KR100399297B1 - 중공유리체의표면처리를위한장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 코팅 물질에 의해 풍부한 이송 가스를 사용하여 중공 유리체의 최종 열 코팅의 표면 처리를 위한 장치에 관한 것이다. 상기 장치는 후드의 플로어 영역을 따라 연장하고, 중공 융리체를 전달하는 컨베이어 벨트 및 측면을 따르고 간격재로 분리된 구멍을 갖는 를 갖는 터널-형 증발기, 이들 구멍은 중공 유리체 둘레를 흐르고 그들의 표면위에 금속 산화물 층을 생성하는 이송 가스를 교체 추방 및 배수를 위해 사용된다. 코팅 물질을 과열하고 파쇄시키는 공간하 부재의 과도한 가열을 방지하기 위하여, 및 관련된 결점을 갖는 퇴적물의 증강과 고르지 못한 속도 분포를 방지하기 위하여, 상기 중간체 부재는 냉각재 스트림(4)으로 압축화될 수 있는 관형체로 형성된다.

Description

중공 유리체의 표면 처리를 위한 장치

유리병 표면의 강도를 증가시키기 위해 유리병 표면을 코팅할 수 있는 것은 공지되어 있다. 이것이 실행될 수 있도록 하기 위해, 유리병은 370℃ 내지 750℃의 온도에서 컨베이어 벨트위로 증발 후드를 통해 이동하는데, 그안에는 코팅물질이 함유된 이송가스 유리병 주위를 흐른다. 상기 코팅 물질은 금속 화합물로서, 특히 주석, 티타늄 또는 지르코늄으로 되어 있는데, 이들은 유리의 고온 표면위에 내려앉아 금속 산화물의 박층을 형성한다. 공지의 증발 후드는 이송가스가 교대로 방출되고 흡입될 수 있는 측면들을 구비한다. 공지된 증발 후드에서는, 예를 들면 유럽특허 EP-OS 0494495호에는, 측면의 방출 및 유입영역은 다수의 채널들로 형성되어 있는데, 이 채널들은 길게 되어 있으면서 서로 인접하게 배치되어 있고, 방출체임버나 유입체임버 및 터널형 증발후드 사이로 연장되어 있다. 측면과 위 아래에서 밀폐된 상기 채널들 사이로 연장되는 방해되지 않은 영역이 있는데, 필요한 경우, 이 영역을 통해 냉각제가 통과할 수 있다. 방출 체임버와 유입 체임버로부터 출발하여, 이들 채널들은 상기 터널형 증발후드를 향해 깔때기 형태로 넓게 벌려져 있다.

서로 인접하게 배치되어 있고 또 서로 연결되도록 배치된 상기 각각의 채널을 제조하는 것은 비용이 많이 들게 된다. 또 상기 증발후드에 가까이 위치한 상기 채널의 끝부분들은, 고온의 유리병으로 인해 고온에 노출되어 있어서, 결국 바람직하지 않은 채널의 오버히팅이 초래되고 코팅물질이 이렇게 가열된 금속표면에 달라 붙게 되는 현상이 초래된다. 이렇게 되면 코팅물질의 소모를 증가시키게 되고 또 증발후드의 적절한 기능을 발휘하는 것을 방해하는 적층물이 형성되는 문제점도 있다. 상기 방해되지 않는 영역을 통해 흐르는 냉각제에 의해 상기 채널의 측면벽을 냉각하는 것도 별 도움이 되지 않는데, 그것은 상기 채널의 가열된 내부 단부에 작용하는 냉각효과가 미미하기 때문이다.

유리병의 표면에 효과적이고 고른 코팅 물질을 도포할 수 있도록 가능한 높은 유동속도 및 가능한 고른 속도 프로파일을 성취하도록 많은 노력이 경주되어 왔다. 그러나, 유리병이 높은 국부 유동 속도가 있는 위치에서 컨베이어 벨트를 급히 나가게 되는 위험이 있기 때문에 상기 유동 속도의 비한정된 증가를 벗어나지 못한다. 이전에 공지된 증발 후드의 경우에, 방출 및 유입 개구부의 면적중 유리병위에 작용하는 유동 속도는 비교적 높고, 반면에 이것은 간격재의 영역에서 거의 제로로가라앉을 수 있다. 이것은 고비용의 코팅 물질이 너무 많이 소비되는 문제를 초래한다.

본 발명은 표면 처리 장치에 관한 것으로, 특히 코팅 물질이 함유된 이송 가스(carrier gas)에 의해 중공 유리체(glass bodies)의 최종 가열 코팅을 위한 장치에 관한 것이다. 상기 장치는 터널형 증발 후드를 구비하되, 이 증발 후드는, 증발 후드의 플로어 영역을 따라 연장되고 중공 유리체를 이송하는 콘베이어 벨트 및 상기 중공 유리체 주위로 흐르면서 상기 중공 유리체의 표면에 금속 산화물 층을 형성하는 이송 가스의 방출 및 흡입을 위한 대형 측면부를 구비하고 있다.

도 1은 본 발명에 따른 장치의 평면도이다.

도 2는 도1에 나타난 장치의 측면도이다.

도 1과 2는, 도면에 표시되는 유리병(1)을 위한 최종 가열 코팅 공정을 위하여 사용되는 장치를 나타낸다. 이 장치는 터널형 증발 후드(2) 및 컨베이어벨트(3)로 이루어진다. 상기 유리병(1)은 컨베이어 벨트(3)에 의하여 증발 후드(2)를 통해 전달된다. 상기 후드(2)의 측면부는 코팅 물질이 함유된 이송 가스를 방출 또는 흡인하는 구멍(5a, 5b)을 형성하는 다수의 관형체(4)로 형성되고, 증발 후드(2)의 구조에 따라 배출구멍(5a) 또는 유입구멍(5b)을 형성한다.

이 실시예에서, 상기 관형체(4)는 원형의 단면부이고, 터널형 증발 체임버(6)의 전체 높이까지 이어진다. 그들의 상부 및 하부 단부에서, 상기 관형체(4)는 터널형 증발 체임버(6)의 위와 아래에서 비교적 편평한 채널(7)로 되어 있다. 팬(8)은 하부 채널(7)에 연결되어 있는데, 이에 의해 실내 공기가 하부의 채널(7), 관형체(4) 및 상부의 채널(7)을 통해 아래로부터 상부 출구 구멍(7a)으로 흡인 및 배출될 수 있게 되어 있다. 공기의 이러한 흐름은 관형체(4)를 통해 흐르고, 또한 냉각제의 흐름이라 할 수 있는 것으로 코팅 물질이 함유되고 관형체(4) 사이에서 배출구멍 및 유입구멍(5a, 5b)을 통해 흐르는 이송 가스를 냉각한다. 이 이송 가스는 예를 들면 도면에 도시된 팬(9)에 의해 압력 체임버(10)내로 전달되고, 이어서 배출 구멍(5a)을 통해 터널형 증발 챔버(6)로 흐른다. 또한 이 이송 가스는 압력 체임버(10) 및 유입 체임버(11)에 인접해 있는 채널(7)을 흐르는 공기 흐름에 의해 냉각된다. 이어서 양쪽에 형성된 배출 구멍(5a)을 통해 나온 상기 이송 가스는 관형체(4) 사이에 유입 체임버(11)의 영역에 형성된 유입 구멍(5b)을 통해 흡입되고, 이 이송 가스는 이어서 다시 팬(9)을 통해 터널형 증발 체임버(6)를 다시 한번 작용하도록 압력 체임버(10)내로 다시 한번 통과된다.

이 실시예에서 압력 체임버(10) 및 상기 유입 체임버(11)에 있는 두 팬(9)은 다수의 배출 및 유입 구멍(5a, 5b)이 서로 반대쪽으로 형성되도록 어긋지게 배열된다.

상기한 실시예의 변형으로, 관형체(4)를 도시한 것과 다른 단면부를 갖도록 할 수 있다. 예를 들면, 그들을 타원형, 모난형, 또는 직사각형 단면이 되도록 하는 것이 가능하다. 그러나, 관형체(4)의 단면을 관형 스톡으로부터 절단되어 형성되도록 하는 것이 유리하다. 만일 이송 가스가 관형체(4)를 통해 통과하는 냉각제의 흐름에 의해 충분하게 냉각될 수 없는 경우, 한 열의 관형체(4)가 다른 열의 관형체(4)에 대해 어긋지게 배치되어야 하더라도 한 열에 배열된 관형체(4) 뒤에 관형체(4)를 하나 이상으로 추가적인 열을 배열하는 것이 가능하다. 추가로, 이것은 다수의 흡입 및 압력 체임버(10, 11)와 증발 후드(2)의 각 측면에 팬(9)에 연결되지 않은 체임버를 배열하는 것도 가능하다. 각 흡입 및 압력 체임버(10,11)는 이어서 비압축된 체임버에 마주보고 배치된다. 그러나 이런 구조에서 양성의 순환(positive circulation)은 없다.

상기의 관점에서, 본 발명의 목적은, 상기 채널의 제조에 관련되는 비용이 삭감되고, 이송가스에 포함된 코팅물질에 접촉하게 되는 유입 및 방출부의 금속부분의 과도한 가열을 피하며, 코팅 물질의 오버히팅과 이와 관련된 코팅 물질의 부착을 막을 수 있는 위에서 언급된 표면처리 장치를 제공하는 것이다. 또 적층물의 형성이 방지되고 동시에 이송가스의 속도분포를 현저하게 개선하는 것이 요구된다.

본 발명에 따르면, 이 문제를 해결하기 위하여, 여기에 소개된 타입의 장치에서 대형 측면부는 관형체에 의해 다수의 구멍으로 분할되는 것이 제안된다.

상기 장치가 이러한 방식으로 구성되는 경우, 관형체는 이송 가스의 흐름을 방해하고, 이것은 전체 방출부 영역을 통해 이송가스의 더욱 고른 분포를 유도한다. 또 단일화된 속도 프로파일이 관형체의 바로 뒤에 형성된다. 이런 이유로, 상기 중공 유리체는 순환 흐름의 부피가 비교적 클지라도, 더 이상 컨베이어 벨트를 이탈하지 않는다. 과열의 위험과 그에 관련되어 이송가스에 있는 코팅 물질의 부착은 모두 피할 수 있게 되고, 코팅 물질에 접촉되는 금속부분에 형성되는 적층은 더 이상 생기지 않는다. 상기 장치의 효율성은 보다 나은 사용편의성과 코팅 물질의 사용량 감소로 더욱 증가된다. 또 길다랗고 제한된 채널이 없기 때문에 관련된 제조비용을 줄일 수 있게 된다.

본 발명에 따른 추가의 특징은 청구항 2 내지 11항에 기재되어 있다.

본 발명은 첨부된 도면의 매우 간단한 형태로 나타나는 실시예를 기초로 더욱 상세히 설명된다. 이들 도면은 다음을 나타낸다.

Claims (11)

1. 터널형 증발 후드를 구비하되, 이 증발 후드는, 증발 후드의 플로어 영역을 따라 연장되고 중공 유리체를 이송하는 콘베이어 벨트 및 상기 중공 유리체 주위로 흐르면서 상기 중공 유리체의 표면에 금속 산화물 층을 형성하는 이송 가스의 방출 및 흡입을 위한 대형 측면부를 구비하도록 되어 있는 코팅 물질이 함유된 이송 가스에 의해 중공 유리체의 최종 가열 코팅을 위한 표면처리 장치에 있어서, 상기 대형 측면부는 간격재인 관형체(4)에 의해 복수의 구멍(5a, 5b)으로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 중공 유리체의 최종 가열 코팅을 위한 표면처리 장치.
2. 제 1항에 있어서, 상기 관형체(4)는 둥근형, 타원형 또는 각진 단면 형태 중의 하나 이상의 단면형태를 가진 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 관형체(4)가 냉각제 라인에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
4. 제 3항에 있어서, 상기 냉각제 라인의 적어도 일부분은 채널(7)로 형성되고, 이 채널은 터널형 증발 후드(2)의 위와 아래의 한 쪽이나 양쪽에 형성되는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
5. 제 3항에 있어서, 상기 냉각제 라인 및 관형체(4)에는 가스 또는 액체의 형태로 냉각제 스트림이 작용하는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
6. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 하나 이상의 방출 또는 유입 개구부(5a,5b)그룹이나 그 양쪽 그룹이 터널형 증발 후드(2)의 하나 이상의 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
7. 제 6항에 있어서, 상기 방출 개구부(5a)의 한 그룹이 방출 개구부(5a)의 한 그룹의 반대쪽에 배열되고, 유입 개구부(5b)의 한 그룹이 유입 개구부(5b)의 한 그룹의 반대쪽에 배열되는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
8. 제 6항에 있어서, 방출 개구부(5a)의 한 그룹이 유입 개구부(5b)의 한 그룹의 반대쪽에 배열되는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
9. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 하나 이상의 간격재(4) 열이 첫 번째 간격재(4) 열의 뒤에 추가로 배열되는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
10. 제 9항에 있어서, 상기 한 열의 간격재(4)는 다른 열의 간격재(4)에 대해 어긋지게 배열되는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.
11. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 이송 가스의 순환하는 체적흐름은 하나 이상의 팬(9)의 속도를 변경함으로써 각 중공 유리체의 요구량에 일치시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 표면처리 장치.

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