KR100317326B1 - 웨이퍼 배면 세척장치의 웨이퍼 끼임 해제구조 - Google Patents

Abstract

본 발명은 웨이퍼 배면 세정장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼 배면 세정용 메카척이 정지하여 웨이퍼의 세정작업이 완료 된 후 웨이퍼의 언로딩이 이루어지기전에 상기 웨이퍼가 각 고정핀에 끼이더라도 원활한 끼임 해소가 이루어질 수 있도록 한 것이다.

이를 위해, 전체적으로 원형을 이룸과 함께 그 일단부가 절개된 플랫변을 가지는 웨이퍼와, 상기 웨이퍼의 둘레변을 지지하기 위해 다수의 고정핀이 돌출 설치됨과 함께 회전가능하게 이루어진 메카척을 구비한 웨이퍼 배면 세척장치에 있어서, 상기 메카척의 외측에 설치되어 노즐에 의해 공기를 공급받는 실린더와; 상기 실린더에 내장되어 실린더에 공급된 공기압에 의해 실린더의 길이방향을 따라 이동되는 피스톤과; 상기 피스톤에서 실린더의 길이방향으로 연장된 연장부재와; 상기 메카척의 외주부에 설치됨과 동시에 웨이퍼의 플랫변에 대응되도록 설치되는 회동핀에 고정되어 상기 연장부재의 이동력을 전달받아 회동핀을 회동시키는 톱니바퀴로 이루어진 회동핀 회동수단을 포함하여 상기 회동핀이 회동됨에 의해 웨이퍼의 플랫변을 접촉하면서 웨이퍼의 끼임을 해제하도록 하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 배면 세척장치의 웨이퍼 끼임 해제구조를 제공한다.

Description

웨이퍼 배면 세척장치의 웨이퍼 끼임 해제구조{structure for relaxing wafer caught in wafer-rear cleaning device}

본 발명은 웨이퍼 세정 장치에 관한 것으로써, 더욱 상세하게는 상기 웨이퍼의 세정을 위한 양면 스핀 스크러버 방식의 세정 공정을 수행함에 있어서 웨이퍼의 파손을 방지할 수 있도록 한 웨이퍼 세정 장치의 웨이퍼 끼임 해제구조에 관한 것이다.

일반적으로 웨이퍼는 반도체칩의 고밀도 고집적화 되어 있는 것으로서, 현재 상기 웨이퍼의 크기가 점차 대구경화됨에 따라 점차적으로 웨이퍼상에 존재하는 미립자나 금속불순물로 대표되는 미소오염이 제품의 수율과 신뢰성에 큰 영향을 미치게 되었다.

이에 따라 점차적으로 웨이퍼의 세정에 대한 중요성이 부각되었다.

통상적으로 반도체 제조 공정에서는, 웨이퍼 상의 미립자를 비롯한 금속 불순물, 유기 오염물, 표면 피막 등의 다양한 대상물을 제거하기 위하여 습식 세정 공정을 수행한 후 웨이퍼를 건조시키게 된다.

이와 같은 종래의 세정방법은 크게 화학제(chemical)를 사용하는 화학적 세정 방법과 물리적인 힘을 사용하는 스핀 스크러버 방법으로 분류할 수 있다.

이 중에서, 스핀 스크러버 세정 장치는 통상적으로 웨이퍼의 전면(front side), 즉 패턴들이 형성되어 있는 전면을 세정하기 위하여 개발되었으나, 반도체장치가 고집적화됨에 따라 웨이퍼의 배면(back side)에 흡착하는 미립자를 제거할 필요가 증대되고 있다.

이에 따라, 웨이퍼의 전면을 세정한 후 연속적으로 웨이퍼의 배면을 세정하는 양면 스핀 스크러버 장치가 개발되어 현재 웨이퍼의 세정에 적용되고 있다.

이 때, 상기 양면 스핀 스크러버 장치중 웨이퍼의 전면을 세정하는 전면 세정용 스핀 스크러버에는 진공 척(vacume chuck)이 사용된다.

따라서, 웨이퍼의 전면부를 세정할 때에는 진공 척으로 웨이퍼를 흡착·고정한 후 대략 1800rpm으로 세정 공정을 진행한 후 4500rpm의 고속 회전으로 건조 공정을 진행하게 된다.

일반적으로 전술한 바와 같은 각 공정의 수행을 위한 척의 고속회전에 따라 상기 척에 흡착·고정된 웨이퍼는 그 관성에 의해 외부로 이탈 되려고하나 그 고정 방식이 진공력에 의한 흡착으로써 고정되어 있음에 따라 외부로의 이탈이 방지될 수 있고 또한, 원활한 세정공정이 진행될 수 있다.

한편, 양면 스핀 스크러버 장치중 웨이퍼의 배면을 세정하는 배면 세정용 스핀 스크러버에는 메카척(mechanical chuck)이 사용되고 있는데, 이와 같은 메카척은 웨이퍼의 고정이 기 전술한 전면 세정용 스핀 스크러버의 진공 척과 같은 진공 흡착방식이 아닌 도시한 도 2에서와 같이 단순히 여섯 개의 고정핀 만으로 웨이퍼를 지지하여 고속 회전시 원심력에 의한 웨이퍼의 이탈을 방지하는 형태를 이룬다.

이는, 비록 3000rpm 이상의 고속 회전에는 적합하지 않지만 웨이퍼 표면과의 직접적인 접촉이 없음으로 그 오염을 줄일 수 있음에 따라 웨이퍼가 뒤집힌 상태에서 웨이퍼 배면의 가공을 하는 장비에 주로 설치되는 것이다.

즉, 상기와 같이 웨이퍼의 배면을 세정할 때에는 일반적으로 패턴이 형성되어 있는 웨이퍼의 전면이 척과 접촉을 행한 상태로써 고정됨을 감안한다면 만일 전술한 바와 같이 그 접촉면적을 크게 필요로 하는 진공 척을 사용할 경우에는 상기 웨이퍼에 형성된 패턴이 상기 진공 척과 직접적인 접촉을 행함으로써 척에 묻어 있는 이물질이 웨이퍼의 패턴에 흡착될 수 있기 때문에 그 접촉면적이 가장 적게 이루어질 수 있는 핀 고정의 형태를 취함이 가장 바람직하기 때문이다.

이하, 메카척이 적용되는 웨이퍼의 배면 세정장치에 관해 도시한 도 1 및 도 2를 참조하여 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.

일반적으로 웨이퍼의 배면 세정용 메카척(10)은 웨이퍼(20)의 구경을 고려하여 상기 웨이퍼의 외곽면 각 부분을 지지하도록 6개의 고정핀(11)이 설치되어 있다.

이 때, 상기 각 고정핀의 끝부분에는 일정정도 만큼 단(段)이진 안착부(11a)가 형성되어 있음에 따라 웨이퍼(20)는 상기 각 고정핀의 돌출높이만큼 각 고정핀의 내측에 삽입되는 것이 아닌 상기 각 고정핀의 끝단 일부분 즉, 각 안착부(11a)의 상면에 얹혀지게 된다.

또한, 일반적으로 웨이퍼(20)의 일단에 플랫변(21)이 형성되어 있음을 감안하여 상기 메카척의 각 고정핀(11)중 상기 웨이퍼의 플랫변에 대응되는 방향에 위치된 고정핀(12)은 상기 웨이퍼의 플랫변을 지지하기 위해 다른 5개의 고정핀과는 달리 메카척(10)의 중앙부분으로 일부 삽입된 상태로 고정되어 있다.

따라서, 웨이퍼(20)의 전면 세정작업이 완료한 후 그 배면을 세정하기 위하여서는 우선, 메카척(10)에 고정된 각 고정핀(11)(12)의 내측부에 웨이퍼(20)를 안착시킨다.

전술한 바와 같이 하여 메카척(10)에 웨이퍼(20)의 안착이 완료되면 도시하지 않은 별도의 회동수단에 의해 상기 메카척이 고속 회전함으로써 웨이퍼(20)의 배면 세정작업이 수행된다.

즉, 상기와 같이 메카척(10)이 고속 회전함과 동시에 린스 노즐(rinse nozzel)(30)을 통해 웨이퍼(20)의 배면에 린스가 분사되고 브러쉬(40)가 상기 웨이퍼의 배면에 흡착된 미립자등을 제거하게 되는 것이다.

그러나, 전술한 바와 같이 웨이퍼(20)의 배면부를 세정할 때에는 메카척(10)의 각 고정핀(11)(12) 상부에 웨이퍼(20)가 단순히 얹혀져 있는 형태를 이루기 때문에 상기 웨이퍼는 불안전하게 고정된 상태를 이루게 된다.

이에 따라 메카척(10)이 고속으로 회전할 때 웨이퍼(20) 역시 상기 메카척의 회전에 따라 함께 회전하면서 원심력을 받게 되는데, 이와 같은 상태에서 웨이퍼(20)의 세정작업이 완료되어 메카척(10)이 감속하게 되면 상기 웨이퍼는 전술한 바와 같은 원심력에 의한 계속적인 관성을 받고 있는 상태임에 따라 상기 메카척이 완전히 정지된 상태에서는 웨이퍼(20)가 각 고정핀(11)(12) 사이에 끼이게 되는 현상이 발생하게 된다.

이는, 상기 웨이퍼를 지지하기 위한 각 고정핀(11)(12)의 위치가 상기 웨이퍼의 원활한 안착을 위해 웨이퍼와의 사이에 최소 여유공간(h)을 가지도록 고정되어 있기 때문에 결국, 상기 메카척(10)의 각 고정핀(11)(12) 사이에 웨이퍼(20)가 끼이게 되는 현상이 발생하게 되는 것이다.

또한, 상기와 같은 웨이퍼의 끼임현상은 웨이퍼(20)의 플랫변(21)을 지지하는 메카척(10)의 고정핀(12)과 그 측부에 위치된 고정핀(11) 사이에서 주로 웨이퍼(20)의 플랫변(21)이 끼이는 경우가 빈번히 이루어지게 되는데, 이는 도 2의 점선으로 도시한 바와 같이 상기 웨이퍼의 플랫변 부분이 평면으로 이루어져 있음에 따라 타측 즉, 전체적으로 원형을 이루고 있는 웨이퍼의 타측 부분에 비해 편심회동을 행하게 됨으로써 더욱 끼임 현상이 발생하기 쉽기 때문임은 이해 가능하다.

하지만, 종래에는 전술한 바와 같이 웨이퍼의 끼임 현상이 발생하더라도 이를 해소해 주는 별도의 동작 혹은 작용을 행하는 구성이 이루어져 있지 않음에 따라 웨이퍼의 배면 세정작업 완료후 다음 공정을 위해 별도의 암(arm; 도시는 생략함)이 상기 웨이퍼를 언로딩 할 경우 전술한 바와 같이 웨이퍼가 끼어 있기 때문에 웨이퍼가 튀어 오르거나 파손되는 경우가 종종 발생하게 되었다.

이에 따라 웨이퍼의 수율이 급격히 저하되었고, 또한 비록 깨어지지 않더라도 끼임에 따른 충격으로 인해 웨이퍼에 형성된 각 패턴의 불량을 유발할 수 있게된 원인이 되었다.

본 발명은 상기와 같은 종래 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 웨이퍼 배면 세정용 메카척이 정지하여 웨이퍼의 세정작업이 완료 된 후 웨이퍼의 언로딩이 이루어지기전에 상기 웨이퍼를 지지하고 있는 메카척의 고정핀이 메카척의 각고정핀에 끼어있는 웨이퍼의 끼임방향에 대하여 반대방향 즉, 메카척의 회동방향과 동일한 방향으로 회동하도록 구성하여 상기 웨이퍼가 각 고정핀에 끼이더라도 원활한 끼임 해소가 이루어질 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.

도 1 은 일반적인 웨이퍼 배면 세척장치를 단면하여 나타낸 구성도

도 2 는 종래 웨이퍼 배면 세척장치의 메카척에 웨이퍼가 지지된 상태를 나타낸 평면도

도 3 은 본 발명에 따른 웨이퍼 배면 세정장치의 웨이퍼 끼임 해제구조를 단면하여 나타낸 구성도

도 4 는 도 3 의 “A”부를 확대하여 나타낸 단면도

도 5 는 본 발명에 따른 웨이퍼 배면 세정장치의 웨이퍼 끼임 해제구조를 저면에서 본 상태도

도 6 은 도 5 의 “B”부를 확대하여 나타낸 단면도

도 7 은 본 발명에 따른 웨이퍼 끼임 해제구조의 다른 실시예를 나타낸 구성도

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

100. 실린더 101. 피스톤

102. 연장부재 110. 3방밸브

121. 베어링 122. 톱니바퀴

123. 톱니

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 형태에 따르면, 전체적으로 원형을 이룸과 함께 그 일단부가 절개된 플랫변을 가지는 웨이퍼와, 상기 웨이퍼의 둘레변을 지지하기 위해 다수의 고정핀이 돌출 설치됨과 함께 회전가능하게 이루어진 메카척을 구비한 웨이퍼 배면 세척장치에 있어서, 상기 메카척의 외측에 설치되어 노즐에 의해 공기를 공급받는 실린더와; 상기 실린더에 내장되어 실린더에 공급된 공기압에 의해 실린더의 길이방향을 따라 이동되는 피스톤과; 상기 피스톤에서 실린더의 길이방향으로 연장된 연장부재와; 상기 메카척의 외주부에 설치됨과 동시에 웨이퍼의 플랫변에 대응되도록 설치되는 회동핀에 고정되어 상기 연장부재의 이동력을 전달받아 회동핀을 회동시키는 톱니바퀴로 이루어진 회동핀 회동수단을 포함하여 상기 회동핀이 회동됨에 의해 웨이퍼의 플랫변을 접촉하면서 웨이퍼의 끼임을 해제하도록 하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 배면 세척장치의 웨이퍼 끼임 해제구조에 관한 것이다.

이하, 본 발명의 일실시예를 도시한 도 3 내지 도 7 을 참조하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 3 은 본 발명에 따른 웨이퍼 배면 세정장치의 웨이퍼 끼임 해제구조를 단면하여 나타낸 구성도이고, 도 4 는 도 3 의 “A”부를 확대하여 나타낸 단면도이며, 도 5 는 본 발명에 따른 웨이퍼 배면 세정장치의 웨이퍼 끼임 해제구조를 저면에서 본 상태도이고, 도 6 은 도 5 의 “B”부를 확대하여 나타낸 단면도이며, 도 7 은 본 발명에 따른 웨이퍼 끼임 해제구조의 다른 실시예를 나타낸 구성도로서, 본 발명은 웨이퍼(20) 배면 세척장치에 회동핀 회동수단을 구비하여 웨이퍼의 플랫변(21)에 대응되도록 설치된 회동핀(120)을 회동할 수 있도록 한다.

이 때, 상기 회동핀 회동수단에 의해 회동되는 회동핀(120)은 웨이퍼(20)의 플랫변(21)을 지지하도록 위치되는데, 이는 일반적으로 웨이퍼(20)가 각 고정핀(11) 사이에 끼이게 되는 직접적인 원인이 플랫변(21)에서 발생됨을 감안할 때 이를 근본적으로 해결하기 위해서는 전술한 바와 같이 회동핀(120)이 회전되도록 구성하는 것이 가장 바람직하다.

상기에서 회동핀 회동수단은 별도의 노즐(111)에 의해 공기를 공급받는 실린더(100)와, 상기 실린더내에 내장된 상태로써 실린더(100)내로 공급된 공기에 의해 선택적으로 전,후 이동하는 피스톤(101)과, 상기 피스톤에 연장된 상태로써 피스톤(101)의 전,후 이동과 함께 이동되는 연장부재(102)와, 상기 연장부재의 가압에 의해 일방향으로 회전되면서 회동핀(120)을 회동시키는 톱니바퀴(122)로 이루어진다.

이 때, 상기 실린더는 그 전방측 및 후방측에서 선택적인 공기의 공급이 이루어지도록 구성함으로써 전술한 피스톤의 전, 후 이동이 가능하게 된다.

즉, 도 3에 도시한 바와 같이 3방 밸브(3way valve)(110)를 이용하여 실린더(100)내의 전,후방측에 각각 공기를 선택적으로 공급하도록 노즐(111)(112)을 연결함에 따라 전술한 바와 같이 실린더(100)내에 내장된 피스톤(101)의 전, 후 이동이 가능해짐은 이해 가능하다.

상기에서 회동핀(120)을 회동시키기 위하여 별도의 장비 즉, 상기 회동핀이 스텝모터와 같은 장비등에 의해 회동가능하도록 구성할 수 있으나 이는 메카척(10)이 그 자체적으로 회전함을 감안할 때 별도의 구성에 의해 그 회전의 방해를 받을 수 있음으로써 본 발명과 같이 메카척의 회전을 구속하지 않는 한도에서 고정핀을 회동시킬 수 있도록 하는 것이 가장 바람직하며, 굳이 본 발명과 같이 실린더의 형태에만 한정하는 것은 아니다.

한편, 상기에서 회동핀(120)의 외부 둘레면에는 베어링(121)을 구비하여 메카척(10)과 상기 회동핀(120)간의 결합이 베어링 결합으로 이루어지게 함으로써 더욱 원활한 회동핀(120)의 회동이 이루어지도록 하고, 상기 회동핀의 외주면에 회동핀의 회전축과 동일한 회전축을 갖는 톱니바퀴(122)를 고정함으로써 실린더(100)의 피스톤(101)에 연장된 연장부재(102)의 전,후 이동시 상기 회동핀이 연장부재(102)의 이동력을 더욱 원활히 전달받을 수 있도록 한다.

이 때, 상기 회동핀의 외주면에 구비된 톱니바퀴(122)는 상기 회동핀과 함께 회동할 수 있도록 서로 일체로 형성하거나, 혹은 별도의 연결수단을 이용하여 일체로 결합할 수 있는데, 이는 다양하게 구성 가능함으로써 이에 대한 상세한 설명은 생략하도록 하고, 단순히 전술한 바와 같이 동일한 회동을 행할 수 있도록만 구성하면 상관은 없다.

이하, 본 발명에 따른 작용을 그 동작 순서에 따라 보다 구체적으로 설명하면 후술하는 바와 같다.

우선, 웨이퍼(20)의 배면 세정을 위해 메카척(10)의 각 고정핀(11) 및 회동핀(120) 내측에 웨이퍼(20)가 지지된 상태에서 도시하지 않은 콘트롤러가 상기 메카척에 구동력을 전달함으로써 메카척(10)을 일방향으로 회전시킨다.

이와 같은 메카척의 회전이 이루어지고 있는 과정에서 웨이퍼(20)의 배면은 별도의 세정작업에 의해 세정되는데, 이는 종래 기 상술한 바 있음에 따라 그 상세한 설명을 생략한다.

이와 같이 하여 웨이퍼(20) 배면 세정이 완료되면 이를 파악한 콘트롤러(도시는 생략함)가 메카척(10)으로의 회전력 전달이 더 이상 이루어지지 않도록 제어함으로써 상기 메카척은 감속을 행하면서 정지하게 된다.

이 때, 상기 메카척의 각 고정핀(11) 및 회동핀(120) 내측에 지지되어 있던 웨이퍼(20)는 상기 메카척의 회전에 따른 원심력을 계속적으로 전달받고 있는 상태임에 따라 전술한 바와 같이 비록 메카척(10)이 그 회전을 정지한다고 해도 상기 원심력에 의한 관성으로 인해 일방향으로 밀려나게 되어, 결국 메카척(10)에 구비된 각 고정핀(11)(12) 사이에 끼이게 되는 현상을 발생하게 된다.

하지만, 전술한 바와 같이 콘트롤러(도시는 생략함)의 제어에 의해 메카척(10)의 회전이 멈추게 되면 이를 별도의 센서(도시는 생략함)가 파악하여 콘트롤러를 제어함으로써 3방밸브(110)에 공기를 공급하게 되고 이렇게 공급된 공기는 상기 3방밸브의 제어에 의해 실린더(100)내로 선택적인 공급을 계속적으로 행하게 된다.

즉, 최초 실린더(100)내에 내장되어 있는 피스톤(101)은 상기 실린더의 후방측으로 후진되어 있는 상태임에 따라 3방밸브(110)는 실린더(100)의 후방측에 연결된 노즐(112)을 통해 상기 실린더내의 후방측으로 공기를 공급함으로써실린더(100)내에 내장된 피스톤(101)을 전진시키게 된다.

이에 따라 상기 피스톤의 끝단에 연장되어 있는 연장부재(102) 역시 전진하면서 회동핀(120)의 톱니바퀴(122)에 접촉하게 됨과 함께 상기 톱니바퀴를 일방향으로 밀어 회동핀(120)을 회동시키게 되는데, 이 때 상기 톱니바퀴는 각 톱니(123) 일측면에 직접 접촉을 행하는 연장부재(102)가 상기 톱니(123)를 일방향으로 적정간격(피스톤의 최대 변위)만큼 밀어냄에 따라 회동핀(120)의 회전(45°만큼의 회전)이 이루어지게 됨은 가능하다.

상기에서 회동핀(120)의 회동방향은 배면 세정을 위한 웨이퍼(20)의 회동방향과 동일한 방향을 향하도록 구성됨이 바람직한데 이는, 도 5에 도시한 바와 같이 웨이퍼(20)가 메카척(10)의 각 고정핀(11) 및 회동핀(120) 사이에 끼어있는 방향과 동일방향으로 회동핀(120)을 회동시켜 줌으로써 상기 회동핀(120)과 접촉을 행하는 웨이퍼(20)의 플랫변(21)은 상기 회동핀(120)의 회전방향(도면상 실선 화살표 방향)과는 반대방향(도면상 점선 화살표 방향)으로 회전을 행하게 되어 결국, 웨이퍼(20)의 끼임이 원활히 해소될 수 있기 때문이다.

이 때, 메카척의 각 톱니과 실린더의 연장부재가 서로 정확한 위치에서 정확한 구동에 의한 회동을 수행할 수 있음은 일반적으로 양면 스크러버 장비의 스핀 장치(spinner)는 항상 같은 위치에 메카척(10)을 멈추도록 하는 기능을 가지고 있기 때문에 가능하다.

따라서, 전술한 바와 같이 실린더(100)의 작용에 의해 회동핀(120)이 일정각도(45°) 회전하면 3방밸브(110)의 제어에 의해 실린더(100)내의 후방측으로 공급되던 공기의 공급이 차단됨과 동시에 실린더(100)내의 전방측에 연결된 노즐(111)을 통해 상기 실린더내의 전방측으로 공기가 공급됨으로써 피스톤(101) 및 이에 연장된 연장부재(102)는 원위치로 복귀하게 된다.

이 때, 상기 연장부재의 복귀시 그 형상의 특징 즉, 회동핀(120)의 톱니바퀴(122)를 보다 원활히 회전시킬 수 있도록 그 끝단에 회전가능하도록 핀 연결한 연결팁(103)이 구비되어 있음에 따라 상기와 같이 회동핀을 회동시킨후 최초 상태로 복귀하는 과정에서 상기 톱니바퀴의 다음 톱니(최초 연장부재(102)와의 접촉에 의해 밀린 톱니(123a)의 다음 위치에 있는 톱니)(123b)에 걸려 다시 반대방향으로 회동시킬 우려가 있음에 따라 연장부재(102)의 절곡된 끝단을 핀(102a) 및 스프링(102b)으로써 회동가능하게 탄력설치하고, 그 회동범위의 제한을 위한 스토퍼(102c)(102d)를 연장부재(102)의 연결팁(103) 연결부위 상면 및 후면에 각각 돌출 고정하여 과도한 회동을 방지한다.

이는, 도시한 도 6을 참조로 하면 보다 쉽게 이해 가능하다.

한편, 전술한 바와 같이 회동핀(120)의 회동은 그 변위량이 조금(90°정도)만 이루어지더라도 충분히 웨이퍼(20)의 끼임이 해소될 수 있음에 따라 계속적으로 피스톤(101)의 전, 후진을 반복할 필요가 없이 2∼4회 정도 피스톤(101)을 전, 후진 시키는 것이 바람직 하며, 이는 공정시간 및 그 효율에 따라 적절히 조정가능함으로써 굳이 이에 한정하지는 않는다.

또한, 전술한 바와 같이 각 구성부분의 동작으로 인한 회동핀(120)이 회동된 후 다시 원위치로 복귀함 즉, 연장부재에 연결된 연결팁이 복귀하는 과정중 톱니에 걸려 회동핀을 다시 원상태로 복귀시킬 수 있음에 따라 이를 방지하기 위해 도시한 도 7과 같이 별도의 회동방지 스토퍼(130)를 구비함으로써 상기 회동핀의 일방향 회전만 가능하도록 할 수 있다.

이 때, 상기와 같은 회동방지 스토퍼는 본 발명에 대하여 큰 영향을 주지않기 때문에 이에 관한 상세한 설명은 생략하도록 하며, 그 구성은 자유로운 변경이 가능하므로 이 역시 그 형상에만 한정하지는 않는다..

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 웨이퍼 배면 세정장치에 웨이퍼의 끼임을 해소시킬 수 있는 구조를 추가로 설치함으로써 비록 웨이퍼가 메카척의 각 고정핀에 끼인다 하더라도 다음 공정의 진행을 위한 암의 언로딩이 이루어지기 전에 이를 원활히 해소함으로써 웨이퍼의 파손 및 스크랫치(scratch)에 의한 손실을 없앨 수 있어서 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

또한, 장비 트러블(trouble)발생을 줄이므로써 장비의 효율적 사용에도 기여할 수 있는 효과 역시 얻을 수 있다.

Claims (1)

1. 전체적으로 원형을 이룸과 함께 그 일단부가 절개된 플랫변을 가지는 웨이퍼와, 상기 웨이퍼의 둘레변을 지지하기 위해 다수의 고정핀이 돌출 설치됨과 함께 회전가능하게 이루어진 메카척을 구비한 웨이퍼 배면 세척장치에 있어서,

   상기 메카척의 외측에 설치되어 노즐에 의해 공기를 공급받는 실린더와; 상기 실린더에 내장되어 실린더에 공급된 공기압에 의해 실린더의 길이방향을 따라 이동되는 피스톤과; 상기 피스톤에서 실린더의 길이방향으로 연장된 연장부재와; 상기 메카척의 외주부에 설치됨과 동시에 웨이퍼의 플랫변에 대응되도록 설치되는 회동핀에 고정되어 상기 연장부재의 이동력을 전달받아 회동핀을 회동시키는 톱니바퀴로 이루어진 회동핀 회동수단을 포함하여 상기 회동핀이 회동됨에 의해 웨이퍼의 플랫변을 접촉하면서 웨이퍼의 끼임을 해제하도록 하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 배면 세척장치의 웨이퍼 끼임 해제구조.