JPH0997586A - プラズマを用いた分析装置と方法、これに用いるインターフェース、及び、これに用いる試料導入部品 - Google Patents
プラズマを用いた分析装置と方法、これに用いるインターフェース、及び、これに用いる試料導入部品Info
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- JPH0997586A JPH0997586A JP7252409A JP25240995A JPH0997586A JP H0997586 A JPH0997586 A JP H0997586A JP 7252409 A JP7252409 A JP 7252409A JP 25240995 A JP25240995 A JP 25240995A JP H0997586 A JPH0997586 A JP H0997586A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の目的は、プラズマにより試料の導入管
が溶出して分析精度が低下するのを抑制し、高精度のプ
ラズマを用いた分析を可能とすることにある。 【解決手段】プラズマ１０を発生させ、試料４をエアロ
ゾール案内管４１よりプラズマ１０に供給して四重極マ
スフィルター１８により分析するものにおいて、エアロ
ゾール案内管４１の先端部５０をサファイアで構成し
た。
が溶出して分析精度が低下するのを抑制し、高精度のプ
ラズマを用いた分析を可能とすることにある。 【解決手段】プラズマ１０を発生させ、試料４をエアロ
ゾール案内管４１よりプラズマ１０に供給して四重極マ
スフィルター１８により分析するものにおいて、エアロ
ゾール案内管４１の先端部５０をサファイアで構成し
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマを用いた
分析装置及び分析方法等に関する。
分析装置及び分析方法等に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年に、微量元素の分析が要求されるこ
とが多くなってきた。例えば、半導体電子材料における
シリコンウエハー面の微量汚染元素、あるいは、湖沼な
どの環境水に含まれる微量の毒性重金属等の分析が要求
されるようになってきた。このような微量元素の分析の
ためには、プラズマを用いた分析が有効である。すなわ
ち、まずプラズマを発生させ、試料をこのプラズマに供
給し、分析する。このようなものは、例えば、特開平1
−309300 号公報に知られている。
とが多くなってきた。例えば、半導体電子材料における
シリコンウエハー面の微量汚染元素、あるいは、湖沼な
どの環境水に含まれる微量の毒性重金属等の分析が要求
されるようになってきた。このような微量元素の分析の
ためには、プラズマを用いた分析が有効である。すなわ
ち、まずプラズマを発生させ、試料をこのプラズマに供
給し、分析する。このようなものは、例えば、特開平1
−309300 号公報に知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようなプラズマを
用いた分析装置においては、通路を介して試料をプラズ
マに供給するが、発明者の実験に基づく開発において、
他の分析方法と比較して、ノイズが多いことに気がつい
た。すなわち、詳細は検討結果により、プラズマの高温
により、試料通路の表面が不純物として溶出し、これが
分析データのノイズとなっていることを知見した。な
お、プラズマの温度を低くすれば、ノイズの混入を低減
できるが、しかしながら、分析が充分にできなくなると
いう問題が生じてしまう。また、プラズマを試料の通路
から遠く離せば影響が低くなるが、プラズマへの試料の
導入速度が低くなってしまい、そのため、試料がプラズ
マ中で拡散されず、かなり、分析が充分にできないとい
う問題が生じてしまう。
用いた分析装置においては、通路を介して試料をプラズ
マに供給するが、発明者の実験に基づく開発において、
他の分析方法と比較して、ノイズが多いことに気がつい
た。すなわち、詳細は検討結果により、プラズマの高温
により、試料通路の表面が不純物として溶出し、これが
分析データのノイズとなっていることを知見した。な
お、プラズマの温度を低くすれば、ノイズの混入を低減
できるが、しかしながら、分析が充分にできなくなると
いう問題が生じてしまう。また、プラズマを試料の通路
から遠く離せば影響が低くなるが、プラズマへの試料の
導入速度が低くなってしまい、そのため、試料がプラズ
マ中で拡散されず、かなり、分析が充分にできないとい
う問題が生じてしまう。
【０００４】本発明の目的は、プラズマを用いた分析に
おいて、分析精度の向上を可能とすることにある。
おいて、分析精度の向上を可能とすることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、試料を導入通路を介してプラズマに供
給し分析するうえで、この導入通路について、プラズマ
側の少なくとも一部を試料導入側よりも耐熱温度を高く
するように構成した。
に、本発明では、試料を導入通路を介してプラズマに供
給し分析するうえで、この導入通路について、プラズマ
側の少なくとも一部を試料導入側よりも耐熱温度を高く
するように構成した。
【０００６】このように構成すれば、導入通路のプラズ
マに近い部分では、耐熱温度が高いため、プラズマによ
る溶出を抑制することが可能となり、そのため、分析に
おける精度の向上が図れる。
マに近い部分では、耐熱温度が高いため、プラズマによ
る溶出を抑制することが可能となり、そのため、分析に
おける精度の向上が図れる。
【０００７】また、上記目的を達成するために、さら
に、本発明では、試料を導入通路を介してプラズマに供
給して分析するうえで、この導入通路について、プラズ
マ側端面から１.５mm〜３.０mmの部分を所定の耐熱構造
とするように構成した。
に、本発明では、試料を導入通路を介してプラズマに供
給して分析するうえで、この導入通路について、プラズ
マ側端面から１.５mm〜３.０mmの部分を所定の耐熱構造
とするように構成した。
【０００８】すなわち、発明者は、特に、プラズマ側端
面から１.５mm〜３.０mmの部分にプラズマの影響が集中
することに気がついた。そのため、この部分を所定の耐
熱構造としたのである。そのため、このような影響を抑
制することが可能となり、そのため、分析における精度
の向上が図れる。
面から１.５mm〜３.０mmの部分にプラズマの影響が集中
することに気がついた。そのため、この部分を所定の耐
熱構造としたのである。そのため、このような影響を抑
制することが可能となり、そのため、分析における精度
の向上が図れる。
【０００９】さらに、また、試料を導入通路を介してプ
ラズマに供給して分析するうえで、この導入通路につい
て、約１３００Ｗに対応する温度に実質的に耐え得る構
成とした。
ラズマに供給して分析するうえで、この導入通路につい
て、約１３００Ｗに対応する温度に実質的に耐え得る構
成とした。
【００１０】すなわち、プラズマが約１３００Ｗ対応で
あれば、分析が充分に行われる。このとき、試料通路が
プラズマに影響されないので、そのため、分析精度の向
上が可能となる。
あれば、分析が充分に行われる。このとき、試料通路が
プラズマに影響されないので、そのため、分析精度の向
上が可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて、本発明の実
施の形態について、説明する。
施の形態について、説明する。
【００１２】図１は質量分析装置の全体装置である。不
活性ガスボンベ１から流量調整器２，６を経てネブライ
ザー３，トーチ管８にそれぞれアルゴンや窒素のような
不活性プラズマガスが供給される。ネブライザー３に供
給される不活性ガスはキャリヤーガスとして働き、ネブ
ライザー３は溶液試料４をキャリヤーガスを媒介として
吸引し、霧化する。霧化された試料４はエアロゾールと
なってプラズマ５の中に導入される。プラズマ５はマイ
クロ波発生器７に供給されるマイクロ波（2.45ＧＨ）の
エネルギーによるプラズマガスの放電を通じてのイオン
化により形成される。もちろん、プラズマ５は高周波コ
イルによって発生するエネルギーによって形成されても
よい。プラズマ５は周辺が冷却された円錐状面と、その
頂点に開口を備える導電体である金属製のサンプリング
コーン１０に接し、その背面が減圧されたサンプリング
コーンの開口を通してイオン流が吸引，抽出される。図
示から明らかなように、サンプリングコーン１０は末広
となっている。抽出されたイオン流は更にその頂点に細
孔を備える円錐面状のスキマーコーン１２に接し、背面
が更に減圧された真空室１３に吸引，抽出される。スキ
マーコーン１２もまた図示のように末広となっている。
真空室１３の中には静電レンズ１６があり、これにより
イオン流は仕切り壁４０の開口に収束され、真空室１７
に入る。
活性ガスボンベ１から流量調整器２，６を経てネブライ
ザー３，トーチ管８にそれぞれアルゴンや窒素のような
不活性プラズマガスが供給される。ネブライザー３に供
給される不活性ガスはキャリヤーガスとして働き、ネブ
ライザー３は溶液試料４をキャリヤーガスを媒介として
吸引し、霧化する。霧化された試料４はエアロゾールと
なってプラズマ５の中に導入される。プラズマ５はマイ
クロ波発生器７に供給されるマイクロ波（2.45ＧＨ）の
エネルギーによるプラズマガスの放電を通じてのイオン
化により形成される。もちろん、プラズマ５は高周波コ
イルによって発生するエネルギーによって形成されても
よい。プラズマ５は周辺が冷却された円錐状面と、その
頂点に開口を備える導電体である金属製のサンプリング
コーン１０に接し、その背面が減圧されたサンプリング
コーンの開口を通してイオン流が吸引，抽出される。図
示から明らかなように、サンプリングコーン１０は末広
となっている。抽出されたイオン流は更にその頂点に細
孔を備える円錐面状のスキマーコーン１２に接し、背面
が更に減圧された真空室１３に吸引，抽出される。スキ
マーコーン１２もまた図示のように末広となっている。
真空室１３の中には静電レンズ１６があり、これにより
イオン流は仕切り壁４０の開口に収束され、真空室１７
に入る。
【００１３】次にイオン流は四重極マスフィルター１８
に入り、質量分析される。すなわち、目的とする質量数
（ｍ／ｚ）のイオンが選択される。その選択された質量
数を持つイオンは偏向レンズ２０を通り、イオン検出器
２１に入射し、検出される。検出されたイオンはパルス
増幅器２２により計数されて、出力表示部２３に表示さ
れる。質量分析装置全体をシステムとして自動制御する
のが制御装置２４である。
に入り、質量分析される。すなわち、目的とする質量数
（ｍ／ｚ）のイオンが選択される。その選択された質量
数を持つイオンは偏向レンズ２０を通り、イオン検出器
２１に入射し、検出される。検出されたイオンはパルス
増幅器２２により計数されて、出力表示部２３に表示さ
れる。質量分析装置全体をシステムとして自動制御する
のが制御装置２４である。
【００１４】プラズマ５は大気圧中で生成され、一方、
質量分析を行うための真空室１７は１０-4Ｐａ（１０-6
Torr）又はそれ以上の高真空に保たれるよう真空ポンプ
１９で排気される。大気圧の真空室１７の高真空への影
響を防止するために、サンプリングコーン１９とスキマ
ーコーン１２の間の空間は６６０Ｐａ（５ Torr）程度
の圧力に、また、真空室１３は１０-4Ｐａ（１０-6Tor
r）の圧力となるようにそれぞれ真空ポンプ１１及び１
４により排気される。
質量分析を行うための真空室１７は１０-4Ｐａ（１０-6
Torr）又はそれ以上の高真空に保たれるよう真空ポンプ
１９で排気される。大気圧の真空室１７の高真空への影
響を防止するために、サンプリングコーン１９とスキマ
ーコーン１２の間の空間は６６０Ｐａ（５ Torr）程度
の圧力に、また、真空室１３は１０-4Ｐａ（１０-6Tor
r）の圧力となるようにそれぞれ真空ポンプ１１及び１
４により排気される。
【００１５】次に、トーチ管８の周辺部の詳細につい
て、図１を用いて説明する。まず、マイクロ波発生器７
はフランジ２１を介してケーシング３９に接続されてい
る。マイクロ波発生器８で発生したマイクロ波はマイク
ロ波導入口２２から導入し、内導体３３及び外導体３４
の近傍に高い高周波波電界を発生させる。また、放電管
３６のガス入口３８からは窒素ガスあるいはアルゴンガ
スが導入され（約１３Ｌ／min ）、放電管３５とエアロ
ゾール案内管１１の間を通って、エアロゾール案内管１
１の先端部に導かれる。エアロゾール案内管１１の先端
部に達した窒素ガス（アルゴンガス）は高周波電界のた
め放電して、ここに、高温のプラズマが発生する。
て、図１を用いて説明する。まず、マイクロ波発生器７
はフランジ２１を介してケーシング３９に接続されてい
る。マイクロ波発生器８で発生したマイクロ波はマイク
ロ波導入口２２から導入し、内導体３３及び外導体３４
の近傍に高い高周波波電界を発生させる。また、放電管
３６のガス入口３８からは窒素ガスあるいはアルゴンガ
スが導入され（約１３Ｌ／min ）、放電管３５とエアロ
ゾール案内管１１の間を通って、エアロゾール案内管１
１の先端部に導かれる。エアロゾール案内管１１の先端
部に達した窒素ガス（アルゴンガス）は高周波電界のた
め放電して、ここに、高温のプラズマが発生する。
【００１６】一方、窒素ガスあるいはアルゴンガス（約
１Ｌ／min ）はエアロゾール化された試料と混合してガ
ス入口３６から導入される。この混合された試料は、エ
アロゾーン案内管１１の内部を通って、エアロゾール案
内管の先端部に導かれる。
１Ｌ／min ）はエアロゾール化された試料と混合してガ
ス入口３６から導入される。この混合された試料は、エ
アロゾーン案内管１１の内部を通って、エアロゾール案
内管の先端部に導かれる。
【００１７】エアロゾーン案内管１１の先端部はプラズ
マで充満している。そのため、エアロゾール案内管４１
は整形加工の可能な比較的に耐熱材料で、且つ周波数2.
45ＧＨのマイクロ波に対する誘電損失の小さい材料を選
択する必要があるとされる。そこでこれらの条件を満た
す材料として例えば、石英（Quartz）などが用いられ
る。エアロゾール案内管４１においては、マイクロ波出
力を例えば１３００Ｗに高めることを構成する元素シリ
コンの発光スペクトルまたはシリコンのイオンがプラズ
マ１０から放出されることが認められている。即ち、エ
アロゾール案内管４１の先端の表面がプラズマによりわ
ずか溶解し、さらに蒸発して窒素あるいはアルゴンガス
とともにプラズマ１０の中に運ばれる。そのために、図
３に示すごとく、エアロゾール案内管４１の先端部５０
を、耐熱温度が高く且つ高周波に対して誘電損失の低い
材料を用いた。すなわち、高純度サファイア（Ａｌ
2Ｏ3）の薄い板（１.５mm〜３.０mm）を用いた。
マで充満している。そのため、エアロゾール案内管４１
は整形加工の可能な比較的に耐熱材料で、且つ周波数2.
45ＧＨのマイクロ波に対する誘電損失の小さい材料を選
択する必要があるとされる。そこでこれらの条件を満た
す材料として例えば、石英（Quartz）などが用いられ
る。エアロゾール案内管４１においては、マイクロ波出
力を例えば１３００Ｗに高めることを構成する元素シリ
コンの発光スペクトルまたはシリコンのイオンがプラズ
マ１０から放出されることが認められている。即ち、エ
アロゾール案内管４１の先端の表面がプラズマによりわ
ずか溶解し、さらに蒸発して窒素あるいはアルゴンガス
とともにプラズマ１０の中に運ばれる。そのために、図
３に示すごとく、エアロゾール案内管４１の先端部５０
を、耐熱温度が高く且つ高周波に対して誘電損失の低い
材料を用いた。すなわち、高純度サファイア（Ａｌ
2Ｏ3）の薄い板（１.５mm〜３.０mm）を用いた。
【００１８】さて、エアロゾール化された試料は高温の
プラズマで原子に解離し、原子固有のスペクトルを放射
し、さらに、原子は電離しイオンが生成される。イオン
量は導入されたエアロゾールに含まれる金属元素の量に
比例することに着目し、イオンを計測することにより定
量分析を行っている。なお、同様に、原子スペクトルの
光強度も、試料に含まれる金属元素の量に比例するので
あるから、原子スペクトルの光強度を計測して定量分析
を行えることはもちろんのことである。
プラズマで原子に解離し、原子固有のスペクトルを放射
し、さらに、原子は電離しイオンが生成される。イオン
量は導入されたエアロゾールに含まれる金属元素の量に
比例することに着目し、イオンを計測することにより定
量分析を行っている。なお、同様に、原子スペクトルの
光強度も、試料に含まれる金属元素の量に比例するので
あるから、原子スペクトルの光強度を計測して定量分析
を行えることはもちろんのことである。
【００１９】もし、エアロゾール案内管がプラズマによ
り、例え微量でも、溶解すると、溶解した物質の蒸気
は、元素分析においては不純物となってしまい分析にお
ける元素の検出限界を悪くするが、本実施例では、エア
ロゾール案内管４１の先端がサファイアで構成されてい
るので、このような不都合が解消される。
り、例え微量でも、溶解すると、溶解した物質の蒸気
は、元素分析においては不純物となってしまい分析にお
ける元素の検出限界を悪くするが、本実施例では、エア
ロゾール案内管４１の先端がサファイアで構成されてい
るので、このような不都合が解消される。
【００２０】なお、エアロゾール案内管４１の先端部
を、サフマイアではなく、石英で構成した場合に、その
表面の溶解を防ぐため、エアロゾール案内管４１の先端
部（噴射口）をプラズマ１０の右端から遠ざける（放電
管５を円筒状内導体３に対して右側に引く）と噴射され
た試料エアロゾールの線速度が低下し、固い（温度約５
４００Ｋと言われる大気圧プラズマは常温気体流を反発
する性質がある）プラズマ１０の中心部に貫入すること
ができなくなる。すなわち、試料エアロゾールを効率良
く固いプラズマ１０の中心部に導入するためには、エア
ロゾール噴射口案内管先端をプラズマ１０からあまり遠
ざけることが出来ないと言う事情がある。本実施例の形
態では、エアロゾール案内管４１の先端部を充分にプラ
ズマに近づけることができるので、このような不都合を
解消することが可能となる。
を、サフマイアではなく、石英で構成した場合に、その
表面の溶解を防ぐため、エアロゾール案内管４１の先端
部（噴射口）をプラズマ１０の右端から遠ざける（放電
管５を円筒状内導体３に対して右側に引く）と噴射され
た試料エアロゾールの線速度が低下し、固い（温度約５
４００Ｋと言われる大気圧プラズマは常温気体流を反発
する性質がある）プラズマ１０の中心部に貫入すること
ができなくなる。すなわち、試料エアロゾールを効率良
く固いプラズマ１０の中心部に導入するためには、エア
ロゾール噴射口案内管先端をプラズマ１０からあまり遠
ざけることが出来ないと言う事情がある。本実施例の形
態では、エアロゾール案内管４１の先端部を充分にプラ
ズマに近づけることができるので、このような不都合を
解消することが可能となる。
【００２１】図１における、Ａ−Ａ方向から見た外観図
を図４に示す。
を図４に示す。
【００２２】次に、第２の実施の形態を、図５を用いて
説明する。なお、この実施の形態において、第１の形態
と異なる部分のみ説明し、同様の部分は省略する。
説明する。なお、この実施の形態において、第１の形態
と異なる部分のみ説明し、同様の部分は省略する。
【００２３】第２の実施の形態では、エアロゾール案内
管４１の先端部５０をアルミナで形成した。なお、この
代わりに、炭化珪素又は窒化珪素で構成しても良い。た
だし、エアロゾール案内管１４の材料を全てアルミナに
統一することはできない。アルミナは高温プラズマによ
る輻射加熱の熱的衝撃負荷（Thermal ShockResistanc
e）に対し極めて弱く、アルミナ結晶粒内部で破壊（粒
内破壊：クラック）が発生するからである。実験による
とそのクラック発生の位置は、エアロゾール案内管４１
の左端面より１.５mm〜３.０mmにある。そこで、アルミ
ナより耐熱温度が高く且つ熱的衝撃負荷にも強く、２.
４５ＧＨ のマイクロ波の誘電損失の低い材料、例えば
サファイア板５２をアルミナ材料の１３ガス出口の表面
に、厚さ１.５mm から３mmの板として接着してエアロゾ
ール案内管１４を構成する。ただし、アルミナ５２とサ
ファイア５１との間に熱応力緩衝材を挿入して、熱応力
によりはがれることを防止する。
管４１の先端部５０をアルミナで形成した。なお、この
代わりに、炭化珪素又は窒化珪素で構成しても良い。た
だし、エアロゾール案内管１４の材料を全てアルミナに
統一することはできない。アルミナは高温プラズマによ
る輻射加熱の熱的衝撃負荷（Thermal ShockResistanc
e）に対し極めて弱く、アルミナ結晶粒内部で破壊（粒
内破壊：クラック）が発生するからである。実験による
とそのクラック発生の位置は、エアロゾール案内管４１
の左端面より１.５mm〜３.０mmにある。そこで、アルミ
ナより耐熱温度が高く且つ熱的衝撃負荷にも強く、２.
４５ＧＨ のマイクロ波の誘電損失の低い材料、例えば
サファイア板５２をアルミナ材料の１３ガス出口の表面
に、厚さ１.５mm から３mmの板として接着してエアロゾ
ール案内管１４を構成する。ただし、アルミナ５２とサ
ファイア５１との間に熱応力緩衝材を挿入して、熱応力
によりはがれることを防止する。
【００２４】発明者等の実験によると、このエアロゾー
ル案内管１４を備えた放電管５は、出力１３００Ｗ〜１
５００Ｗのマイクロ波で発生するプラズマに対してガス
出口１７部表面の溶解が認められず、且つ熱的衝撃負荷
によるクラック（亀裂）も発生しないことが確認されて
いる。
ル案内管１４を備えた放電管５は、出力１３００Ｗ〜１
５００Ｗのマイクロ波で発生するプラズマに対してガス
出口１７部表面の溶解が認められず、且つ熱的衝撃負荷
によるクラック（亀裂）も発生しないことが確認されて
いる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高精度の分析が可能となる。
高精度の分析が可能となる。
【図１】プラズマ周辺部の詳細を示す図である。
【図２】分析装置の全体図を示す図である。
【図３】エアロゾール案内管の詳細を示す図である。
【図４】トーチ管の外観を示す図である。
【図５】第２の実施の態様を示す図である。
１…不活性ボンベ、４…試料、３…ネブライザー、５…
プラズマ、７…マイクロ波発生器、１８…四重極マスフ
ィルター、２２…マイクロ波導入口、４１…エアロゾー
ル案内管。
プラズマ、７…マイクロ波発生器、１８…四重極マスフ
ィルター、２２…マイクロ波導入口、４１…エアロゾー
ル案内管。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯野 敬史 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器事業部内
Claims (16)
- 【請求項１】プラズマを発生するプラズマ発生手段と、
試料を前記プラズマに供給する導入通路と、前記プラズ
マに供給された試料を分析する分析部を有するプラズマ
を用いた分析装置において、前記導入通路のプラズマ側
の少なくとも一部を前記導入側より耐熱温度を高く構成
したことを特徴とするプラズマを用いた分析装置。 - 【請求項２】請求項１において、前記耐熱温度の高い部
分はサファイアで構成されたことを特徴とするプラズマ
を用いた分析装置。 - 【請求項３】請求項１において、前記耐熱温度の高い部
分はアルミナで構成されたことを特徴とするプラズマを
用いた分析装置。 - 【請求項４】請求項１において、前記耐熱温度の高い部
分は炭化珪素又は窒化珪素で構成されていることを特徴
とするプラズマを用いた分析装置。 - 【請求項５】請求項３，４又は５において、前記導入通
路は石英で構成されていることを特徴とするプラズマを
用いた分析装置。 - 【請求項６】請求項５において、前記耐熱温度が高い部
分は厚さ３mm以下であることを特徴とするプラズマを用
いた分析装置。 - 【請求項７】請求項１において、前記耐熱温度が高い部
分と他の部分の間に熱応力緩衝部材を挿入したことを特
徴とするプラズマを用いた分析装置。 - 【請求項８】請求項１において、前記耐熱温度は少なく
とも２種類の材質の部分より成ることを特徴とするプラ
ズマを用いた分析装置。 - 【請求項９】請求項１において、前記２種類の材質はア
ルミナ及び窒化ボロンであることを特徴とするプラズマ
を用いた分析装置。 - 【請求項１０】請求項１において、前記分析部は質量分
析を行うことを特徴とするプラズマを用いた分析装置。 - 【請求項１１】請求項１において、前記分析部は発光分
析を行うことを特徴とするプラズマを用いた分析装置。 - 【請求項１２】プラズマを発生するプラズマ発生手段
と、試料を前記プラズマに供給する導入通路と、前記プ
ラズマに供給された試料を分析する分析部を有するプラ
ズマを用いた分析装置において、前記導入通路の少なく
ともプラズマ側端面から１.５mm〜３.０mm の部分を所
定の耐熱構造とすることを特徴とするプラズマを用いた
分析装置。 - 【請求項１３】プラズマを発生するプラズマ発生手段
と、試料をプラズマに供給する導入通路と、前記プラズ
マを分析する分析部を有するプラズマを用いた分析装置
において、前記導入通路を約１３００Ｗに対応する温度
に実質的に耐え得る構成としたことを特徴とするプラズ
マを用いた分析装置。 - 【請求項１４】プラズマを発生させ、試料を導入通路を
通して前記プラズマに供給して前記試料を分析し、前記
導入通路のプラズマ側の少なくとも一部を試料導入側よ
り耐熱温度を高くすることを特徴とする分析方法。 - 【請求項１５】分析試料を導入するプラズマ用分析試料
導入部品において、プラズマ側に接する少なくとも一部
を試料が導入される側より耐プラズマ溶融性を高くした
ことを特徴とするプラズマ分析試料導入部品。 - 【請求項１６】プラズマを発生するプラズマ発生手段
と、試料を前記プラズマに供給する導入通路を、前記プ
ラズマに供給された試料を分析のために出力する出力部
を有するプラズマ分析用インターフェイスにおいて、前
記導入通路のプラズマ側の少なくとも一部を試料導入側
より耐熱温度を高く構成したことを特徴とするプラズマ
分析用インターフェイス。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7252409A JPH0997586A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | プラズマを用いた分析装置と方法、これに用いるインターフェース、及び、これに用いる試料導入部品 |
| EP96114498A EP0766284A1 (en) | 1995-09-29 | 1996-09-10 | Analyser and analysing method using plasma, and interface and sample introducing component used for the same |
| CA002185832A CA2185832A1 (en) | 1995-09-29 | 1996-09-18 | Analyzer using plasma and analysis method using plasma, interface used for the same and sample introducing component used for the same |
| US08/715,587 US5763877A (en) | 1995-09-29 | 1996-09-18 | Analyzer using plasma and analysis method using plasma, interface used for the same and sample introducing component used for the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7252409A JPH0997586A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | プラズマを用いた分析装置と方法、これに用いるインターフェース、及び、これに用いる試料導入部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0997586A true JPH0997586A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=17236949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7252409A Pending JPH0997586A (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | プラズマを用いた分析装置と方法、これに用いるインターフェース、及び、これに用いる試料導入部品 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5763877A (ja) |
| EP (1) | EP0766284A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0997586A (ja) |
| CA (1) | CA2185832A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19932630C2 (de) * | 1999-07-13 | 2003-12-04 | Perkin Elmer Bodenseewerk Zwei | Einheit für eine Plasma-Atomisierungsvorrichtung mit Plasma-Gaszuführeinrichtung, Probenzerstäubereinrichtung und Probeninjektionseinrichtung |
| US6465776B1 (en) | 2000-06-02 | 2002-10-15 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Mass spectrometer apparatus for analyzing multiple fluid samples concurrently |
| KR100928275B1 (ko) * | 2004-04-12 | 2009-11-24 | 자이단호진 기타큐슈산교가쿠쥬쓰스이신키코 | 마이크로파를 사용한 감압 건조 방법 및 그 장치 |
| US7812307B2 (en) * | 2006-01-20 | 2010-10-12 | Agilent Technologies, Inc. | Microplasma-based sample ionizing device and methods of use thereof |
| GB2585327B (en) * | 2018-12-12 | 2023-02-15 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Cooling plate for ICP-MS |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4448246A (en) * | 1982-07-12 | 1984-05-15 | William Guier | Apparatus for setting casing in an oil well |
| US4482246A (en) * | 1982-09-20 | 1984-11-13 | Meyer Gerhard A | Inductively coupled plasma discharge in flowing non-argon gas at atmospheric pressure for spectrochemical analysis |
| JP2781585B2 (ja) * | 1988-02-24 | 1998-07-30 | 株式会社日立製作所 | マイクロ波プラズマ発生装置及びマイクロ波プラズマ質量分析装置 |
| DE3905303C2 (de) * | 1988-02-24 | 1996-07-04 | Hitachi Ltd | Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas durch Mikrowellen |
| US5200595A (en) * | 1991-04-12 | 1993-04-06 | Universite De Sherbrooke | High performance induction plasma torch with a water-cooled ceramic confinement tube |
| US5400665A (en) * | 1991-09-25 | 1995-03-28 | Cetac Technologies Incorporated | Sample introduction system for inductively coupled plasma and other gas-phase, or particle, detectors utilizing an enclosed filter solvent removal system, and method of use |
| JPH085555A (ja) * | 1994-06-17 | 1996-01-12 | Hitachi Ltd | 元素分析用プラズマトーチ及びこれを用いた元素分析方法 |
-
1995
- 1995-09-29 JP JP7252409A patent/JPH0997586A/ja active Pending
-
1996
- 1996-09-10 EP EP96114498A patent/EP0766284A1/en not_active Withdrawn
- 1996-09-18 CA CA002185832A patent/CA2185832A1/en not_active Abandoned
- 1996-09-18 US US08/715,587 patent/US5763877A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5763877A (en) | 1998-06-09 |
| EP0766284A1 (en) | 1997-04-02 |
| CA2185832A1 (en) | 1997-03-30 |
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