KR100215116B1 - 리드프레임 세정장치와 그 세정방법 - Google Patents

Abstract

리드프레임 세정장치와 그 세정방법을 개시한다. 본 발명은 도금욕조를 통과하여 도금된 리드프레임의 상하부로부터 순수를 분사하여 세정하는 복수의 노즐을 포함하여 된 리드프레임 세정장치에 관한 것으로, 상기 노즐들의 전후부에 적어도 일측에 설치된 복수의 고주파발진부를 포함하여 된 것을 특징으로 한다. 또한 본 발명은 고주파 발진기에서 발진된 고주파를 리드프레임의 표면에 가하여 이물질을 제거하는 단계와, 이물질이 제거된 상기 리드프레임의 표면에 노즐에서 나오는 고압의 순수를 분사시키는 단계와, 고압의 순수가 가해진 리드프레임에 고주파를 발진시켜 리드프레임의 표면에 남아있는 순수를 제거하는 단계를 포함하여 된 것을 특징으로 한다. 본 발명을 채용함으로써, 리드프레임에 대한 세정효과가 향상되고, 리드프레임의 변형이 감소하는 이점이 있다.

Description

리드프레임 세정장치와 그 세정방법

본 발명은 리드프레임 세정장치와 그 세정방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는, 세정효율이 향상되도록 그 구조가 개선된 리드프레임 세정장치와 그 방법이 개선된 리드프레임 도금장비 세정방법에 관한 것이다.

통상적으로, 리드프레임의 도금공정은 다단계의 공정으로 구성되며, 각 단위공정은 서로 다른 종류의 약품을 이용하게 된다. 따라서, 각 단위공정에서 사용되는 서로 다른 종류의 용액이 리드프레임의 표면에 묻어 다른 공정으로 유입되는 경우가 야기되며, 이 용액으로 인한 오염등의 문제를 유발하게 된다.

상기한 바와 같이, 서로 다른 공정에서 사용되는 용액을 다른 공정으로 리드프레임에 묻어감에 따라 유발되는 약품 오염을 방지하고자, 도 1에 도시된 린스셀(20)을 도금셀(10)(30) 사이에 배치하게 된다. 린스셀(20)은 도금셀(10)에서 도금공정이 완성된 리드프레임의 표면을 세정하는 곳이며, 세정이 끝나게 되면 다음 도금셀(30)로 이동하게 된다.

이러한 린스셀의 구조는 여러 가지가 사용되고 있으나, 일반적으로 디핑(dipping)방식과, 스프레이 노즐(spray nozzle)방식으로 분류된다.

디핑방식에 사용되는 린스셀을 도 2에 나타내었다. 제1도금셀(10)과 제2도금셀(30) 사이에 놓인 린스셀(40)에 순수(41)를 채우고 리드프레임(100)을 통과시킴으로써 리드프레임의 표면에 묻어 있는 약품을 세정하게 된다. 세정방법은 순수(41) 속에 리드프레임을 넣음에 따라 리드프레임의 표면에 묻어있는 약품이 순수(41)속으로 확산하게 됨에 따라 세정되게 된다. 확산작용을 향상시키고자 휘저어 주는 것이 바람직하다.

그러나, 이러한 디핑방식의 세정방법은 확산속도에 따라 세정효율이 좌우되므로 세정속도가 느리고 효과가 낮은 문제점이 있다.

이러한 문제점을 해결하고자 도입된 것이 도 3에 도시된 스프레이 노즐방식이다. 제1도금셀(10)과 제2도금셀(30) 사이에 위치한 린스셀(50)은 공기 분사 노즐(51)과 순수 분사 노즐(52)을 구비한다. 리드프레임(100)이 린스셀(50)에 들어오면 공기분사 노즐(51)에서 고압의 기체(51a)를 리드프레임(100)의 표면에 분사시킴으로써 리드프레임 표면에 묻어 있는 약품의 용액을 제거하게 되고 이 과정이 끝나면 순수 분사 노즐(52)에서 고압의 순수(52a)를 리드프레임의 표면에 분사시킴으로써 리드프레임 표면에 남아 있는 약품용액을 제거하게 된다.

분사노즐(51)(52)을 이용한 스프레이 노즐방식은 디핑방식에 비해 세정속도 및 효율이 우수하지만, 고압의 기체 및 순수를 이용하므로 제품이 심하게 떨리고 심하게는 리드프레임의 변형을 유발하는 문제점이 있다.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 리드프레임에 대한 세정효율을 향상시키면서도 리드프레임의 변형이 없도록 그 구조가 개선된 리드프레임 세정장치와, 그 방법이 개선된 리드프레임 세정방법을 제공함에 그 목적이 있다.

도 1은 일반적인 리드프레임 세정공정이 채용된 리드프레임 도금공정을 개략적으로 도시한 도면이다.

도 2는 종래의 리드프레임 세정장치를 개략적으로 도시한 도면이다.

도 3은 종래의 다른 리드프레임 세정장치를 개략적으로 도시한 도면이다.

도 4는 본 발명에 따른 리드프레임 세정장치를 개략적으로 도시한 도면이다.

도면의 주요 부분에 대한 부호 설명

10...제1도금셀

30...제2도금셀

20...린스셀

100...리드프레임

41...순수

51...공기분사노즐

51a...분사된 공기

52...순수분사노즐

52a, 62a...분사된 순수

61, 63...고주파발진기

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 도금욕조를 통과하여 도금된 리드프레임의 상하부로부터 순수를 분사하여 세정하는 복수의 노즐을 포함하여 된 리드프레임 세정장치에 있어서, 상기 노즐들의 전후부에 적어도 일측에 설치된 복수의 고주파발진부를 포함하여 된 것을 특징으로 한다.

다른 특징에 있어서, 상기 노즐과 고주파발진부가 리드프레임을 도금하기 위한 도금욕조들의 사이에 위치된다.

그리고, 본 발명에 따른 리드프레임 세정방법은 고주파 발진기에서 발진된 고주파를 리드프레임의 표면에 가하여 이물질을 제거하는 단계와, 이물질이 제거된 상기 리드프레임의 표면에 노즐에서 나오는 고압의 순수를 분사시키는 단계와, 고압의 순수가 가해진 리드프레임에 고주파를 발진시켜 리드프레임의 표면에 남아있는 순수를 제거하는 단계를 포함하여 된 것을 특징으로 한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 리드프레임 세정장치와 그 세정방법을 상세히 설명한다. 도 4는 본 발명에 따른 리드프레임 세정장치를 개략적으로 도시한 도면이다.

본 발명에 따른 리드프레임 세정장치는 도 1에 도시된 바와 같이 종래의 제1도금셀(10)과 제2도금셀(30) 사이에 위치한 린스셀(20)에 채용된다. 이 린스셀(20)은 리드프레임(100)을 세정하는 곳이며, 전단계의 도금공정이 끝나 리드프레임(100)의 표면에 묻어 있는 도금액을 씻겨내고 다음 단계의 도금공정으로 넘어가는 곳이다. 이 린스셀(20)에 채용된 세정장치는 고주파 발진기(61)(63)를 구비한다. 리드프레임(100)이 린스셀(20)에 들어오면, 고주파 발진기(61)(63)에서 발진되는 고주파를 리드프레임(100)의 표면에 가하여 그 진동으로 인해 리드프레임의 표면으로부터 들뜨게 된 약품용액을 제거하게 된다.

고주파 발진기(61)(63) 사이에는 순사 분사 노즐(62)을 배치하여 제1고주파 발진기(61)에서 발진된 고주파로부터 들뜬 약품용액을 고압의 순수(62a)로 세정하게 되고, 이 약품용액을 세정하기 위하여 사용된 순수(62a)를 리드프레임의 표면으로부터 제거하기 위하여 제2고주파 발진기(63)로부터 발진된 고주파(63a)를 리드프레임의 표면에 가하게 된다.

이러한 과정을 통해 세정된 리드프레임은 다음 도금셀로 가서 도금공정을 하게 되고, 도금공정이 끝난 리드프레임은 또 한번의 세정을 하게 되며, 세정공정을 거친 리드프레임은 다음 도금셀로 가게 된다. 어러한 과정이 반복되면서 리드프레임의 도금공정이 완료된다.

상기한 본 발명에 따른 리드프레임 세정장치와 그 세정방법은 다음과 같은 효과가 있다.

첫째, 리드프레임의 변형이 감소된다.

리드프레임은 정밀 가공 제품이기 때문에 약간의 충격이나 압력에 의해서도 변형이 발생하게 되는데, 고압의 공기를 사용하게 되면 불안정한 압력에 의하여 힘의 균형이 맞지 않으므로 변형되게 된다. 하지만, 본 발명에서는 고주파 발진기(61)(63)로부터 발진된 고주파를 이용하므로 리드프레임 자체에 변형요인을 근본적으로 제공하지 않는다. 따라서 리드프레임 변형이 방지되는 효과가 있다.

둘째, 리드프레임 표면의 약품용액 제거 효과가 향상된다.

디핑방식은 단순교반에 의한 세척방식이므로 그 효과가 스프레이 방식에 비해 좋지 않으나, 본 발명에서는 고주파를 이용함으로써 미세한 진동에 의하여 리드프레임 표면의 세정을 하기 때문에 스프레이 노즐방식으로 접근이 불가능한 곳까지 세정을 할 수 있어 리드프레임 표면의 약품용액 제거효과가 종래에 비해 향상되는 이점이 있다.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술분야의 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허 청구 범위의 기술적 사상에 의해 정해져야만 할 것이다.

Claims (3)

1. 도금욕조를 통과하여 도금된 리드프레임의 상하부로부터 순수를 분사하여 세정하는 복수의 노즐을 포함하여 된 리드프레임 세정장치에 있어서,

   상기 노즐들의 전후부에 적어도 일측에 설치된 복수의 고주파발진부를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 리드프레임 세정장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 노즐과 고주파발진부가 리드프레임을 도금하기 위한 도금욕조들의 사이에 위치된 것을 특징으로 하는 리드프레임 세정장치.
3. 고주파 발진기에서 발진된 고주파를 리드프레임의 표면에 가하여 이물질을 제거하는 단계와,

   이물질이 제거된 상기 리드프레임의 표면에 노즐에서 나오는 고압의 순수를 분사시키는 단계와,

   고압의 순수가 가해진 리드프레임에 고주파를 발진시켜 리드프레임의 표면에 남아있는 순수를 제거하는 단계를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 리드프레임 세정방법.

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