KR100288990B1 - 반사 굴절 축소 대물 렌즈 - Google Patents
반사 굴절 축소 대물 렌즈 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100288990B1 KR100288990B1 KR1019920001831A KR920001831A KR100288990B1 KR 100288990 B1 KR100288990 B1 KR 100288990B1 KR 1019920001831 A KR1019920001831 A KR 1019920001831A KR 920001831 A KR920001831 A KR 920001831A KR 100288990 B1 KR100288990 B1 KR 100288990B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- lens group
- lens
- concave mirror
- light
- axis
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000001179 pupillary effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B9/00—Optical objectives characterised both by the number of the components and their arrangements according to their sign, i.e. + or -
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
- G02B13/143—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation for use with ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/24—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
Claims (6)
- 물체평면 (0) 에서 대물 렌즈에 의하여 정의된 이미지 면 (27)까지 광을 전송하며 광축을 정의하기 위한 반사 굴절 축소 대물 렌즈에 있어서, 상기 광축을 따라서 광을 수광하고 전송하기 위한 제1렌즈군(100)과, 상기 축을 따라서 상기 광을 또한 전송하기 위해 상기 제1렌즈군의 다음에 상기 축 상에 배열된 제2렌즈군 (200)과, 상기 축 상에 배열되며, 실질적인 축소율을 갖는 오목 렌즈 (15)와, 상기 이미지면 (27) 내로 광의 초점을 맞추기 위 한 제3렌즈군 (400) 과, 상기 제2렌즈군으로부터 상기 오목 거울 (15) 로 광을 통과시키고 상기 오목 거울 (15)로부터 복귀하는 광을 상기 제3렌즈군 (400)내로 반사시키기 위해 상기 오목 거울 (15) 과 상기 제2렌즈군 (200) 사이의 상기 축 상에 탑재되며, 광이 상기 오목 거울 (15) 로 통과하고, 상기 오목 거울로부터 복귀하는 출사/재입사면 (14및 16)을 정의하는 빔 분할기 (300) 로 이루어지며, 상기 출사/재입사면 (14 및 16) 과 상기 오목 거울 (15) 은 연합하여 그들 사이에 렌즈가 존재하지 않는 공간을 형성하고, 상기 반사 굴절 축소 대물 렌즈는 0.5 이상 1 미만의 이미지측 개구율을 갖는 것을 특징으로 하는 반사 굴절 축소 대물 렌즈.
- 물체평면 (0) 에서 대물 렌즈에 의하여 정의된 이미지 면 (27)까지 광을 전송하며 광축을 정의하기 위한 반사 굴절 축소 대물 렌즈에 있어서, 상기 광축을 따라서 광을 수광하고 전송하기 위한 제1렌즈군(100)과, 상기 축을 따라서 상기 광을 또한 전송하기 위해 상기 제1렌즈군 다음에 상기 축 상에 배열된 제2렌즈군 (200) 과, 상기 축 상에 배열되며, 실질적인 축소율을 갖는 오목 렌즈 (15) 와, 상기 이미지 면 (27) 내로 광의 초점을 맞추기 위한 제3렌즈군 (400) 과, 상기 제2렌즈군으로부터 상기 오목 거울 (15) 로 광을 통과시키고 상기 오목 거울 (15) 로부터 되돌아오는 광을 상기 제3렌즈군 (400) 내로 반사시키기 위해 상기 오목 거울 (15) 과 상기 제2렌즈군 (200) 사이의 상기 축 상에 탑재되는 빔 분할기(300) 로 이루어지며, 상기 빔 분할기는 광이 상기 오목 거울 (15) 로 통과하고, 상기 오목 거울로부터 되돌아오는 출사/재입사면 (14 및 16) 을 정의하며, 상기 출사/재입사면 (14 및 16) 과 상기 오목 거울 (15) 은 연합하여 그들 사이에 렌즈가 존재하지 않는 공간을 형성하고, 상기 제3렌즈군 (400) 으로부터 소정 간격을 두고 상기 오목 거울 (15) 에 또는 그 부근에 배치되는 개구 조리개를 또한 구비하고, 상기 제3렌즈군 (400) 은 초점 길이를 가지며, 공기의 굴절율이 총 간격과 초점 길이로 주어지는 표준조건에 대하여, 상기 소정 간격은 상기 초점 길이 보다 짧은 것을 특징으로 하는 반사 굴절 축소대물 렌즈.
- 물체평면 (0) 에서 대물 렌즈에 의하여 정의된 이미지 면 (27)까지 광을 전송하며 광축을 정의하기 위한 반사 굴절 축소 대물 렌즈에 있어서, 상기 광축을 따라서 광을 수광하고 전송하기 위한 제1렌즈군(100)과, 상기 축을 따라서 상기 광을 또한 전송하기 위해 상기 제1렌즈군 다음에 상기 축 상에 배열된 제2렌즈군 (200)과, 상기 축 상에 배열되며, 실질적인 축소율을 갖는 오목 렌즈 (15)와, 상기 이미지 면 (27) 내로 광의 초점을 맞추기 위한 제3렌즈군 (400) 과, 상기 제2렌즈군으로부터 상기 오목 거울 (15) 로 광을 통과시키고 상기 오목 거울 (15) 로부터 되돌아오는 광을 상기 제3렌즈군 (400) 내로 반사시키기 위해 상기 오목 거울 (15) 과 상기 제2렌즈군 (200) 사이의 상기 축 상에 탑재되는 빔 분할기 (300) 로 이루어지며, 상기 빔 분할기 (300) 는 광이 상기 상기 오목 거울 (15) 로 통과하고, 상기 오목 거울로부터 되돌아오는 출사/재입사면 (14 및 16)을 정의하며, 상기 출사/재입사면 (14 및 16) 과 상기 오목 거울 (15) 은 연합하여 그들 사이에 렌즈가 존재하지 않는 공간을 형성하고, 상기 광은 레이저광이며 상기 대물렌즈는 자외선 영역 또는 초자외선 영역의 파장에서 보정되는 것을 특징으로 하는 반사 굴절 축소 대물 렌즈.
- 물체평면 (0) 에서 대물 렌즈에 의하여 정의된 이미지 면 (27) 까지 광을 전송하며 광축을 정의하기 위한 반사 굴절 축소 대물 렌즈에 있어서, 상기 광축을 따라서 광을 수광하고 전송하기 위한 제1렌즈군(100)과, 상기 축을 따라서 상기 광을 또한 전송하기 위해 상기 제1렌즈군 다음에 상기 축 상에 배열된 제2렌즈군 (200) 과, 상기 축 상에 배열되며, 실질적인 축소율을 갖는 오목 렌즈 (16)와, 상기 이미지면 (27) 내로 광의 초점을 맞추기 위 한 제3렌즈군 (400) 과, 상기 제2렌즈군으로부터 상기 오목 거울 (15) 로 광을 통과시키고 상기 오목 거울 (15) 로부터 되돌아오는 광을 상기 제3렌즈군 (400) 내로 반사시키기 위해 상기 오목 거울 (15) 과 상기 제2렌즈군 (200) 사이의 상기 축 상에 탑재되는 빔 분할기(300) 로 이루어지며, 상기 빔 분할기 (300) 는 광이 상기 상기 오목 거울 (15) 로 통과하고, 상기 오목 거울로부터 되돌아오는 출사/재입사면 (14 및 16)을 정의하며, 상기 출사/재입사면 (14 및 16) 과 상기 오목 거울 (15) 은 연합하여 그들 사이에 렌즈가 존재하지 않는 공간을 형성하고, 상기 빔 분할기 (300) 가 정육면체 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 반사 굴절 축소 대물 렌즈.
- 제1항에 있어서, 상기 렌즈군 (100, 200 및 400) 과 상기 빔 분할기 (300)가 모두 동일한 재료로 제조되는 것을 특징으로 하는 반사 굴절 축소 대물 렌즈.
- 제1항에 있어서, 상기 대물 렌즈는 상기 이미지 면에서 텔레센트릭인 것을 특징으로 하는 반사 굴절 축소 대물 렌즈.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4103790 | 1991-02-08 | ||
DEP4103790.1 | 1991-02-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR920016867A KR920016867A (ko) | 1992-09-25 |
KR100288990B1 true KR100288990B1 (ko) | 2001-05-02 |
Family
ID=6424618
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019920001831A KR100288990B1 (ko) | 1991-02-08 | 1992-02-08 | 반사 굴절 축소 대물 렌즈 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0572478A (ko) |
KR (1) | KR100288990B1 (ko) |
NL (1) | NL194844C (ko) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09311278A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-12-02 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JP3395801B2 (ja) | 1994-04-28 | 2003-04-14 | 株式会社ニコン | 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法 |
USRE38438E1 (en) | 1994-08-23 | 2004-02-24 | Nikon Corporation | Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same |
JPH08179204A (ja) | 1994-11-10 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 投影光学系及び投影露光装置 |
JPH08171054A (ja) * | 1994-12-16 | 1996-07-02 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JPH08179216A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-07-12 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JP3454390B2 (ja) | 1995-01-06 | 2003-10-06 | 株式会社ニコン | 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法 |
TW538256B (en) * | 2000-01-14 | 2003-06-21 | Zeiss Stiftung | Microlithographic reduction projection catadioptric objective |
DE102005030839A1 (de) * | 2005-07-01 | 2007-01-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mehrzahl von Projektionsobjektiven |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD215179A1 (de) * | 1983-05-02 | 1984-10-31 | Zeiss Jena Veb Carl | Katadioptrisches mikroreproduktionsobjektiv fuer die anwendung im tiefen uv |
US4953960A (en) * | 1988-07-15 | 1990-09-04 | Williamson David M | Optical reduction system |
-
1992
- 1992-02-03 NL NL9200191A patent/NL194844C/nl not_active IP Right Cessation
- 1992-02-08 KR KR1019920001831A patent/KR100288990B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-02-10 JP JP4056626A patent/JPH0572478A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0572478A (ja) | 1993-03-26 |
NL9200191A (nl) | 1992-09-01 |
KR920016867A (ko) | 1992-09-25 |
NL194844B (nl) | 2002-12-02 |
NL194844C (nl) | 2003-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7092168B2 (en) | Projection optical system and projection exposure apparatus | |
US4747678A (en) | Optical relay system with magnification | |
KR100615068B1 (ko) | 반사 굴절 광학 시스템 및 이를 구비하는 노광 장치 | |
US4685777A (en) | Reflection and refraction optical system | |
KR100412174B1 (ko) | 반사굴절광학계및노광장치 | |
USRE38421E1 (en) | Exposure apparatus having catadioptric projection optical system | |
JP3747958B2 (ja) | 反射屈折光学系 | |
US5052763A (en) | Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations | |
US5241423A (en) | High resolution reduction catadioptric relay lens | |
US5089913A (en) | High resolution reduction catadioptric relay lens | |
USRE39296E1 (en) | Catadioptric projection systems | |
US6483638B1 (en) | Ultra-broadband UV microscope imaging system with wide range zoom capability | |
US5781278A (en) | Projection optical system and exposure apparatus with the same | |
KR20020089204A (ko) | 반사굴절 축소 렌즈 | |
US5903400A (en) | Projection-optical system for use in a projection-exposure apparatus | |
JP2001027727A (ja) | 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置 | |
JPH08171054A (ja) | 反射屈折光学系 | |
EP0869383A2 (en) | Catadioptric optical system | |
US4688904A (en) | Reflecting optical system | |
KR100288990B1 (ko) | 반사 굴절 축소 대물 렌즈 | |
EP0604093B1 (en) | Catadioptric reduction projection optical system | |
CA2375422A1 (en) | Image-recording device for a printing form, having macrooptics of the offner type | |
JPH1010429A (ja) | 2回結像光学系 | |
JPH1010430A (ja) | 2回結像光学系 | |
JPH11109244A (ja) | 反射屈折光学系 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19920208 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 19970108 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 19920208 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 19991029 Patent event code: PE09021S01D |
|
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20000531 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 19991029 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
AMND | Amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
PJ0201 | Trial against decision of rejection |
Patent event date: 20000905 Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal Patent event code: PJ02012R01D Patent event date: 20000531 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PJ02011S01I Appeal kind category: Appeal against decision to decline refusal Decision date: 20001121 Appeal identifier: 2000101002044 Request date: 20000905 |
|
PB0901 | Examination by re-examination before a trial |
Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event date: 20000905 Patent event code: PB09011R02I Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal Patent event date: 20000905 Patent event code: PB09011R01I Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event date: 19991224 Patent event code: PB09011R02I Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event date: 19970108 Patent event code: PB09011R02I |
|
B701 | Decision to grant | ||
PB0701 | Decision of registration after re-examination before a trial |
Patent event date: 20001121 Comment text: Decision to Grant Registration Patent event code: PB07012S01D Patent event date: 20001016 Comment text: Transfer of Trial File for Re-examination before a Trial Patent event code: PB07011S01I |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20010214 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20010214 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20040130 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20050128 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20060201 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20070126 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20080128 Year of fee payment: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20080128 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20100109 |