KR100203994B1 - 수냉 세라믹 콘파인먼트 튜브를 가지는 고성능 유도 플라즈마 토오치 - Google Patents

수냉 세라믹 콘파인먼트 튜브를 가지는 고성능 유도 플라즈마 토오치 Download PDF

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이. 부로스 마에르
쥬르윅 제르지
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알랑 까이엘르
위니베르시떼드쉐르브루끄
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Abstract

이 발명은 세라믹 또는 합성폴리머 주조물로 이루어진 원통형의 토오치 몸체(2)와, 토오치 몸체(2)내에 이와 동축을 이루어 배치된 원통형의 플라즈마 콘파인먼트 튜브(9)와, 토오치 몸체(2)의 한 단부에 고정되어 콘파인먼트 튜브(9)내에 가스상의 물질을 공급하는 가스분배 헤드(11)와, 세라믹 또는 폴리머 재료로 된 토오치 몸체(2)내에 완전히 매설된 원통형의 동축 유도코일(3)과, 동축의 토오치 몸체(2) 및 콘파인먼트 튜브(9)를 분리하는 얇은 환상 챔버(25)를 포함하는 고성능 유도 플라즈마 토오치(1)에 관한 것이다. 상기 콘파인먼트 튜브는 소결 또는 반응결합 실리콘 질화물, 붕소 질화물, 알루미늄 질화물 또는 알루미나, 또는 이들과 여러 가지 첨가물 및 충전재들의 임의의 조합에 기초한 순수 또는 합성세라믹 재료로써 만들어질 수 있다. 환상 챔버(25)는 약 1mm의 형성폭을 가지며, 고속의 냉각수가 그 내부를 흘러서 플라즈마 콘파인먼트 튜브(9)를 효과적으로 냉각시켜 준다.

Description

[발명의 명칭]
수냉 세라믹 콘파인먼트 튜브를 가지는 고성능 유도 플라즈마 토오치
[발명의 배경]
[발명의 분야]
본 발명은 유도 플라즈마 토오치(induction plasma torch)에 관한 것으로, 특히 세라믹재의 플라즈마 콘파인먼트 튜브(plasma confinement tube; 고온 플라즈마를 일정 체적 이내로 제한시키는 관체)를 사용하고 이 튜브의 외주면을 둘러싸는 얇은 환상 챔버를 통해 냉각액을 고속 순환시켜 튜브를 냉각토록 함으로서 그 성능이 개선된 플라즈마 토오치에 관한 것이다.
[선행기술 소개]
유도 플라즈마 토오치는 60년대초에서부터 알려져 왔다. 그러나 이들의 기본 디자인은 지난 30년간 큰 발전을 거듭하여 왔다. 선행의 플라즈마 토치 디자인의 예들은 1967. 3. 15.자 영국특허 제1,061,956호(Cleaver), 1972. 9. 26.자의 미국특허 제 3,694,618호(Poole 등) 및 1973. 10. 2.자의 미국특허 제 3,763,392호(Hollister)등에 소개되어 있다. 유도 플라즈마 토오치의 기본 개념에는 4~6의 권회수를 가지는 유도코일을 사용하여 플라즈마에 유도에너지를 결합시키는 것이 포함된다. 형성된 플라즈마 영역내로의 적절한 가스흐름 패턴을 이루기 위해 한 가스분배 헤드가 사용되는데, 이는 보통 석영재의 튜브내로 제한된 플라즈마의 형성을 안정화시키고 플라즈마을 유도코일의 중심부에 유지시키며 또 플라즈마에 의한 높은 열부하로 인한 손상으로부터 플라즈마 콘파인먼트 튜브를 보호하기 위해 필요한 것이다. 비교적 높은 파워수준(5~10KW 이상)에서는 플라즈마 콘파인먼트 튜브를 보호하기 위해 부가적인 냉각이 필요하다. 이러한 냉각은 보통, 튜브의 외주면둘레로 소(消)이온화된(deionized) 물을 순환시키는 것에 의해 달성된다.
플라즈마 콘파인먼트 튜브의 보호를 위해 여러 가지 방법들이 시도되어 왔다. 이러한 시도들의 예로는 (a) 플라즈마 콘파인먼트 튜브내에 보호 금속편들을 삽입설치하는 것(1984. 2. 14.자의 미국특허 제4,431,901호(Hull)), (b) 플라즈마 콘파인먼트 튜브를 다공성 세라믹으로 형성하는 것(J. Mostagnimi, M. Dostie 와 J. Jurewicz의 투과성 세라믹벽을 가지는 RF 유도 플라즈마 토오치에 관한 분석, Can. J. Chem. Eng., 67, 929-936(1989)), (c) 방열 냉각시 세라믹 플라즈마 콘파인먼트 튜브(P.S.C.Van der plao화 L. de Galam의 1 liter/min의 아르곤을 사용하는 ICP-AES용 방열 냉각식 토오치, Spectrochemica Acta, 39B, 1161-1169 (1984), 그리고 P.S.C. Van der Plas와 L. de Galam의 비냉각 저속 ICP 토오치용 세라믹 재료들에 관한 평가, Spectrochemica Acta, 42B, 1205-1216 (1987)등이 있다.
플라즈마 콘파인먼트 튜브 보호의 개선을 위해 금속편의 삽입설치를 채용하는 것은 플라즈마 토오치의 전체 에너지효율을 현저히 저하시키는 단점이 수반된다.
다공성 세라믹재로 된 플라즈마 콘파인먼트 튜브는 단지 제한적인 보호를 제공하는 것으로 밝혀졌다.
방열 냉각식 콘파인먼트 튜브에 있어서는, 이를 구성하는 세라믹 재료가 비교적 높은 작동온도에 견디어 내야하고 탁월한 내 열충격성을 가지어야 하며 또 RF(radio frequency)장을 흡수하지 말아야 한다. 대부분의 세라믹 재료들은 이러한 가혹한 조건들중의 하나 또는 그 이상에 부합하지 않는다.
[발명의 목적]
따라서 본 발명의 목적은 상술한 종래기술의 단점들을 해소하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 세라믹재로 된 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 보호를 개선하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 세라믹재로 된 콘파인먼트 튜브를 가지고 이 플라즈마 콘파인먼트 튜브를, 그 외주면을 둘러 싸는 일정폭의 얇은 환상 챔버내를 흐르는 고속 냉각액수단으로 냉각시키도록 된 플라즈마 토오치를 제공하는 것이다.
[발명의 개요]
본 발명에 따르면, 특히 제1직경을 가지는 원통형 내주면을 포함하는 관상의 토오치 몸체와, (a) 높은 전열성을 가지는 세라믹재로 만들어지고, (b) 제1단부, 제2단부, 그리고 제1직경보다 다소 작은 제2직경을 가지는 원통형 외주면을 포함하여 관상의 토오치 몸체내에 설치되며 그 원통형 외주면이 토오치 몸체의 원통형 내주면과 동축을 이루어서 이들 사이에 일정폭의 얇은 환상 챔버를 형성토록 배치되는 플라즈마 콘파인먼트 튜브와, 적어도 한 가스상물질을 플라즈마 콘파인먼트 튜브 내부로 이 튜브의 제1단부로부터 제2단부를 향해 유입공급하기 위해 상기 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 제1단부의 위치에서 토오치 몸체상에 설치된 가스분배 헤드와, 상기 얇은 환상 챔버의 바깥쪽에 자리하여 토오치 몸체의 원통형 내주면 및 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 외주면과 동축을 이루어 설치되고, 플라즈마 콘파인먼트 튜브내에 고온 플라즈마를 형성 유지시키기 위해 이 콘파인먼트 튜브내를 흐르는 가스상물질에 에너지를 유도인가시키기 위한 전류가 공급되는 유도코일과, 상기 얇은 환상 챔버내에서의 냉각액의 고속흐름을 이루어내는 수단들을 포함하고, 플라즈마 콘파인먼트 튜브를 형성하는 세라믹 재료의 높은 전열성과 냉각액의 고속흐름이 고온 플라즈마에 의해 가열된 플라즈마 콘파인먼트 튜브로부터의 열을 냉각액에 효과적으로 전달시켜 상기 콘파인먼트 튜브를 효과적으로 냉각시키는 데에 기여토록 된, 유도 플라즈마 토오치가 제공된다.
플라즈마 콘파인먼트 튜브를 형성하는 세라믹 재료가 높은 전열성으로 특징지워지기 때문에 얇은 환상 챔버를 통한 냉각액의 고속순환은 플라즈마 콘파인먼트 튜브를 적절히 냉각시키는 데에 필요한 높은 열전달 효율을 제공한다. 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 외주면에 대한 강력하고 효과적인 냉각은 보다 작은 가스소모량으로 보다 높은 파워 및 온도수준의 플라즈마 형성을 가능하게 한다.
유리하게도, 토오치 몸체의 원통형 내주면과 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 원통형 외주면은 기계적으로 가공된 원통면들로 되고, 유도코일은 토오치 몸체내에 매설된다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, (a) 높은 전열성과 높은 전기저항성 및 높은 내 열충격성을 제공하는 소결 또는 반응결합 실리콘 질화물, 붕소 질화물, 알루미늄 질화물 및 알루미나, 또는 이들과 여러 가지 첨가물 및 충전재들의 조합에 기초하는 순수 또는 합성 세라믹재로써 플라즈마 콘파인먼트 튜브가 만들어지고, (b) 환상 챔버가 약 1mm의 형성폭을 가지고, (c) 냉각액이 물로 이루어지며, (d) 냉각액의 고속 흐름은 원통형 내,외주면의 공통 중심축선에 대하여 평행한 방향으로 이루어지게 된다.
토오치 몸체는, 바람직하게는 유도코일이 완전히 매설된 합성 폴리머 주조물이나 세라믹 주조물로 이루어진다.
유도코일이 세라믹 주조물이나 합성 폴리머 주조물로 된 토오치 몸체내에 매설되기 때문에 이 유도코일과 플라즈마 콘파인먼트 튜브사이의 간격이 정밀하게 콘트롤될 수 있고 이로써 코일 및 플라즈마간의 에너지결합 효율이 개선된다. 이는 또한 유도코일로 인한 하등의 방해를 받지 않고 환상 챔버의 형성폭의 정밀한 콘트롤을 가능하게 하여준다. 여기에서 상기 환상챔버의 형성폭의 콘트롤은 토오치 몸체의 내주면 및 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 외주면을 작은 공차로 정밀하게 가공하는 것에 의해 얻어질 수 있다.
본 발명의 목적, 장점들 및 다른 특징들은 첨부도면들에 의거하여 단지 예시적으로 주어진 한 선택된 실시예에 대한 다음의 비한정적인 설명으로부터 더욱 명확하게 파익될 수 있다.
[도면의 간단한 설명]
첨부된 도면 제1도는 본 발명에 따른 고성능 유도 플라즈마 토오치의 횡단면도이다.
[선택된 실시예에 대한 상세한 설명]
제1도에서, 본 발명에 따른 고성능 유도플라즈마 토오치는 그 전체가 부호 1로 지칭된다.
플라즈마 토오치 1은 세라믹 주조물이나 합성 폴리머 주조물로 만들어진 토오치 몸체 2를 포함한다. 냉각수로 냉각되어지는 구리재 튜브로 이루어진 유도코일 3은 토오치 몸체 2내에 완전히 매설됨으로써 이 코일의 위치안정성이 보장된다. 유도코일 3의 양단은 모두 토오치 몸체 2의 외주면 4로까지 연장되어 한쌍의 전기단자 5 및 6에 각각 연결되고, 상기 전기단자 5,6을 통해서는 냉각수와 RF 전류가 이 코일 3에 공급될 수 있다. 도시된 바와같이, 토오치 몸체 2와 유도코일 3은 원통형이며 또 동축을 이루고 있다.
플라즈마방출 노즐 7은 원통형이며 복수의 볼트 8들을 통해 토오치 몸체 2의 하단부에 부착되어 있다. 제1도에 도시된 바와 같이, 노즐 7은 토오치 몸체 2의 외경에 본질적으로 상응하는 외경과, 토오치 몸체 2내에 이 토오치 몸체와 동축을 이루어 설치된 세라믹재의 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9의 내경에 대략 상응하는 내경을 가진다. 플라즈마방출 노즐 7은 그 상부내측에 콘파인먼트 튜브 9의 하단부를 수용하기 위한 직각으로 각이진 시이트 10을 가진다.
가스분배 헤드 11은 볼트 8과 유사한 복수의 볼트들(도시되지 않음)을 통해 토오치 몸체 2의 상단부에 고정결합되어 있다. 토오치 몸체 2와 가스분배 헤드 11 사이에는 평판 디스크 13이 개재되어 있다. 이는 토오치 몸체 2와 가스분배 헤드 11간의 기밀한 조인트를 위해 0-링들을 구비한다. 디스크 13은 콘파인먼트 튜브 9의 외경보다 다소 큰 내경을 가지어서 헤드 11의 저부 14와 함께 콘파인먼트 튜브 9의 상단부를 수용할 수 있는 직각으로 각이 진 시이트 12를 형성한다.
가스분배 헤드 11은 또한 중간 튜브 16을 포함한다. 헤드 11의 저부 14에는 한 공동(cavity)이 형성되는데, 이 공동은 중간 튜브 16의 상단부를 수용할 수 있는 크기의 직경을 가지는 원통형 벽부 15를 형성한다. 중간 튜브 16은 콘파인먼트 튜브 9보다 짧고 작은 직경을 가지는 원통형이며, 또한 토오치 몸체 2, 콘파인먼트 튜브 9 및 유도코일 3과 동축을 이룬다. 따라서, 중간 튜브 16 및 콘파인먼트 튜브 9 사이에는 원통형의 공동 17이 형성된다.
가스분배 헤드 11의 중앙에는 구멍 18이 제공되고 이 구멍을 통해서는 관상의 파우더 투입 프로브 20이 삽입설치된다. 프로브 20은 콘파인먼트 튜브 9, 중간튜브 16, 유도코일 3 및 토오치 몸체 2와 동축을 이루어 길게 연장형성되어 있다.
파우더와 캐리어 가스(화살표 21)는 프로브 20을 통해 토오치 1 내부로 투입된다. 캐리어 가스에 실려 중앙 프로브 20을 통해 투입되는 파우더는, 이 기술분야에서 잘 얄려진 바와같이 플라즈마에 의해 용융 또는 기화되는 재료를 구성한다.
가스분배 헤드 11는 원통형 공동 17 내부로 포위 가스(sheath gas)(화살표 23)를 투입시켜 이 가스의 콘파인먼트 튜브 9의 내주면에 걸친 길이방향 흐름을 이루어내기에 적합한 통상적인 관로수단들(도시되지 않음)을 포함한다.
가스분배 헤드 11은 또한 중간 튜브 16 내부로 중앙 가스(화살표 24)를 투입하여 이 중앙 가스의 접선방향 흐름을 이루어 내기에 적합한 통상적인 관로 수단들(도시되지 않음)을 포함한다.
(a) 파우더 투입 프로브 20의 구조와 중앙 및 포위 가스가 안내투입되어지는 관로 수단들(화살표 23 및 24)의 구조, (b) 파우더, 캐리어 가스, 포위 및 중앙 가스의 성질, 그리고 (c) 플라즈마 방출 노즐 7, 가스분배 헤드 11 및 그 중간튜브 16, 디스크 13을 구성하는 재료들의 선택에 관한 것은 이 분야에서 숙련된자들의 기술범주내에 있는 것으로 믿어지며, 따라서 이후로는 이들 요소에 관한 더 이상의 설명을 생략한다.
제1도에 도시된 바와같이, 얇은(약 1mm두께의)환상 챔버 25는 토오치 몸체 2의 내주면과 콘파인먼트 튜브 9의 외주면 사이에 형성된다. 고속의 냉각수는 화살표 22와 같이 이 얇은 환상 챔버 25내를 콘파인먼트 튜브 9의 전 외주면에 걸쳐 흘러서 그 내주면이 플라즈마의 높은 온도에 노출되어지는 상기 콘파인먼트 튜브를 냉각시키게 된다.
냉각수(화살표 29)는 입수구 28과, 헤드 11, 디스크 13, 토오치 몸체 2내에 형성된 수로 30, 그리고 전체적으로 U형의 횡단면형태를 지니고 물을 수로 30으로부터 환상 챔버 25의 하단부로 전하도록 구성된 환상의 수로 32 수단들을 통해 화살표 33 방향과 같이 흘러서 얇은 환상 챔버 25내로 투입되어진다. 도시된 바와같이, 냉각수는 플라즈마방출 노즐 7의 내주면 주위를 따라 흘러서 플라즈마의 열에 노출되어지는 이 노즐 내주면을 효과적으로 냉각시켜 주게 된다.
얇은 환상 챔버 25의 상단부로부터의 냉각수는 가스분배 헤드 11내에 형성된 두 평행한 수로 34를 통해 흘러서(화살표 36과 같이) 출수구 26으로 나아가게 된다(화살표 27). 수로 34들내에는 또한 헤드 11의 내주면주위를 따른 냉각수의 흐름을 제공하는 벽부 35가 제공되어 이 헤드의 내주면을 효과적으로 냉각시키도록 되어 있다.
작동에 있어서, 유도에너지가 결합된 플라즈마는 유도코일 3에 RF 전류를 인가하여 콘파인먼트 튜브 9내에 자장을 형성시킴으로써 만들어진다. 형성된 자장은 이온화된 가스내에 와전류를 유도하게 되어 그 주울열에 의해 안정적인 플라즈마상 물질(plasmoid)이 지속형성된다. 플라즈마의 발화를 포함한 유도 플라즈마토오치의 작동에 관한 것은 이 분야에서 잘 알려져 있는 것으로 믿어지므로 여기에서는 그에 관한 더 이상의 상세한 설명을 생략한다.
플라즈마 콘파인먼트 튜브 9의 세라믹 재료는, 소결 또는 반응결합 실리콘 질화물, 붕소 질화물, 알루미늄 질화물 및 알루미나, 또는 이들과 여러 가지 첨가물 및 충전재의 조합에 기초한 순수 또는 합성 세라믹으로 될 수 있다. 이 세라믹 재료는 고밀도이며, 또한 높은 전열성, 높은 전기저항성 및 높은 내 열충격성으로 특징지워진다.
세라믹재의 몸체로 된 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9가 높은 전열성을 나타내기 때문에 얇은 환상 챔버 25내를 통한 냉각수의 고속흐름은 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9를 적합하게 냉각시키는 데에 필요한 높은 열전달 효율을 제공한다. 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9의 외주면에 대한 강력하고 효과적인 냉각작용은, 석영재의 콘파인먼트 튜브를 포함하는 표준 플라즈마 토오치에 있어서 통상적으로 요구 되어지는 가스소모량보다 적은 가스소모량으로 현저히 높은 파워의 플라즈마 제공을 가능하게 한다. 이는 그에 따라 플라즈마 토오치의 플라즈마 방출구에서 가스의 보다 높은 특정 엔탈피수준을 가져다 준다.
전술한 내용으로부터 알 수 있는 바와 같이, 환상 챔버 25의 매우 작은 형성폭 (약 1mm)은 콘파인먼트 튜브의 외주면에 걸친 냉각수의 유속을 증대시켜 요구되는 고도의 열전달 효율을 달성하는 데에 핵심적인 역할을 한다. 상기 목적을 위해 콘파인먼트 튜브 9의 외주면에 걸친 냉각액의 유속은 적어도 1m/초가 되어야 한다.
세라믹 또는 합성 폴리머 주조물로 된 토오치 몸체 2내에 유도코일 3이 완전히 매설되기 때문에 유도코일 3과 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9 사이의 간격이 정밀하게 콘트롤될 수 있고, 이로써 유도코일 3 및 플라즈마간의 에너지결합 효율을 개선시킬 수 있다. 이는 또한, 유도코일 3으로 인한 하등의 방해를 받지 않고 환상 챔버 25의 형성폭을 정밀하게 콘트롤할 수 있도록 하여 준다. 여기에서 상기 환상 챔버 형성폭의 콘트롤은 토오치 몸체 2의 내주면 및 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9의 외주면을 작은 공차로 정밀하게 가공하는 것에 의해 얻어질 수 있다.
본 발명에 따른 유도 플라즈마 토오치의 성공적인 실현을 위해서는, 토오치의 성능에 직접적인 영향을 미치는 몇가지 중요한 인자들을 고려에 넣어야 함에 주목해야 한다. 이들 인자는 다음과 같이 요약될 수 있다.
우선, 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9의 질이 매우 중요한데, 이는 높은 전열성, 높은 전기저항성 및 높은 내 열충격성의 요건에 밀접하게 관계되기 때문이다. 소결 실리콘 질화물로 된 콘파인먼트 튜브 9가 성공적인 테스트결과를 나타내었지만, 본 발명은 이러한 세라믹재의 사용에만 국한되는 것이 아니고 상술한 엄격한 요건들을 만족시킨다면 다른 순수 또는 합성재료들의 사용까지 포함한다. 예컨대, 붕소 질화물, 알루미늄 질화물 또는 알루미나 합성물등은 본 발명에 채용될 수 있는 다른 가능한 대체물들을 이룬다.
토오치 몸체 2와 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9사이에 제공되는 환상 챔버 25의 형성폭을 작은 형성폭으로 정밀하게 콘트롤 하는 것이 또한 중요한 요건이며, 따라서 콘파인먼트 튜브 9의 외주면과 토오치 몸체 2의 내주면은 작은 공차로 정밀하게 가공되어져야 한다. 또한, 유도코일 3이 세라믹 또는 합성폴리머 주조물로 되는 토오치 몸체 2내에 매설되기 때문에 이 토오치 몸체 2는 그 내주면을 작은 공차로 정밀하게 가공하여 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9와 정확하게 동심을 이루도록 해주어야 한다.
냉각수의 질 및 이의 플라즈마 콘파인먼트 튜브 9 외주면에 걸친 유속은, 상기 콘파인먼트 튜브 9에 대한 효과적인 냉각과 플라즈마에 노출되어지는 이 튜브의 높은 열류로부터의 보호를 달성하기 위해 또한 매우 중요하다.
여기에서는 본 발명이 한 선택된 실시예를 통해 설명되었지만 이 실시예는 첨부된 특허청구의 범위내에서 본 발명의 기술범주를 벗어남이 없이 임의로 수정될수 있다.

Claims (15)

  1. 제1직경을 가지는 원통형 내주면을 포함하는 관상의 토오치 몸체와, (a) 높은 전열성을 가지는 세라믹 재료로 만들어지고, (b) 제1단부, 제2단부 및 상기 제1직경보다 다소 작은 제2직경을 가지는 원통형 외주면을 포함하여 상기 관상의 토오치 몸체내에 설치되며, 그 원통형 외주면이 상기 토오치 몸체의 원통형 내주면과 동축을 이루어서 이들 사이에 일정폭의 얇은 환상 챔버를 형성토록 배치되는 플라즈마 콘파인먼트 튜브와, 적어도 한 가스상물질을 플라즈마 콘파인먼트 튜브내부로 이 튜브의 제1단부로부터 제2단부를 향해 유입공급하기 위해 상기 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 제1단부의 위치에서 토오치 몸체상에 설치된 가스분배 헤드와, 상기 얇은 환상 챔버의 바깥쪽에 자리하여 상기 토오치 몸체의 원통형 내주면 및 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 외주면과 동축을 이루어 설치되고, 상기 플라즈마 콘파인먼트 튜브내에 고온 플라즈마를 형성유지시키기 위해 이 콘파인먼트 튜브를 통해 흐르는 상기 적어도 한 가스상물질에 에너지를 유도인가시키기 위한 전류가 공급되는 유도코일과, 상기 얇은 환상 챔버내에서의 냉각액의 고속 흐름을 이루어내는 수단들을 포함하고, 플라즈마 콘파인먼트 튜브를 형성하는 세라믹 재료의 높은 전열성과 냉각액의 고속흐름이 고온 플라즈마에 의해 가열된 플라즈마 콘파인먼트 튜브로부터의 열을 냉각액에 효과적으로 전달시켜 상기 콘파인먼트 튜브를 효과적으로 냉각시키는 데에 기여토록, 유도 플라즈마 토오치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 원통형 내주면 및 외주면이 기계적으로 가공된 원통면들인 플라즈마 토오치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 유도코일이 상기 토오치 몸체내에 매설되어 있는 플라즈마 토오치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 유도코일이 상기 코오치 몸체내에 매설되어 있는 플라즈마 토오치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 세라믹 재료가 실리콘 질화물로 이루어진 플라즈마 토오치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 세라믹 재료가 적어도 한 첨가물 및/또는 충전재를 포함하는 소결 또는 반응결합 실리콘 질화물로 이루어진 플라즈마 토오치.
  7. 제1항에 있어서, 플라즈마 콘파인먼트 튜브가 붕소 질화물, 알루미늄 질화물, 및 알루미나로 이루어진 그룹으로부터 선택된 세라믹 재료로 이루어진 플라즈마 토오치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 세라믹 재료가 높은 전열성, 높은 전기저항성 및 높은 내 열충격성을 가지는 고밀도의 세라믹 재료인 플라즈마 토오치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 환상 챔버가 약 1mm의 형성폭을 가지고, 이 환상 챔버내에서의 냉각액의 유속이 적어도 1m/초인 플라즈마 토오치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 냉각액이 물로 이루어진 플라즈마 토오치.
  11. 제1항에 있어서, 상기 냉각액의 고속흐름이 상기 원통형 내주면 및 외주면들의 공통축에 평행한 방향으로 이루어지도록 된 플라즈마 토오치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 토오치 몸체가 그 내부에 유도코일이 완전히 매설된 합성폴리머 주조물로 이루어진 플라즈마 토오치.
  13. 제1항에 있어서, 상기 토오치 몸체가 그 내부에 유도코일이 완전히 매설된 세라믹 주조물로 이루어진 플라즈마 토오치.
  14. 제1항에 있어서, 상기 유도코일이 이 유도코일을 냉각시키기 위한 냉각액이 공급되는 전기도체 튜브로 이루어진 플라즈마 토오치.
  15. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마 토오치가 또한 플라즈마 콘파인먼트 튜브의 제2단부의 위치에서 토오치 몸체에 설치된 플라즈마방출 노즐을 포함하고, 상기 헤드 및 노즐이 각각 내주면을 가지며, 냉각수의 고속흐름을 이루어 내는 수단들이 가스분배 헤드 및 플라즈마방출 노즐내에 형성된 수로수단들을 포함하고, 상기 냉각액은 이 냉각액이 상기 헤드 및 노즐의 내주면들을 냉각시킬 수 있도록 배치된 상기 수로수단들을 통해 고속으로 흐르도록 구성된 플라즈마 토오치.
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Families Citing this family (114)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0977470A3 (en) * 1994-03-17 2003-11-19 Fuji Electric Co., Ltd. Method and apparatus for generating induced plasma
US5560844A (en) * 1994-05-26 1996-10-01 Universite De Sherbrooke Liquid film stabilized induction plasma torch
US5580385A (en) * 1994-06-30 1996-12-03 Texas Instruments, Incorporated Structure and method for incorporating an inductively coupled plasma source in a plasma processing chamber
US6007883A (en) * 1994-07-18 1999-12-28 Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. Hydrogen torch
US5526984A (en) * 1994-07-18 1996-06-18 Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. Hydrogen torch having concentric tubes and reverse ball joint connection
FR2722939B1 (fr) * 1994-07-22 1996-08-23 Alcatel Fibres Optiques Torche a plasma par induction
US5611947A (en) * 1994-09-07 1997-03-18 Alliant Techsystems, Inc. Induction steam plasma torch for generating a steam plasma for treating a feed slurry
US5762009A (en) * 1995-06-07 1998-06-09 Alliant Techsystems, Inc. Plasma energy recycle and conversion (PERC) reactor and process
JPH0997586A (ja) * 1995-09-29 1997-04-08 Hitachi Ltd プラズマを用いた分析装置と方法、これに用いるインターフェース、及び、これに用いる試料導入部品
US5844192A (en) * 1996-05-09 1998-12-01 United Technologies Corporation Thermal spray coating method and apparatus
US5743961A (en) * 1996-05-09 1998-04-28 United Technologies Corporation Thermal spray coating apparatus
DE19713352A1 (de) * 1997-03-29 1998-10-01 Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt Plasmabrennersystem
US5877471A (en) * 1997-06-11 1999-03-02 The Regents Of The University Of California Plasma torch having a cooled shield assembly
US6815633B1 (en) 1997-06-26 2004-11-09 Applied Science & Technology, Inc. Inductively-coupled toroidal plasma source
US6388226B1 (en) 1997-06-26 2002-05-14 Applied Science And Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
US8779322B2 (en) 1997-06-26 2014-07-15 Mks Instruments Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US6924455B1 (en) 1997-06-26 2005-08-02 Applied Science & Technology, Inc. Integrated plasma chamber and inductively-coupled toroidal plasma source
US6150628A (en) * 1997-06-26 2000-11-21 Applied Science And Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
US7166816B1 (en) 1997-06-26 2007-01-23 Mks Instruments, Inc. Inductively-coupled torodial plasma source
US7569790B2 (en) * 1997-06-26 2009-08-04 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US5925266A (en) * 1997-10-15 1999-07-20 The Perkin-Elmer Corporation Mounting apparatus for induction coupled plasma torch
US6218640B1 (en) 1999-07-19 2001-04-17 Timedomain Cvd, Inc. Atmospheric pressure inductive plasma apparatus
US6117401A (en) * 1998-08-04 2000-09-12 Juvan; Christian Physico-chemical conversion reactor system with a fluid-flow-field constrictor
US6579805B1 (en) * 1999-01-05 2003-06-17 Ronal Systems Corp. In situ chemical generator and method
US7510664B2 (en) 2001-01-30 2009-03-31 Rapt Industries, Inc. Apparatus and method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for shaping of damage free surfaces
US7591957B2 (en) * 2001-01-30 2009-09-22 Rapt Industries, Inc. Method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for surface modification
US6551377B1 (en) 2001-03-19 2003-04-22 Rhenium Alloys, Inc. Spherical rhenium powder
WO2003032693A1 (en) * 2001-10-05 2003-04-17 Universite De Sherbrooke Multi-coil induction plasma torch for solid state power supply
US6693253B2 (en) * 2001-10-05 2004-02-17 Universite De Sherbrooke Multi-coil induction plasma torch for solid state power supply
US6660177B2 (en) * 2001-11-07 2003-12-09 Rapt Industries Inc. Apparatus and method for reactive atom plasma processing for material deposition
US20080017316A1 (en) * 2002-04-26 2008-01-24 Accretech Usa, Inc. Clean ignition system for wafer substrate processing
US20080190558A1 (en) * 2002-04-26 2008-08-14 Accretech Usa, Inc. Wafer processing apparatus and method
US20080011332A1 (en) * 2002-04-26 2008-01-17 Accretech Usa, Inc. Method and apparatus for cleaning a wafer substrate
CA2584508A1 (en) 2002-05-09 2003-11-09 Institut National De La Recherche Scientifique Method for producing single-wall carbon nanotubes
DE10231739B4 (de) * 2002-07-13 2004-10-28 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Induktions-Plasmabrennervorrichtung
DE10231738B4 (de) * 2002-07-13 2005-03-17 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Anpassungsvorrichtung für eine Induktions-Plasmabrennervorrichtung und Verfahren zur elektrischen Steuerung und Regelung einer Induktions-Plasmabrennervorrichtung
US20040129221A1 (en) * 2003-01-08 2004-07-08 Jozef Brcka Cooled deposition baffle in high density plasma semiconductor processing
US7371992B2 (en) 2003-03-07 2008-05-13 Rapt Industries, Inc. Method for non-contact cleaning of a surface
US7375035B2 (en) 2003-04-29 2008-05-20 Ronal Systems Corporation Host and ancillary tool interface methodology for distributed processing
US7429714B2 (en) * 2003-06-20 2008-09-30 Ronal Systems Corporation Modular ICP torch assembly
US7304263B2 (en) * 2003-08-14 2007-12-04 Rapt Industries, Inc. Systems and methods utilizing an aperture with a reactive atom plasma torch
US7297892B2 (en) * 2003-08-14 2007-11-20 Rapt Industries, Inc. Systems and methods for laser-assisted plasma processing
JP4064315B2 (ja) * 2003-08-20 2008-03-19 信越化学工業株式会社 誘導結合プラズマトーチ及び元素分析装置
US7494527B2 (en) * 2004-01-26 2009-02-24 Tekna Plasma Systems Inc. Process for plasma synthesis of rhenium nano and micro powders, and for coatings and near net shape deposits thereof and apparatus therefor
US7708975B2 (en) * 2004-07-20 2010-05-04 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for making metal oxide nanoparticles
US7465430B2 (en) * 2004-07-20 2008-12-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Apparatus for making metal oxide nanopowder
US20060081185A1 (en) * 2004-10-15 2006-04-20 Justin Mauck Thermal management of dielectric components in a plasma discharge device
EP1843834B1 (en) * 2005-01-28 2011-05-18 Tekna Plasma Systems, Inc. Induction plasma synthesis of nanopowders
CA2500766A1 (en) * 2005-03-14 2006-09-14 National Research Council Of Canada Method and apparatus for the continuous production and functionalization of single-walled carbon nanotubes using a high frequency induction plasma torch
JP5068753B2 (ja) 2005-08-02 2012-11-07 モギレフスキー、ラディオン 緻密なブロックの精製及び製造方法
US7342197B2 (en) * 2005-09-30 2008-03-11 Phoenix Solutions Co. Plasma torch with corrosive protected collimator
EP2004873A1 (en) * 2006-04-12 2008-12-24 Ciba Holding Inc. Process for the treatment of metal coated particles
US7967891B2 (en) * 2006-06-01 2011-06-28 Inco Limited Method producing metal nanopowders by decompositon of metal carbonyl using an induction plasma torch
FR2902962B1 (fr) * 2006-06-27 2008-08-22 Draka Comteq France Sa Torche plasma pour recharge de fibre optique.
DE102006029724B4 (de) * 2006-06-28 2008-12-04 Siemens Ag Verfahren und Ofen zum Schmelzen von Stahlschrott
WO2008083894A2 (en) * 2007-01-11 2008-07-17 Ciba Holding Inc. Pigment mixtures
CN101235941B (zh) * 2008-03-05 2012-05-02 中国原子能科学研究院 加速器用冷却水流量分配器
US8029595B2 (en) * 2008-06-02 2011-10-04 Nitto Denko Corporation Method and apparatus of producing nanoparticles using nebulized droplet
CN101409126B (zh) * 2008-08-07 2011-07-13 苏州科技学院 电感耦合线圈及电感耦合等离子体装置
EP2411138B1 (en) 2009-03-24 2016-11-30 Tekna Plasma Systems Inc. Plasma reactor for the synthesis of nanopowders and materials processing
EP2438139B1 (en) * 2009-06-01 2017-03-01 Nitto Denko Corporation Luminescent ceramic and light-emitting device using the same
WO2011005631A2 (en) 2009-07-07 2011-01-13 Basf Se Potassium cesium tungsten bronze particles
JP5542947B2 (ja) 2009-10-28 2014-07-09 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 改善されたきらめき効果を有する顔料
DE102010014056B4 (de) 2010-01-29 2022-07-07 J-Plasma Gmbh Induktiv gekoppelter Plasmabrenner
KR101821431B1 (ko) 2010-02-04 2018-01-23 바스프 에스이 개선된 스파클링 효과를 갖는 안료 조성물
CA2813062C (en) 2010-09-24 2018-10-30 James Charles Juranitch Renewable combined cycle low turbine boost
DE102011008575A1 (de) 2011-01-14 2012-07-19 J-Plasma Gmbh Induktiv gekoppelter Plasmabrenner
KR102023354B1 (ko) 2011-02-03 2019-09-20 테크나 플라즈마 시스템 인코포레이티드 고성능 유도 플라즈마 토치
DE102011107536B4 (de) 2011-03-17 2017-05-04 J-Plasma Gmbh Brenner, insbesondere induktiv gekoppelter Plasmabrenner vorzugsweise zur Herstellung von Halbzeug für biegeunempfindliche Glasfasern
US8884526B2 (en) * 2012-01-20 2014-11-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Coherent multiple side electromagnets
US20130276702A1 (en) * 2012-04-24 2013-10-24 Applied Materials, Inc. Gas reclamation and abatement system for high volume epitaxial silicon deposition system
US9279722B2 (en) 2012-04-30 2016-03-08 Agilent Technologies, Inc. Optical emission system including dichroic beam combiner
ES2690548T3 (es) 2012-05-15 2018-11-21 Basf Se Polvo de óxido de zinc fácilmente formulado
US9259798B2 (en) * 2012-07-13 2016-02-16 Perkinelmer Health Sciences, Inc. Torches and methods of using them
US9516735B2 (en) 2012-07-13 2016-12-06 Perkinelmer Health Sciences, Inc. Torches and methods of using them
GB2506625A (en) * 2012-10-04 2014-04-09 Bae Systems Plc LCD backlight display
KR20150041885A (ko) * 2013-10-10 2015-04-20 한국수력원자력 주식회사 플라즈마 토치 노즐
US11432393B2 (en) 2013-11-13 2022-08-30 Hypertherm, Inc. Cost effective cartridge for a plasma arc torch
US11684995B2 (en) 2013-11-13 2023-06-27 Hypertherm, Inc. Cost effective cartridge for a plasma arc torch
US11278983B2 (en) 2013-11-13 2022-03-22 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
US9981335B2 (en) 2013-11-13 2018-05-29 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
US10456855B2 (en) 2013-11-13 2019-10-29 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
PT3116636T (pt) 2014-03-11 2020-10-19 Tekna Plasma Systems Inc Processo e aparelho para produzir partículas de pó por atomização de um material de alimentação com a forma de um elemento alongado
US9450330B2 (en) 2014-06-30 2016-09-20 Agilent Technologies, Inc. Connector assembly for an inductively coupled plasma source
RU2693233C2 (ru) 2014-08-12 2019-07-01 Гипертерм, Инк. Затратоэффективная головка для плазменно-дуговой горелки
CN107852807B (zh) 2015-06-29 2020-07-07 泰克纳等离子系统公司 具有更高等离子体能量密度的感应式等离子体喷枪
CA2992303C (en) 2015-07-17 2018-08-21 Ap&C Advanced Powders And Coatings Inc. Plasma atomization metal powder manufacturing processes and systems therefor
EP4243575A3 (en) 2015-08-04 2023-10-25 Hypertherm, Inc. Cartridge for a liquid-cooled plasma arc torch
US10987735B2 (en) 2015-12-16 2021-04-27 6K Inc. Spheroidal titanium metallic powders with custom microstructures
PL3389862T3 (pl) 2015-12-16 2024-03-04 6K Inc. Sferoidalne metale podlegające odwodornieniu oraz cząstki stopów metali
CN105551927B (zh) * 2016-01-26 2017-07-28 电子科技大学 新型高效可活动射频等离子体放电管
CA3020720C (en) 2016-04-11 2020-12-01 Ap&C Advanced Powders & Coatings Inc. Reactive metal powders in-flight heat treatment processes
WO2018035152A1 (en) 2016-08-15 2018-02-22 Advanced Energy Materials, Llc Flame based fluidized bed reactor for nanomaterials production
CN110753591B (zh) 2017-03-03 2023-07-11 魁北克电力公司 包含被钝化层覆盖的核的纳米粒子、其制造方法及其用途
KR102389784B1 (ko) 2018-03-05 2022-04-22 글로벌 어드밴스드 메탈스 유에스에이, 아이엔씨. 구형 분말을 함유하는 애노드 및 커패시터
EP3746240A2 (en) 2018-03-05 2020-12-09 Global Advanced Metals USA, Inc. Spherical tantalum powder, products containing the same, and methods of making the same
EP3746239A2 (en) 2018-03-05 2020-12-09 Global Advanced Metals USA, Inc. Powder metallurgy sputtering targets and methods of producing same
EP3810358A1 (en) 2018-06-19 2021-04-28 6K Inc. Process for producing spheroidized powder from feedstock materials
CN109334390B (zh) * 2018-11-06 2024-02-02 海宁托博特种陶瓷制品有限公司 氮化硅发热体与铝件压铸或浇筑一体成型装置
CN109304474B (zh) * 2018-11-29 2023-10-27 中天智能装备有限公司 Icp等离子制粉设备
CN109304473A (zh) * 2018-11-29 2019-02-05 中天智能装备有限公司 Icp等离子直线加热装置
CA3120873A1 (en) 2018-12-12 2020-06-18 Craig M. Sungail Spherical niobium alloy powder, products containing the same, and methods of making the same
CA3134579A1 (en) 2019-04-30 2020-11-05 Gregory Wrobel Lithium lanthanum zirconium oxide (llzo) powder
SG11202111576QA (en) 2019-04-30 2021-11-29 6K Inc Mechanically alloyed powder feedstock
TW202106893A (zh) 2019-07-19 2021-02-16 美商環球高級金屬美國公司 球形鉭－鈦合金粉末，包含彼之產品及製備彼之方法
CN114641462A (zh) 2019-11-18 2022-06-17 6K有限公司 用于球形粉末的独特原料及制造方法
US11590568B2 (en) 2019-12-19 2023-02-28 6K Inc. Process for producing spheroidized powder from feedstock materials
CA3180426A1 (en) 2020-06-25 2021-12-30 Richard K. Holman Microcomposite alloy structure
US11963287B2 (en) 2020-09-24 2024-04-16 6K Inc. Systems, devices, and methods for starting plasma
KR20230095080A (ko) 2020-10-30 2023-06-28 6케이 인크. 구상화 금속 분말을 합성하는 시스템 및 방법
CN114147328B (zh) * 2021-12-22 2022-12-13 南通阳光焊割设备有限公司 一种等离子弧弧焊喷嘴
AT526238B1 (de) * 2022-08-09 2024-01-15 Thermal Proc Solutions Gmbh Vorrichtung zur Bereitstellung eines Plasmas
AT526239B1 (de) * 2022-08-09 2024-01-15 Thermal Proc Solutions Gmbh Vorrichtung zur Bereitstellung eines Plasmas
AT526353B1 (de) 2022-08-09 2024-02-15 Thermal Proc Solutions Gmbh Einrichtung zur thermischen Behandlung eines Stoffes

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1033392A (en) * 1962-06-20 1966-06-22 Atomic Energy Authority Uk Improvements in or relating to induction coupled plasma generators
FR1345152A (fr) * 1962-10-26 1963-12-06 Soudure Electr Autogene Dispositif pour l'obtention d'un plasma
FR1395307A (fr) * 1964-05-15 1965-04-09 Ass Elect Ind Perfectionnements à des torches à plasma
GB1061956A (en) * 1964-11-20 1967-03-15 British Titan Products Induction heated plasma generator
US3378917A (en) * 1965-04-28 1968-04-23 Chrysler Corp Induction heating inductors
US3694618A (en) * 1971-08-03 1972-09-26 Humphreys Corp High pressure thermal plasma system
US3862393A (en) * 1971-08-20 1975-01-21 Humphreys Corp Low frequency induction plasma system
US3731047A (en) * 1971-12-06 1973-05-01 Mc Donnell Douglas Corp Plasma heating torch
US3763392A (en) * 1972-01-17 1973-10-02 Charybdis Inc High pressure method for producing an electrodeless plasma arc as a light source
US4431901A (en) * 1982-07-02 1984-02-14 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Induction plasma tube
US4549065A (en) * 1983-01-21 1985-10-22 Technology Application Services Corporation Plasma generator and method
CA1266094A (en) * 1986-01-17 1990-02-20 Patrick Earl Burke Induction heating and melting systems having improved induction coils
US4795879A (en) * 1987-04-13 1989-01-03 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Method of processing materials using an inductively coupled plasma
FR2649850B1 (fr) * 1989-07-12 1993-10-01 Gaz De France Torche a plasma

Also Published As

Publication number Publication date
JP3169962B2 (ja) 2001-05-28
ATE148298T1 (de) 1997-02-15
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CA2085133A1 (en) 1992-10-13
CN1068697A (zh) 1993-02-03
AU1640192A (en) 1992-11-17
EP0533884A1 (en) 1993-03-31
DE69216970D1 (de) 1997-03-06
DE69216970T2 (de) 1997-07-31
WO1992019086A1 (en) 1992-10-29
EP0533884B1 (en) 1997-01-22
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JPH05508053A (ja) 1993-11-11

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