KR100215890B1 - 사진 식각 장치 - Google Patents

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KR100215890B1
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    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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Abstract

본 발명은 사진 식각 장치에 관한 것으로 특히, 노광시 웨이퍼의 왜곡 현상을 방지하도록 한 사진 식각 장치에 관한 것이다.
이와 같은 본 발명에 의한 사진 식각 장치는 감광제를 도포 및 전열처리 하는 트랙장비와 상기 감광제가 도포된 웨이퍼를 노광시키는 노광장비 그리고 상기 트랙장비와 노광장비를 연결하는 인터페이스부를 구비한 사진 식각 장치에 있어서, 상기 인터페이스부내에 온도를 독립적으로 제어할 수 있도록 하는 냉각판의 하측에 냉각수통 및 온도 제어부를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.

Description

사직 식각 장치
본 발명은 사진 식각 장치에 관한 것으로 특히, 노광시 웨이퍼의 왜곡 현상을 방지하도록 한 사진 식각 장치에 관한 것이다.
일반적으로 트랙장비는 감광제는 도포하는 코팅(Coating) 장치와, 감광제 도포후 솔벤트 성분을 제거하는 전열처리 장치와, 상기 도포된 감광제를 현상하는 현상 장치와, 공정중에 발생된 이물질을 제거하기 위한 세정 장치와,상기 각 장치들에서 웨이퍼의 온도를 조절하는 FTC(Fluid Temperature Controller)제어부로 이루어진다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술의 사진 식각 장치를 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래 기술의 사진 식각 장치를 나타낸 구성도이다.
도 1에서와 같이 웨이퍼상에 감광제 도포 및 전열처리 하는 트랙장비(11)와, 상기 트랙장비(11)에서 도포된 감광제를 노광하는 노광장비(12)와, 상기 트랙장비(11)와 노광장비(12)를 서로 연결시켜주는 인터페이스(Interface)부(13)와, 상기 인터페이스부(13)내에 상기 트랙장비(11)에서 전열처리 공정중에 상승한 온도를 낮추어 주는 냉각판(14)으로 구성된다.
상기와 같이 구성된 종래 기술의 사진 식각 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 1에서와 같이 트랙장비(11)에서 감광제 도포후 전열처리를 거친 웨이퍼는 노광장비(12)와의 연결부인 인터페이스부(13)에 도달하게 된다.
이때 상기 전열처리 직후의 웨이퍼 온도는 100℃ 부근까지 상승한다.
상기의 상태로 상기 노광장비(12)에 웨이퍼가 유입되는 것을 방지하기 위하여 인터폐이스부(13)의 냉각판(14)에서 잠시 머물게 된다.
이어, 상기 인티페이스부(13)의 냉각판(14)에서 대기압 온도를 갖는 노광장비(12)로 유입되어 노광 공정이 이루어진다.
그러나 이와 같은 종래 기술의 사진 식각 장치에 있어서 다음과 같은 문제점이 있었다.
즉, 인터페이스부에 설치된 냉각판의 온도가 노광장비의 온도와 다르기 때문에 상기 인터페이스부에서 상기 노광장비까지 이동하는 시간 동안 상기 웨이퍼상에서 온도의 변화가 일어나게 되어 노광시 웨이퍼의 왜곡 현상이 발생하게 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 트랙장비와 노광장비의 연결부인 인터페이스부에 독립적으로 온도를 조절할 수 있는 냉각판을 설치하도록 한 사진 식각 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 종래 기술의 사진 식각 장치를 나타낸 구성도
도 2는 본 발명에 의한 사진 식각 장치를 나타낸 구성도
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
21 : 트랙장비 22 : 노광장비
23 : 인터페이스부 24 : 냉각판
25 : 냉각수통 26 : 온도 제어부
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 사진 식각 장치는감광제를 도포 및 전열처리 하는 트랙장비와 상기 감광제가 도포된 웨이퍼를 노광시키는 노광장비 그리고 상기 트랙장비와 노광장비를 연결하는 인터폐이스부를 구비한 사진 식각 장치에 있어서, 상기 인터페이스부내에 온도를 독립적으로 제어할 수 있도록 하는 냉각판의 하측에 냉각수통 및 온도 제어부를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 사진 식각 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명에 의한 사진 식각 장치를 나타낸 구성도이다.
도 2에서와 같이 웨이퍼상에 감광제 도포 및 전열처리 하는 트랙장비(21)와, 상기 트랙장비(21)에서 도포된 감광제를 노광하는 노광장비(22)와, 상기 트랙장비(21)와 노광장비(22)를 서로 연결시켜주는 인터페이스(Interface)부(23)와, 상기 인터페이스부(23)내에 상기 트랙장비(21)에서 전열처리 공정중에 상승한 온도를 낮추어 주는 냉각판(24)과, 상기 냉각판(24)의 하부에 위치하여 상기 냉각판(24)의 온도를 유지시키기 위한 냉각수가 들어 있는 냉각수퉁(25)과 상기 냉각수통(25)의 냉각수 온도를 측정하여 상기 노광장비(22) 내부의 온도와 갖도록 제어하는 온도 제어부(26)로 구성된다.
여기서 상기 냉각판(24)의 하부에 냉각수통(25)을 만들지않고 상기 트랙장비(21)에 상기 냉각판(24)과 연결되는 냉각수통(25)이 위치해도 된다.
상기와 같이 구성된 본 발명에 의한 사진 식각 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 2에서와 같이 트랙장비(21)에서 감광제가 웨이퍼에 도포되면, 상기 감광제를 구성하고 있는 솔벤트(So1vent) 성분까지 그대로 웨이퍼상에 남게된다.
상기 솔벤트 성분을 제거하기 위하여 전열처리를 해주게 되는데 이때 상기 웨이퍼는 가열되어 100℃ 부근까지 상승한다.
상기의 상태로 노광장비(22)에 유입되는 것을 방지하기 위하여 설치된 인터페이스부(23)의 냉각판(24)은 하부의 냉각수통(25)에 들어 있는 냉각수에 의하여 일정한 온도를 유지하게 되고, 상기 온도 제어부(26)를 통해 상기 냉각수통(25)안의 냉각수 온도를 측정하여 상기 노광장비(22) 내부의 대기압 온도와 동일하도록 독립적으로 조절한다.
이상에서 설명한 바와같이 본 발명에 의한 사진 식각 장치에 있어서 냉각판의 온도가 독립적으로 조절되어 냉각판의 온도와 노광장비 내부 대기의 온도와 같게 되기 때문에 장비의 지연, 기타 공정 조건의 변화가 생기더라도 웨이퍼상의 온도 기울기는 없어지므로 각 웨이퍼 별로 서로 다른 노광 왜곡 현상들을 방지하는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 감광제를 도포 및 전열처리 하는 트랙장비와 상기 감광제가 도포된 웨이퍼를 노광시키는 노광장비 그리고 상기 트랙장비와 노광장비를 연결하는 인터페이스부를 구비한 사진 식각 장치에 있어서, 상기 인터페이스부내에 온도를 독립적으로 제어할 수 있도록 하는 냉각판의 하측에 냉각수통 및 온도 제어부를 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 사진 식각 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 냉각수통은 냉각판의 온도를 일정하게 유지시키기는 것을 특징으로 하는 사진 식각 장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 온도 제어부는 냉각판과 노광장비의 온도가 동일하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 사진 식각 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 냉각수통과 온도 제어부는 트랙장비의 일부에 독립적으로 연결되어 노광장비의 내부온도와 같도록 제어하는 것을 특징으로 하는 사진 식각 장치.
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