KR100281856B1 - A scanning type exposure apparatus and a scanning exposure method - Google Patents

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Abstract

위치 설정 및 이동을 높은 정확도로 제어할 수 있는 장치를 개시한다. 상기 장치는, 정류형 선형 모터를 이용하여, 가이드리스 스테이지를 평면내의 한 긴 직선 방향으로 이동시킬 뿐만 아니라 적은 편요 회전으로 이동시킨다. 단일 음성 코일 모터를 수용한 캐리어/종동자는, 긴 직선 이동 방향으로 스테이지를 추종하도록 제어된다. VCM 은 전자기력을 제공하여 평면 내에서 긴 직선 이동 방향에 수직인 직선 방향으로 스테이지를 미소 변위로 이동시키고 적절한 정렬을 확보한다. 정류형 선형 모터중 하나는 자유롭게 부양된 구동 어셈블리에 장착되며, 상기 구동 어셈블리는 하나의 선형 모터가 편요 보정에 이용된 장치의 무게 중심을 유지하기 위한 반력에 의해서 움직이는 것으로서, 2 개의 VCM 을 이용하여 달성 가능하다.Disclosed is a device capable of controlling positioning and movement with high accuracy. The device utilizes a rectified linear motor to move the guideless stage in one long straight direction in the plane as well as in small yaw rotations. The carrier / follower receiving a single voice coil motor is controlled to follow the stage in the long straight moving direction. The VCM provides an electromagnetic force to move the stage at microdisplacements in a straight line direction perpendicular to the long straight direction of movement in the plane and ensure proper alignment. One of the rectified linear motors is mounted in a freely driven drive assembly, which is driven by a reaction force to maintain the center of gravity of the device used for yaw correction, using two VCMs. Is achievable.

Description

주사형 노광 장치 및 주사 노광 방법 {A scanning type exposure apparatus and a scanning exposure method}A scanning type exposure apparatus and a scanning exposure method

본 발명은 정밀한 이동이 가능한 가동 스테이지에 관한 것으로서, 특히 고정밀 위치 설정 및 고속 이동이 가능하고 일 직선 방향으로의 이동이 가능한 스테이지 장치에 관한 것이며, 이러한 장치는 마이크로 리소그래픽 시스템에 양호하게 사용될 수 있는 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a movable stage capable of precise movement, and more particularly to a stage apparatus capable of high-precision positioning and high-speed movement and capable of moving in one linear direction, which apparatus can be well used in microlithographic systems. will be.

웨이퍼 스텝퍼에 있어서, 결상 (結像) 되는 레티클에 대한 노광 필드의 정렬은 이러한 필드 내의 회로의 성공 여부에 영향을 미친다. 주사형 노광 시스템에 있어서, 레티클과 웨이퍼는 노광시에 동시에 이동되며, 서로 가로질러 주사된다. 본 발명은, 이러한 시스템과 관련하여, 정밀한 주사 이동을 행하는 장치를 개시하는 것이다.In a wafer stepper, the alignment of the exposure field with respect to the reticle to be imaged affects the success or failure of the circuit in this field. In a scanning exposure system, the reticle and the wafer are moved simultaneously at the time of exposure and scanned across each other. The present invention discloses an apparatus for performing a precise scan movement in connection with such a system.

고정도를 얻기 위해서, 스테이지는 기계적인 외란으로부터 고립되어야 한다. 이것은, 전자기력을 이용하여 스테이지를 위치 설정 및 이동시킴으로써 얻어진다. 또한, 높은 제어 대역폭을 구비해야 하는데, 이는 스테이지가 가볍고 가동부가 없는 구조이어야 함을 요구하는 것이다. 더욱이, 스테이지는 과열이 발생하지 않아야 하는 데, 이는 간섭계 간섭 또는 기계적 변화가 유발되어 정렬 정밀도를 저하시키기 때문이다.To achieve high accuracy, the stage must be isolated from mechanical disturbances. This is obtained by positioning and moving the stage using an electromagnetic force. In addition, it must have a high control bandwidth, which requires that the stage be a light and moveable structure. Moreover, the stage should not cause overheating, because interferometer interference or mechanical change may be caused to degrade alignment accuracy.

미국 특허 제 4,506,204 호, 제 4,506,205 호, 및 제 4,507,597 호에 개시된 무정류형 전자기 정렬 장치는, 이들이 비경제적인 대형 자석과 코일 어셈블리 (coil assembly) 를 필요로 한다는 점에서, 그 실현성이 없다. 또한, 스테이지의 무게 및 발생된 열 때문에, 이들 설계들은 고정밀 용도로는 부적절하다.The rectified electromagnetic alignment devices disclosed in U.S. Patent Nos. 4,506,204, 4,506,205, and 4,507,597 are not feasible in that they require large magnets and coil assemblies that are uneconomical. Also, because of the weight of the stage and the heat generated, these designs are not suitable for high precision applications.

이러한 무정류형 장치를 개선한 것이 미국 특허 제 4,952,858 호에 개시되어 있으며, 이 미국 특허 제 4,952,858 호는, 평면 내에서 큰 변위 이동을 제공하기 위해 XY 방향에서 기계적으로 가이드되는 종래의 서브-스테이지를 이용함으로써, 대형 자석과 코일 어셈블리의 필요성을 제거한 것이다. 이러한 서브-스테이지상에 설치된 전자기 수단은 스테이지가 기계적인 외란으로부터 고립되게 한다. 그럼에도 불구하고, 서브-스테이지와 스테이지를 합친 무게는 여전히 낮은 제어 대역폭을 유발하며, 스테이지를 지지하는 전자기 요소에 의해 발생된 열은 여전히 존재한다.An improvement on such a rectifying device is disclosed in US Pat. No. 4,952,858, which uses a conventional sub-stage mechanically guided in the XY direction to provide large displacement movement in the plane. This eliminates the need for a large magnet and coil assembly. Electromagnetic means installed on this sub-stage allows the stage to be isolated from mechanical disturbances. Nevertheless, the combined weight of the sub-stage and stage still results in low control bandwidth, and there is still heat generated by the electromagnetic elements supporting the stage.

정류형 전자기 수단을 이용한 일반적인 장치가 종래의 무정류형 장치에 비해 상당히 개선된 것이기는 하지만, 낮은 제어 밴드폭 및 간섭계의 간섭 문제는 여전히 남아있다. 이러한 장치에 있어서, 서브-스테이지는 일 직선 방향으로 자기력에 의해 이동되고, 반면에 서브-스테이지에 설치된 정류형 전자기 수단은 스테이지를 그의 직교 방향으로 이동시킨다. 서브-스테이지는, 스테이지를 이동시키는 자석 궤도를 지지하기 때문에, 그 무게가 무겁다. 더욱이, 스테이지에서의 방열은 간섭계 정밀도를 저하시킨다.Although the conventional device using rectified electromagnetic means is a significant improvement over conventional non-rectified devices, low control bandwidth and interference problems of interferometers still remain. In such an apparatus, the sub-stage is moved by magnetic force in one straight direction, while the rectified electromagnetic means installed in the sub-stage moves the stage in its orthogonal direction. The sub-stage is heavy because it supports the magnet orbit that moves the stage. Moreover, heat radiation at the stage degrades the interferometer accuracy.

또한, 코일과 자석이 결합된 평행한 두 개의 선형 모터를 사용함으로써, 긴 일 직선 방향으로 가동 부재 (스테이지) 를 이동 (예를 들면, 10cm 이상) 시키는 것도 널리 공지되어 있다. 이러한 경우에 있어서, 스테이지는 일종의 직선 가이드 부재에 의해 가이드되고, 가이드 부재에 평행하게 설치된 선형 모터에 의해 일 직선 방향으로 구동된다. 스테이지를 극소량의 스트로크 (stroke) 범위까지만 구동하는 경우에는, 상기 종래 기술에 개시된 바와 같이, 일부 전자기 엑츄에이터를 결합하여 구성한 가이드리스 (guideless) 구조를 채택할 수 있다. 그러나, 가이드리스 스테이지를 일 직선 방향에서 긴 거리를 이동시키기 위해서는, 종래 기술에서와 같이 특별히 구조된 전자기 엑츄에이터가 필요하기 때문에, 장치는 대형화되고, 따라서, 소비 전력이 더 증가되는 문제점을 야기한다.It is also well known to move (e.g., 10 cm or more) the movable member (stage) in one long linear direction by using two parallel linear motors in which a coil and a magnet are coupled. In this case, the stage is guided by a kind of straight guide member and driven in one straight direction by a linear motor provided parallel to the guide member. When driving the stage only to a very small stroke range, a guideless structure constructed by combining some electromagnetic actuators can be adopted, as disclosed in the prior art. However, in order to move the guideless stage a long distance in one linear direction, since a specially structured electromagnetic actuator is required as in the prior art, the apparatus is enlarged, thus causing a problem that power consumption is further increased.

본 발명의 목적은, 전자기력을 이용하여 가이드리스 스테이지를 긴 직선 이동 방향으로 이동할 수 있도록 하는 것 및 저 관성 및 고 응답이 달성되는 경량의 장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a light weight device in which a guideless stage can be moved in a long linear moving direction by using an electromagnetic force, and low inertia and high response are achieved.

본 발명의 다른 목적은, 일 직선 방향 이동용 전자기 엑츄에이터로서, 시판중인 통상의 선형 모터를 이용한 가이드리스 스테이지 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a guideless stage device using a commercially available linear motor as an electromagnetic actuator for linear movement.

본 발명의 또 다른 목적은, 긴 직선 이동 방향에 직교한 방향으로 아무런 접촉없이 미소 변위량에 대해서, 능동적이고 정밀하게 위치 제어할 수 있는 가이드리스 스테이지 장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a guideless stage device capable of active and precise position control with respect to the small displacement amount without any contact in a direction orthogonal to the long linear moving direction.

본 발명의 또 다른 목적은, 일 직선 방향으로 이동하는 가동 부재 (스테이지 본체), 및 상기 가동 부재와 일정한 공간을 유지하면서 동일 방향으로 순차적으로 이동하는 제 2 가동 부재를 제공하고, 상기 제 2 가동 부재와 스테이지 본체간의 직선 방향에 직교한 방향으로 전자기력 (작용력 및 반작용력) 을 제공함으로써, 완전 비접촉 스테이지 장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a movable member (stage main body) moving in one linear direction and a second movable member sequentially moving in the same direction while maintaining a constant space with the movable member. By providing the electromagnetic force (action force and reaction force) in a direction orthogonal to the linear direction between the member and the stage main body, it is to provide a completely non-contact stage device.

본 발명의 또 다른 목적은, 물체를 지지하면서 이동하는 비접촉 스테이지 본체에 접속된 여러가지 케이블 및 관 (tube) 의 장력을 변화시킴으로써, 위치 설정 및 주행 정밀도가 저하되는 것을 방지할 수 있는 비접촉 스테이지 장치를 제공하는 것이다.A further object of the present invention is to provide a non-contact stage apparatus capable of preventing the positioning and running accuracy from deteriorating by changing the tension of various cables and tubes connected to the non-contact stage main body moving while supporting an object. To provide.

본 발명의 또 다른 목적은, 서로 반대의 직선 방향으로 이동하는 제 1 및 제 2 가동 부재를 평행하게 배치함으로써, 높이가 낮은 비접촉 장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a non-contact device having a low height by arranging the first and second movable members moving in parallel in opposite straight directions in parallel.

본 발명의 또 다른 목적은, 비접촉 스테이지 본체가 일 직선 방향으로 이동하는 경우에도, 전체 장치의 무게 중심의 위치를 변경하지 않도록 구성된 장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an apparatus configured not to change the position of the center of gravity of the entire apparatus, even when the non-contact stage body moves in one linear direction.

상기 주요 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 하기 내용을 특징으로 하여 구성된다.In order to achieve the main object, the present invention is characterized by the following contents.

고정도로 위치 및 이동 제어를 할 수 있는 장치를 개시한다. 상기 장치는, 정류형 선형 모터를 이용하여, 가이드리스 스테이지를 평면내의 긴 일 직선 방향으로 이동시킬 뿐만 아니라 적은 편요 (yaw:偏搖) 회전으로 이동시킨다. 단일 음성 코일 모터 (VCM) 를 수용한 캐리어/종동자 (carrier/follower) 는, 긴 직선 이동 방향으로 스테이지를 대략적으로 추종 (follow) 하도록 제어된다. VCM 은 전자기력을 제공하여 평면 내에서 긴 직선 이동 방향에 직교한 직선 방향으로 스테이지를 미소 변위로 이동시켜 적절한 정렬을 확보한다. 이러한 종동자 설계는, 스테이지에 접속된 케이블이 캐리어/종동자를 통해 스테이지를 추종하기 때문에, 스테이지에 대한 케이블 항력 (抗力) 의 문제점이 해소된다. 캐리어/종동자를 외부 장치와 연결시키는 케이블은 일정량의 항력을 가지지만, 캐리어/종동자상의 VCM 은 기계적인 외란이 스테이지로 전달되는 것을 저지하는 것에 의해 버퍼로서 작용하기 때문에, 스테이지는 이러한 외란을 받지 않는다.Disclosed is a device capable of position and movement control with high accuracy. The device uses a rectified linear motor to not only move the guideless stage in one long straight direction in the plane but also in a small yaw rotation. Carriers / followers that receive a single voice coil motor (VCM) are controlled to approximately follow the stage in the long straight direction of travel. The VCM provides an electromagnetic force to move the stage in a small displacement in a straight line perpendicular to the long straight direction of movement in the plane to ensure proper alignment. This follower design eliminates the problem of cable drag to the stage because the cable connected to the stage follows the stage via the carrier / follower. The cable that connects the carrier / follower with an external device has a certain amount of drag, but because the VCM on the carrier / follower acts as a buffer by preventing mechanical disturbance from propagating to the stage, the stage can eliminate this disturbance. Do not receive.

본 발명의 특징으로서, 정류형 선형 모터가 스테이지의 양측에 설치되고 구동 프레임상에 장착된다. 각 정류형 선형 모터는 코일 부재와 자석 부재를 포함하며, 이들 중 하나는 스테이지의 양측중 어느 한 측에 장착되고, 다른 하나는 구동 프레임상에 장착된다. 양쪽 모터는 동일한 방향으로 구동된다. 약간 다른 거리로 이들 모터를 구동하게 되면, 스테이지에는 적은 편요 회전이 발생하게 된다.As a feature of the invention, a rectified linear motor is installed on both sides of the stage and mounted on a drive frame. Each rectified linear motor comprises a coil member and a magnet member, one of which is mounted on either side of the stage and the other on the drive frame. Both motors are driven in the same direction. Driving these motors at slightly different distances will result in less yaw rotation in the stage.

본 발명의 다른 태양에 있어서, 운동량 보존의 원리를 이용하여, 임의의 스테이지 이동시에도 스테이지 시스템의 무게 중심의 위치가 보존되도록 하기 위해, 가동 카운터-웨이트 (counter-weight) 가 제공된다. 본 발명의 실시예에 있어서, 각 선형 모터의 한 부재를 지지하는 구동 프레임은 베이스 구조위에 부양되고, 구동 어셈블리가 베이스 구조상의 한 방향으로 스테이지를 이동시키기 위해 스테이지에 작용력을 가하게 되면, 구동 프레임은 반작용력에 대응하여 반대 방향으로 이동함으로써 장치의 무게 중심을 실질적으로 보존한다. 본 장치는, 스테이지 시스템과 스테이지 시스템이 장착된 베이스 구조간의 어떠한 반작용력도 실질적으로 제거함으로써, 시스템에 대한 진동의 영향을 극소화시키면서도 고가속을 용이하게 한다.In another aspect of the present invention, using the principle of momentum conservation, a movable counter-weight is provided so that the position of the center of gravity of the stage system is preserved even at any stage movement. In an embodiment of the present invention, the drive frame supporting one member of each linear motor is lifted on the base structure, and when the drive assembly exerts an acting force on the stage to move the stage in one direction on the base structure, the drive frame is By moving in the opposite direction in response to the reaction force, the device's center of gravity is preserved substantially. The apparatus substantially eliminates any reaction forces between the stage system and the base structure on which the stage system is mounted, thereby facilitating high acceleration while minimizing the effects of vibration on the system.

스테이지의 이동을 3 개의 특정 자유도로 제한함으로써, 장치는 간단해 진다. 시판중인 전자기 부품을 이용하기 때문에, 장치 설계는 스테이지의 치수 변경에 대해 용이하게 적응될 수 있다.By limiting the movement of the stage to three specific degrees of freedom, the apparatus is simplified. Because of the use of commercially available electromagnetic components, the device design can be easily adapted to changing the dimensions of the stage.

이러한 고정도의 위치 설정 장치는, 일 직선 방향으로 원할하고 정밀한 주사 이동을 제공하고 그리고 주사 방향과 수직한 방향에서의 미소 변위 이동 및 평면 내의 적은 편요 회전을 제어하여 정밀한 정렬을 보장함으로써, 주사형 노광 장치의 레티클 스캐너로 사용하는 것이 이상적이다.This high-precision positioning device provides a smooth and precise scanning movement in one linear direction and controls precise displacement movements in the direction perpendicular to the scanning direction and less unstable rotation in the plane to ensure precise alignment, thereby providing a scanning exposure. Ideal for use as a reticle scanner for your device.

본 발명의 다른 태양과 특징 및 장점은 첨부 도면을 참조하여 설명한 하기의 상세한 설명으로부터 더 명백해 질 것이다. 각 도면에서, 동일한 도면부호는 동일한 요소를 가르킨다.Other aspects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description set forth with reference to the accompanying drawings. In each figure, like reference numerals refer to like elements.

도 1 은 본 발명에 따른 장치의 개략 사시도.1 is a schematic perspective view of a device according to the invention.

도 2 는 제 1 도에 도시된 장치의 평면도.2 is a plan view of the apparatus shown in FIG.

도 3 은 도 2 에 도시된 구조를 선 3-3' 을 따라 단면을 취해 화살표 방향에서 본 입면도.FIG. 3 is an elevation view of the structure shown in FIG. 2 taken along the line 3-3 'in the direction of the arrow; FIG.

도 4a 는 도 1 의 캐리어/종동자를 도시한 것으로서, 위치 설정 가이드로부터 전개된 부분 전개 확대사시도.4A is a partially exploded perspective view of the carrier / follower of FIG. 1, deployed from a positioning guide;

도 4b 는 도 5 에 도시된 구조의 일부를 선 4B-4B' 을 따라 단면을 취해 화살표 방향에서 본 확대 수평 단면도.4B is an enlarged horizontal cross-sectional view of a portion of the structure shown in FIG. 5 taken along the line 4B-4B 'in the direction of the arrow;

도 4c 는 음성 코일 모터가 제거된 도 2 에 도시된 구조의 일부를 선 4C-4C' 을 따라 단면을 취해 화살표 방향에서 본 확대 수직 단면도.4C is an enlarged vertical cross-sectional view of a portion of the structure shown in FIG. 2 with the voice coil motor removed, taken along the line 4C-4C 'in the direction of the arrow;

도 5 는 도 2 에 도시된 구조의 일부를 선 5-5' 을 따라 단면을 취해 화살표 방향에서 본 확대 수직 단면도.FIG. 5 is an enlarged vertical sectional view of a portion of the structure shown in FIG. 2, taken along the line 5-5 'in the direction of the arrow; FIG.

도 6 은 스테이지의 위치 제어용 감지 및 제어 시스템을 개략적으로 예시하는 블럭도.6 is a block diagram schematically illustrating a sensing and control system for position control of a stage.

도 7 은 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하는 도 2 와 유사한 평면도.7 is a plan view similar to FIG. 2 showing a preferred embodiment of the present invention;

도 8 은 도 7 에 도시된 구조를 선 8-8' 을 따라 단면을 취해 화살표 방향에서 본 수직 단면도.FIG. 8 is a vertical sectional view of the structure shown in FIG. 7 taken along the line 8-8 ′ in the direction of the arrow; FIG.

도 9 및 도 10 은 본 발명의 다른 실시예를 도시하는 것으로서, 도 7 및 도 8 과 유사한 개략도.9 and 10 show another embodiment of the present invention, a schematic view similar to FIGS. 7 and 8;

※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of codes for main parts of drawing

12 : 베이스 구조12: base structure

14 : 스테이지14: stage

15 : 레이저 간섭계 시스템15: laser interferometer system

16 : 위치 제어 시스템16: position control system

17 : 가이드 부재17: guide member

18, 62 : 지지 브래킷18, 62: support bracket

22, 52A, 52B : 구동 어셈블리22, 52A, 52B: Drive Assembly

24 : 아암24: arm

32, 66A, 66B, 66C : 에어 베어링32, 66A, 66B, 66C: Air Bearing

42 : 레티클 본체42: reticle body

44 : 레티클44: reticle

54A, 54B, 68, 74 : 구동 코일54A, 54B, 68, 74: drive coil

56A, 56B : 자석 궤도56A, 56B: Magnetic Orbits

60 : 캐리어/종동자60 carrier / follower

72 : 자석72: magnet

80 : 커넥터80: connector

제 1 실시예의 설명Description of the first embodiment

본 발명은 일반적으로 전자기 정렬 장치에 응용하는 것이지만, 바람직한 실시예는 도 1 내지 도 6 에 도시된 바와 같은 레티클 스테이지용 주사 장치를 포함한다.Although the present invention is generally applicable to electromagnetic alignment devices, preferred embodiments include injection devices for reticle stages as shown in FIGS.

도면을 참조하면, 본 발명의 위치 설정 장치 (10) 는 필요에 따라 레티클 스테이지 (14) 가 부양되어 이동되는 베이스 구조 (12), 레티클 스테이지의 위치를 추적하는 레이저 간섭계 시스템 (15), 위치 센서 (13), 및 CPU (16') (도 6 참조) 에 의해 작동되는 위치 제어 시스템 (16) 을 포함한다.Referring to the drawings, the positioning device 10 according to the present invention includes a base structure 12 in which the reticle stage 14 is supported and moved as necessary, a laser interferometer system 15 for tracking the position of the reticle stage, and a position sensor. 13, and a position control system 16 operated by the CPU 16 '(see FIG. 6).

위치 설정용의 기다란 가이드 부재 (17) 은 베이스 (12) 상에 장착되고, 지지 브래킷 (18) (예시된 실시예의 2 개 브래킷) 은 예를 들어 에어 베어링 (20) 에 의해 가이드 부재 (17) 상에서 이동 가능하게 지지된다. 지지 브래킷 (18) 은, 레티클 스테이지 (14) 를 X 방향으로 구동하고 적은 편요 회전으로 구동하기 위해서, 자석 궤도 어셈블리 형태의 구동 어셈블리 (22) 또는 구동 프레임에 접속된다. 구동 프레임은 한 쌍의 평행 이격된 자석 궤도 아암 (24, 26) 을 포함하며, 이들 아암 (24, 25) 은 크로스 아암 (28, 30) 의해 서로 연결되어 개방된 직사각형을 형성한다. 바람직한 실시예에 있어서, 구동 프레임 (22) 은 베이스 구조 (12) 상에서 예를 들어 에어 베어링 (32) 에 의해 이동 가능하도록 지지되기 때문에, 구동 프레임은 베이스 구조상에서 레티클 스테이지의 주사 이동의 소망되는 주 방향, 즉 가이드 부재 (17) 의 길이 방향축과 정렬된 방향에서 자유롭게 이동한다. 여기서 사용된 '한 방향' 또는 '제 1 방향' 은, 레티클 스테이지 (14) 또는 구동 프레임 (22) 이 가이드 부재 (17) 의 길이 방향축에 정렬된 선을 따르는 X 방향에서 전방 또는 후방으로 이동한다는 의미이다.The elongated guide member 17 for positioning is mounted on the base 12, and the support bracket 18 (two brackets of the illustrated embodiment) is for example guided by the air bearing 20. It is supported to be movable on the plane. The support bracket 18 is connected to the drive assembly 22 or the drive frame in the form of a magnet track assembly in order to drive the reticle stage 14 in the X direction and to drive it in a small yaw rotation. The drive frame comprises a pair of parallel spaced magnetic track arms 24, 26, which arms 24, 25 are connected to each other by cross arms 28, 30 to form an open rectangle. In the preferred embodiment, since the drive frame 22 is supported to be movable on the base structure 12 by, for example, an air bearing 32, the drive frame is the desired principal of scan movement of the reticle stage on the base structure. Direction, that is, freely moving in the direction aligned with the longitudinal axis of the guide member 17. As used herein, 'one direction' or 'first direction' means that the reticle stage 14 or drive frame 22 moves forward or backward in the X direction along a line aligned with the longitudinal axis of the guide member 17. I mean.

더 상세히 설명하기 위해서 도 1 및 도 5 를 참조하면, X 방향으로 연장된 가이드 부재 (17) 는, 베이스 구조 (12) 의 표면 (12A) 에 거의 수직한 전방 및 후방 가이드 표면 (17A, 17B) 을 갖는다. 전방 가이드 표면 (17A) 은 직사각형 구동 프레임 (22) 과 대향하고 있으며, 지지 브래킷 (18) 의 내측면에 고정된 에어 베어링 (20) 을 가이드한다. 지지 브래킷 (18) 은 구동 프레임 (22) 의 가이드 부재 (17) 에 평행한 아암 (24) 상면의 각 단부상에 장착된다. 더욱이, 각 지지 브래킷 (18) 은 훅크 형상으로 형성되었기 때문에, 가이드 부재 (17) 에 Y 방향으로 가로질러 있게 되고, 가이드 부재 (17) 의 후방 가이드 표면 (17B) 에 대향하는 자유 단부를 가진다. 에어 베어링 (20') 은 지지 브래킷 (18) 의 자유 단부 내측에 그리고 후방 가이드 표면 (17B) 에 대향하게 고정된다. 따라서, 각 지지 브래킷 (18) 의 Y 방향으로의 이동은 가이드 부재 (17) 및 에어 베어링 (20, 20') 에 의해 구속되며, 단지 X 방향으로만 이동 가능하다.1 and 5, the guide member 17 extending in the X direction is the front and rear guide surfaces 17A, 17B substantially perpendicular to the surface 12A of the base structure 12. Has The front guide surface 17A faces the rectangular drive frame 22 and guides the air bearing 20 fixed to the inner side of the support bracket 18. The support bracket 18 is mounted on each end of the upper surface of the arm 24 parallel to the guide member 17 of the drive frame 22. Furthermore, since each support bracket 18 is formed in the shape of a hook, it crosses the guide member 17 in the Y direction, and has a free end opposite to the rear guide surface 17B of the guide member 17. The air bearing 20 'is fixed inside the free end of the support bracket 18 and opposite the rear guide surface 17B. Therefore, the movement of each support bracket 18 in the Y direction is constrained by the guide member 17 and the air bearings 20 and 20 ', and can only move in the X direction.

다음으로, 본 발명의 제 1 실시예에 있어서, 구동 프레임 (22) 의 4 개의 직사각형 부분의 바닥면에 고정된 에어 베어링 (32) 은 베이스 구조 (12) 의 표면 (12A) 과 패드면 사이에 일정한 갭 (1 내지 수 ㎛) 의 공기층을 형성한다. 구동 프레임 (22) 은 공기층에 의해 표면 (12A) 으로부터 부양되어 수직 (Z 방향) 으로 지지된다. 상세히 후술하겠지만, 도 1 에 있어서, 긴 아암 (24) 의 상부 위에 위치 설정된 캐리어/종동자 (60) 는 가이드 부재 (17) 의 양면 (17A, 17B) 에 대해서 브래킷 (62) 에 의해 지지된 에어 베어링 (66A, 66B) 에 의해 횡방향 (Y 방향) 으로 지지되고, 베이스 구조 (12) 의 표면 (12A) 위의 에어 베어링 (66) 에 의해 수직 방향 (Z 방향) 으로 지지된다. 그러므로, 캐리어/종동자 (60) 는 구동 프레임 (22) 의 어느 부분과도 접촉하지 않게 위치 설정된다. 따라서, 구동 프레임 (22) 은, 베이스 표면 (12A) 위에서 가이드 부재 (17) 에 의해 측면으로 가이드되어, 일 직선 X 방향으로만 이동한다.Next, in the first embodiment of the present invention, the air bearing 32 fixed to the bottom surface of the four rectangular portions of the drive frame 22 is disposed between the surface 12A of the base structure 12 and the pad surface. It forms an air layer of constant gap (1 to several micrometers). The drive frame 22 is supported from the surface 12A by the air layer and supported vertically (Z direction). As will be described later in detail, in FIG. 1, the carrier / follower 60 positioned on the upper portion of the long arm 24 is supported by the bracket 62 with respect to both sides 17A, 17B of the guide member 17. It is supported in the transverse direction (Y direction) by the bearings 66A and 66B, and is supported in the vertical direction (Z direction) by the air bearing 66 on the surface 12A of the base structure 12. Therefore, the carrier / follower 60 is positioned so that it does not come into contact with any part of the drive frame 22. Therefore, the drive frame 22 is guided laterally by the guide member 17 on the base surface 12A, and moves only in one straight line X direction.

다음으로, 도 1 및 도 2 를 참조하여 레티클 스테이지 (14) 와 구동 프레임 (22) 의 구조를 설명한다. 레티클 스테이지 (14) 는, 레티클 (44) 이 개구 (46) 위에 위치 설정되는 주본체 (42) 를 포함한다. 레티클 본체 (42) 는 한 쌍의 대향 측부 (42A, 42B) 를 포함하며, 예를 들어 에어 베어링 (48) 에 의해 베이스 구조 (12) 위에 위치 설정되거나 부양된다. 레티클 스테이지 (14) 의 주본체 (42) 에 제공된 다수의 간섭계 미러 (50) 는, 레이저 간섭계 위치 감지 시스템 (15) (도 6 참조) 과 함께 작동하여, 레티클 스테이지 (14) 를 원하는 대로 이동시키기 위한 적절한 구동 신호를 지시하기 위해 위치 제어 시스템 (16) 에 공급되는 스테이지의 적정한 위치를 결정한다.Next, the structures of the reticle stage 14 and the drive frame 22 will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The reticle stage 14 includes a main body 42 in which the reticle 44 is positioned above the opening 46. The reticle body 42 includes a pair of opposing sides 42A, 42B and is positioned or lifted above the base structure 12 by, for example, an air bearing 48. A plurality of interferometer mirrors 50 provided on the main body 42 of the reticle stage 14 work in conjunction with the laser interferometer position sensing system 15 (see FIG. 6) to move the reticle stage 14 as desired. Determine the proper position of the stage supplied to the position control system 16 to indicate an appropriate drive signal for the.

레티클 스테이지 (14) 의 기본적인 이동은, 제 1 전자기 구동 어셈블리 또는 각 대향 측부 (42A, 42B) 상의 개별 구동 어셈블리 (52A, 52B) 형태의 수단에 의해 달성된다. 구동 어셈블리 (52A, 52B) 는 레티클 스테이지 (14) 의 측부 (42A, 42B) 에 각각 고정적으로 장착된 구동 코일 (54A, 54B) 을 포함하며, 이러한 구동 코일은 구동 프레임 (22) 의 자석 궤도 아암 (24, 26) 상의 각 자석 궤도 (56A, 56B) 와 협동한다. 본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 자석 코일이 레티클 스테이지상에 장착되고 자석은 구동 프레임 (22) 에 장착되지만, 전자기 구동 어셈블리 (52) 의 이들 요소의 배치는 서로 뒤바뀔 수 있다.Basic movement of the reticle stage 14 is achieved by means in the form of a first electromagnetic drive assembly or separate drive assemblies 52A, 52B on each opposing side 42A, 42B. The drive assemblies 52A, 52B include drive coils 54A, 54B fixedly mounted to the sides 42A, 42B of the reticle stage 14, respectively, which drive coil arm of the drive frame 22. It cooperates with each magnet orbit 56A, 56B on (24, 26). In a preferred embodiment of the present invention, the magnet coil is mounted on the reticle stage and the magnet is mounted on the drive frame 22, but the arrangement of these elements of the electromagnetic drive assembly 52 can be reversed.

여기에서, 레티클 스테이지 (14) 의 구조를 더 상세히 설명한다. 도 1 에 도시된 바와 같이, 스테이지 본체 (42) 는 구동 프레임 (22) 내측의 직사각형 공간내에서 Y 방향으로의 이동이 자유롭도록 설치된다. 스테이지 본체 (42) 의 각 4 개 코너 아래에 고정된 에어 베어링 (48) 은, 패드면과 베이스 표면 (12A) 사이에 매우 적은 에어갭을 만들어, 전체 스테이지 (14) 를 표면 (12A) 으로부터 부양시켜 지지한다. 이러한 에어 베어링 (48) 은 표면 (12A) 에 진공 흡인용 리세스부를 가진 예압 (pre-loaded) 형으로 장착되는 것이 바람직하다.Here, the structure of the reticle stage 14 will be described in more detail. As shown in FIG. 1, the stage main body 42 is provided so that movement to a Y direction is free in the rectangular space inside the drive frame 22. As shown in FIG. The air bearings 48 fixed below each of the four corners of the stage body 42 create very little air gap between the pad surface and the base surface 12A to lift the entire stage 14 from the surface 12A. Support it. This air bearing 48 is preferably mounted in a pre-loaded type with a recess for vacuum suction on the surface 12A.

도 2 에 도시된 바와 같이, 레티클 (44) 상에 형성된 패턴의 투영상이 통과되도록, 스테이지 본체 (42) 중심부 내에 직사각형 개구 (46) 가 제공된다. 투영 영상이 직사각형 개구 (46) 를 통해 직사각형 개구 아래에 설치된 투영 광학 시스템 (PL) (도 5 를 참조) 을 통과하도록 하기 위해서, 베이스 구조 (12) 의 중심부에 다른 개구 (12B) 가 구비된다. 레티클 (44) 은, 직사각형 개구 (46) 둘레의 4 점에 돌출되어 위치하는 클램핑 부재 (43C) 에 의해, 스테이지 본체의 상면에 장착되고, 진공 압력에 의해 클램프된다.As shown in FIG. 2, a rectangular opening 46 is provided in the center of the stage main body 42 so that the projection image of the pattern formed on the reticle 44 is passed through. In order to allow the projected image to pass through the rectangular aperture 46 through the projection optical system PL (see FIG. 5) installed below the rectangular aperture, another aperture 12B is provided in the center of the base structure 12. The reticle 44 is mounted on the upper surface of the stage main body by the clamping member 43C protruding at four points around the rectangular opening 46, and clamped by vacuum pressure.

다음으로, 아암 (26) 근처에서 스테이지 본체 (42) 의 측부 (42B) 가까이에 고정된 간섭계 미러 (50Y) 는, X 방향으로 긴 수직 반사면을 가지며, 상기 수직 반사면의 길이는 X 방향에서의 스테이지 (14) 의 가동 스트로크보다 다소 더 길며, Y 축 간섭계로부터의 레이저 빔 (LBY) 은 상기 반사면에 수직으로 입사한다. 도 2 에 있어서, 레이저 빔 (LBY) 은 베이스 구조 (12) 의 측부에 고정된 미러 (12D) 에 의해 직각으로 꺽이게 된다.Next, the interferometer mirror 50Y fixed near the side 42B of the stage main body 42 near the arm 26 has a vertical reflecting surface long in the X direction, and the length of the vertical reflecting surface is in the X direction. Slightly longer than the movable stroke of stage 14, the laser beam LBY from the Y axis interferometer enters the reflection plane perpendicularly. In FIG. 2, the laser beam LBY is bent at right angles by the mirror 12D fixed to the side of the base structure 12. As shown in FIG.

다음으로, 도 2 의 선 3-3' 의 부분 단면도인 도 3 을 참조하면, 간섭계 미러(50Y) 의 반사면상에 입사한 레이저 빔 (LBY) 은, 클램핑 부재 (42c) 상에 장착된 레티클 (44) 의 바닥면 (패턴이 형성된 표면) 과 동일 평면에 위치하게 된다. 더욱이, 도 3 에는, 가이드 부재 (17) 의 가이드 표면 (17B) 에 대향하는 지지 브래킷 (18) 의 단부 측면상의 에어 베어링 (20) 도 도시되어 있다.Next, referring to FIG. 3, which is a partial cross-sectional view of the line 3-3 ′ of FIG. 2, the laser beam LBY incident on the reflecting surface of the interferometer mirror 50Y is mounted on the clamping member 42c ( It is located on the same plane as the bottom surface (the surface on which the pattern is formed). 3 also shows an air bearing 20 on the end side of the support bracket 18 opposite the guide surface 17B of the guide member 17.

도 1 및 도 2 를 재참조하면, X1 축 간섭계로부터의 레이저 빔 (LBX1) 이 입사하여 간섭계 미러 (50X1) 상에서 반사되며, X2 축 간섭계로부터의 레이저 빔 (LBX2) 이 입사하여 간섭계 미러 (50X2) 상에서 반사된다. 이러한 2 개 미러 (50X1, 50X2) 는 코너 튜브형의 미러로 구성되며, 스테이지 (14) 가 편요 회전하는 경우에도, 이러한 미러는 레이저 빔의 입사축 및 반사축이 XY 평면 내에서 항상 평행을 유지하게 한다. 또한, 도 2 의 블럭 (12C) 은 레이저 빔 (LBX1, LBX2) 이 미러 (50X1, 50X2) 각각으로 향하게 하는 프리즘과 같은 광학 블럭으로서, 베이스 구조 (12) 의 일부에 고정되어 있다. 레이저 빔 (LBY) 에 대응하는 블럭은 도시되지 않았다.Referring again to FIGS. 1 and 2, the laser beam LBX1 from the X1-axis interferometer is incident and reflected on the interferometer mirror 50X1, and the laser beam LBX2 from the X2-axis interferometer is incident and the interferometer mirror 50X2. Reflected in the phase. These two mirrors 50X1 and 50X2 are composed of corner tubular mirrors, and even if the stage 14 rotates unevenly, this mirror ensures that the incident and reflective axes of the laser beam are always parallel in the XY plane. do. In addition, the block 12C of FIG. 2 is an optical block such as a prism for directing the laser beams LBX1 and LBX2 to the mirrors 50X1 and 50X2, respectively, and is fixed to a part of the base structure 12. The block corresponding to the laser beam LBY is not shown.

도 2 에 있어서, 두 레이저 빔 (LBX1, LBX2) 의 각 중심선간의 Y 방향에서의 거리 (BL) 는 편요 회전량을 계산하는데 이용되는 기준선의 길이이다. 따라서, X1 축 간섭계의 X 방향에서의 측정값 (△X1) 과 X2 축 간섭계의 X 방향에서의 측정값 (△X2) 간의 차이값을 기준선의 길이 (BL) 로 나눈 값은 매우 적은 범위에서의 편요 회전의 대략적이 값이다. 또한, △X1 과 △X2 의 합의 절반은 전체 스테이지 (14) 의 X 좌표 위치를 나타낸다. 이러한 계산은 도 6 에 도시된 위치 제어 시스템 (16) 내의 고속 디지털 프로세서에 의해 행해진다.In Fig. 2, the distance BL in the Y direction between the centerlines of the two laser beams LBX1 and LBX2 is the length of the reference line used to calculate the yaw rotation amount. Therefore, the value obtained by dividing the difference between the measured value (ΔX1) in the X direction of the X1-axis interferometer and the measured value (ΔX2) in the X direction of the X2-axis interferometer by the length of the reference line BL is in a very small range. Approximate value of yaw rotation. In addition, half of the sum of DELTA X1 and DELTA X2 represents the X coordinate position of the entire stage 14. This calculation is done by a high speed digital processor in the position control system 16 shown in FIG.

또한, 레이저 빔 (LBX1, LBX2) 각각의 중심선은 레티클 (44) 에 패턴이 형성된 면과 동일한 표면에 설정된다. 도 2 에 도시되어 있으며 레이저 빔 (LBX1, LBX2) 각각의 중심선 사이의 공간을 절반으로 가르는 선 (GX) 의 연장선과 레이저 빔 (LBY) 의 연장선은 패턴이 형성된 동일면에서 교차한다. 또한, 도 1 에 도시된 바와 같이, 광축 (AX) (도 1 및 도 5 참조) 도 상기 교차점에서 교차한다. 도 1 에 있어서는, 광축 (AX) 을 포함하는 슬릿형 조사 필드 (ILS) 가 레티클 (44) 상에 도시되어 있으며, 레티클 (44) 의 패턴상은 투영 광학 시스템 (PL) 을 통해 광감지 기판상에 주사 및 노광된다.Further, the center line of each of the laser beams LBX1 and LBX2 is set on the same surface as the surface on which the pattern is formed on the reticle 44. As shown in FIG. 2, the extension line of the line GX and the extension line of the laser beam LBY intersect half the space between the centerlines of each of the laser beams LBX1 and LBX2 intersect at the same plane on which the pattern is formed. 1, the optical axis AX (see FIGS. 1 and 5) also intersects at this intersection. In FIG. 1, a slit-shaped irradiation field ILS comprising an optical axis AX is shown on the reticle 44, and the pattern image of the reticle 44 is on the photosensitive substrate via the projection optical system PL. Scanned and exposed.

더욱이, 도 1 및 도 2 에 도시된 바와 같이, 두 직사각형 블럭 (90A, 90B) 이 스테이지 본체 (42) 의 측부 (42A) 에 고정되어 있다. 이들 두 블럭 (90A, 90B) 은 캐리어/종동자 (60) 에 장착된 제 2 전자기 엑츄에이터 (70) 로부터의 Y 방향 구동력을 수용하기 위한 것이다. 이것에 대해서는 나중에 상세히 설명한다.Furthermore, as shown in Figs. 1 and 2, two rectangular blocks 90A and 90B are fixed to the side 42A of the stage main body 42. These two blocks 90A, 90B are for receiving the Y direction driving force from the second electromagnetic actuator 70 mounted to the carrier / follower 60. This will be described later in detail.

스테이지 본체 (42) 의 양측에 고정된 구동 코일 (54A, 54B) 은 XY 평면에 평탄하고 평행하게 형성되며, 자석 궤도 (56A, 56B) 의 X 방향으로 연장된 슬롯내의 자속 공간을 아무 접촉없이 통과한다. 본 실시예에 이용된 구동 코일 (54)과 자석 궤도 (56) 의 어셈블리는 시판중인 것으로서 입수가 용이한 범용의 선형 모터이며, 정류기의 존재 유무와는 상관이 없다.The drive coils 54A and 54B fixed to both sides of the stage main body 42 are formed flat and parallel to the XY plane, and pass without any contact through the magnetic flux space in the slots extending in the X direction of the magnet tracks 56A and 56B. do. The assembly of the drive coil 54 and the magnet track 56 used in the present embodiment is a commercially available general-purpose linear motor that is commercially available and has no relation to the presence or absence of a rectifier.

여기에서, 실제 설계를 고려하면, 레티클 스테이지 (14) 의 이동 스크로크는 레티클 (44) 의 크기 (노광을 위해 주사하는 경우에 필요한 이동량과 레티클을 교환하기 위해 조사 광학 장치로부터 레티클을 제거하는 경우에 필요한 이동량) 에 의해 대부분이 결정된다. 본 실시예에 있어서, 6 인치 레티클을 사용하는 경우에, 이동 스크로크는 대략 30cm 이다.Here, considering the actual design, the moving stroke of the reticle stage 14 is the size of the reticle 44 (if the reticle is removed from the irradiation optics to exchange the reticle with the amount of movement required when scanning for exposure). Is largely determined by the amount of movement required. In this embodiment, when using a 6 inch reticle, the moving stroke is approximately 30 cm.

상기한 바와 같이, 구동 프레임 (22) 및 스테이지 (14) 는 베이스 표면 (12A) 상에 독립적으로 부양 지지되며, 이와 동시에 자기 작용력 및 반작용력이 선형 모터 (52) 에 의해서만 X 방향으로 서로 가해진다. 이 때문에, 구동 프레임 (22) 과 스테이지 (14) 간에는 운동량 보전 법칙이 성립한다.As described above, the drive frame 22 and the stage 14 are independently supported on the base surface 12A while at the same time magnetic and reaction forces are exerted on each other in the X direction only by the linear motor 52. . For this reason, the law of momentum conservation holds between the drive frame 22 and the stage 14.

다음으로, 전체 레티클 스테이지 (14) 의 중량이 지지 브래킷 (18) 을 포함한 프레임 (22) 전체 중량의 대략 1/5 이면, X 방향에서의 스테이지 (14) 의 30cm 전방 이동은 구동 프레임 (22) 이 X 방향에서 6cm 후방으로 이동하게 한다. 이것은 베이스 구조 (12) 상의 장치의 무게 중심의 위치가 X 방향에서 실질적으로 고정되어 있다는 의미이다. Y 방향에 있어서, 큰 중량의 물체는 이동하지 않는다. 따라서, Y 방향에서의 무게 중심의 위치 변화도 비교적 고정된다.Next, if the weight of the entire reticle stage 14 is approximately 1/5 of the total weight of the frame 22 including the support bracket 18, the 30 cm forward movement of the stage 14 in the X direction results in a drive frame 22. Let it move back 6 cm in the X direction. This means that the position of the center of gravity of the device on the base structure 12 is substantially fixed in the X direction. In the Y direction, heavy objects do not move. Therefore, the positional change of the center of gravity in the Y direction is also relatively fixed.

상기한 바와 같이, 스테이지 (14) 가 X 방향으로는 이동 가능하지만, 선형 모터 (52) 의 가동 코일 (54A, 54B) 과 고정자 (56A, 56B) 는 X 방향 엑츄에이터 없이 Y 방향에서는 서로 간섭한다 (충돌한다). 그러므로, 본 발명의 특징적 구성 요소인 캐리어/종동자 (60) 와 제 2 전자기 엑츄에이터 (70) 는 스테이지 (14) 를 Y 방향으로 제어하기 위해 제공된다.As described above, the stage 14 is movable in the X direction, but the movable coils 54A, 54B and the stators 56A, 56B of the linear motor 52 interfere with each other in the Y direction without the X direction actuator ( Crashes). Therefore, the characteristic components of the present invention, the carrier / follower 60 and the second electromagnetic actuator 70 are provided for controlling the stage 14 in the Y direction.

다음으로, 도 1 내지 도 3, 및 도 5 를 참조하여 이들의 구조를 설명한다.Next, their structures will be described with reference to FIGS. 1 to 3 and 5.

도 1 에 도시된 바와 같이, 캐리어/종동자 (60) 는 가이드 부재 (17) 에 가로질러 있는 후크형 지지 브래킷 (62) 을 통해 Y 방향으로 이동 가능하도록 설치된다. 더욱이, 도 2 에 도시된 바와 같이, 캐리어/종동자 (60) 는 아암 (24) 위에 위치하여, 스테이지 (14) (본체 (42)) 와 아암 (24) 사이에 소정의 공간을 유지하게 된다. 캐리어/종동자 (60) 의 한 단부 (60E) 는 아암 (24) 상에서 실질적으로 내향으로 (스테이지 본체 (42) 쪽으로) 돌출하고 있다. 자석 궤도 (56A) 의 슬롯 공간에 들어가는 구동 코일 (68) (코일 (54) 과 동일한 형상임) 은 이 단부 (60E) 내측에 고정된다.As shown in FIG. 1, the carrier / follower 60 is installed to be movable in the Y direction through the hook-like support bracket 62 across the guide member 17. Moreover, as shown in FIG. 2, the carrier / follower 60 is located above the arm 24 to maintain a predetermined space between the stage 14 (body 42) and the arm 24. . One end 60E of the carrier / follower 60 protrudes substantially inward (to the stage body 42) on the arm 24. The drive coil 68 (same shape as the coil 54) entering the slot space of the magnet track 56A is fixed inside this end 60E.

또한, 가이드 부재 (17) 의 가이드 표면 (17A) 에 대향하는 에어 베어링 (66A) (도 2, 3, 4a, 5 참조) 에 지지된 브래킷 (62) 은 캐리어/종동자 (60) 의 가이드 부재 (17) 과 아암 (24) 사이의 공간 내에서 고정된다. 베이스 표면 (12A) 상에 캐리어/종동자 (60) 를 부양시켜 지지하기 위한 에어 베어링 (66) 도 도 3 에 도시되어 있다.In addition, the bracket 62 supported by the air bearing 66A (see FIGS. 2, 3, 4A, 5) opposite the guide surface 17A of the guide member 17 is a guide member of the carrier / follower 60. It is fixed in the space between the 17 and the arm 24. Also shown in FIG. 3 is an air bearing 66 for supporting and supporting the carrier / follower 60 on the base surface 12A.

가이드 부재 (17) 의 가이드 표면 (17B) 에 대향하는 에어 베어링 (66B) 도, 에어 베어링 (66A) 과는 반대측의 후크의 측부에서 지지 브래킷의 자유 단부에 고정되고, 에어 베어링 (66A, 66B) 사이에는 가이드 부재 (17) 가 위치하고 있다.The air bearing 66B facing the guide surface 17B of the guide member 17 is also fixed to the free end of the support bracket on the side of the hook on the opposite side to the air bearing 66A, and the air bearings 66A and 66B. The guide member 17 is located in between.

도 5 에 도시된 바와 같이, 캐리어/종동자 (60) 는 자석 궤도 (56A) 와 스테이지 본체 (42) 에 관하여 Y 와 Z 방향에서 각각 소정 공간을 유지하도록 배치된다. 투영 광학 시스템 (PL) 과 투영 광학 시스템 (PL) 상에 베이스 구조 (12) 을 지지하는 칼럼 로드 (column rod) (CB) 가 도 5 에 도시되어 있다. 이러한 배치는 투영 얼라이너에 대해서는 일반적인 것이며, 베이스 구조 (12) 상에서 상기 구조의 무게 중심의 불필요한 이동이, 칼럼 로드 (CB) 와 투영 광학 시스템 (PL) 간의 측면 이동 (기계적 비틀림) 을 유발하기 때문에, 노광시에 감광성 기판상에서 상의 치우침을 초래한다. 따라서, 스테이지 (14) 의 이동이 베이스 구조 (12) 상의 무게 중심을 이동시키지 않는다는 본 실시예에서와 같은 장치의 이점은 중요하다.As shown in Fig. 5, the carrier / follower 60 is arranged to maintain a predetermined space in the Y and Z directions with respect to the magnet raceway 56A and the stage body 42, respectively. A column rod CB supporting the base structure 12 on the projection optical system PL and the projection optical system PL is shown in FIG. 5. This arrangement is common for the projection aligner, since unnecessary movement of the center of gravity of the structure on the base structure 12 causes lateral movement (mechanical twist) between the column rod CB and the projection optical system PL. This results in image blur on the photosensitive substrate during exposure. Therefore, the advantage of the apparatus as in this embodiment is important that the movement of the stage 14 does not move the center of gravity on the base structure 12.

또한, 도 4a 를 참조하여 캐리어/종동자 (60) 의 구조를 상세히 설명한다. 도 4a 에 있어서, 이해를 돕기 위해, 캐리어/종동자 (60) 가 2 개부분 (60A, 60B) 으로 분해되어 있다. 도 4a 에 도시된 바와 같이, 캐리어/종동자 (60) 자체를 X 방향으로 이동시키는 구동 코일 (68) 은 캐리어/종동자 (60) 의 단부 (60E) 의 하부에 고정되어 있다. 또한, 에어 베어링 (66C) 은 단부 (60E) 의 바닥면상에서 베이스 표면 (12A) 과 대향하도록 배치되고, 캐리어/종동자 (60) 를 부양시키는 역할을 한다.In addition, the structure of the carrier / follower 60 will be described in detail with reference to FIG. 4A. In FIG. 4A, the carrier / follower 60 is broken down into two parts 60A and 60B for better understanding. As shown in FIG. 4A, a drive coil 68 for moving the carrier / follower 60 itself in the X direction is fixed to the lower portion of the end 60E of the carrier / follower 60. In addition, the air bearing 66C is disposed to face the base surface 12A on the bottom surface of the end 60E, and serves to support the carrier / follower 60.

그리고, 캐리어/종동자 (60) 는 다음 3 가지점, 즉 2 개의 에어 베어링 (66) 과 한 개의 에어 베어링 (66C) 에 의해서 Z 방향으로 지지되고, X 방향에서의 이동시에 에어 베어링 (66A, 66B) 에 의해 Y 방향에서의 이동이 구속된다. 이 구조에서 중요한 것은, 제 2 전자기 엑츄에이터 (70) 가 지지 브래킷 (62) 과 배면대 배면 관계로 배열되기 때문에, 엑츄에이터가 구동력을 Y 방향으로 발생시키는 경우에, 스테이지 (14) 와 캐리어/종동자 (60) 간의 Y 방향으로의 반작용력은 지지 브래킷 (62) 내측에 고정된 에어 베어링 (66A, 66B) 에 능동적으로 작용한다. 달리 말하자면, 엑츄에이터 (70) 와 에어 베어링 (66A, 66B) 을 XY 평면내의 Y 축에 평행한 선상에 배열하게 되면, 엑츄에이터 (70') 가 작동중일 때 캐리어/종동자 (60) 를 기계적으로 변형시키는 원하지 않는 응력의 발생을 방지하는 데 도움이 된다. 즉, 이것은 캐리어/종동자 (60) 의 중량을 감소시킬 수 있다는 의미이다.The carrier / follower 60 is supported in the Z direction by the following three points, namely, two air bearings 66 and one air bearing 66C, and the air bearings 66A, 66B) restricts the movement in the Y direction. Importantly in this structure, since the second electromagnetic actuator 70 is arranged in the back bracket back relationship with the support bracket 62, the stage 14 and the carrier / follower in the case where the actuator generates the driving force in the Y direction The reaction force in the Y direction between the 60s actively acts on the air bearings 66A and 66B fixed inside the support bracket 62. In other words, if the actuator 70 and the air bearings 66A, 66B are arranged in a line parallel to the Y axis in the XY plane, the carrier / follower 60 is mechanically deformed when the actuator 70 'is in operation. This helps to prevent the occurrence of unwanted stresses. In other words, this means that the weight of the carrier / follower 60 can be reduced.

도 2 와 도 4a 및 도 4c 에 도시된 바와 같이, 구동 프레임 (22) 의 아암 (24) 내의 자석 궤도 (56A) 는 스테이지 본체 (42) 측면상의 구동 코일 (54A) 에 자속을 제공하고, 이와 동시에 캐리어/종동자 (60) 용의 구동 코일 (68) 에도 자속을 제공한다. 에어 베어링 (66A, 66B, 66C) 은 진공 예압형이 바람직하다. 이것은 캐리어/종동자 (60) 가 가볍게 되기 때문이다. 진공 예압형 이외에, 자기 예압형도 이용 가능하다.As shown in FIGS. 2 and 4A and 4C, the magnet trajectory 56A in the arm 24 of the drive frame 22 provides magnetic flux to the drive coil 54A on the side of the stage body 42. At the same time, the magnetic flux is also provided to the drive coil 68 for the carrier / follower 60. The air bearings 66A, 66B, 66C are preferably vacuum preloaded. This is because the carrier / follower 60 becomes light. In addition to the vacuum preload type, a magnetic preload type is also available.

다음으로, 도 3, 도 4b 및 도 5 를 참조하여, 캐리어/종동자 (60) 상에 장착된 제 2 엑츄에이터를 설명한다. 음성 코일 모터 (70) 형태인 제 2 전자기 구동 어셈블리는 레티클 스테이지 (14) 의 주 본체 (42) 에 부착된 음성 코일 (74) 과 캐리어/종동자 (60) 에 부착된 자석 (72) 으로 이루어지고, 구동 어셈블리 (22) 에 의해 생성된 X 방향의 긴 직선 이동에 수직한 스테이지 (14) 의 이동 평면 내의 Y 방향에서 스테이지 (14) 를 미소 변위로 이동시킨다. 코일 (74) 과 자석 (72) 의 위치는 서로 반대일 수도 있다. 음성 코일 모터 (VCM) (70) 의 개략적인 구조가 도 3 및 도 5 에 도시되어 있고, 그 상세한 구조는 도 4b 에 도시되어 있다. 도 4b 에 도시된 것은, 도 5 의 화살표 (4B) 로 나타낸 수평면에서 단면을 취한 VCM (70) 의 단면도이다. 도 4b 에 있어서, VCM (70) 의 자석 (72) 은 캐리어/종동자 (60) 의 측면상에 고정된다. 그리고, VCM (70) 의 코일은 코일 본체 (74A) 와 지지부 (74B) 를 포함하며, 지지부 (74B) 는 두 직사각형 블럭 (90A, 90B) 을 가로 질러서 견고히 신장하고 있는 연결판 (92) (XY 평면에 수직인 판) 에 고정된다. VCM (70) 의 중심선 (KX) 은 코일 (74) 의 구동력의 방향을 도시한 것이고, 전류가 코일 본체 (74A) 를 통해 흐르게 되면, 코일 (74) 은 전류의 방향에 따라서 Y 방향의 음 또는 양의 이동을 일으켜, 전류량에 대응하는 힘을 발생시킨다. 일반적으로 사용되는 VCM 에 있어서, 통상적으로 코일과 자석 사이에 링형 댐퍼 또는 벨로우즈가 제공되기 때문에, 코일과 자석간에는 갭이 유지되지만, 본 실시예에 있어서는, 이러한 갭이 캐리어/종동자 (60) 의 추종 이동에 의해 유지되기 때문에, 댐퍼 또는 벨로우즈와 같은 지지 요소가 필요하지 않다.Next, referring to Figures 3, 4B and 5, a second actuator mounted on the carrier / follower 60 will be described. The second electromagnetic drive assembly in the form of a voice coil motor 70 consists of a voice coil 74 attached to the main body 42 of the reticle stage 14 and a magnet 72 attached to the carrier / follower 60. The stage 14 is moved in a small displacement in the Y direction in the moving plane of the stage 14 perpendicular to the long straight line movement in the X direction generated by the drive assembly 22. The positions of the coil 74 and the magnet 72 may be opposite to each other. A schematic structure of the voice coil motor (VCM) 70 is shown in Figs. 3 and 5, the detailed structure of which is shown in Fig. 4B. Shown in FIG. 4B is a cross-sectional view of VCM 70 taken in cross section in the horizontal plane indicated by arrow 4B in FIG. 5. In FIG. 4B, the magnet 72 of the VCM 70 is fixed on the side of the carrier / follower 60. The coil of the VCM 70 includes a coil body 74A and a support 74B, and the support 74B steadily extends across the two rectangular blocks 90A, 90B (XY). Plate perpendicular to the plane). The center line KX of the VCM 70 shows the direction of the driving force of the coil 74. When a current flows through the coil body 74A, the coil 74 is negative or negative in the Y direction depending on the direction of the current. It causes a positive movement and generates a force corresponding to the amount of current. In a commonly used VCM, since a ring-shaped damper or bellows is usually provided between the coil and the magnet, a gap is maintained between the coil and the magnet, but in the present embodiment, such a gap is formed in the carrier / follower 60. Since it is retained by the following movement, no support element such as damper or bellows is needed.

본 실시예에 있어서, 커패시턴스 갭 센서 (13A, 13B) 는, 도 4b 에 도시된 바와 같이, 위치 센서 (13) (도 6 참조) 로서 제공된다. 도 4b 에 있어서, 커패시턴스 센서용 전극은 X 방향에서 서로 대면하는 직사각형 블럭 (90A, 90B) 의 측부와 VCM (70) 의 케이스 (70') 측부간의 X 방향으로의 갭의 변화를 검지하기 위해 배치되어 있다. 이러한 위치 센서 (13) 는, 캐리어/종동자 (60) 와 스테이지 (14) (또는 본체 (42)) 간의 Y 방향으로의 갭 변화를 검지할 수만 있다면, 어느 장소에든지 배치 가능하다. 또한, 센서 형태는 광전자형, 유도형, 초음파형, 또는 공기 마이크로 시스템과 같은 비접촉 형태중 어느 것이든 가능하다.In this embodiment, the capacitance gap sensors 13A and 13B are provided as the position sensor 13 (see FIG. 6), as shown in FIG. 4B. In FIG. 4B, the capacitance sensor electrode is arranged to detect a change in the gap in the X direction between the sides of the rectangular blocks 90A and 90B facing each other in the X direction and the case 70 'side of the VCM 70. It is. Such a position sensor 13 can be disposed anywhere as long as it can detect a gap change in the Y direction between the carrier / follower 60 and the stage 14 (or the main body 42). In addition, the sensor form can be any one of optoelectronic, inductive, ultrasonic, or non-contact forms such as air micro systems.

도 4b 의 케이스 (70') 는 캐리어/종동자 (60) 에 형성되며, 레티클 스테이지 (14) 측부상의 어느 부재와도 접촉하지 않도록 (공간적으로) 배치된다. 케이스 (70') 와 직사각형 블럭 (90A, 90B) 간의 X 방향 (주사 방향) 에서의 갭에 있어서, 센서 (13A) 측의 갭이 넓으면 넓을수록, 센서 (13B) 측의 갭이 좁아진다. 따라서, 센서 (13A) 에 의해 측정된 갭 값과 센서 (13B) 에 의해 측정된 갭 값 사이의 차이를 디지털 연산이나 또는 아날로그 연산에 의해 얻고, 캐리어/종동자 (60) 용 구동 코일 (68) 의 구동 전류를 제어하는 직접 서보 (피드백) 제어 시스템은 그 갭 차이를 제로로 만드는 서보 구동 제어 회로를 이용하여 설계된다면, 캐리어/종동자 (60) 는 스테이지 본체 (42) 와 일정한 공간을 계속 유지하면서 X 방향으로의 추종 이동을 자동적으로 실행한다. 또한, 도 6 의 위치 제어 시스템의 동작에 의해 구동 코일 (68) 에 흐르는 전류를 제어하는 간접 서보 제어 시스템은, 하나의 센서로부터만 얻어지는 측정된 갭 값 및 X 축 간섭계로부터 측정된 스테이지 (14) 의 X 좌표 위치를 이용하여 2 개의 갭 센서 (13A, 13B) 를 차동적으로 사용하지 않고 설계될 수 있다.The case 70 'of FIG. 4B is formed in the carrier / follower 60 and is disposed (spatially) so as not to contact any member on the reticle stage 14 side. In the gap in the X direction (scanning direction) between the case 70 'and the rectangular blocks 90A, 90B, the wider the gap on the sensor 13A side, the narrower the gap on the sensor 13B side. Thus, the difference between the gap value measured by the sensor 13A and the gap value measured by the sensor 13B is obtained by digital or analog operation, and the drive coil 68 for the carrier / follower 60 is provided. If a direct servo (feedback) control system that controls the drive current of the is designed using a servo drive control circuit that zeroes the gap difference, the carrier / follower 60 remains in constant space with the stage body 42. The following movement in the X direction is automatically performed. In addition, the indirect servo control system that controls the current flowing through the drive coil 68 by the operation of the position control system of FIG. 6 includes a stage 14 measured from an X-axis interferometer and a measured gap value obtained from only one sensor. By using the X coordinate position of, it can be designed without using the two gap sensors 13A, 13B differentially.

도 4b 에 도시된 바와 같이, VCM (70) 에 있어서, 코일 본체 (74A) 와 자석 (72) 간의 X 방향 (비-여기 방향) 에서의 갭은 실제로 대략 2~3 mm 이다. 따라서, 스테이지 본체 (42) 에 대한 캐리어/종동자 (60) 의 추종 정도 (精度) 는 대략 ±0.5~1mm 에서 허용 가능하다. 이러한 정도는 허용된 스테이지 본체의 편요 회전이 어느 정도인가에 의존하고 있고, 또한 VCM (70) 의 코일 본체 (74A) 의 KX 방향 (여기 방향) 에서의 선길이에도 의존하고 있다. 더욱이, 이러한 정도는, 간섭계를 사용하는 스테이지 본체 (42) 에서의 정확한 위치 결정 정도 (예를 들면, 간섭계의 분해능이 0.01㎛ 이면, ±0.03㎛) 보다 실제적으로는 더 낮을 수 있다 . 이것은 종동자용 서보 시스템을 아주 간단히 설계할 수 있으며, 종동자 제어 시스템을 설치하는 비용이 줄어든다는 의미이다. 또한, 도 4b 의 선 (KX) 은 XY 평면상의 전체 스테이지 (14) 의 무게 중심을 통과하도록 설정되고, 도 4a 에 도시된 지지 브래킷 (62) 내측에 제공된 에어 베어링 (66A, 66B) 의 각각의 중심도 XY 평면내의 선 (KX) 상에 위치한다.As shown in FIG. 4B, in the VCM 70, the gap in the X direction (non-excitation direction) between the coil body 74A and the magnet 72 is actually about 2-3 mm. Therefore, the following accuracy of the carrier / follower 60 with respect to the stage main body 42 is allowable at approximately ± 0.5 to 1 mm. This degree depends on the allowable rotation of the stage main body, and also on the line length in the KX direction (excitation direction) of the coil main body 74A of the VCM 70. Moreover, this degree may be substantially lower than the exact positioning degree (eg, ± 0.03 μm if the resolution of the interferometer is 0.01 μm) in the stage body 42 using the interferometer. This means that the servo system for the follower can be designed very simply and the cost of installing the follower control system is reduced. In addition, the line KX of FIG. 4B is set to pass through the center of gravity of the entire stage 14 on the XY plane, and each of the air bearings 66A, 66B provided inside the support bracket 62 shown in FIG. 4A. The center is also located on the line KX in the XY plane.

도 4c 는, 도 2 의 화살표 4C 방향에서 단면을 취한 가이드 부재 (17), 캐리어/종동자 (60), 및 자석 궤도 (56A) 을 포함한 부분의 단면도이다. 자석 궤도 (56A) 를 수용하는 아암 (24) 은 에어 베어링 (32) 에 의해 베이스 표면 (12A) 상에 부양 지지되고, 캐리어/종동자 (60) 는 에어 베어링 (66) 에 의해 베이스 표면 (12A) 상에 부양 지지된다. 이때에, 스테이지 본체 (42) 의 바닥면에서의 에어 베어링 (48) 의 높이 (도 3 또는 도 5 를 참조) 와 에어 베어링 (32) 의 높이는, 스테이지 본체 (42) 측부상의 구동 코일 (54A) 이 자석 궤도 (56A) 의 슬롯 공간 내에서 Z 방향으로 2~3mm 정도의 갭을 유지하며 배치되도록 결정된다.FIG. 4C is a cross-sectional view of a portion including the guide member 17, the carrier / follower 60, and the magnet trajectory 56A, taken in the direction of arrow 4C in FIG. 2. The arm 24 receiving the magnet raceway 56A is floated on the base surface 12A by the air bearing 32, and the carrier / follower 60 is mounted on the base surface 12A by the air bearing 66. Levitation support). At this time, the height of the air bearing 48 (refer FIG. 3 or FIG. 5) and the height of the air bearing 32 in the bottom surface of the stage main body 42 is 54 A of drive coils on the stage main body 42 side part. ) Is determined to be arranged while maintaining a gap of about 2-3 mm in the Z direction within the slot space of the magnet raceway 56A.

캐리어/종동자 (60) 와 아암 (24) 간의 Z 와 Y 방향에서의 각 공간은 이들이 모두 공통 가이드 부재 (17) 와 베이스 표면 (12A) 에 의해 가이드되기 때문에 거의 변하지 않는다. 더욱이, 구동 프레임 (22) (아암 (24)) 의 바닥면의 에어 베어링 (32) 이 가이드되는 베이스 표면 (12A) 상의 부품과 스테이지 본체의 바닥면의 에어 베어링 (48) 이 가이드되는 베이스 표면 (12A) 상의 부품간의 Z 방향에서의 높이차가 있는 경우에도, 이러한 차이가 이동 스크로크 범위 내에서 정밀하게 일정하다면, 자석 궤도 (56A) 과 구동 코일 (54A) 간의 Z 방향의 갭도 일정하게 유지된다.Each space in the Z and Y directions between the carrier / follower 60 and the arm 24 is hardly changed since they are all guided by the common guide member 17 and the base surface 12A. Furthermore, the part on the base surface 12A on which the air bearing 32 of the bottom of the drive frame 22 (arm 24) is guided and the base surface on which the air bearing 48 of the bottom of the stage body is guided ( Even when there is a height difference in the Z direction between the parts on 12A), if this difference is precisely constant within the moving stroke range, the gap in the Z direction between the magnet track 56A and the drive coil 54A is also kept constant. .

또한, 캐리어/종동자 (60) 용 구동 코일 (68) 은 본래, 캐리어/종동자 (60) 에 고정되어 있기 때문에, 자석 궤도 (56A) 의 슬롯 공간의 위와 아래에서 2∼3㎜ 로 일정한 갭을 유지하도록 배치된다. 구동 코일 (68) 은 자석 궤도 (56A) 에 대해서 Y 방향으로의 시프트는 거의 없다.In addition, since the drive coil 68 for the carrier / follower 60 is originally fixed to the carrier / follower 60, the gap which is fixed at 2-3 mm above and below the slot space of the magnet track 56A is fixed. Is arranged to maintain. The drive coil 68 has little shift in the Y direction with respect to the magnet trajectory 56A.

스테이지 (14) 상의 구동 코일 (54A, 54B), 음성 코일 모터의 코일 (74), 및 캐리어/종동자의 코일 (68) 에 신호를 전달하기 위한 케이블 (82) (도 2 참조) 이 제공되며, 이 케이블 (82) 은 캐리어/종동자 (60) 및 가이드 부재 (17) 상에 장착되기 때문에, 레티클 스테이지 (14) 에 대한 인항력을 제거한다. 음성 코일 모터 (70) 는 외부의 기계적인 외란이 스테이지 (14) 에 전달되지 않도록 하므로써 버퍼 역할을 한다.Cables 82 (see FIG. 2) are provided for transmitting signals to drive coils 54A, 54B on stage 14, coils 74 of voice coil motors, and coils 68 of carriers / followers. Since the cable 82 is mounted on the carrier / follower 60 and the guide member 17, it removes the drag force on the reticle stage 14. The voice coil motor 70 serves as a buffer by preventing external mechanical disturbances from being transmitted to the stage 14.

다음으로, 도 2 및 도 4a 를 참조하여 케이블의 출력을 상세히 설명한다. 도 2 에 도시된 바와 같이, 전기 시스템의 배선과 공기압 및 진공 시스템의 관을 연결하는 커넥터 (80) (이하에서 '케이블' 이라함) 는, 베이스 구조 (12) 위에서 가이드 부재 (17) 의 한 단부상에 장착된다. 커넥터 (80) 는 외부 제어 시스템 (도 6 에 도시된 전기 시스템 제어 시스템이외에도 공기압 및 진공 시스템의 제어 시스템을 포함함) 로부터 가요성 케이블 (82) 까지 케이블 (81) 을 연결한다. 케이블 (82) 은 또한 캐리어/종동자 (60) 의 단부 (60E) 에도 접속되고, 전기 시스템 배선 및 스테이지 본체 (42) 에 필요한 공기압 및 진공 시스템의 관도 케이블 (83) 로서 분배된다.Next, the output of the cable will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 4A. As shown in FIG. 2, a connector 80 (hereinafter referred to as a 'cable') connecting the wiring of the electrical system and the pipe of the pneumatic and vacuum system is one of the guide members 17 above the base structure 12. Mounted on the end. Connector 80 connects cable 81 from an external control system (including the control system of pneumatic and vacuum systems in addition to the electrical system control system shown in FIG. 6) to flexible cable 82. The cable 82 is also connected to the end 60E of the carrier / follower 60 and distributed as a conduit cable 83 of the pneumatic and vacuum system required for the electrical system wiring and the stage body 42.

상기한 바와 같이, VCM (70) 은 케이블의 인항력 또는 항력의 영향을 해소시키는 작용을 하지만, 때때로 이러한 영향은 캐리어/종동자 (60) 와 스테이지 본체 (42) 간의 예기치 않은 방향으로의 모멘트로 나타난다. 달리 말하자면, 케이블 (82) 의 항력은 가이드 부재 (17) 의 가이드 표면 또는 베이스 표면 (12A) 의 회전시키는 힘을 캐리어/종동자 (60) 에 제공하고, 케이블 (83) 의 항력은 캐리어/종동자 (60) 와 스테이지 본체가 상대적으로 회전하게 하는 힘을 제공한다.As mentioned above, the VCM 70 acts to relieve the influence of the drag or drag of the cable, but sometimes this effect is in the unexpected direction between the carrier / follower 60 and the stage body 42. appear. In other words, the drag force of the cable 82 provides the rotating force of the guide surface or the base surface 12A of the guide member 17 to the carrier / follower 60, and the drag force of the cable 83 is the carrier / bell. It provides a force that causes the pupil 60 and the stage body to rotate relatively.

이러한 모멘트중 하나, 즉, 캐리어/종동자 (60) 를 시프트시키는 성분은 문제가 되는 것은 아니지만, 스테이지 본체를 X 방향, Y 방향, 또는 Θ 방향 (편요 회전 방향) 으로 시프트시키는 모멘트 성분은 정렬 및 오버레이 (overlay) 정도에 영향을 미칠 수 있다. X 방향 및 Θ 방향에 있어서, 시프트는 2 개의 선형 모터 (54A, 56A, 54B, 56B) 에 의한 연속적인 구동에 의해 보정 가능하며, Y 방향에 있어서의 시프트는 VCM (70) 에 의해 보정 가능하다. 본 실시예에 있어서, 전체 스테이지 (14) 의 중량을 실제로 줄일 수 있기 때문에, Y 방향에서 VCM (70) 에 의한 스테이지 (14) 의 이동에 대한 응답 및 X 방향 및 Θ 방향에서 선형 모터에 의한 응답은 완전한 비접촉 가이드리스 구조와 협력하여 극히 높다. 또한, 캐리어/종동자 (60) 에 미소 진동 (마이크론 단위) 이 발생하여, 케이블 (83) 을 통해 스테이지 (14) 로 전달되는 경우에도, 이러한 진동 (수 ㎐ 에서 수십 ㎐) 은 상기 고응답에 의해 충분히 해소될 수 있다.One of these moments, i.e., the component that shifts the carrier / follower 60, is not a problem, but the moment component that shifts the stage body in the X, Y, or Θ direction (the yaw rotation direction) is aligned and This can affect the degree of overlay. In the X direction and the Θ direction, the shift can be corrected by continuous driving by two linear motors 54A, 56A, 54B, 56B, and the shift in the Y direction can be corrected by the VCM 70. . In the present embodiment, since the weight of the entire stage 14 can be actually reduced, the response to the movement of the stage 14 by the VCM 70 in the Y direction and the response by the linear motor in the X and Θ directions Is extremely high in cooperation with a complete non-contact guideless structure. In addition, even when small vibrations (in microns) occur in the carrier / follower 60 and are transmitted to the stage 14 through the cable 83, such vibrations (several to tens of microseconds) are applied to the high response. Can be sufficiently eliminated.

다음으로, 도 4a 는 각 캐이블이 캐리어/종동자 (60) 에 어떻게 분배되어 있는가를 도시한 것이다. 스테이지 본체 (42) 용 구동 코일 (54A, 54B) 과 VCM (70) 용 구동 코일 (74) 로의 각 구동 신호 및 위치 센서 (13) (갭 센서 (13A, 13B)) 로부터의 감지 신호는 커넥터 (80) 로부터 전기 시스템 배선 (82A) 을 통해 제공된다. 각 에어 베어링 (48, 66) 에 대한 압력 가스 및 진공은 커넥터 (80) 로부터 공기압 시스템 관 (82B) 을 통해 제공된다. 반면에, 구동 코일 (54A, 54B) 로의 구동 신호는, 스테이지 본체 (42) 에 접속된 전기 시스템 배선 (83A) 을 통해 제공되고, 에어 베어링 (48) 용 압축 가스 및 클램핑 부재 (42C) 용 진공은 공기계 호스 (83B) 를 통해 제공된다.4A shows how each cable is distributed to carrier / follower 60. Each drive signal to the drive coils 54A and 54B for the stage body 42 and the drive coils 74 for the VCM 70 and the detection signals from the position sensor 13 (gap sensors 13A and 13B) are connected to a connector ( 80 is provided via electrical system wiring 82A. Pressure gas and vacuum for each air bearing 48, 66 are provided from the connector 80 through the pneumatic system pipe 82B. On the other hand, the drive signal to the drive coils 54A, 54B is provided via the electrical system wiring 83A connected to the stage main body 42, and the compressed gas for the air bearing 48 and the vacuum for the clamping member 42C are provided. Is provided through the air hose 83B.

또한, 도 2 에 도시된 것과는 별도로, 구동 프레임 (22) 의 에어 베어링 (20, 20', 32) 용의 공기계를 위한 별도의 라인을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 도 4a 에 도시된 바와 같이, 케이블 (83) 의 항력 및 진동을 저지시킬 수 없는 경우에, 스테이지 본체 (42) 가 수용하는 항력 및 진동의 모멘트를 가능한 Y 방향으로만 한정시키도록 케이블 (83) 을 배치하는 것이 바람직하다. 이러한 경우에, 상기 모멘트는 극히 높은 응답을 갖는 VCM (70) 에 의해서만 해소시킬 수 있다.In addition, apart from that shown in FIG. 2, it is preferable to have separate lines for the air system for the air bearings 20, 20 ′, 32 of the drive frame 22. In addition, as shown in FIG. 4A, when the drag and vibration of the cable 83 cannot be prevented, the cable ( 83) is preferable. In this case, the moment can only be resolved by the VCM 70 with an extremely high response.

다음으로, 도 1, 도 2, 및 도 6 을 참조하여, 레티클 스테이지 (14) 의 위치 설정은, 레이저 간섭계 시스템 (15) 을 이용하여 먼저 현재 위치를 아는 것에 의해 실행된다. 구동 신호는 레티클 스테이지의 구동 코일 (54A, 54B) 에 전송되어 스테이지 (14) 를 X 방향으로 구동한다. 레티클 스테이지 (14) 의 양측부 (42A, 42B) 에 주어지는 구동력의 차이 때문에, 레티클 스테이지 (14) 에는 미소한 편요 회전이 발생하게 된다. 음성 코일 모터 (70) 의 음성 코일 (72) 에 공급되는 적절한 구동 신호는 레티클 스테이지 (14) 의 Y 방향에서의 미소 변위를 발생시킨다. 레티클 스테이지 (14) 의 위치가 변하게 되면, 구동 신호가 캐리어/종동자 코일 (68) 에 전달되기 때문에, 캐리어/종동자 (60) 는 레티클 스테이지 (14) 를 추종하게 된다. 그 결과로 발생하는 인가된 구동력에 대한 반작용력은 자석 궤도 어셈블리 또는 구동 프레임 (22) 을 레티클 스테이지 (14) 의 이동에 반대되는 방향으로 이동시킴으로써, 장치의 무게 중심을 실질적으로 유지한다. 카운터-웨이트 또는 자석 궤도 어셈블리 (22) 의 반동부 (反動部) 가 장치에 포함될 필요가 없는 경우에는, 자석 궤도 어셈블리 (22) 를 베이스 구조 (12) 에 고정적으로 장착시킬 수 있음은 물론이다.Next, referring to FIGS. 1, 2, and 6, the positioning of the reticle stage 14 is performed by first knowing the current position using the laser interferometer system 15. The drive signal is transmitted to the drive coils 54A and 54B of the reticle stage to drive the stage 14 in the X direction. Due to the difference in the driving force given to both side portions 42A and 42B of the reticle stage 14, a slight yaw rotation occurs in the reticle stage 14. The appropriate drive signal supplied to the voice coil 72 of the voice coil motor 70 generates a micro displacement in the Y direction of the reticle stage 14. When the position of the reticle stage 14 changes, the carrier / follower 60 follows the reticle stage 14 because the drive signal is transmitted to the carrier / follower coil 68. The resulting reaction force against the applied driving force moves the magnet track assembly or drive frame 22 in the direction opposite to the movement of the reticle stage 14, thereby substantially maintaining the center of gravity of the device. It is, of course, possible to fix the magnet track assembly 22 to the base structure 12 when the counter-weight or the recoil of the magnet track assembly 22 need not be included in the apparatus.

상기한 바와 같이, 본 실시예에 따른 스테이지 장치를 제어하기 위해, 도 6 에 도시된 제어 시스템이 설치된다. 도 6 에 도시된 이 제어 시스템을 여기에서 더 상세히 설명한다. 2 개의 선형 모터의 각각의 구동 코일 (54A, 54B) 로 구성된 X1 구동 코일 및 X2 구동 코일과, VCM (70) 의 구동 코일 (72) 로 구성된 Y 구동 코일이 레티클 스테이지 (14) 에 설치되고, 구동 코일 (68) 은 캐리어/종동자 (60) 에 설치된다. 이러한 각 구동 코일은 위치 제어 시스템 (16) 으로부터의 각 구동 신호 (SX1, SX2, SY1, SΔX) 에 응답하여 구동된다. 스테이지 (14) 의 좌표 위치를 측정하는 레이저 간섭계 시스템은 빔 (LBY) 을 송/수신하는 Y 축 간섭계, 빔 (LBX1) 을 송/수신하는 X1 축 간섭계, 및 빔 (LBX2) 을 송/수신하는 X2 축 간섭계를 포함하며, 이러한 간섭계는 각각의 축 방항에 관한 정보 (IFY, IFX1, IFX2) 를 위치 제어 시스템 (16) 에 송신한다. 위치 제어 시스템 (16) 은 2 개의 구동 신호 (SX1, SX2) 를 구동 코일 (54A, 54B) 에 송신함으로써, X 방향에서의 위치 정보 (IFX1, IFX2) 간의 차이가 설정치가 되며, 또는 달리 말하자면, 레티클 스테이지 (14) 의 편요 회전은 설정된 값에서 유지된다. 따라서, 노광 시는 언급할 필요도 없이, 레티클 (44) 이 스테이지 본체 (42) 상에 정렬이 되면, 빔 (LBX1, LBX2), X1 축 간섭계 및 X2 축 간섭계, 위치 제어 시스템 (16), 및 구동 신호 (SX1, SX2) 에 의해, 편요 회전 (Θ 방향에서의) 위치 설정은 항시 수행된다.As described above, in order to control the stage apparatus according to the present embodiment, the control system shown in Fig. 6 is installed. This control system shown in FIG. 6 is described in more detail here. X1 drive coils and X2 drive coils composed of drive coils 54A and 54B of two linear motors, and Y drive coils composed of drive coils 72 of VCM 70 are installed in reticle stage 14, The drive coil 68 is installed in the carrier / follower 60. Each of these drive coils is driven in response to each drive signal SX1, SX2, SY1, SΔX from the position control system 16. The laser interferometer system for measuring the coordinate position of the stage 14 is a Y-axis interferometer for transmitting / receiving the beam LBY, an X1-axis interferometer for transmitting / receiving the beam LBX1, and a beam for receiving / receiving the beam LBX2. And an X2 axis interferometer, which transmits information IFY, IFX1, IFX2 about each axis direction to the position control system 16. The position control system 16 transmits two drive signals SX1 and SX2 to the drive coils 54A and 54B so that the difference between the position information IFX1 and IFX2 in the X direction becomes a set value, or in other words, The yaw rotation of the reticle stage 14 is maintained at the set value. Thus, needless to mention during exposure, when the reticle 44 is aligned on the stage body 42, the beams LBX1, LBX2, the X1-axis interferometer and the X2-axis interferometer, the position control system 16, and By the drive signals SX1, SX2, yaw rotation (in the Θ direction) positioning is always performed.

또한, X 방향에서의 위치 정보 (IFX1, IFX2) 의 합의 평균치로부터, 스테이지 (14) 의 X 방향의 현재 좌표 위치를 얻은 제어 시스템 (16) 은, 호스트 CPU (16') 로부터의 여러 가지 명령 및 각 파라미터에 관한 정보 (CD) 에 기초하여, 구동 신호 (SX1, SX2) 를 구동 코일 (54A, 54B) 에 각각 송신한다. 특히, 주사 노광이 작동하고 있는 경우에는, 편요 회전을 보정하면서 스테이지 (14) 를 X 방향에서 직선 이동시킬 필요가 있으며, 제어 시스템 (16) 은 필요에 따라 동일하거나 또는 약간 서로 다른 힘이 주어지도록 2 개의 구동 코일 (54A, 54B) 을 제어한다.In addition, from the average value of the sum of the position information IFX1 and IFX2 in the X direction, the control system 16 which obtains the current coordinate position in the X direction of the stage 14 is provided with various instructions from the host CPU 16 'and Based on the information CD about each parameter, the drive signals SX1 and SX2 are transmitted to the drive coils 54A and 54B, respectively. In particular, when scanning exposure is in operation, it is necessary to linearly move the stage 14 in the X direction while correcting yaw rotation, so that the control system 16 is given the same or slightly different forces as necessary. Two drive coils 54A, 54B are controlled.

또한, Y 축 간섭계로부터의 위치 정보 (IFY) 도 제어 시스템 (16) 에 송신되고, 제어 시스템 (16) 은 최적의 구동 신호 (SΔX) 를 캐리어/종동자 (60) 의 구동 코일 (68) 에 송신한다. 이 때에, 제어 시스템 (16) 은, 레티클 스테이지 (14) 와 캐리어/종동자 (60) 간의 X 방향에서의 공간을 측정하는 위치 센서 (13) 로부터 감지 신호 (Spd) 를 수신하고, 필요한 신호 (SΔX) 를 송신해서 신호 (Spd) 를 상술한 설정치로 하며, 캐리어/종동자 (60) 의 추종 정도는 엄밀하지 않아도 되기 때문에, 제어 시스템 (16) 의 감지 신호 (Spd) 도 엄밀하게 계산되지 않아도 된다. 예를 들면, 각 간섭계로부터의 매 1m 초 마다의 위치 정보 (IFY, IFX1, IFX2) 를 판독함으로써 이동을 제어하는 경우에, 제어 시스템 (16) 내의 고속 프로세서는 매시간 마다, 감지 신호 (Spd) 의 전류를 샘플링하여, 그 값이 기준치와 비교하여 큰지 작은지를 판정하고 (방향의 확인), 그 편차가 일정한 값을 초과하는 경우에는, 편차에 비례한 신호 (SΔX) 가 구동 코일 (68) 에 송신될 수 있다. 더욱이, 상술한 바와 같이, 구동 코일 (68) 을 직접 서보 제어하고, 또한 위치 제어 시스템 (16) 을 통하지 않고 캐리어/종동자 (60) 의 추종 이동을 직접 제어하는 제어 시스템 (95) 을 설치할 수도 있다.In addition, the positional information IFY from the Y-axis interferometer is also transmitted to the control system 16, and the control system 16 transmits the optimum drive signal SΔX to the drive coil 68 of the carrier / follower 60. Send. At this time, the control system 16 receives the detection signal Spd from the position sensor 13 which measures the space in the X direction between the reticle stage 14 and the carrier / follower 60, and the necessary signal ( Since the signal Spd is set to the above-described setting value and the tracking degree of the carrier / follower 60 does not have to be exact, the detection signal Spd of the control system 16 is not strictly calculated. do. For example, in the case where the movement is controlled by reading the positional information IFY, IFX1, IFX2 every 1 m second from each interferometer, the high speed processor in the control system 16 generates the detection signal Spd every hour. The current is sampled to determine whether the value is large or small compared to the reference value (confirmation of the direction), and if the deviation exceeds a constant value, a signal SΔX proportional to the deviation is transmitted to the drive coil 68. Can be. Furthermore, as described above, a control system 95 may be provided which directly servo-controls the drive coil 68 and also directly controls the following movement of the carrier / follower 60 without passing through the position control system 16. have.

도시된 바와 같이, 가동 스테이지 장치는, 상기 가동 스테이지 장치를 X 방향에서 구속하는 부착부가 전혀 없기 때문에, 작은 영향으로 인해 상기 스테이지 장치가 양의 또는 음의 X 방향을 향해 드리프트하게 될 수도 있다. 이것은, 그러한 불균형이 과도하게 되면, 일부 부품의 충돌을 유발한다. 상기 영향으로는, 케이블 힘, 베이스 기준면 (12A) 의 부정밀한 수평도 또는 구성요소들간의 마찰을 포함한다. 한 가지 간단한 방법은, 약한 범퍼 (도시되지 않음) 를 이용하여 구동 어셈블리 (22) 가 과도하게 이동하는 것을 방지하는 것이다. 다른 간단한 방법은, 구동 어셈블리가 스트로크의 종단부 근처에 도달하게 될 때, 구동 어셈블리 (22) 를 가이드하는 데 이용된 하나 또는 그 이상의 에어 베어링 (32, 20) 에 대한 공기의 공급을 차단하는 것이다. 이러한 에어 베어링은, 반대 방향으로 다시 구동을 시작할 때, 작동시키는 것이 가능하다.As shown, since the movable stage apparatus has no attachment at all constraining the movable stage apparatus in the X direction, a small effect may cause the stage apparatus to drift toward the positive or negative X direction. This causes the collision of some parts when such an imbalance becomes excessive. Such influences include cable forces, inaccurate horizontality of base reference plane 12A, or friction between components. One simple way is to use a weak bumper (not shown) to prevent the drive assembly 22 from moving excessively. Another simple way is to cut off the supply of air to one or more air bearings 32, 20 used to guide the drive assembly 22 when the drive assembly reaches near the end of the stroke. . Such an air bearing can be operated when starting driving again in the opposite direction.

더 정밀한 방법은, 측정 수단 (도시되지 않음 ) 에 의해, 구동 어셈블리의 위치를 모니터링하고, 정밀한 위치를 회복하여 그것을 유지하기 위한 구동력을 제공하는 것을 필요로 한다. 상기 측정 수단은 엄밀한 정도가 요구되지는 않지만, 0.1 내지 1㎜ 정도이다. 구동력은, 구동 어셈블리 (22) 에 부착된 다른 선형 모터 (도시되지 않음) 또는 구동 어셈블리와 결합된 다른 모터를 이용함으로써, 획득 가능하다.More precise methods require, by means of measurement (not shown), to monitor the position of the drive assembly and to provide the driving force to recover the precise position and maintain it. The measuring means is not required to be exact, but is about 0.1 to 1 mm. The driving force is obtainable by using another linear motor (not shown) attached to the drive assembly 22 or another motor coupled with the drive assembly.

최종적으로, 캐리어/종동자 (60) 의 상기 하나 또는 그 이상의 에어 베어링 (66, 66A, 66B) 의 작동을 정지시켜서, 스테이지 (42) 의 유휴 (idle) 기간에, 브레이크로 작동하게 할 수 있다. 캐리어/종동자 (60) 의 코일 (68) 이 여기되고, 캐리어/종동자 (60) 가 브레이크 걸린 상태인 경우에, 구동 어셈블리가 구동되고 가속된다. 따라서, 위치 제어 시스템 (16) 은 구동 어셈블리 (22) 의 위치를 감시한다. 구동 어셈블리가 위치를 이탈하게 되면, 구동 어셈블리는 캐리어/종동자 (60) 의 구동 코일 (68) 을 간헐적으로 이용하여, 상당한 정도로 다시 위치 설정된다.Finally, the operation of the one or more air bearings 66, 66A, 66B of the carrier / follower 60 can be stopped to operate with the brake in the idle period of the stage 42. . When the coil 68 of the carrier / follower 60 is excited and the carrier / follower 60 is braked, the drive assembly is driven and accelerated. Thus, the position control system 16 monitors the position of the drive assembly 22. When the drive assembly is out of position, the drive assembly is repositioned to a significant extent using the drive coil 68 of the carrier / follower 60 intermittently.

본 발명의 제 1 실시예에 있어서, 카운터-웨이트로 기능하는 구동 프레임 (22) 은 장치 전체의 무게 중심의 이동을 방지하기 위해 설치되고, 스테이지 본체 (42) 와 반대 방향으로 이동하게 된다. 그러나, 도 1 내지 도 5 의 구조를 무게 중심의 이동이 주된 문제가 아닌 장치에 적용하는 경우에, 구동 프레임 (22) 을 베이스 구조 (12) 상에 함께 고정할 수도 있다. 이러한 경우에, 무게 중심과 관련된 문제를 제외하고는, 일부 효과와 기능을 얻는 것이 가능하다.In the first embodiment of the present invention, the drive frame 22 functioning as the counter-weight is provided to prevent the movement of the center of gravity of the entire apparatus and moves in the opposite direction to the stage main body 42. However, in the case of applying the structure of FIGS. 1 to 5 to an apparatus in which the movement of the center of gravity is not the main problem, the drive frames 22 may be fixed together on the base structure 12. In this case, it is possible to obtain some effects and functions, except for the problem with the center of gravity.

본 발명은, ① 긴 직선 이동; ② 상기 긴 직선 이동에 수직한 짧은 직선 이동; 및 ③ 미소 편요 회전이라는 하나의 평면 내에서의 3 가지 자유도로 고정도의 위치 및 이동 제어에 이용할 수 있는 스테이지를 제공하는 것이다. 스테이지는, 전자기력을 스테이지 구동원으로 이용함으로써, 주변 구조의 기계적인 외란으로부터 고립되어 있다. 또한, 상기 가이드리스 스테이지용 구조를 이용함으로써, 높은 제어 대역폭이 얻어진다. 이러한 두 가지 요소로 인해, 스테이지의 원활하고 정밀한 동작이 달성된다.The present invention, ① long straight movement; A short straight line movement perpendicular to the long straight line movement; And (3) provide a stage that can be used for high-precision position and movement control with three degrees of freedom in one plane of micro-union rotation. The stage is isolated from the mechanical disturbance of the surrounding structure by using the electromagnetic force as the stage driving source. In addition, by using the structure for the guideless stage, a high control bandwidth is obtained. Due to these two factors, smooth and precise operation of the stage is achieved.

바람직한 실시예의 설명Description of the Preferred Embodiments

도 1 내지 도 6 에 예시된 실시예의 설명을 염두에 두고, 본 발명의 바람직한 실시예가 예시된 도 7 과 도 8 를 참조하면, 여기에서 각 구성요소의 도면 부호의 끝 두자리는 도 1 내지 도 5 의 각 구성요소의 두 자리 도면 부호에 대응한다.With the description of the embodiment illustrated in FIGS. 1 to 6 in mind, referring to FIGS. 7 and 8, in which preferred embodiments of the present invention are illustrated, where the last two digits of the reference numerals of each component are shown in FIGS. Corresponds to the two-digit reference number of each component of.

도 7 과 도 8 에 있어서, 상술한 제 1 실시예와 달리, 카운터-웨이트로 기능하는 구동 프레임이 제거되고, 2 개 선형 모터의 각 자석 궤도 (156A, 156B) 는 베이스 구조 (112) 에 견고하게 장착된다. X 방향에서 직선 이동하는 스테이지 본체 (142) 는 2 개의 자석 궤도 (156A, 156B) 사이에 배치된다. 도 8 에 도시된 바와 같이, 베이스 구조 (112) 내에 개구 (112B) 가 형성되고, 스테이지 본체 (142) 는 개구 (112B) 를 Y 방향으로 가로질러 배치된다. 스테이지 본체 (142) 의 Y 방향의 양단부에서, 4 개의 예압형 에어 베어링이 바닥면상에 고정되어 있으며, 이들에 의해 스테이지 본체 (142) 가 베이스 표면 (112A) 에서 부양하여 지지한다.In Figs. 7 and 8, unlike the first embodiment described above, the drive frame serving as the counter-weight is eliminated, and each magnet trajectory 156A, 156B of the two linear motors is firm on the base structure 112. Is fitted. The stage main body 142 moving linearly in the X direction is disposed between the two magnet tracks 156A and 156B. As shown in FIG. 8, an opening 112B is formed in the base structure 112, and the stage main body 142 is disposed across the opening 112B in the Y direction. At both ends of the stage main body 142 in the Y direction, four preloaded air bearings are fixed on the bottom surface, whereby the stage main body 142 supports and supports the base surface 112A.

또한, 본 실시예에 따르면, 레티클 (144) 은 스테이지 본체 (142) 상에서 별도로 배치된 레티클 척 플레이트 (143) 상에서 클램프되어 지지된다. Y 축 레이저 간섭계용 직선 미러 (150Y) 와 X 축 레이저 간섭계용 2 개의 코너 미러 (150X1, 150X2) 가 레티클 척 플레이트 (143) 상에 장착된다. 구동 코일 (154A, 154B) 은, 스테이지 본체 (142) 의 Y 방향의 양단부에서, 자석 궤도 (156A, 156B) 에 관해 수평으로 고정되고, 상술한 제어 서브 시스템에 의해서, 스테이지 본체 (142) 를 X 방향에서 직선 이동하게하고 극미소량으로 편요하게 한다.Further, according to this embodiment, the reticle 144 is clamped and supported on the reticle chuck plate 143 disposed separately on the stage body 142. A straight mirror 150Y for a Y axis laser interferometer and two corner mirrors 150X1, 150X2 for an X axis laser interferometer are mounted on the reticle chuck plate 143. The drive coils 154A and 154B are horizontally fixed with respect to the magnet tracks 156A and 156B at both ends in the Y direction of the stage main body 142, and the stage main body 142 is X by the above-described control subsystem. Make a straight line move in the direction and make it very small.

도 8 로부터 명료한 바와 같이, 선형 모터의 우측 자석 궤도 (156B) 와 선형 모터의 좌측 자석 궤도 (156A) 는 서로간에 Z 방향에서의 높이차를 갖도록 배치된다. 달리 말하자면, 좌측 자석 궤도 (156) 의 장축 방향에서의 양단부의 바닥면은, 도 7 에 도시된 바와 같이, 베이스 표면 (112A) 에 대해서 블록 부재 (155) 에 의한 일정량 만큼 높게 배치된다. VCM 이 수용된 캐리어/종동자 (160) 는 높게 배치된 자석 궤도 (156A) 아래의 공간에 배치된다.As is clear from Fig. 8, the right magnet trajectory 156B of the linear motor and the left magnet trajectory 156A of the linear motor are arranged to have a height difference in the Z direction between each other. In other words, the bottom surfaces of both ends in the long axis direction of the left magnet raceway 156 are disposed as high as a predetermined amount by the block member 155 with respect to the base surface 112A, as shown in FIG. The carrier / follower 160 in which the VCM is accommodated is disposed in the space below the highly arranged magnet trajectory 156A.

캐리어/종동자 (160) 는, 한 단계 낮은 높이의 베이스 구조 (112) 의 베이스 표면 (112A') 상에서 예압형 에어 베어링 (166) (2 점) 에 의해 부양되어 지지된다. 또한, 베이스 구조 (112) 에 장착된 직선 가이드 부재 (117) 의 수직 가이드 표면 (117A) 에 대향하는 2 개의 예압형 에어 베어링 (164) 이 캐리어/종동자 (160) 의 측면에 고정된다. 이러한 캐리어/종동자 (160) 는 이전 실시예에 따른 도 4a 에 도시된 것과는 서로 다르고, 캐리어/종동자 (160) 용 구동 코일 (168) (도 7) 이 캐리어/종동자 (160) 의 바닥면으로부터 수직으로 연장하는 부분에 수평으로 고정되고, 자석 궤도 (156A) 의 자속 슬롯 내에서 어느 부분과도 접촉없이 배치된다. 캐리어/종동자 (160) 는, 이동 스트로크의 범위 내에서, 자석 궤도 (156A) 의 어느 부분과도 접촉하지 않도록 배치되며, 스테이지 본체 (142) 를 Y 방향에서 정밀하게 위치 설정하는 VCM (170) 을 구비하고 있다.The carrier / follower 160 is supported and supported by a preloaded air bearing 166 (two points) on the base surface 112A 'of the base structure 112 one level lower. Also, two preloaded air bearings 164 opposed to the vertical guide surface 117A of the straight guide member 117 mounted to the base structure 112 are fixed to the side of the carrier / follower 160. This carrier / follower 160 is different from that shown in FIG. 4A according to the previous embodiment, and the drive coil 168 (FIG. 7) for the carrier / follower 160 has a bottom of the carrier / follower 160. It is fixed horizontally to a portion extending vertically from the surface, and is disposed without contact with any portion within the magnetic flux slot of the magnet track 156A. The carrier / follower 160 is arranged not to contact any part of the magnet trajectory 156A within the range of the movement stroke, and the VCM 170 precisely positions the stage main body 142 in the Y direction. Equipped with.

또한, 도 7 에 있어서, 캐리어/종동자 (160) 를 부양하고 지지하는 에어 베어링 (166) 이 VCM (170) 의 아래에 제공된다. 또한, 캐리어/종동자 (160) 의 스테이지 본체 (142) 에 대한 추종 이동도, 이전 실시예에서와 같이, 위치 센서 (13) 로부터의 감지 신호에 기초하여 실행된다.In addition, in FIG. 7, an air bearing 166 that supports and supports the carrier / follower 160 is provided below the VCM 170. In addition, the following movement of the carrier / follower 160 with respect to the stage main body 142 is also executed based on the sensing signal from the position sensor 13, as in the previous embodiment.

상술한 바와 같이 구성된 제 2 실시예의 구조에 있어서, 카운터-웨이트로 기능하는 부재가 실질적으로 없기 때문에, 스테이지 본체 (142) 의 X 방향 이동에 따라 장치 전체의 무게 중심이 이동하게 되는 불편이 있다. 그러나, 캐리어/종동자 (160) 를 이용하여 접촉이 전혀 없도록 스테이지 본체 (142) 를 추종함으로써, VCM (170) 에 의한 비접촉의 전자기력으로 스테이지 본체 (142) 를 Y 방향으로 정밀하게 위치 설정하는 것이 가능하다. 또한, 2 개의 선형 모터를 Z 방향에서의 높이가 상이하도록 배치하였기 때문에, 각 선형 모터에 의해 발생된 힘 모멘트의 벡터 합을 전체 레티클 스테이지의 무게 중심에서 극소화시킬 수 있는 이점이 있다. 이는 각 선형 모터의 힘 모멘트가 상호간에 실질적으로 상쇄되기 때문이다.In the structure of the second embodiment configured as described above, since there is substantially no member functioning as a counter-weight, there is a inconvenience in that the center of gravity of the entire apparatus moves as the stage body 142 moves in the X direction. However, by following the stage main body 142 using the carrier / follower 160 so that there is no contact at all, it is possible to precisely position the stage main body 142 in the Y direction by the non-contact electromagnetic force by the VCM 170. It is possible. In addition, since the two linear motors are arranged to have different heights in the Z direction, there is an advantage that the vector sum of the force moments generated by each linear motor can be minimized at the center of gravity of the entire reticle stage. This is because the force moments of the respective linear motors cancel each other out substantially.

또한, VCM (170) 의 길이 방향의 작용축선 (도 4b 의 선 (KX)) 이 Z 방향 뿐만 아니라 XY 평면상에서 스테이지 전체 구조의 무게 중심을 통과하도록 배치되기 때문에, VCM (170) 의 구동력이 스테이지 본체 (142) 에 불필요한 모멘트를 부여하기가 더 곤란하다. 또한, 캐리어/종동자 (160) 의 케이블 (82, 83) 을 연결하는 방법을 제 1 실시예에서와 동일한 방식으로 응용할 수 있기 때문에, 완전 비접촉 가이드리스 스테이지에서의 케이블과 관련된 문제도 개선된다.In addition, since the working axis in the longitudinal direction of the VCM 170 (line KX in FIG. 4B) is arranged to pass through the center of gravity of the entire structure of the stage not only in the Z direction but also on the XY plane, the driving force of the VCM 170 is staged. It is more difficult to give an unnecessary moment to the main body 142. In addition, since the method of connecting the cables 82 and 83 of the carrier / follower 160 can be applied in the same manner as in the first embodiment, the problem associated with the cable in the fully contactless guideless stage is also improved.

동일한 가이드리스 원리를 다른 실시예에 채용할 수도 있다. 예를 들면, 도 9 및 도 10 에 있어서, 베이스 (212) 상에 지지되는 스테이지 (242) 는 단일 자석 궤도 (256) 내에서 이동하는 단일 가동 코일 (254) 에 의해 긴 X 방향으로 구동된다. 자석 궤도는 베이스 (212) 에 견고하게 부착된다. 코일의 중심은 스테이지 (242) 의 무게 중심에 가깝게 배치된다. Y 방향으로의 스테이지 이동시키기 위해, 한 쌍의 VCM (274A, 274B, 272A, 272B) 이 여기되어 Y 방향으로 가속력을 제공한다. 편요를 제어하기 위해, 전자 서브시스템의 제어에 의해, 코일 (274A, 274B) 이 차동적으로 여기된다. VCM 자석 (272A, 272B) 은 캐리어/종동자 스테이지 (260) 에 부착된다. 캐리어/종동자 스테이지는 상술한 제 1 실시예와 동일하게 가이드되고 구동된다. 이러한 대안적인 실시예는 웨이퍼 스테이지에 이용 가능하다. 레티클 스테이지에 사용되는 경우에, 레티클은 코일 (254) 과 궤도 (256) 중 어느 한 쪽에 위치 설정되고, 코일 (254) 과 궤도 (256) 를 통과하는 스테이지 (242) 의 무게 중심을 유지할 필요가 있는 경우에는, 스테이지 (242) 내의 보상 개구가 레티클과는 반대측의 코일 (254) 및 궤도 (256) 측에 설치될 수 있다.The same guideless principle may be employed in other embodiments. For example, in FIGS. 9 and 10, the stage 242 supported on the base 212 is driven in the long X direction by a single movable coil 254 moving within a single magnet trajectory 256. The magnetic track is firmly attached to the base 212. The center of the coil is disposed close to the center of gravity of the stage 242. To move the stage in the Y direction, a pair of VCMs 274A, 274B, 272A, and 272B are excited to provide acceleration in the Y direction. To control the yaw, the coils 274A, 274B are differentially excited by the control of the electronic subsystem. VCM magnets 272A, 272B are attached to the carrier / follower stage 260. The carrier / follower stage is guided and driven in the same manner as in the first embodiment described above. This alternative embodiment is available for the wafer stage. When used in a reticle stage, the reticle is positioned on either the coil 254 or the track 256 and needs to maintain the center of gravity of the stage 242 passing through the coil 254 and the track 256. If present, a compensation opening in stage 242 may be provided on the coil 254 and track 256 side opposite the reticle.

상기 각 실시예로부터 얻어진 이점들은 대충 하기와 같이 정리할 수 있다. 정도 (精度) 를 유지하기 위해, 캐리어/종동자의 설계는, 스테이지에 접속된 케이블이 캐리어/종동자를 통해 스테이지를 추종하기 때문에, 스테이지용 케이블의 항력이 문제가 되지 않는다. 캐리어/종동자를 외부 장치에 연결하는 케이블은 일정량의 항력을 갖게 되지만, 스테이지에 대한 기계적인 외란의 전달을 방지하는 것에 의해 버퍼로 기능하는 캐리어/종동자에 직접적으로 연결되지 않았기 때문에, 스테이지는 그러한 영향을 받지 않는다.The advantages obtained from the above embodiments can be roughly summarized as follows. In order to maintain accuracy, the design of the carrier / follower does not cause a problem in the drag of the cable for the stage, since the cable connected to the stage follows the stage through the carrier / follower. The cable that connects the carrier / follower to the external device has a certain amount of drag, but because it is not directly connected to the carrier / follower acting as a buffer by preventing the transmission of mechanical disturbances to the stage, the stage It is not affected.

또한, 카운터-웨이트 설계는, 운동량 보존의 법칙을 이용해서, 스테이지의 긴 스트로크 방향에서의 어떤 이동시에도 스테이지 장치의 무게 중심의 위치를 보존한다. 이러한 장치는, 스테이지 장치와 스테이지 장치가 장착된 베이스 구조간의 어떠한 반작용력도 실질적으로 제거함으로써, 고가속을 용이하게 하고 이와 동시에 장치에 대한 진동의 영향을 극소화시킨다.The counter-weight design also uses the law of momentum conservation to preserve the position of the center of gravity of the stage device at any movement in the long stroke direction of the stage. Such a device substantially eliminates any reaction forces between the stage device and the base structure on which the stage device is mounted, thereby facilitating high acceleration and at the same time minimizing the effects of vibration on the device.

또한, 상술한 바와 같이, 스테이지는 3 가지 자유도에서 한정된 이동을 행하도록 설계되기 때문에, 3 가지 모든 자유도에서 전범위의 이동으로 설계된 스테이지와 비교하여 훨씬 간단하다. 또한, 무정류자형 장치와 달리, 본 발명은 시판중인 전자기 요소를 이용한다. 본 발명은 스테이지의 크기 및 스트로크가 증가함에 따라서, 제조하는데 어려움이 증가하게되는 특수한 주문형 전자기 요소가 필요하지 않기 때문에, 본 발명은 스테이지 크기나 또는 스트로크의 변화에 대해 용이하게 응용할 수 있다.In addition, as described above, since the stage is designed to perform a limited movement in three degrees of freedom, it is much simpler than a stage designed for full range of movement in all three degrees of freedom. In addition, unlike non-commutator-type devices, the present invention utilizes commercially available electromagnetic elements. The present invention is readily applicable to changes in stage size or stroke, as the present invention does not require special custom electromagnetic elements that increase difficulty in manufacturing as the size and stroke of the stage increases.

단일 선형 모터를 구비한 본 실시예는 제 2 선형 모터를 제거하고 2 개의 VCM 을 이용하여 편요 보정을 수행한다.This embodiment with a single linear motor removes the second linear motor and performs yaw correction using two VCMs.

바람직한 실시예에 의해 본 발명을 설명하였지만, 본 발명은 많은 서로 다른 형태를 취할 수 있으며, 첨부한 청구 범위의 범위에 의해서 한정될 뿐이다.While the invention has been described in terms of preferred embodiments, the invention may take many different forms and should only be limited by the appended claims.

Claims (47)

스테이지가 주사 방향으로 이동하는 동안에 패턴을 오브젝트 (object) 에 노광시키는 주사형 노광 장치에 있어서,A scanning type exposure apparatus for exposing a pattern to an object while the stage moves in the scanning direction, 상기 패턴을 상기 오브젝트에 노광시키는 노광 디바이스;An exposure device for exposing the pattern to the object; 상기 스테이지가 이동 가능한 베이스 구조;A base structure in which the stage is movable; 상기 스테이지를 상기 주사 방향으로 이동시키는 제 1 구동 디바이스; 및A first drive device for moving the stage in the scanning direction; And 상기 베이스 구조에 의해 이동 가능하게 지지되며, 상기 스테이지의 이동에 따라서, 상기 주사 방향에 반대인 성분을 갖는 방향으로 이동하는 균형부를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And a balance portion which is supported by the base structure so as to be movable and moves in a direction having a component opposite to the scanning direction in accordance with the movement of the stage. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 구동 디바이스는 상기 스테이지에 접속된 제 1 부분 및 상기 균형부에 접속된 제 2 부분을 갖는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the first driving device has a first portion connected to the stage and a second portion connected to the balance portion. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은 서로 접촉하지 않는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the first portion and the second portion do not contact each other. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제 1 부분은 코일 부재를 포함하고, 상기 제 2 부분은 자석 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the first portion comprises a coil member and the second portion comprises a magnet member. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 스테이지 및 상기 균형부의 이동은 운동량 보존의 법칙에 따라서 연동하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.The movement of the stage and the balance unit is interlocked in accordance with the law of conservation of momentum. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1 구동 디바이스는 선형 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And said first drive device comprises a linear motor. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스테이지는 상기 베이스 구조의 표면 위에서 베어링에 의해 이동 가능한 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the stage is movable by a bearing on the surface of the base structure. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 베어링은 상기 스테이지를 상기 베이스 구조상에서 비접촉 상태로 지지하는 비접촉 베어링인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the bearing is a non-contact bearing for supporting the stage in a non-contact state on the base structure. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스테이지의 위치를 검출하는 위치 검출 디바이스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And a position detecting device for detecting the position of the stage. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 스테이지는 상기 위치 검출 디바이스에 포함되는 반사면을 갖는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the stage has a reflecting surface included in the position detecting device. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 반사면은 코너-큐브형 미러인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the reflective surface is a corner-cube mirror. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 위치 검출 디바이스는, 상기 스테이지가 이동하는 동안에, 상기 주사 방향에 관한 상기 스테이지의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the position detecting device detects the position of the stage with respect to the scanning direction while the stage is moving. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 위치 검출 디바이스는, 상기 스테이지가 이동하는 동안에, 상기 주사 방향과는 상이한 방향에 관한 상기 스테이지의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the position detecting device detects the position of the stage in a direction different from the scanning direction while the stage is moving. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 위치 검출 디바이스에 의한 검출 결과에 기초하여, 상기 스테이지의 편요 회전을 보정하는 제어 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And a control system for correcting yaw rotation of the stage based on a detection result by the position detecting device. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 제어 시스템은 상기 제 1 구동 디바이스에 접속된 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And said control system is connected to said first drive device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 주사 방향과는 상이한 방향으로 상기 스테이지를 이동시키는 제 2 구동 디바이스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And a second driving device for moving the stage in a direction different from the scanning direction. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 노광 디바이스는 상기 패턴을 상기 오브젝트에 투영시키는 투영 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the exposure device includes a projection system for projecting the pattern onto the object. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 스테이지는 상기 투영 시스템 위에 배치되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the stage is disposed above the projection system. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 투영 시스템은 상기 패턴을 광학적으로 투영시키는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the projection system optically projects the pattern. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 노광 디바이스는 상기 패턴을 정의하는 마스크를 유지하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the exposure device holds a mask defining the pattern. 제 20 항에 있어서,The method of claim 20, 상기 스테이지는 상기 마스크를 유지하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the stage holds the mask. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 균형부는 구동원 없이 동작하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the balance portion operates without a drive source. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 비접촉 베어링은 에어 베어링인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the non-contact bearing is an air bearing. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 위치 검출 디바이스는 간섭계를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the position detecting device comprises an interferometer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스테이지가 개구부를 포함하며, 상기 노광 디바이스가 상기 개구부를 통해 상기 패턴을 상기 오브젝트에 노광시키는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 장치.And the stage includes an opening, and wherein the exposure device exposes the pattern to the object through the opening. 패턴을 오브젝트에 전사하는 주사형 노광 방법에 있어서,In the scanning exposure method for transferring a pattern to an object, 베이스에 의해 이동 가능하게 지지되는 스테이지를 주사 방향에서 이동시키는 단계;Moving the stage movably supported by the base in the scanning direction; 상기 스테이지의 이동에 따라서, 상기 베이스에 의해 이동 가능하게 지지되는 균형부를 상기 주사 방향에서 이동키는 단계; 및Moving the balance part in the scanning direction so as to be movable by the base in accordance with the movement of the stage; And 상기 스테이지가 상기 주사 방향으로 이동하는 동안에 상기 패턴을 상기 오브젝트에 노광시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.Exposing the pattern to the object while the stage is moving in the scanning direction. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 스테이지는, 상기 스테이지에 접속된 제 1 부분과 상기 균형부에 접속된 제 2 부분을 갖는 제 1 구동 디바이스에 의해, 상기 주사 방향으로 이동되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.The stage is moved in the scanning direction by a first drive device having a first portion connected to the stage and a second portion connected to the balance portion. 제 27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은 서로 접촉하지 않는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the first portion and the second portion do not contact each other. 제 27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 제 1 부분은 코일 부재를 포함하고, 상기 제 2 부분은 자석 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the first portion comprises a coil member and the second portion comprises a magnet member. 제 27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 스테이지와 상기 균형부의 이동은 운동량 보존의 법칙에 따라서 연동하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.Scanning exposure method, characterized in that the movement of the stage and the balance portion interlock in accordance with the law of conservation of momentum. 제 27 항에 있어서,The method of claim 27, 상기 제 1 구동 디바이스는 선형 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And said first drive device comprises a linear motor. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 스테이지를 상기 베이스 구조의 표면 상에서 베어링을 통해 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And moving the stage through a bearing on the surface of the base structure. 제 32 항에 있어서,The method of claim 32, 상기 베어링은 상기 베이스 구조에 상기 스테이지를 아무런 접촉 없이 대향시키는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the bearing opposes the stage without contact with the base structure. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 위치 검출 디바이스에 의해 상기 스테이지의 위치를 검출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And detecting the position of the stage by a position detection device. 제 34 항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 스테이지는 상기 위치 검출 디바이스에 포함된 반사면을 갖는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And said stage has a reflecting surface included in said position detecting device. 제 35항에 있어서,The method of claim 35, wherein 상기 반사면은 코너-큐브형 미러인 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the reflective surface is a corner-cube mirror. 제 34 항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 위치 검출 디바이스는, 상기 스테이지가 이동하는 동안에, 상기 주사 방향에 관한 상기 스테이지의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the position detecting device detects the position of the stage with respect to the scanning direction while the stage is moving. 제 34 항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 위치 검출 디바이스는, 상기 스테이지가 이동하는 동안에, 상기 주사 방향과는 상이한 방향에 관한 상기 스테이지의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the position detecting device detects the position of the stage in a direction different from the scanning direction while the stage is moving. 제 34 항에 있어서,The method of claim 34, wherein 상기 위치 검출 디바이스에 의한 검출 결과에 기초하여 상기 스테이지의 편요 회전을 보정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And correcting the yaw rotation of the stage based on the detection result by the position detection device. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 스테이지를 상기 주사 방향과는 상이한 방향으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And moving the stage in a direction different from the scanning direction. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 노광 방법은 상기 패턴을 상기 오브젝트에 투영시키는 투영 시스템을 포함하는 노광 디바이스에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the exposure method is performed by an exposure device including a projection system for projecting the pattern onto the object. 제 41 항에 있어서,42. The method of claim 41 wherein 상기 스테이지는 상기 투영 시스템 위에 배치되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the stage is disposed above the projection system. 제 41 항에 있어서,42. The method of claim 41 wherein 상기 투영 시스템은 상기 패턴을 광학적으로 투영시키는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the projection system optically projects the pattern. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 노광 디바이스는 상기 패턴을 정의하는 마스크를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the exposing device comprises a mask defining the pattern. 제 44 항에 있어서,The method of claim 44, 상기 스테이지는 상기 마스크를 유지하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And the stage holds the mask. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 균형부는 구동원 없이 작동되는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 방법.And said balance portion is operated without a drive source. 제 26 항에 따른 방법에 의해 상기 패턴이 전사되어 있는 오브젝트.An object in which the pattern is transferred by the method according to claim 26.
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