KR100225186B1 - 광감지반도체장치 - Google Patents

광감지반도체장치

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Abstract

광 감지 반도체 장치, 보다 구체적으로는 발광점의 위치를 결정하는 광 검출 장치, 상기 장치는 최소한 2개의 광 감지 다이오드들(4 내지 7)을 가지는 반도체 본체와 상기 발광점에 의해 발생되는 광전류를 증폭하는 수단을 포함한다. 본 발명에 따라, 상기 수단은 상기 괌 감지 다이오드들에 의해 점유된 상기 반도체 본체의 영역의 외측에 배치되는 트랜지스터들(14 내지 17)로 구성된다. 각 트랜지스터는 하나의 광 감지 다이오드에 할당 및 접속되며, 최소한 상기 반도체들의 활성 부분들은 그들이 할당된 상기 다이오드들에 비해 상기 반도체 본체내에서 상호 보다 밀접하게 배치된다.
본 발명은 또한 상기 반도체 광 검출기를 포함하는 포커싱 장치에 관한 것이다.

Description

광 감지 반도체 장치
제1도는 본 발명에 따른 광 감지 반도체 장치의 평면도.
제2도는 제1도의 절단선 Ⅱ-Ⅱ에 대한 절단면도.
제3도는 본 발명에 따른 포커싱 배치를 도시한 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 반도체 본체 2 : 기판
3 : 에피텍셜 층 4 내지 7 : 광전 다이오드
8, 9 : 발광점 14 내지 17 : 트랜지스터
19 : 베이스 영역 20 : 금속 트랙
21 : 에미터 영역 22 : 접촉 윈도우
30 : 방사빔 31 : 레이저
32 : 반투명 거울면 33 : 렌즈 시스템
35 : CD 또는 VLP 레코드 36, 37 : 쐐기형 프리즘
본 발명은 발광점이 영상화될 수 있는 2 이상의 광 감지 다이오드와, 상기 발광점에 의해 발생된 광전류를 증폭하는 수단을 포함하는 반도체 본체를 구비한 광 감지 반도체 장치에 관한 것이다.
본 발명은 또한 상기 광 감지 장치를 포함하는 포커싱 배치에 관한 것이다.
상술한 종류의 광 감지 반도체 장치는 독일 연방 공화국 특허 공개 공보(DE-A 3706252)에 기재되어 있다.
상기 장치는 많은 분야에서 다양한 방법으로 사용된다. 특히, 이들은 DOR(Direct Optical Recording), VLP(Video Long-Play) 및 CD(Compact Disk) 장치의 경우처럼 광학 정보를 판독 및 기록하는 분야에서 사용되며, 또한 정보 전송 매체(이 경우, DOR, VLP 또는 CD 레코드)의 방사와 축 방향의 익스커션(excursion)을 검출하는데 사용된다.
상기한 타입의 응용례로서, 예컨데, 광 감지 반도체 장치는 특히 필립스 기술 편람(Philips Technical Review)(Vol. 40, 1981/82, No. 9, pp. 266-272)에 기재된 푸코 포커싱 시스템(Foucault focusing system)의 일부를 형성한다. 이 경우, CD나 비데오 레코드상에 포커싱되고 상기 레코드에 의해 반사되는 레이저의 방사빔은 반투명 거울면에 의해 편향되고, 쐐기형 프리즘에 의해 두 빔들로 분할된다. 상기 두 빔들은 각각 좁은 스트립에 의해 상호 분리된 반도체 웨이퍼상에 제공된 광 검출기의 두 광전 다이오드상에 발광점으로 영상화된다.
회로에 의해, 트래킹 에러 신호는 광전 다이오드의 신호차로부터 유도된다. 상기 신호는 레코드에 대해 포커싱된 레이저 빔의 위치를 안정화하는 제어 신호로 사용된다. 동시에, 제2트래킹 에러 신호는 광전 다이오드에 의해 발생된 신호들로부터 유도될 수 있다. 상기 에러 신호는 광학 시스템이 노후하거나 이물질이 존재하는지 여부를 알 수 있다. 필립스 기술 편람내의 상기 논문에는 상술한 내용들이 광범위하게 기재되어 있으므로, 보다 상세한 이해를 위해 이를 참조할 수 있다.
레코드상의 정보는 1[μm] 이하의 크기를 갖는 피트(pit) 또는 피트가 없는 (non-pit) 형태를 취하므로, 상기 장치는 검출된 광도의 고주파의 변화를 따를 수 있어야 한다. 더욱이, 발생된 광전류는 충분히 높은 신호 대 잡음비를 가져야 하므로, 지나치게 약해서도 아니된다.
일반적으로, 광전 다이오드는 충분히 빠를 것이다. 그러나, 다이오드에 의해 공급된 광전 전류는 매우 약한 것이 대부분이므로, 상술한 (스위칭) 수단의 지원으로 증폭되어야 한다.
상기 수단은 트랜지스터의 사용에 의해 간단히 구성될 수 있다. 상기 목적을 위하여, 광전 다이오드내에는 부가 에미터 영역이 제공되므로, 소정의 신호 대잡음비를 가진 증폭된 신호를 공급하는 광 트랜지스터로 변환될 수 있다.
상기한 해결책은 트랜지스터가 비교적 큰 상태 간격으로 위치된다는 단점을 가진다. 그 결과, 반도체 물질은 비균질하게 될 수 밖에 없으므로, 트랜지스터의 특성은 적당한 허용 범위내로 한정되기 곤란하다.
본 발명의 목적은 상술한 단점을 제거하거나, 적어도, 이를 상당 정도까지 감소시키는 것에 있다.
본 발명에 따라, 서두에 기술된 종류의 광 감지 반도체 장치는 트랜지스터들을 포함하고, 상기 트랜지스터들은 반도체 본체내에서 광전 다이오드가 점유한 영역의 외측에 제공되고, 각 트랜지스터는 하나의 광 감지 다이오드에 할당 및 접속되고, 최소한 상기 트랜지스터들의 활성 부분들은 그들이 할당된 상기 광 감지 다이오드에 비해 상기 반도체 본체내에서 상호 보다 밀접하게 배치된 것을 특징으로 한다. 상기 트랜지스터들은 상호 최대한 밀접하게 배치되는 것이 바람직하다. 상기한 상호 최대한 밀접하게 배치된다는 말은, 크기 결정에 필요한 허용 범위를 고려하여, 트랜지스터들의 활성 부분들을 최대한 작은 표면에 집중시킴을 의미한다.
본 출원에서 광(photo) 및 빛(light)은 눈에 보이지 않는 적외선 및 자외선의 전자기 방사를 포함한다.
트랜지스터들이 표면상에 최대한 작게 집중되면, 상기 광 감지 다이오드들간 간격에 무관하게, 비균질성에서 기인한 상기 트랜지스터들내의 차이들은 최대한 감소된다.
트랜지스터를 광 감지 다이오드의 외측에 제공하려면 더욱 큰 표면 영역이 필요하겠지만, 본 발명에 따른 장치내의 상기 부가 표면 영역은 매우 작으므로 실제로 상기한 단점들은 없다.
제1양호한 실시예에 따라, 광 감지 다이오드들은 일렬로 배치되며, 트랜지스터들은 이들에 대해 실질적으로 평행하게 일렬로 배치된다.
포커싱 장치에서 흔히 사용되는 중요한 실시예는, 상기 장치가 사분면상에 배치된 4개의 광전 다이오드와, 4개의 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 광빔을 표면으로 투사하는 수단과, 상기 광빔의 일부를 편향시키는 수단과, 상기 편향된 빔을 최소한 두 빔으로 분할하는 수단을 포한하는 포커싱 장치로서, 발광점을 광 검출기로 투사하고, 상기 광 검출기는 상기 표면에 대한 상기 광빔의 위치를 안정화시키는 신호를 발생하는 상기 포커싱 장치에 있어서, 본 발명에 따른 상기한 종류의 광 감지 반도체 장치는 광 검출기로서 사용되는 것을 특징으로 하는 포커싱 장치와 관련이 있다.
본 발명은 실시예 및 도면을 참조하여 더욱 충분히 기재될 것이다.
도1은 본 발명에 따른 광 감지 반도체 장치의 도해적 평면도이다.
도2는 도 1에 대한 절단선 Ⅱ-Ⅱ상의 도해적 단면도이다.
도3은 본 발명에 따른 포커싱 장치를 도시한 도면이다.
상기 도면들은 개략적이며 축적대로 도시되지 않았으나, 동일한 부분을 지칭하는 부호는 동일하다.
상기 장치는 주로 실리콘(다른 반도체 재료를 사용하는 경우도 있다)을 재료로 하는 반도체 본체(1)를 포함한다. 본 실시예의 반도체 본체에서, 실리콘 웨이퍼는 강하게 도핑된 n+ 기판(2)과, 보다 약하게 도핑되고 상기 n+ 기판상에 배치된, 발광점이 영상화될 수 있는 최소한 둘 이상(본 실시예에서는 4개)의 광전 다이오드(4 내지 7)를 포함하는 n- 에피텍셜 층(3)을 가진다. 상기 광전 다이오드들 각각은 p형 영역들(예컨데, 도 2의 영역(6))로 구성되는데, 상기 영역들은 인접한 n형 반도체 물질과 함께 pn 결합을 형성한다. 본 실시예에서, 푸코 포커싱 장치로부터 유도된 2개의 발광점(8, 9)은 투사된다. 즉, 상기 발광점(8)은 다이오드들(4,5) 위로, 발광점(9)은 다이오드들(6,7) 위로 투사된다. 상기 장치는 또한 상기 발광점 또는 발광점들에 의해 발생되는 광전류를 증폭하는 수단도 포함한다. 필립스 기술 편람내의 상기 논문에 기재된 바와 같이, 필요에 따라 반도체 본체(1)에 전부 또는 일부 포함될 수 있는 또 다른 회로(도시되지 않음)를 사용함으로써, 다이오드(4,5,6,7)로부터 발생되는 신호들의 비를 분석하여 트랙킹 에러 신호를 유도한다.
본 발명에 따라, 광전류를 증폭하는 상기 수단은 광-다이오드(4 내지 7)에 의해 점유된 상기 반도체 본체의 영역 외측에 제공되는 트랜지스터들(14,15,16,17)을 포함하며, 각 트랜지스터는 광전 다이오드에 할당 및 접속되고, 상기 반도체 본체내에서 트랜지스터들(14 내지 17)의 활성 부분은 다이오드들(4,5,6,7)에 비해 상호 보다 밀접하게 배치된다. 본 실시예에서, 트랜지스터들(14,15,16,17)은 상호 최대한 밀접하게 배치된다.
트랜지스터들(14 내지 17)은 광전 다이오드와 분리되도록 공통 콜렉터 영역을 구성하는 공통 n형 아일런드(18)내에 제공되고, 본 실시예에서 이들의 베이스 영역들(19)의 상대 간격은 10[μm]이다. 트랜지스터의 활성 부분, 즉 이들의 베이스 영역들에 의해 점유된 표면 영역은, 실질적으로 균질한 실리콘 웨이퍼의 매우 작은 영역에 집중된다. 따라서, 그들의 크기는 동일하므로 실제로 동일한 전기적 성질을 가지며, 이들에 의해 점유된 부가 표면 영역은 작다.
트랜지스터들(14,15,16,17) 각각의 베이스 영역(19)은 금속 트랙(20)에 의해 광전 다이오드들(4 내지 7) 중의 하나에 접속된다; 금속 트랙은 도 1에 점선으로 표시되어 있으며, 접촉 윈도우는 대각선으로 표시되어 있다. 예컨데, 광전 다이오드의 p형 영역(6)은 확산하나 이온 주입에 의해 제공된다. 트랜지스터들의 n형 에미터 영역들(21)은 금속 트랙들을 통해 접촉 표면들(14A 내지 17A)에 접속되는데, 상기 접촉 표면에는 제어에 필요한 또 다른 주변 장치가 접속될 수 있다. 필요하다면, 회로의 상기 또 다른 부분은 반도체 웨이퍼(1)내에 제공될 수 있다. 기준 전위(본 경우에는, 최고 공급 전압)는 접촉 윈도우(22)를 거쳐 상기 기판에 인가된다.
도 1 및 2의 실시예에서, 광전 다이오드들(4 내지 7)은 일렬로 배치되고, 트랜지스터들(14 내지 17)은 이들에 실질적으로 평행하게 일렬로 배치된다. 이는 종종 실용적이지만 필수적이지는 않으며, 필요하다면, 다른 배치가 사용될 수도 있다.
상기 실시예에서, 상기 장치를 4개의 사분면에서 구획하는 4개의 광전 다이오드들(4 내지 7)이 사용된다. 그러나, 상기 응용예에 따르면, 다른 수(최소한 2개)의 광전 다이오드들을 사용하는 것도 가능하다. 필요하다면, 각 광전 다이오드는 2 이상의 병렬-접속 서브-다이오드들로 분할될 수 있다.
마지막으로, 도 3에는 본 발명에 따른 포커싱 장치가 도해적으로 도시되어 있으며, 상기 장치는 상기 실시예들 중의 하나에 관한 반도체 회로를 광 검출기로서 포함한다. 예컨데, 800[nm]의 파장을 가진 레이저(31)로부터 발생되는 방시빔(30)은 프리즘 조합의 분리 표면으로 구성된 반투명 거울면(32)과 렌즈 시스템(33)을 거쳐, CD 또는 VLP 레코드(35)상의 발광점(34)으로 영상화된다. 레코드(35)에 의해 반사된 방사의 일부는 거울면(32)에 의해 편향되어 2개의 쐐기형 프리즘(36,37)을 통과하고, 도 1 및 2를 참조하여 기술된 종류의 광 검출기의 광전 다이오드들(4 내지 7)에 투사되어 2개의 발광점들(8, 9 또한 도 1을 참조)을 형성한다. 광전 다이오드들로부터 발생되는 신호에 의해, 레코드(35)의 익스커션에 의해 야기된, 정확한 위치에 대한 발광점(34)의 편차는 정정될 수 있다.
본 발명은 상술한 실시예들에 한정되지 않을 뿐 아니라, 본 발명의 범위내에서는 많은 응용예들이 가능하다. 예컨데, 다양한 반도체 영역들의 도전 타입들은 모두 반대 타입들로 (동시에) 교체될 수 있으며, 이 때, 해당 전압의 극성은 역전된다. 더욱이, 실리콘과는 다른 반도체 재료가 사용될 수 있으며, 또한, 다른 파장도 사용될 수 있다. 또한, 본 발명은 상술한 포커싱 및 배치의 목적과 다르게 사용될 수도 있다.

Claims (4)

  1. 발광점이 영상화될 수 있는 최소한 2개의 광 감지 다이오드들과 상기 발광점에 의해 발생되는 광전류를 증폭하는 수단을 포함하는 반도체 본체를 가지는 광 감지 반도체 장치에 있어서, 상기 수단은 광 감지 다이오드들에 의해 점유된 상기 반도체 본체내의 영역의 외측에 배치된 트랜지스터들을 포함하며, 각 트랜지스터는 하나의 광 감지 다이오드에 할당 및 접속되고, 상기 트랜지스터들의 최소한 활성 부분들은 그들이 할당된 상기 광 감지 다이오드들에 비해 상기 반도체 본체내에서 상호 보다 밀접하게 배치되는 것을 특징으로 하는 광 감지 반도체 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 트랜지스터들의 모든 반도체 부분들은 그들이 할당된 상기 광 감지 다이오드들에 비해 상기 반도체 본체내에서 상호 보다 밀접하게 배치되는 것을 특징으로 하는 광 감지 반도체 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광 감지 다이오드들은 일렬로 배치되며, 상기 트랜지스터들은 상기 열에 실질적으로 평행하게 일렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 광 감지 반도체 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 장치는 사분면들 안에 배치된 4개의 광 감지 다이오드들과, 4개의 트랜지스터들을 포함하는 것을 특징으로 하는 광 감지 반도체 장치.
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