KR100347296B1 - 알코올의 제거에 의해 가교시켜 엘라스토머를 얻을수 있는오르가노폴리실록산 조성물 - Google Patents
알코올의 제거에 의해 가교시켜 엘라스토머를 얻을수 있는오르가노폴리실록산 조성물 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 알콕시 말단 오르가노폴리실록산의 제조방법에 관한 것이다.
(A)HO-말단 오르가노폴리실록산과 (B)최소한 3개의 알콕시기를 가진 알콕시실란 및/또는 그 부분가수분해물을(C)일반식 (I)의 산인산 에스테르의 존재하에 반응시킴을 특징으로 한다.
(HO)aOP(-O-)[(CR1 2)b-O]c(CR2 2)d-L-M)(3-a)(I)
위식에서 a, R1및 R2, b 및 d , c , e, L, M 은 청구범위에서의 정의와 같다.
Description
저장할 수 있고 동시에 습기를 제거할 수 있고, 실온에서 습기에 접촉시킬때 알코올의 제거로 가교할 수 있는 오르가노폴리실록산은 알콕시 RTVI조성물로서 공지되었으며 장기간 동안 사용으로 공지되었다.
이들의 조성물은 주로 오르가닐옥시말단 오르가노폴리실록산과 다른 성분으로 최소한 3개의 가수분해할 수 있는 기를 가진 가교제, 촉매 및 선택적으로 첨가제로 구성되어 있다.
이들의 알콕시 RTVI계는 가교반응을 할때 제거생성물로 방출되는 알코올이무취이며, 중성이고 환경에 무해한 잇점이 있다.
알콕시 말단 오르가노폴리실록산은 HO-말단오르가노실록산과 알콕시실란의 반응에 의해 제조된다.
이것은 예로서 특허문헌 US-A-4,942,211에 기재되어 있다.
이 처리방법은 실온에서 수시간동안 반응이 필요한 결점이 있다.
고온에서 그 반응시간을 단축시켜도, 여기서 생성된 알콕시 말단 오르가노폴리실록산을 다른성분과 함께 사용하여 알콕시 RTVI조성물을 제조하기전에 상당 기간동안 대기시간이 너무 길다.
HO-말단 오르가노폴리실록산과 알콕시실란의 반응을 여러가지의 촉매에 의해 촉진시킬수 있다는 것은 공지되었다.
예로서, 특허문헌 EP-A-763 557 에서는 산디알킬 인산에스테르의 존재하에서 반응을 실시하였다.
그 디알킬 포스페이트는 이들의 반응후 염기에 의해 실활(deactivation)시킬 필요가 있다.
그 이유는 알콕시말단 오르가노폴리실록산이 해중합되어 이들의 가교능력이 상실되기 때문이다.
본 발명은 알콕시 말단 오르가노폴리실록산의 제조방법 및 알콕시 RTVI조성물의 성분으로 이 오르가노폴리실록산의 사용에 관한 것이다.
본 발명에서 용어 오르가노폴리실록산은 디머(dimer), 올리고머 및 폴리머 실록산을 포함한다.
본 발명의 목적은 알콕시 RTVI조성물의 알콕시말단 오르가노폴리실록산을 가장 간단한 제조방법으로 제공하는데 있다.
본 발명은 (A) OH말단 오르가노폴리실록산을 다음일반식(I)의 (C)산 인산에스테르의 존재하에서 다음일반식(III)의 (B)알콕시실란 및/또는 그 부분가수분해물과 반응시켜 알콕시 말단 오르가노폴리실록산을 제조하는 방법을 제공한다.
R5 μSi(OR6)4-u(III)
(HO)aOP(-O-)[(CR1 2)b-O]c(CR2 2)d-L-M)(3-a)(I)
위식에서,
R5및 R6은 1가의 비치환 또는 플루오린-, 클로린-, 브로민-, C1-C4-알콕시알킬-또는 시아노-치환 C1~C13-탄화수소래디컬이며,
μ는 0 또는 1이며,
a 는 1 또는 2이고,
R1및 R2는 수소래디컬, 메틸래디컬 또는 히드록실래디컬이고, b 및 d 는 2 또는 3이며,
c는 2-15의 정수이고,
e 는 0 또는 1이며,
L은 -O- , -COO-, -OOC0, -CONR3-, -NR4CO- 및 -CO- 로 이루어진 그룹에서 선택한 하나의 래디컬이고, R3및 R4는 수소래디컬 또는 C1-C10-알킬래디컬이며, M은 1가의 비치환 또는 히드록실-, 플루오린-, 클로린-, 브로민-, C1-C10-알콕시알킬- 또는 시아노-치환 C1-C20-탄화수소래디컬이다.
단, 탄소원자에 단 하나의 래디컬 R1및 R2가 히드록실래디컬임.
이 제조방법은 가장 높은 반응속도로 실온과 같이 낮은 온도에서 선택적으로 실시한다.
따라서, 성분(A),(B)및 (C)를 혼합직후에 생성된 알콕시말단 오르가노폴리실록산을 선택적으로 다른 성분을 혼가한후에 알콕시 RTVI조성물로 사용할 수 있다.
이 반응의 완성여부를 첵크할 필요가 없다.
이 제조방법은 부반응이 발생하지 않는 또 다른 잇점이 있다.
예로서 선상 오르가노폴리실록산에서 T단위 또는 Q단위의 형성이 관찰되지 않는 잇점이 있다.
산인산에스테르(C)는 그 반응직후 실활시킬 필요가 없다.
위 일반식에서, c는 2-10의 정수가 바람직하며, 특히 2,3,4 또는 5가 바람직하다.
L은 -O- 래디컬이 바람직하다.
M은 비치환 또는 C1-C10-알콕시알킬-치환 C1-C20-탄화수소래디컬이 바람직하며, 특히 비치환 C5-C18-탄화수소래디컬이 바람직하다.
R1및 R2는 수소래디컬이 바람직하다.
b 및 d 는 2가 바람직하다.
그 사용한 HO-말단 오르가노폴리실록산(A)는 다음 일반식(II)의 선상 α,ω-디히드록시폴리(디오르가노실록산)이 바람직하다.
HO-[R2SiO]m-H (II)
위식에서,
R 은 1가의 비치환 또는 플루오린-, 클로린-, 브로모-C1-C4- 알콕시알킬-또는 시아노-치환 C1-C8-탄화수소래디컬이며, m 은 HO-말단 오르가노폴리실록산(A)의 점도 0.05~1000Pa.s 에 대응하는 값을 가진다.
탄화수소래디컬 R의 예로는 메틸래디컬, 페닐래디컬등 아릴래디컬, 톨릴래디컬등 알카릴래디컬 및 벤질래디컬등 아랄킬래디컬 등 선상 및환식의 포화 및 불포화 알킬래디컬이 있다.
바람직한 래디컬 R에는 탄소원자 1-6개를 가진 비치환 탄화수소래디컬이 있으며, 특히 메틸래디컬이 바람직하다.
그 오르가노폴리실록산(A)은 점도 100~700,000 mPas 가 바람직하며, 특히 점도 20,000~350,000mPas 가 바람직하다(각각의 경우 23℃ 에서 측정함).
알콕시실란(B)의 부분가수분해물은 특히 2~4개의 알콕시실란으로부터 가수분해 및 축합시켜 제조하였다.
그 부분가수분해물(B)의 예로는 헥사메톡시 디실록산 및 헥사-에톡시디실록산이 있다.
R5및 R6각각은 비치환 C1-C6-탄화수소래디컬이 바람직하며, 특히 메틸, 에틸 또는 프로필래디컬이 바람직하다.
일반식(I)의 산인산 에스테르(C)는 알콕시-말단 오르가노폴리실록산 에서 제조한 알콕시 RTVI조성물의 저장 안정화제이다.
특히, 그 알콕시 RTVI조성물의 스킨형성시간(skin formation times)은 사실상 일정하며 안정성이 있고, 탈색이 억제된다.
일반식(I)~(III)에서, 모든 래디컬 R및 R1~R8과, 모든 계수 a,b,c,d,e ,m 및 μ는 서로 각각 같거나 다르다.
모든 일반식에서 실리콘원자는 4가이다.
예로서, n+o는 4이하이다.
산인산 에스테르(C)의 양은 HO-말단 오르가폴리실록산(A)500중량부를 기준으로 하여 0.1~50중량부, 특히 2-20중량부이다.
알콕시실란(B)은 화학양론적인 비로 HO-말단 오르가노폴리실록산(A)에 과잉으로 첨가하는 것이 바람직하다.
그 HO- 말단 오르가노폴리시록산(A)과 알콕시실란(B)의 반응을 완성하기 위하여, HO-말단 오르가노폴리실록산(A)500중량부당 알콕시실란(B) 10-60중량부, 특히 20-50중량부를 사용하는 것이 바람직하다.
그 반응중에 소비하지 않은 과잉의 알콕시실란(B)은 오르가닐옥시-말단 오르가노폴리실록산 및 알콕시 RTVI 조성물중에서 효과적이다.
따라서, 그 반응생성물중에 잔류되어 있다.
과잉의 알콕시실란(B)은 알콕시 RTVI조성물중에서 가교성분으로 작용한다.
그 반응은 온도 +20~+500C , 특히 실온에서 실시하는 것이 바람직하다.
그 사용할 알콕시실란(B)에 따라 반응시간은 1~10분이다.
그 반응속도는 일차적으로 사용한 알콕시실란(B)의 반응성에 그리고 이차적으로 산인산에스테르(C)에 따라 좌우된다.
실온에서, 그 반응의 특히 바람직한 시간은 2~5분이며, 이것은 원폿프로세스(one-pot process)에 의해 RTVI조성물의 제조에 특히 효과적이다.
본 발명은 또 위 제조방법에 의해 제조한 반응생성물로 이루어진 알콕시 RTVI조성물에 관한 것으로, 실질적인 성분은 알콕시 말단 오르가노폴리실록산이다.
위 성분이외에, 알콕시 RTVI조성물은 그 자체 공지된 다른 성분으로 구성할 수 있다.
그 알콕시 RTVI조성물을 제조할때 첨가가 바람직한 다른 물질에 알콕시래디컬이 OR6인 비스(트리알콕시실릴)-C1-C12, 예로서 비스(트리에톡시실릴)에탄이 있다.
그 알콕시 RTVI조성물의 제조에 있어서,
축합촉매,보강필러,비보강필러,안료,가용성 염료,향료,가소제,인산에스테르 또는 실온에서 액상이며, 트리메틸실옥시기에서 말단을 캡핑(end-capping)한 디메틸폴리실록산, 살균제,(CH3)3SiO1/2단위 및 SiO4/2단위로 이루어진 오르가노폴리실록산을 포함하는 수지상 오르가노폴리실록산, 아크릴로니트릴, 스티렌,비닐클로라이드 또는 프로필렌의 호모 또는 코폴리머 등 순수유기수지(여기서 이와같은 타입의 순수유기수지, 특히 스티렌과 n-부틸 아크릴레이트의 코폴리머는 각각의 말단 단위에서 Si-결합 히드록시기를 가진 디오르가노폴리실록산의 존재하에서 위에서 설명한 모노머의 프리래디컬 중합에 의해 제조할 수 있음), 부식억제제, 에스테르화 및/또는 에테르화 할 수 있는 폴리글리콜, 산화지연제, 열안정제,용제,도전성 카본블랙등 전기특성에 영향을 주는 영향제, 난연제, 광안정제 및 스킨형성시간연장제(SiC-결합메르캅토알킬 래디컬을 가진 실란등)및 아조디카르본아미드의 발포제를 사용할 수 있다.
추가할 수 있는 다른 물질은 접착촉진제, 바람직하게는 감마-아미노프로필트리에톡시실란등 아미노알킬 작용실란이 있다.
축합촉매를 사용하는 것이 바람직하다.
그 알콕시 RTVI조성물은 본 발명에 의해, 저장할 수 있고 수분을 제거시키며 실온에서 수분에 접촉시킬때 가교하여 엘라스토머를 얻을수 있는 조성물에서, 종래에 존재한 촉매중에 어떤 바람직한 축합촉매라도 구성할 수 있다.
이와같은 타입의 축합촉매의 예로는 틴,아연,지르코늄,티탄 또는 알루미늄의 유기화합물이 있다.
이들의 축합촉매중에서 디-n-부틸틴 디아세테이트 및 디-n-부틸틴디라우레이트등 부틸티타네이트 및 유기틴화화합물이 바람직하며, 또 디오르가노틴 디아실레이트와 실란(실란의 각 분자는 가수분해할 수 있는 기로서 산소를 통하여 실리콘에 결합되거나, 바람직하게는 알콕시 치환을 가진 최소한 2개의 1가 탄화수소래디컬을 가짐)또는 그 실란의 올리고머의 반응생성물이 바람직하다.
여기서, 이 반응생성물중 틴원자는 그 기 ≡SiOSn≡중에서 산소원자 및/또는 SiC-결합되고 1가의 유기래디컬에 의해 충족한 모든 원자가를 가진다.
그 알콕시 RTVI조성물은 필러를 구성하는 것이 바람직하다.
필러의 예로는 비보강필러 즉, 석영,규조토,칼슘실리케이트, 지르코늄 실리케이트,제오라이트, 금속산화물분말(알루미늄 산화물, 티탄 산화물, 철산화물 또는 아연산화물 및/또는 그 혼합산화물등), 바륨설페이트, 칼슘카르보네이트, 석고,실리콘니트리드,실리콘카바이드, 보론니트라이드, 분말글라스 및 분말 플라스틱(분말 폴리아크릴로니트릴)등 BET표면적 50m2/g 이상을 가진 필러; 보강필러, 즉 퓸실리카, 침전실리카,카본블랙(퍼니스블랙 또는 아세틸렌 블랙등)및 BET표면적이 높은 실리콘 알루미늄 혼합산화물등 BET표면적 50m2/g 이상을 가진 필러; 및 석면 및 합성 폴리머 파이버등 섬유상 필러가 있다.
위에서 설명한 필러는 예로서 오르가노실란 및/또는 오르가노실록산과의 처리, 또는 스테아린산과의 처리, 또는 히드록시기의 에테르화에 의해 소수성화시켜 알콕시기를 얻을수 있다.
1종의 필러 또는 그밖에 최소한 2종필러의 혼합물을 사용할 수 있다.
보강실리카를 단독필러로 사용할 경우, 투명한 알콕시 RTVI조성물을 제조할 수 있다.
공기중에 존재하는 통상의 수분은 그 알콕시 RTVI조성물을 가교시키는데 충분하다.
필요할 경우, 그 가교는 실온이상 또는 이하의 온도 즉 -5~100C , 또는 30~500C 에서 실시할 수 있다.
따라서, 그 새로운 알콕시 RTVI조성물은 예로서 수직방향의 조인트를 포함한 시일링조인트(sealing joints)용 조성물로서, 또는 빌딩, 지상차량, 선박 또는 항공기에서 틈새너비 10-40mm의 시일링 공간용 조성물로서, 또는 창문구조물 또는 디스플레이캐비넷(display cabinets)제작에서 접착제 또는 퍼티(putty)로서, 또 보호코팅 또는 엘라스토머 몰딩의 제조 또는 전기전자 장치의 절연용 조성물로서 적합성이 우수하다.
아래에 설명하는 실시예에서, %의 모든 데이타는 특별한 설명이 없으면 중량을 기준으로 한다.
또, 모든 점도데이타는 온도 250C 를 기준으로 한다.
특별한 설명이 없으면 아래의 실시에는 대기압, 즉 약 1000hPa 와, 실온, 즉 약 200C에서 (추가가열 또는 냉각없이 실온에서 반응물을 처리할때 얻어지는 온도)실시한다.
실시예 1
각각의 말단단위에 히드록시기를 가지며, 점도 80,000mPa.s (230C)를 가진 디메틸폴리실록산 500g 을, 진공상태에서 조작할 수 있는 평면형 혼합기내에서 말단단위에 트리메틸실록시기를 가지며, 점도 100mm2/s(230C)를 가진 폴리디메틸실록산 350g 및 다음식(OH)1PO[(OCH2CH2)3-4-O-(CH2)11-14-CH3]2와 (OH)2PO[(OCH2CH2)3-4-O-(CH2)11-14-CH3]1의 알콕실화 인산에스테르의 혼합물 10g과 함께 혼합하였다.
그 다음, 메틸트리메톡시실란 25g 을 즉시 조금씩 첨가시킨 다음 5분간 진공상태에서 균질화하였다.
그 다음으로 RTVI 조성물의 통상의 혼합기술을 사용하여 다음물질을 차례로 첨가하였다.
감마-아미노프로필트리에톡시실란 13.5g, BET표면적 150m2/g을 가진 친수성 퓸실리카 80.0g 및 테트라에틸실리케이트 4부와 디-n-부틸틴 디아세테이트 2.2부의 혼합물을 1200C에서 6시간 대기압하에 교반하면서 가열시키고 동시에 생성된 에틸아세테이트를 증발제거시켜 제조한 반응생성물 5.0g.
진공상태에서 균질화한 다음, 그 화합물을 방습팩에 제거하였다.
샘플을 일정한 시간간격에서 취하여 제조하는 엘라스토머에 대하여 스킨형성시간(230C/50%상대습도)을 측정하였다.
그 얻어진 결과를 표1에 나타낸다.
그 엘라스토머의 다음의 기계적 특성을 측정하였다.
쇼어 A : 10,
최대인장강도 : 1.0N/mm2,
파괴시 신도 : 560%,
인열진행내성 : 2.7N/mm,
100%신도에서 응력 : 0.2N/mm2
실시예 2
그 처리공정은 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
실시예 1의 α,ω-디히드록시폴리디메틸실록산 600g 에 다음성분을 차례로 첨가하였다.
-Si(CH3)3말단기를 가진 폴리디메틸실록산 280.0g,
실시예 1의 알콕실화 인산에스테르 10.0g,
비닐트리메톡시실란 25.0g,
감마-아미노플로필트리에톡시실란 15.0g,
BET표면적 150m2/g 을 가진 친수성 퓸실리카 70.0g,
실시예 1의 테트라에틸실리케이트와 디-n-부틸틴 디아세테이트에서의 반응생성물 5.0g.
제조한 엘라스토머의 스킨생성시간을 표1에 나타낸다.
실시예 3
그 처리공정은 실시예1에서와 동일하게 실시하였다.
다음성분을 α,ω-디히드록시폴리디메틸실록산 500g 과 함께 차례로 혼가하였다.
-Si(CH3)3말단기를 가진 폴리디메틸실록산 380.0g,
실시예 1의 알콕실화 인산에스테르 10.0g,
메틸트리메톡시실란 25.0g,
3-(2-아미노에틸아미노)프로필 트리메톡시실란 10.0g,
BET표면적 150m2/g 을 가진 친수성 퓸실리카 70.0g,
실시예 1에서 테트라에틸실리케이트와 디-n-부틸틴 디아세테이트의 반응생성물 4.0g
제조한 엘라스토머의 스킨생성시간을 표1에 나타낸다.
실시예 4
처리공정은 실시예 1에서와 동일하게 실시하였다.
실시예 1의 α,ω-디히드록시폴리디메틸실록산 500.0g
-Si(CH3)3말단기를 가진 폴리디메틸실록산 380.0g,
실시예 1의 알콕실화 인산에스테르 10.0g,
메틸트리메톡시실란 25.0g,
감마-아미노프로필트리에톡시실란 8.0g,
BET표면적 150m2/g 을 가진 친수성 퓸실리카 70.0g 및 실시예 1의 테트라에틸실리케이트와 디-n-부틸틴 디아세테이트의 반응생성물 4.0g을 혼합하였다.
생성한 엘라스토머의 스킨생성시간은 표1에 나타낸다.
실시예 5
처리공정은 실시예 1에서와 동일하게 실시하였다.
다음물질을 혼합하였다.
실시예 1의 α,ω-디히드록시폴리디메틸실록산 500.0g,
-Si(CH3)3말단기를 가진 폴리디메틸실록산 380.0g,
실시예 1의 알콕실화 인산에스테르 10.0g,
비닐트리메톡시실란 25.0g,
아미노작용실록산 : 아미노 프로필 트리에톡시실란 및 아민가 2,2를 가진 메틸트리에톡시실란의 축합물/가수분해물에서 제조한 평형생성물 25.0g,
BET표면적 150m2/g 을 가진 친수성 퓸실리카 70.0g 및 실시예 1에서 테트라에틸실리케이트와 디-n-부틸틴 디아세테이트의 반응생성물 5.0g
생성한 엘라스토머의 스킨생성시간을 표1에 나타낸다.
습기제거 및 저장시간 | 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | |||||
실온 | 500C | 실온 | 500C | 실온 | 500C | 실온 | 500C | 실온 | 500C | |
7일 | 17분 | 20분 | 15분 | 20분 | 10분 | 10분 | 40분 | 42분 | 15분 | 25분 |
14일 | 18분 | 20분 | 17분 | 25분 | 10분 | 12분 | 38분 | 45분 | 16분 | 35분 |
21일 | 20분 | 25분 | 18분 | 30분 | 14분 | 17분 | 35분 | 50분 | 15분 | 30분 |
실시예 6
각 말단단위에서 히드록시기를 가지며 점도 80,000mPa.s(230C)를 가진 폴리디메틸실록산 600g, 말단단위로서 트리메틸실록시기를 가지며 점도 100mm2/s(230C)를 가진 폴리디메틸실록산 300g 과 또 실시예 1의 알콕실화 인산에스테르 10g을 진공상태하에서 작동할 수 있는 평면형 혼합장치내에서 균질혼합하였다.
그 다음, 메틸트리메톡시실란 35g을 즉시 첨가한 다음 5분간 더 균질화하였다.
그 다음으로 다음 성분을 계속하여 단계별로 이 예비 혼합물에 첨가하였으며, 그 혼합기술은 RTVI조성물에서 통상적인 혼합기술로 하였다.
감마-아미노프로필 트리에톡시실란 15.0g,
BET표면적 150m2/g 을 가진 친수성 퓸실리카 70.0g 및
실시예 1의 테트라에틸실리케이트와 디-n-부틸틴 디아세테이트의 반응생성물 5.0g
감압하에 균질화시킨다음, 그 화합물을 방습팩에서 제거하였다.
실온에서 1일간 저장후 스킨생성시간은 10분(230C/50%상대습도)으로 측정되었다.
500C에서 7일간 더 저장한후에는 스킨생성시간은 15분이었다.
실시예 7
실시예 6의 처리공정을 반복하였다.
그러나, 동일조성의 예비혼합물에 순서를 바꿔 다른 성분을 첨가하였다.
BET표면적 150m2/g을 가진 친수성 퓸실리카 70.0g,
감마-아미노프로필 트리에톡시실란 15.0g.
실시예 1의 테트라에틸실리케이트와 디-n-부틸틴 디아세테이트의 반응생성물 5.0g
감압하여 균질화시킨 후, 그 화합물을 방습팩에서 제거하였다.
실온에서 1일간 저장한후, 스킨생성시간은 12분(230C/50% 상대습도)으로 측정되었다.
500C에서 7일간 더 저장한후 스킨생성시간은 15분이었다.
실시예 8
실시예 6의 공정을 반복하였다.
동일조성의 예비혼합물에 다음과 같은 성분을 첨가하였다.
BET비표면적 150m2/g 을 가진 친수성 퓸실리카 70.0g 및 실시예 1의 테트라에틸 실리케이트와 디-n-부틸틴 디아세테이트에서의 반응생성물 5.0g,
감압하에서 균질화한후 그 화합물은 수분을 제거시키면서 3시간동안 방치하였다.
그리고 감마-아미노 프로필트리에톡실실란 15g 을 혼합하였다.
감압하에서 더 균질화시킨후, 그 화합물을 방습팩에서 제거하였다.
실온에서 1일간 저장한후 스킨생성시간은 12분(230C/50%상대습도)으로 측정되었다.
500C에서 7일간 더 저장한후에는 스킨생성시간이 15분이었다.
실시예 6~8에서는 커플링제(coupling agent)로서 그 감마-아미노프로필 트리에톡시실란의 첨가순서는 그 스킨생성시간에 중요한 효과가 없음을 알수 있다.
따라서, 알콕실화 인산에스테르의 염기성 커플링제에 의해 즉시 중화시킬 피요가 없다.
실시예 9
말단 히드록시기를 가지며 점도 80,000mPas.(230C)를 가진 폴리디메틸실록산 550g, 말단 트리메틸실록시기를 가진 폴리디메틸실록산 325g, 메틸트리메톡시실란 50g 및 실시예 1의 알콕실화 인산에스테르 10g을 진공하에 작용시킬수 있는 평면형 혼합장치에서 균질 혼합시키면서 물을 제거하였다.
약 10분후 다음성분을 첨가시키고 균질혼합시켜 전체 조성물로 하였다.
감마-아미노 프로필 트리에톡시실란 15.0g,
BET 표면적 150m2/g 을 가진 친수성 퓸실리카 73.0g,
실시예 1의 테트라에틸실리케이트와 디-n-부틸틴 디아세테이트에서의 반응생성물 5.0g 및 스테아린산과 처리한 분쇄쵸크(ground chalk)200.0g,
실온에서 1일간 저장후에는 스킨생성시간이 15분으로 측정되었다.
500C에서 7일간 더 저장한후에는 스킨생성시간이 20분으로 측정되었다.
실시예 10
실시예 9와 동일하게 처리하였으나, 분쇄한 스테아린산 처리쵸크를 동일량의 미처리분쇄쵸크로 대치시켜 실시하였다.
실온에서 1일간 저장한후에는 스킨생성시간이 20분으로 측정되었으며, 500C에서 7일간 더 저장한후에는 그 스킨생성시간이 25분으로 측정되었다.
실시예 11
실시예 9와 같이 처리하였으나, BET표면적 150m2/g 을 가진 친수성 퓸실리카 73g 대신 50g만을 사용하고, 스테아린산으로 처리한 분쇄쵸크(ground chalk)200g을 스테아린산으로 처리하고 표면적 19m2/g을 가진 동일량의 침전실리카로 대치시켜 시시하였다.
실온에서 1일간 저장한후에는 스킨생성시간이 15분으로 측정되었으며, 500C에서 7일간 저장한후에는 스킨생성시간이 25분으로 측정되었다.
실시예 12
그 처리공정을 실시예 1에서와 같이 실시하였다.
다음성분을 차례로 혼합하였다.
실시예 1의 α,ω-디히드록시폴리디메틸실록산 95.3g,
실시예 1의 알콕실화 인산에스테르 1.2g 및
메틸트리메톡시실란 3.5g
그 혼합물의 점도를 아래와 같이 측정하였다.
1시간후 64,000mPa.s
2시간후 62,400mPa.s,
3시간후 60,800mPa.s
실시예 13(대비실시예)
실시예 1에서와 같이 처리공정을 실시하였다.
아래의 성분을 차례로 혼합하였다.
실시예 1의 α,ω-디히드록시폴리디메틸실록산 95.3g
디-2-에틸헥실 포스페이트(특허문헌 EP-A-763 557)1.2g 및 메틸트리메톡시실란 3.5g
그 혼합물의 점도를 아래와 같이 측정하였다.
1시간후 32,000mPa.s
2시간후 12,400mPa.s,
3시간후 2000mPa.s
디-2-에틸헥실 포스페이트는 알콕시 말단 오르가노폴리실록산을 해중합하였다.
본 발명에 의한 알콕시 RTVI조성물은 시일링조인트(sealing joints)용 조성물; 빌딩, 지상차량, 선박 또는 항공기에서 틈새너미(10-40mm)의 시일링 공간용 조성물, 창문구조물 또는 디스플레이 캐비넷(aisplay cabinet)제조에서 접착제 또는 퍼티, 보호코팅 또는 엘라스토머 몰딩의 제조 또는 전기전자장치의 절연용 조성물로서 그 사용에 적합성이 우수하다.
Claims (3)
- 알콕시 말단 오르가노폴리실록산의 제조방법에 있어서,(A) HO-말단 오르가노폴리실록산과 다음일반식(III)의 (B)알콕시 실란 및/또는 그 부분가수분해물을 다음일반식(I)의 (C)산 인산에스테르의 존재하에서 반응시킴을 특징으로 하는 제조방법.R5 μSi(OR6)4-u(III)(HO)aOP(-O-)[(CR1 2)b-O]c(CR2 2)d-L-M)(3-a)(I)위식에서,R5및 R6은 1가의 비치환 또는 플루오린-, 클로린-, 브로민-, C1-C4-알콕시알킬-또는 시아노-치환 C1~C13-탄화수소래디컬이며,μ는 0 또는 1이고,a 는 1 또는 2이며,R1및 R2는 수소래디컬, 메틸래디컬 또는 히드록실래디컬이고, b 및 d 는 2 또는 3이고,c는 2-15의 정수이며,e 는 0 또는 1이고,L은 -O- , -COO-, -OOC0, -CONR3-, -NR4CO- 및 -CO- 로 이루어진 그룹에서 선택한 하나의 래디컬이고, R3및 R4는 수소래디컬 또는 C1-C10-알킬래디컬이고, M은 1가의 비치환 또는 히드록실-, 플루오린-, 클로린-, 브로민-, C1-C10-알콕시알킬- 또는 시아노-치환 C1-C20-탄화수소래디컬이다.단, 탄소원자에 단 하나의 래디컬 R1및 R2는 히드록실 래디컬임.
- 제 1항에 있어서,HO-말단 오르가노폴리실록산 (A)은 다음일반식(II)의 선상 α,ω-디히드록시 폴리(디오르가노)실록산으로 이루어짐을 특징으로 하는 제조방법.HO-[R2SiO]m -H (II)위식에서,R은 1가의 비치환 또는 플루오린-, 클로린-, 브로모-C1-C4-알콕시알킬-, 또는 시아노-치환 C1-C8-탄화수소래디컬이며,m은 OH-말단 오르가노폴리실록산(A)의 점도 0.05~1000Pa.s 에 대응되는 값이다.
- 알콕시 말단 오르가노폴리실록산이 하나의 성분으로 제 1항의 반응생성물로 이루어진 알콕시 RTVI 조성물.
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