KR100297441B1 - 초음파 액위 감지를 이용한 화학 약품 재충전 시스템 및그 방법 - Google Patents
초음파 액위 감지를 이용한 화학 약품 재충전 시스템 및그 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100297441B1 KR100297441B1 KR1019990052646A KR19990052646A KR100297441B1 KR 100297441 B1 KR100297441 B1 KR 100297441B1 KR 1019990052646 A KR1019990052646 A KR 1019990052646A KR 19990052646 A KR19990052646 A KR 19990052646A KR 100297441 B1 KR100297441 B1 KR 100297441B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- reservoir
- receiver
- liquid
- chemical
- drug
- Prior art date
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 111
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 57
- 239000003814 drug Substances 0.000 claims description 37
- 229940079593 drug Drugs 0.000 claims description 33
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000003708 ampul Substances 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 9
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims description 8
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 8
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 6
- -1 TiCl 4 Chemical compound 0.000 claims description 5
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 5
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N tetrakis(dimethylamido)titanium Chemical compound CN(C)[Ti](N(C)C)(N(C)C)N(C)C MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 101001047746 Homo sapiens Lamina-associated polypeptide 2, isoform alpha Proteins 0.000 claims description 2
- 101001047731 Homo sapiens Lamina-associated polypeptide 2, isoforms beta/gamma Proteins 0.000 claims description 2
- 102100023981 Lamina-associated polypeptide 2, isoform alpha Human genes 0.000 claims description 2
- 239000012707 chemical precursor Substances 0.000 claims description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims description 2
- 238000012377 drug delivery Methods 0.000 claims 2
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims 1
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C=C GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005429 filling process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZESIEOFIUDUIN-UHFFFAOYSA-N 2-[amino(tert-butyl)silyl]-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)[SiH](N)C(C)(C)C LZESIEOFIUDUIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFSIRMHUBLIZCM-UHFFFAOYSA-N CCO[Ta](OCC)(OCC)OCC Chemical compound CCO[Ta](OCC)(OCC)OCC AFSIRMHUBLIZCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- ZQYZLRKRUCDMQI-UHFFFAOYSA-N boron strontium Chemical compound [Sr].[B] ZQYZLRKRUCDMQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- VJDVOZLYDLHLSM-UHFFFAOYSA-N diethylazanide;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC[N-]CC.CC[N-]CC.CC[N-]CC.CC[N-]CC VJDVOZLYDLHLSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000011143 downstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAMFBRUWYYMMGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluoroacetylacetone Chemical compound FC(F)(F)C(=O)CC(=O)C(F)(F)F QAMFBRUWYYMMGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011346 highly viscous material Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 238000009428 plumbing Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000011664 signaling Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- KFUSEUYYWQURPO-OWOJBTEDSA-N trans-1,2-dichloroethene Chemical group Cl\C=C\Cl KFUSEUYYWQURPO-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- XVYIJOWQJOQFBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(fluoro)silane Chemical compound CCO[Si](F)(OCC)OCC XVYIJOWQJOQFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N triethyl borate Chemical compound CCOB(OCC)OCC AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphite Chemical compound COP(OC)OC CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F13/00—Apparatus for measuring by volume and delivering fluids or fluent solid materials, not provided for in the preceding groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/14—Feed and outlet means for the gases; Modifying the flow of the reactive gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Levels Of Liquids Or Fluent Solid Materials (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
Abstract
Description
Claims (22)
- 초고순도 화학 약품을 함유하고 분배하기 위한 공급원 저장기, 상기 약품을 상기 공급원 저장기로부터 수용기로 이동시키기 위한 도관 시스템을 통하여 상기 공급원 저장기로부터 이송된 상기 약품을 수용하기 위한 앰풀 또는 직접 액체 분사 시스템으로 구성된 군 중에서 선택되는 하나 이상의 수용기를 포함하는, 앰풀 또는 직접 액체 분사 시스템 중 어느 하나에 의해 화학 약품을 반도체 공정 반응기 등에 제공하기 위한 시스템에 있어서,상기 수용기에 삽입되거나 상기 수용기의 외부 표면에 배치된 하나 이상의 다중 액위 초음파 프로브를 포함하고, 상기 프로브는, 상기 수용기가 만재를 표시하는 제1 액위, 부분 만재를 표시하는 제2 액위 및 추가의 약품을 상기 공급원 저장기로부터 상기 수용기로 이송시켜야 한다고 지시하는 제3 액위로 약품을 함유할 때, 제1 시그널을 발생하도록 하며, 상기 공급원 저장기 내 약품의 상기 액위는 상기 공급원 저장기에 삽입된 별도의 다중 액위 초음파 프로브에 의해 모니터되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 초음파 프로브는 상기 초음파 프로브에 의해 발생된 시그널에 따라서 상기 약품을 상기 저장기로부터 상기 수용기로 이송시키는 수단을 포함하는 제어 시스템에 전기 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 시그널은 상기 프로브의 상기 제3 액위 위의 상기 수용기 내 약품 액위에 해당하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 공급원 저장기로 비활성 기체를 도입하여 상기 공급원 저장기를 가압시킴으로써 상기 약품이 상기 공급원 저장기로부터 상기 수용기로 이송되도록 하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 진공 사이클 퍼지 또는 용매 퍼지 중 하나를 사용하여 약품 제거를 실행함으로써 전달/공급 라인으로부터 상기 잔류 공정 약품을 퍼지하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 공기식 또는 전기식 액추에이터 중 하나에 의해 작동되는 밸브를 자동적으로 작동시키는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제6항에 있어서, 상기 밸브는 컴퓨터에서 발생한 시그널이 밸브 액추에이터로 전송됨으로써 작동하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제4항에 있어서, 비활성 기체를 상기 공급원 저장기로 도입시키는 상기 수단은 상기 비활성 기체를 상기 저장기로 도입시켜서 캐리어 기체로 작용하도록 할 수 있는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 공급원 저장기 내의 화학 약품의 액위를 측정하기 위하여 상기 공급원 저장기 내에 배치되거나 상기 저장기의 외부 표면에 배치된 초음파 프로브를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 수용기로서, 상기 공급원 저장기에 연결된 초음파 액위 검출기를 갖춘 하나 이상의 앰풀을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 수용기 내에 부분 진공을 발생시켜서 화학 약품을 상기 공급원 저장기에서 상기 수용기로 이동시키거나, 상기 공급원 저장기에 정압을 발생시켜서 약품 이송을 수행하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 수용기는 상기 공정 반응기에 반응성 증기를 제공하기 위한 직접 액체 분사 시스템인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제7항에 있어서, 상기 수용기로서, 상기 공급원 저장기에 연결된 초음파 액위 검출기를 각기 구비한 다수의 앰풀을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 수용기는 앰풀이고, 상기 앰풀 내에 부분 진공을 발생시켜서 화학 약품을 상기 앰풀에서 반도체 공정 반응기로 이동시키는 수단 또는 상기 공급원 저장기에 정압을 공급하여 화학 약품 이송을 야기시키는 수단 중 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 공급원 저장기를 비활성 기체로 가압하여 화학 약품을 직접 액체 분사 시스템 또는 액체 질량 유량 제어기로 이동시키는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, TEOS, TEB, TMB, TMPI, TMPO, Cu(hfac)(TMVS) 및 이것의 여러 가지 혼합물, TDEAT, TDMAT, TiCl4, DCE, TCA, POCl3, BBr3, PCl3, TAETO, BTBAS, 캐리어 용매에 용해시킨 BST 전구체, Cu(hfac)2와 같은 액화가 요구되는 고체 물질, PGMEA, 에틸 락테이트, 그리고 CVD, 포토레지스트 및 현상제에 관련된 모든 다른 액체 화학 약품 전구체 및 도판트와 희석 공정물로 구성된 군 중에서 선택되는 화학 약품의 재충전에 사용되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항에 있어서, 시스템 제조를 위한 재료는 스테인레스 강, 테플론, 인코넬, 하스텔로이, 석영, 유리 및 시스템에 사용하고자 하는 화학 약품에 비반응성인 다른 재료로 구성된 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 대량의 화학 약품을 유지시키는 공급원 저장기, 상기 약품을 분배하여 반도체 기판 상에 작용시키는 하나 이상의 수용기, 상기 저장기와 상기 수용기 간의 이송 배관, 및 상기 저장기 및 상기 수용기 내부에서 액체 액위를 감지하는 수단을 포함하는 제어 시스템을 사용하여 반도체 제조 공장의 청정실 내부에 포함된 반도체 가공 반응기를 위해 화학 약품을 공급원 저장기에서 수용기로 이송시키는 방법에 있어서,상기 저장기 내부 또는 상기 저장기의 외부 표면에 배치되어 상기 저장기가 상기 약품을 재충전시켜야 하거나 만재 저장기로 교체시켜야 한다고 가리키는 액위에 상기 저장기 내 약품이 도달하면 시그널을 발생하는 하나 이상의 초음파 프로브를 제공하는 단계,상기 시그널을 상기 제어 시스템에 전달하여 사용자에게 경보를 발하여 상기 저장기를 살펴보도록 알람 시그널, 지시광 또는 디지탈 정보를 작동시키는 단계,상기 수용기 내에 초음파 프로브를 제공하여 상기 수용기에 상기 약품을 재충전시켜야 한다고 가리키는 액위에 상기 수용기 내 약품이 도달하면 시그널을 발생시키는 단계, 및상기 수용기 내 상기 초음파 프로브로부터의 시그널을 사용하여 상기 화학 약품을 상기 저장기로부터 상기 수용기로 이송시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제18항에 있어서, 상기 저장기 내부의 액체 약품의 세 가지 액위, 즉 제1 또는 만재 액위, 제2 액위 또는 부분 만재 액위 및 상기 저장기를 재충전 또는 교체시켜야하는 액위 중 하나를 가리키는 시그널을 발생하도록 상기 공급원 저장기 내부에 다중 액위 프로브를 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제18항에 있어서, 상기 수용기가 만재임을 가리키는 액체 약품 액위, 상기 수용기가 액체 약품을 상기 공급원 저장기로부터 상기 수용기로 이송시켜야 한다고 가리키는 액체 액위, 및 상기 수용기가 만재 액위와 액체 약품을 상기 공급원 저장기로부터 상기 수용기로 이송시킬 것을 요하는 액위 사이에서 액체 액위를 포함한다고 가리키는 액체 약품 액위 중 하나의 상기 수용기 내부 상태를 가리키는 별도의 시그널을 발생시키도록 각각의 상기 수용기 내에 다중 액위 초음파 감지 프로브를 제공하는 단계, 및상기 시그널을 상기 제어 시스템에 전달하여 알람 시그널, 상기 수용기 내 액체 약품에 해당하는 지시광, 상기 수용기 내 액체 액위의 디지탈 정보 및 상기 공급원 저장기에서 상기 수용기로의 액체 약품 이송 중 하나 또는 모두를 작동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제20항에 있어서, 액체 약품의 사전 설정된 액위가 상기 수용기 내에서 감지되었을 때 상기 공급원 저장기로부터 상기 수용기로의 액체 약품 이송을 자동적으로 개시하고, 상기 만재 액위가 상기 수용기 내에서 감지되었을 때 액체 약품 이송이 종결되도록 상기 제어 시스템을 설정하는 데 상기 시그널을 사용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제18항에 있어서, 상기 수용기로서 직접 액체 분사 시스템 또는 분배 시스템 중 하나를 설치하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US20100598A | 1998-11-30 | 1998-11-30 | |
US9/201005 | 1998-11-30 | ||
US09/201005 | 1998-11-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20000035684A KR20000035684A (ko) | 2000-06-26 |
KR100297441B1 true KR100297441B1 (ko) | 2001-10-29 |
Family
ID=22744091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990052646A KR100297441B1 (ko) | 1998-11-30 | 1999-11-25 | 초음파 액위 감지를 이용한 화학 약품 재충전 시스템 및그 방법 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1006219B1 (ko) |
JP (1) | JP2000167381A (ko) |
KR (1) | KR100297441B1 (ko) |
AT (1) | ATE349559T1 (ko) |
DE (1) | DE69934565T2 (ko) |
IL (2) | IL150315A (ko) |
TW (1) | TW413729B (ko) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004008085A1 (en) * | 2002-07-17 | 2004-01-22 | Epichem Limited | A method and apparatus for monitoring liquid levels within a vessel |
ITMI20021692A1 (it) * | 2002-07-30 | 2002-10-29 | Indena Spa | Polisaccaride di echinacea angustifolia. |
GB2432371B (en) | 2005-11-17 | 2011-06-15 | Epichem Ltd | Improved bubbler for the transportation of substances by a carrier gas |
WO2011053505A1 (en) | 2009-11-02 | 2011-05-05 | Sigma-Aldrich Co. | Evaporator |
KR20120101173A (ko) | 2010-01-06 | 2012-09-12 | 어드밴스드 테크놀러지 머티리얼즈, 인코포레이티드 | 가스 제거 및 검출 기능을 갖는 액체 분배 시스템 |
US8959998B2 (en) * | 2013-05-15 | 2015-02-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Ultrasonic liquid level sensing systems |
US10151618B2 (en) | 2014-01-24 | 2018-12-11 | Versum Materials Us, Llc | Ultrasonic liquid level sensing systems |
TWI651517B (zh) * | 2018-03-02 | 2019-02-21 | 國立臺灣大學 | 串接式超音波水位偵測模組及水位計 |
WO2020123349A1 (en) | 2018-12-10 | 2020-06-18 | Carrier Corporation | Adjustable liquid level indicators |
KR20200130121A (ko) * | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기 |
TWI779280B (zh) * | 2019-06-03 | 2022-10-01 | 日商英達斯特股份有限公司 | 微細物除去系統 |
US20210123134A1 (en) * | 2019-10-24 | 2021-04-29 | Entegris, Inc. | Sublimation ampoule with level sensing |
CN113930738B (zh) * | 2020-06-29 | 2023-09-12 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种真空镀膜用的金属蒸汽调制装置及其调制方法 |
CN112781677A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-05-11 | 济南市第三人民医院 | 一种医院检验科实验室试剂用量监控装置 |
KR102565527B1 (ko) * | 2021-03-11 | 2023-08-14 | 포이스주식회사 | 초음파를 이용한 반도체 제조용 화학약품 잔량 관리시스템 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4545245A (en) * | 1983-11-09 | 1985-10-08 | Simmonds Precision Products, Inc. | Liquid level sensor using sonic methods |
US4859375A (en) * | 1986-12-29 | 1989-08-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Chemical refill system |
US4901245A (en) * | 1987-12-01 | 1990-02-13 | Moore Technologies, Inc. | Nonintrusive acoustic liquid level sensor |
US5383574A (en) * | 1993-07-19 | 1995-01-24 | Microbar Sytems, Inc. | System and method for dispensing liquid from storage containers |
-
1999
- 1999-11-24 IL IL150315A patent/IL150315A/en not_active IP Right Cessation
- 1999-11-24 IL IL13310299A patent/IL133102A0/xx unknown
- 1999-11-25 KR KR1019990052646A patent/KR100297441B1/ko active IP Right Grant
- 1999-11-26 AT AT99123238T patent/ATE349559T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-11-26 EP EP99123238A patent/EP1006219B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-26 TW TW088120729A patent/TW413729B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-11-26 DE DE69934565T patent/DE69934565T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-30 JP JP11339894A patent/JP2000167381A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL150315A (en) | 2010-12-30 |
DE69934565D1 (de) | 2007-02-08 |
ATE349559T1 (de) | 2007-01-15 |
JP2000167381A (ja) | 2000-06-20 |
TW413729B (en) | 2000-12-01 |
IL133102A0 (en) | 2001-03-19 |
EP1006219A1 (en) | 2000-06-07 |
DE69934565T2 (de) | 2007-10-04 |
KR20000035684A (ko) | 2000-06-26 |
EP1006219B1 (en) | 2006-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100297441B1 (ko) | 초음파 액위 감지를 이용한 화학 약품 재충전 시스템 및그 방법 | |
JP3242413B2 (ja) | 密閉容器内における非圧縮性物質の量の測定 | |
JP2003075234A (ja) | 高純度化学物質のための容器及びその液面の測定方法 | |
US20020108670A1 (en) | High purity chemical container with external level sensor and removable dip tube | |
TWI422772B (zh) | 具有一體成形測力器之化學儲存裝置 | |
US7124913B2 (en) | High purity chemical container with diptube and level sensor terminating in lowest most point of concave floor | |
US6264064B1 (en) | Chemical delivery system with ultrasonic fluid sensors | |
KR20030062257A (ko) | 화학 물질 공급 및 용매 퍼지용 캐비넷 | |
EP0740757A1 (en) | Chemical refill system for high purity chemicals | |
US6588458B2 (en) | System, apparatus and method for measuring and transferring the contents of a vessel | |
KR20050030892A (ko) | 초고순도 또는 오염 민감성 화학 물질의 자동 리필 시스템 | |
KR20010023610A (ko) | 액체 화학 증기의 발생을 모니터하는 방법 및 장치 | |
KR101183363B1 (ko) | 버블러를 리필링하기 위한 장치 및 방법 | |
JPS63500030A (ja) | 化学的補給システムおよび化学的補給方法 | |
TW509818B (en) | Photographic processor having an improved replenishment delivery system | |
US6920401B2 (en) | Apparatuses and methods for delivering liquid chemical products | |
JP2006242630A (ja) | 化学蒸着工程時、容器内の前駆体残存量の診断装置及び診断方法 | |
KR20060115471A (ko) | 약품 보관용기 및 약품 보관용기 내부의 액위 측정방법 | |
SWITCHES et al. | RADAR, NONCONTACTING LEVEL SENSORS 504 | |
WO2019156919A1 (en) | Method and device for withdrawing vapor and measuring liquid level in a cylinder containing liquefied gas | |
JPH05343339A (ja) | 有機金属気化容器 | |
KR20030048193A (ko) | 반도체 제조설비의 화학약품 공급장치 | |
Adrian et al. | PROTOTYPE PROPELLANT-TESTING SYSTEM. PHASE 3-DESIGN AND CONSTRUCTION OF CONTAMINANT-INTRODUCTION SYSTEM | |
JP2003146397A (ja) | 液体輸送装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130429 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140430 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160330 Year of fee payment: 16 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170330 Year of fee payment: 17 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180417 Year of fee payment: 18 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190417 Year of fee payment: 19 |