L 은 하기 기로부터 선택된 임의 4차화 아민기이다:-NR"-CH2-CH2-N'(R")2-N(R")2-Nρ(R")3A--NHρ(R")2A--NH2 ρ(R")A--N(R")-CH2-CH2-NρR"H2A-(여기에서 R" 는 수소, 페닐, 벤질, 또는 포화 1가 탄화수소 라디칼을 나타내고, A-는 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드와 같은 할라이드 이온을 나타낸다))];(c) 하기 화학식 11 에 대응하는 아미노실리콘:[화학식 11][식중,R5는 C1-181가 탄화수소 라디칼을 나타내고;R6은 2가 탄화수소 라디칼을 나타내고;Q-는 할라이드 이온 또는 유기산 염(아세테이트 등)과 같은 음이온이고;r 은 2 내지 20 의 평균 통계치를 나타내고;s 는 20 내지 200 의 평균 통계치를 나타낸다];(d) 하기 화학식 12 의 4차 암모늄 실리콘:[화학식 12][식중,R7은, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-181가 탄화수소 라디칼을 나타내고;R6은 2가 탄화수소 라디칼을 나타내고;R8은, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, C1-C181가 탄화수소 라디칼을 나타내고;X-는 할라이드 이온 또는 유기산 염(아세테이트 등)과 같은 음이온이고;r 은 2 내지 200 의 평균 통계치를 나타낸다];(e) 하기 화학식 13 의 아미노실리콘:[화학식 13][식중,- R1, R2, R3및 R4는, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-C4알킬 라디칼 또는 페닐기를 나타내고,- R5는 C1-C4알킬 라디칼 또는 히드록실기를 나타내고,- n 은 1 내지 5 의 정수이고,- m 은 1 내지 5 의 정수이고,x 는 아민수가 0.01 내지 1 meq/g 이도록 선택된다].
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 4차 암모늄염 형태의 계면활성제가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:A) - 하기 화학식 14 의 4차 암모늄염:[화학식 14][식중,X 는 할라이드(클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드) 또는 (C1-C6)알킬 술페이트, 포스페이트, 아세테이트 또는 락테이트와 같은 유기산으로부터 유도된 음이온의 군으로부터 선택된 음이온이고,i) 라디칼 R1내지 R3은, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-4선형 또는 분지형 지방족 라디칼, 또는 아릴 또는 알킬아릴과 같은 방향족 라디칼을 나타낸다. 지방족 라디칼은 헤테로 원자를 함유할 수 있고; R4는 C16-30선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타낸다.ii) 라디칼 R1및 R2는, 동일 또는 상이할 수 있고, C1-4선형 또는 분지형 지방족 라디칼, 또는 아릴 또는 알킬아릴과 같은 방향족 라디칼을 나타낸다. 지방족 라디칼은 헤테로 원자를 함유할 수 있다. 지방족 라디칼은, 예를 들어, 알킬, 알콕시, 알킬아미드 및 C1-4히드록시알킬 라디칼로부터 선택되고; R3및 R4는, 동일 또는 상이할 수 있고, C12-30선형 또는 분지형 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 하나 이상의 에스테르 또는 아미드 작용기를 함유한다];B) - 이미다졸리늄의 4차 암모늄염, 예컨대, 하기 화학식 15 의 염:[화학식 15][식중, R5는 C8-30알케닐 또는 알킬 라디칼, 예를 들어, 수지의 지방산 유도체를 나타내고, R6은 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼 또는 C8-30알케닐 또는 알킬 라디칼을 나타내고, R7은 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, R8은 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고, X 는 할라이드, 포스페이트, 아세테이트, 락테이트, 알킬 술페이트, 알킬 술포네이트 또는 알킬아릴 술포네이트의 군으로부터 선택된 음이온이다];C) - 하기 화학식 16 의 이중 4차 암모늄염:[화학식 16][식중, R9는 탄소수 약 16 내지 30 의 지방족 라디칼을 나타내고, R10, R11, R12, R13및 R14는, 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 및 C1-4알킬 라디칼로부터 선택되고, X-는 할라이드, 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트 및 메틸 술페이트의 군으로부터 선택된 음이온이다];D) - 하기 화학식 17 의, 하나 이상의 에스테르 작용기를 함유하는 4차 암모늄염:[화학식 17][식중,- R15는 C1-C6알킬 라디칼 및 C1-C6히드록시알킬 또는 디히드록시알킬 라디칼로부터 선택되고;- R16은 하기로부터 선택되고:- 라디칼,- 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C22탄화수소 기재 라디칼R20,- 수소 원자;- R18은 하기로부터 선택되고:- 라디칼,- 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C6탄화수소 기재 라디칼R22,- 수소 원자;- R17, R19및 R21은, 동일 또는 상이할 수 있고, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C7-C21탄화수소 기재 라디칼로부터 선택되고;- n, p 및 r 은, 동일 또는 상이할 수 있고, 2 내지 6 의 정수이고;- y 는 1 내지 10 의 정수이고;- x 및 z 는, 동일 또는 상이할 수 있고, 0 내지 10 의 정수이고;- X-는 단순 또는 복합 유기 또는 무기 음이온이고;단 x + y + z 합은 1 내지 15 이고, x 가 0 인 경우, R16은 R20을 나타내고, z 가 0 인 경우, R18은 R22를 나타낸다].
- 제 5 항에 있어서, 화학식 14 의 양이온성 계면활성제가 탄소수 8 내지 30 의 둘 이상의 지방 사슬을 함유하는 것, 탄소수 16 초과의 하나 이상의 지방 사슬을 함유하는 것 그리고 하나 이상의 방향족 라디칼을 함유하는 것으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 베헤닐트리메틸암모늄염, 스테아르아미도프로필디메틸(미리스틸 아세테이트) 암모늄염,쿼터늄(Quaternium)-27 및 쿼터늄-83 으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 삭제
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 하기 화학식 6 에 대응하는 반복 단위체를 함유하는 이중 4차 암모늄 중합체가 화학식 6 에 대응하는 반복 단위체로 이루어진 것을 특징으로 하는 조성물:[화학식 6][식중, R1, R2, R3및 R4는, 동일 또는 상이할 수 있고, 약 탄소수 1 내지 4 의 알킬 또는 히드록시알킬 라디칼을 나타내고, n 및 p 는 약 2 내지 20 범위의 정수이고, X-는 무기산 또는 유기산으로부터 유도된 음이온이다].
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 양쪽성 전분이 조성물의 총중량에 대해 0.01 내지 10 중량% 의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 양이온성 컨디셔너가 조성물의 총중량에 대해 0.001 내지 10 중량% 농도인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 음이온성, 비이온성 및 양쪽성 계면활성제, 그리고 이들의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 계면활성제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 12 항에 있어서, 계면활성제(들)이 조성물의 총중량에 대해 0.1 내지 60 중량% 의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 증점제, 방향제, 진주층 제제, 보존제, 실리콘 또는 비(非)실리콘 햇볕차단제, 비타민, 프로비타민, 양이온성, 양쪽성 음이온성 또는 비이온성 중합체, 단백질, 단백질 가수분해물, 18-메틸에이코산산, 히드록시산, 판테놀 및 휘발성 또는 비(非)휘발성, 고리형 또는 선형 또는 가교형, 변형 또는 비(非)변형 실리콘으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, pH 가 2 내지 10 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, pH 가 3 내지 6.5 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 샴푸, 린스-아웃(rinse-out) 또는 리브-인(leave-in) 컨디셔너, 모발용 퍼머, 스트레이트, 염색 또는 표백 조성물, 퍼머 또는 모발 스트레이트의 두 단계들 사이에 적용되는 린스-아웃 조성물, 샤워 겔, 목욕 거품 및 메이크업 제거 용품의 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 케라틴 물질의 세척 또는 케어용으로 사용되는 조성물.
- 삭제
- 제 4 항에 있어서, (b) 화학식 9 의 아미노실리콘에서,G 가 메틸이거나,a 가 0 을 나타내거나,b 가 1 을 나타내거나,m 및 n 은 (m + n) 이 50 내지 150 범위일 수 있는 수이고, n 이 49 내지149 의 수를 나타내는 것이 가능하고 m 이 1 내지 10 의 수를 나타내는 것이 가능하거나,R" 가 C1-20알킬 라디칼을 나타내는 조성물.
- 제 4 항에 있어서, (c) 화학식 11 의 아미노실리콘에서,R5가 C1-C18알킬 또는 C2-C18알케닐 라디칼을 나타내거나,R6이 C1-C18알킬렌 라디칼 또는 SiC 결합에 의해 Si 에 연결된 2가 C1-C18알킬렌옥시 라디칼을 나타내거나,Q-가 클로라이드이거나,r 이 2 내지 8 의 평균 통계치를 나타내거나,s 가 20 내지 50 의 평균 통계치를 나타내는 조성물.
- 제 21 항에 있어서, R5가 메틸을 나타내거나 R6이 C1-C8알킬렌옥시 라디칼을 나타내는 조성물.
- 제 4 항에 있어서, (d) 화학식 12 의 4차 암모늄 실리콘에서,R7이 C1-C18알킬 라디칼, C2-C18알케닐 라디칼 또는 탄소수 5 또는 6 을 포함하는 고리를 나타내거나,R6이 C1-C18알킬렌 라디칼 또는 SiC 결합에 의해 Si 에 연결된 2가 C1-C18알킬렌옥시 라디칼을 나타내거나,R8이 C1-C18알킬 라디칼, C2-C18알케닐 라디칼 또는 라디칼 -R6-NHCOR7을 나타내거나,X-가 클로라이드이거나,r 이 5 내지 100 의 평균 통계치를 나타내는 조성물.
- 제 23 항에 있어서, R7이 메틸을 나타내거나 R6이 C1-C8알킬렌옥시 라디칼을 나타내는 조성물.
- 제 5 항에 있어서, (C1-C6)알킬 술페이트가 메틸 술페이트인 조성물.
- 제 5 항에 있어서, 헤테로 원자가 산소, 질소, 황 또는 할로겐인 조성물.
- 제 5 항에 있어서, R3및 R4가 (C12-C22)알킬아미도(C2-C6)알킬 및 (C12-C22)알킬아세테이트 라디칼로부터 선택되는 조성물.
- 제 10 항에 있어서, 양쪽성 전분이 조성물의 총중량에 대해 0.1 내지 5중량% 의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 11 항에 있어서, 양이온성 컨디셔너가 조성물의 총중량에 대해 0.01 내지 5 중량% 농도인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 13 항에 있어서, 계면활성제(들)이 조성물의 총중량에 대해 3 내지 40 중량% 의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 30 항에 있어서, 계면활성제(들)이 조성물의 총중량에 대해 5 내지 30 중량% 의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
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