KR0179935B1 - 노광장치의 스테이지장치 - Google Patents

노광장치의 스테이지장치 Download PDF

Info

Publication number
KR0179935B1
KR0179935B1 KR1019960047886A KR19960047886A KR0179935B1 KR 0179935 B1 KR0179935 B1 KR 0179935B1 KR 1019960047886 A KR1019960047886 A KR 1019960047886A KR 19960047886 A KR19960047886 A KR 19960047886A KR 0179935 B1 KR0179935 B1 KR 0179935B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
bar
mirror
unit
orthogonality
stage
Prior art date
Application number
KR1019960047886A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19980028718A (ko
Inventor
오만영
Original Assignee
문정환
엘지반도체주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 문정환, 엘지반도체주식회사 filed Critical 문정환
Priority to KR1019960047886A priority Critical patent/KR0179935B1/ko
Publication of KR19980028718A publication Critical patent/KR19980028718A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0179935B1 publication Critical patent/KR0179935B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 스테이지의 이동량/직교도를 구하기 위해 그 스테이지 구동부에 수직이 되게 장착된 바-미러를 자동으로 보정할 수 있도록 구성된 바-미러 자동조절부가 구비됨으로써, 안정적인 노광공정조건의 달성으로 미스얼라인(misalign)이 방지되도록 한 노광장비의 스테이지장치에 관한 것으로, 그 위에 장착된 웨이퍼를 X-축 및 Y-축 방향으로 이동시키는 스테이지 구동부와 ; 상기 웨이퍼와 함께 스테이지 구동부 위에 장착된 바-미러(Bar Mirror)와 그 바-미러의 이동량/직교도를 검출하는 레이저 간섭계(Interferometer)로 구성된 스테이지 이동량/직교도 검출부와; 그 스테이지 이동량/직교도 검출부에서 구한 값에 따라 상기 바-미러의 직교도를 보정할 수있도록 구성된 바-미러 고정/조절부와; 상기 각 부를 구동제어하는 제어부로 구성되는 노광장치의 스테이지장치에 있어서, 상기 바-미러 고정/조절부가, 소정의 구동신호에 따라 바-미러를 이동/고정시키는 바-미러 자동이동/고정부와, 상기 제어부로부터 바-미러의 직교도 불량에 따른 자동보정신호를 인가받아 상기 바-미러 자동이동/고정부를 구동제어하는 바-미러 구동제어부로 구성되는 것을 요지로 한다. 이때 상기 바-미러 자동이동/고정부는 피에조로 구성되고, 바-미러 구동제어부는 피에조 드라이브 보드로 구성된다.

Description

노광장치의 스테이지장치
본 발명은 노광장비(STEPPER)의 스테이지(STAGE)장치에 관한 것으로, 특히 스테이지의 이동량/직교도를 구하기 위해 그 스테이지 구동부에 수직이 되게 장착된 2개의 바-미러 (Bar mirror)가 비직교상태인 경우, 그 바-미러의 직교도를 자동으로 보정할 수 있도록 구성된 바-미러 자동조절부가 구비됨으로써, 안정적인 노광공정조건의 달성으로 미스얼라인(misalign)이 방지되도록 한 노광장비의 스테이지장치에 관한 것이다.
스테퍼장비의 스테이지장치는 웨이퍼를 레티클(Reticle)에 정렬시키기 위한 장치로서, 소정의 구동제어신호에 따라 그 위에 장착되어 있는 웨이퍼를 X-방향 및 Y-방향에 대해서 각각 이동시킬 수 있는 스테이지 구동부와, 그 스테이지 구동부의 이동량(거리)를 검출하는 스테이지 이동량/직교도 검출부와, 상기 각 부를 총괄적으로 제어하는 제어부를 포함하여 구성된다. 이에 대한 종래 기술에 대해서 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
제1도는 일반적인 스테이지장치의 스테이지 구동부를 나타낸 사시도로서, 이에 도시된 바와 같이, 웨이퍼가 흡착되는 웨이퍼 척(Wafer chuck)(111)과 함께 X-축과 Y-축 방향으로 배채되는 제1,2 바-미러(210,220)가 장착된 탑-테이블(Top table)(110)과; Z-슬라이더(slider)(121) 및 Z-모터(112)와; 웨이퍼를 X-축 방향으로 이동시키기 위한 X-테이블(131) 및 X-피드 스크류(Feed screw)(132), X-모터(133)와; 웨이퍼를 Y-축 방향으로 아동시키기 위한 Y-테이블(141) 및 Y-피드 스크류(142), Y-모터(143)와; 베이스(150)로 구성된다. 여기서, 상기 바-미러(210,220)는 아래에서 설명될 레이저 간섭계(Laser Interferometer)와 함께 스테이지 구동부의 이동량 및 직교도를 측정하기 위한 광반사미러(Mirror)이고, Z-슬라이더(121)와 Z-모터(122)는 노광원의 촛점을 맞추기 위한 이동수단이고, 미설명 부호 112는 레퍼런스 미러(Reference mirror)이고, 113은 에레이디언스 센서(Irradiance sensor)이다.
그리고 제2도와 제3도는 상기 제1도에 도시된 스테이지 구동부의 이동량을 검출하기 위한 일반적인 스테이지 이동량/직교도 검출부의 구성 및 검출신호(레이저빔)의 경로를 대략적으로 나타낸 도면으로서, 제2도는 바-미러 및 레이저 간섭계의 일부를 나타낸 구성도이고, 졔3도는 스테이지 이동량/직교도 검출부의 검출신호 흐름도이다. 이를 참조하여 스테이지 이동량/직교도 검출부의 구성 및 작용에 대해서 설명하면 다음과 같다.
일반적인 스테이지 이동량/직교도 검출부는, He-Ne 레이저(Laser)(310)와, 그 He-Ne 레이저(310)에서 방사된 레이저빔의 경로를 90℃ 바꾸어주는 빔 벤더(Beam bender)(320)와, 그 빔 벤더(320)에서 경로가 절환될 레이저빔을 50%씩 분리하는 빔 분리기(Beam splitter)(330)와, 그 빔 분리기(330)에서 분리된 레이저빔을 그 특성에 따라 분리/변화/반사시켜주는 제1,2 평면미러 간섭계(Plane Mirror Interferometer)(341,361)(342,362)와, 그 제 1,2 평면미러 간섭계(341,361)(342,362)로부터 직접 인가받는 제1편광파(f1또는 P파)와 제1,2 바-미러(210',220)를 통해 입사받는 제2 편광파(f2또는 S파)를 합성하고 그를 전기적으로 신호로 변환시키는 제1,2 수광부(Receiver)(361,362)와, 그 제 1,2 수광부(351,352)에서 출력되는 전기적 신호를 펄스화함과 아울러 그 펄스화된 검출신호와 상기 He-Ne 레이저(310)로부터 인가받는 기준 펄스신호를 비교하여 그 차이에 따른 새로운 펄스신호를 만들어 출력하는 펄스 컨버터(Pulse converter)(380)와, 그 펄스 컨버터(380)에서 출력된 펄스파를 인터페이스 보드(390)를 통해 인가받아 그를 처리함으로써, 스테이지 구동부의 이동량과 제1,2 바-미러(210,220)의 직교도를 계산하는 메인 씨피유(Main CPU)(410)로 구성된다. 이때, 상기 제1,2 평면미러 간섭계(341,351)(342,352)는 제 1,2 편광 빔 분리기(Polarized beam splitter)(341,342)와, 제1,2 λ/4 편광판(351,352) 등으로 구성된다. 그리고 제3도에 도시된 371은 반사 미러(Mirror)이고, 381은 입력단자이며, 400은 제어랙(Rack)을 나타낸다.
이하, 상기와 같이 구성된 스테이지장치의 동작에 대해서 상기 제1도 내지 제4도를 참조하여 설명하면 다음과 같다. 이때 상기 제4도는 스테이지 구동부의 이동량과 직교도를 구하는 방법을 설명하기 위한 것으로, 바-미러에 입사되는 레이저빔의 경로를 나타낸 평면도이다.
메인 씨피유(400)로부터 제엉신호를 인가받는 소정의 스테이지 드라이브 보드(Stage Drive Board)(미도시)가 X-모터(133)와 Y-모터(143)을 각각 구동시킴으로써, 그 X-모터(133)와 Y-모터(143)의 고동에 따라 구동되는 X-피드 스크류(132)와 Y-피드 스크류(142)를 통해 X-테이블(131)과 Y-테이블(141)이 각각 X-방향과 Y-방향으로 이동되면, 그 위에 바-미러(210,220)가 장착되어 있는 탑-테이블(110)도 이동하게 되는데, 이 상태에서 그 X-방향 및 Y-방향으로 이동한 거리 및 바-미러(210,220),의 직교도를 계산하기 위한 스테이지 이동량/직교도 검출부가 구동된다.
즉, He-Ne 레이저(310)가 구동됨으로써 그로부터 레이저빔이 방사되면, 그 레이저빔은 빔 벤더(320)에서 그의 경로가 절환된 후, 빔 분리기(330)에서 50%씩 부리되어 각각 X-방향과 Y-방향으로 방출되는데, X-방향으로 진행하는 레니저빔은 제1 편광 빔 분리기(341)로 입사되고, Y-방향으로 진행하는 레이저빔은 제2 편광 빔 분리기(342)로 각각 입사된다.
이와 같이, 제1 편광 빔 분리기(341)로 입사된 레이저빔은 그 제1 편광 빔 분리기(341)에서 P(f1)파와 S(f2)파로 분리됨에 따라, 기준으로서의 P(f1)파는 제1 반사 미러(371)를 거쳐 직접 제1 수광부(361)로 입사되고, 측정신호로서의 S(f2)파는 제1 λ/4편광판(351)을 통과하는 바-미러(210)로의 입사와 반사를 2번 수행한 후 상기 제1 반사 미러(371)를 거쳐 상기 제1 수광부(361)로 입사된다, 이때, 상기 제1편광 빔분리기(341)에서 분리된 S(f2)파는 제1 λ/4편광판(351)를 통해 제1 바-미러(210)로 입사된 후, 그곳에서 반사되어 다시 상기 제1 λ/4편광판(351)를 통해 되돌아오게 됨으로써, 그의 위상이 λ/2 만큼 차이가 나는 P(f2')파로 변환되고, 그 P(f2')파가 다시 상기 제1 λ/4편광판(362)를 통해 제1 바-미러(210)로 입사된 후, 그곳에서 반사되어 상기 제1 λ/4편광판(362)를 통해 되돌아오게 됨으로써, 그의 위상이 λ/2 만큼 차이가 나는 S(f2)파로 변환된 후, 상기 제1 수광부(361)로 입사된다.
이후, 상기 제1 수광부(352)로 입사된 두 파(f1, f2)는 그 제1 수광부(352) 안에 있는 디텍터부에서 합성됨과 동시에 전기적 신호로 변환된 후, 상기 He-Ne 레이저(310)로부터 기준펄스신호를 인가받는 펄스컨버터(380)로 전송되어 펄스신호로 변환된다.
이때, 상기 제1 수광부(361)로부터 출력되는 전기적 신호는 제1 바-미러(210)의 위치에 따라 위상이 변하게 되는 신호로서, 상기 펄스 컨버터(380)를 통해 그의 위상변화에 따라 업/다운되는 펄스신호로 변환된다. 따라서, 수광부(361)로부터 출력되는 전기적 신호의 위상변화와 펄스 컨버터(380)에서 변환된 펄스신호의 펄스수가 비례하게 된다. 즉, 제3도에 실선으로 도시된 제1 바-미러(210)와 점선으로 도시된 제1 바-미러(210')로부터 각각 반사되어 만들어진 펄스신호는 측정대상의 거리차에 따른 펄스수의 특징을 갖게 된다.
이와 같이, 상기 펄스 컨버터(380)에서 변화된 펄스신호는 그 펄스 컨버터(380)가 He-Ne 레이저(310)로부터 인가받은 기준펄스신호와 서로 비교되어, 그들의 위상차에 대응하는 새로운 펄스신호로 변환되어 출력되는데, 그 펄스신호는 제1 바-미러(210)의 위치에 관한 정보를 갖고 있는 것으로,인터페이스 보드(390)를 통해 메인 씨피유(400)로 전송된다. 따라서 그 메인 씨피유(4000가 그 인가받은 펄스신호를 분석하여 바-미러(210)의 이동량을 계산하여 디스플레이 한다.
이와 같은 제1 바-미러(210)의 이동량을 구하는 방법은, 제2 바-미러(220)에 대해서도 동일하게 적용될 뿐만 아니라 그 두 바-미러(210,220)의 직교성을 구하는 방법에도 적용될 수 있는데, 이는 제4도에 도시된 바와 같이, 각 바-미러(210,220)의 위치(거리)를 다수의 지점(피치)(①,②,③,④,⑤,...)에서 구하여 그들을 서로 비교함으로써 직교도를 구하는 방법이다.
이와 같은 방법으로 구하게 되는 바-미러(210,220)의 이동향 및 직교도는 그 메인 씨피유(400)를 통해 디스플레이된다. 이에 따라, 조작자는 상기 메인 씨피유(400)를 통해 디스플레이된 데이타를 검사하여 바-미러의 이동량과 직교도를 점검한 후, 그 결과에 따라 장비의 오동작 및 바-미러의 직교도 등을 보정한다.
이하, 비직교상태인 바-미러를 보정하기 위한 수단 및 방법에 대해서, 제5a도와 제5b도를 참조하여 설명하면 다음과 같다. 이때, 제5a도는 바-미러를 탑-테이블 위에 고정시킴과 아울러 그 바-미러가 상기 제4도와 같이 비직교상태인 경우에 그를 보정할 수 있도록 구성된 바-미러 고정/조절부를 나타낸 평면도이고, 제5b도는 상기 제5a에 도시된 바-미러 고정/조절부의 상세단면도이다.
제2 바-미러(220)의 일단부가 정상부가 정상위치(점선)에 대해서 오른쪽으로 이동하게 됨으로써, 그 제2 바-미러(220)와 제1 바-미러(210)가 비직교상태로 되면, 그 제1 바-미러(210) 또는 제2 바-미러(220)를 틀어진 만큼 보정해 주어 그 두 바-미러(210,220)의 직교도를 안정적으로 확보해야 한다.
그런데, 각 바-미러(210,220)는 제5b도에 도시된 바와 같이, 베이스 플레이트(511)과 상부 고정플레이트(512) 및 조정용 볼트(513)로 구성된 바-미러 고정/조절부(510)에 의하여 탑-테이블(110) 위에 장착되기 때문에, 조작자가 조정용 볼트(513)를 손으로 조절하여 제1 또는 제2 바-미러(220)를 보정하였다.
그러나, 상기와 같은 종래 기술은 바-미러가 고정/조정 스크류에 의하여 탑-테이블 위에 장착되어 있기 때문에, 그 바-미러의 직교도 불량에 따라 그 오차량을 보정하기 위해서는 조작자가 직접 상기 고정/보정 스크류를 조작하여 조절해야 하므로, 보정시간이 오래 걸리게 될 뿐만 아니라 보정이 정확히 이루어지지 않는 문제점이 있었다.
이와 더불어 조작자가 직접 조절하게 되므로 비-미러가 오염/손상되는 문제점도 있었다.
이에 본 발명은 상기와 같은 종래 문제점을 해결하기 위하여 창안한 것으로, 제어부가 레이저 간섭계를 통해 구한 바-미러의 위치좌표에 따라 그 바-미러의 직교도를 판단함과 아울러 그 직교도에 따른 바-미러 자동보정신호를 출력하면, 그 바-미러 자동보정 신호를 인가받아 바-미러의 위치를 자동으로 조절할 수 있도록 구성된 소정의 바-미러 자동조절부르 장착하므로써, 그 바-미러를 보정하는데 소요되는 시간을 단축할 수 있을 뿐만 아니라 오염이나 손상을 막는데 적당하도록 한 노광장치의 스테이지장치를 제공함에 그 목적이 있다.
제1도는 일반적인 스테이지장치의 스테이지 구동부를 나타낸 사시도.
제2도와 제3도는 일반적인 스테이지 이동량/직교도 검출부의 구성 및 검출신호(레이저빔)의 경로를 나타낸 도면으로서,
제2도는 바-미러 및 레이져 간섭계의 일부를 나타낸 구성도이고,
제3도는 스테이지 이동량/직교도 검출부의 검출신호 흐름도.
제4도는 스테이지 구동부의 이동량과 직교도를 구하는 방법을 설명하기 위한 평면도.
제5a도와 제5b도는 바-미러를 보정하기 위한 종래 수단 및 방법에 설명하기 위한 것으로, 제5a도는 바-미러와 종래 기술에 따른 바-미러 고정/조절부의 결합상태를 나타낸 평면도이고, 제5b도 상기 제5a도에 도시된 바-미러 고정/조절부의 상세단면도.
제6a도는 바-미러와 본 발명에 따른 바-미러 자동이동/고정부 및 일반적인 고정용 스크류의 결합상태를 나타낸 평면도.
제6b는 상기 제6a도에 도시된 피에조(Piezo)와 고정용 로울러를 나타낸 상세단면도.
제7도는 본 발명에 따른 스테이지장치의 검출/제어신호 흐름도.
제8도는 본 발명에 따른 스테이지 구동부의 이동량과 직교도를 구하는 방법을 설명하기 위한 평면도.
제9도는 상기 제8도와 같은 방법으로 구한 각 검출지점에서의 좌표값을 나타낸 도표.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
210,220,220' : 바-미러 310 : He-Ne 레이저
320 : 빔 벤더 330 : 빔 분리기
341,342 : 편광 빔 분리기 351,352 : λ/4 편광판
361,362 : 수광부 380 : 펄스 컨버터
410 : 메인 씨피유 530a,530b : 피에조(Piezo)
540 : 피에조 드라이브 보드
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 노광장치의 스케이지장치는, 그 위에 장착된 웨이퍼를 X-축 방향 및 Y-축 방향으로 이동시키는 스테이지 구동부와; 상기 웨이퍼와 함께 스테이지 구동부 위에 장착된 바-미러(Bar Mirror)와 그 바-미러의 위치(이동량/직교도)를 검출하는 레이저 간섭계(Interferometer)로 구성된 스테이지 아동량/직교도 검출부와; 그 스테이지 이동량/직교도 검출부에서 구한 값에 따라 상기 바-미러의 직교도를 보정할 수 있도록 구성된 바-미러 고정/조절부와; 상기 각 부를 총괄적으로 구동제어하는 제어부로 구성되는 노광장치의 스테이지장치에 있어서, 상기 바-미러 고정/조절부가, 소정의 구동신호에 따라 바-미러를 이동/고정시키는 바-미러 자동이동/고정부와, 상기 제어부로부터 바-미러의 직교도 불량에 따른 자동보정신호를 인가받아 상기 바-미러 자동이동/고정부를 구동제어하는 바-미러 구동제어부로 구성되는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명한다. 제6a도는 일반적인 스테이지 구동부 위에 장착된 바-미러와 본 발명에 따른 바-미러 자동이동/고정부 및 일반적인 고정용 스크류의 결합상태를 나타낸 평면도이고, 제6b도는 상기 제6a도의 점선원에 도시된 피에조(Piezo)와 고정용 로울러를 나타낸 단며도이며, 제7도는 본 발명에 따른 스테이지장치의 스테이지 이동량/직교도 검출부와 제어부 및 바-미러 자동조절부에서의 검출/제어신호의 경로를 나타낸 신호흐름도이다. 이를 참조 하여 본 발명의 구성에 대해서 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 스테이지장치의 스테이지 구동부와 스테이지 이동량/직교도 검출부는, 앞에서 이미 설명한 일반적인 스테이지 구동부 및 스테이지 이동량/직교도 검출부와 동일하게 구성되므로 그에 대한 설명은 생략하고, 제1도와 같이 구성된 스테이지 구동부의 탑-테이블(110) 위에 장착되는 바-미러(210,220)를 고정시킴과 아울러 자동으로 보정하기 위한 바-미러 자동조절부와 그 자동조절부를 구동제어하기 위한 제어부(메인 씨피유)의 동작에 대해서 설명하면 다음과 같다.
제1,2 바-미러(210,220)는 탑-테이블(110) 위에 X-방향과 Y-방향으로 수직장착되는 광반사미러로서, 제6b에 도시된 바와 같이 X-축 방향으로 장착된 제1 바-미러(210)는 종래와 같이 그의 양단부 양측에 부착된 고정용 스크류(510)에 의하여 고정/지지되고, Y-축 방햐으로 장착됨으로써 상기 제1 바-미러(210)와 수직이 되는 제2 바-미러(220)는 그의 양단부의 일측(안쪽)에 부착된 고정용 로울러(520)에 의하여 고정/지지됨과 아울러 타즉(바깥쪽)에 부착된 피에조(Piezo)(530a,530b)에 의하여 그의 위치가 자동조절되도록 그성된다.
이때, 상기 피에조(530a,530b) 및 고정용 로울러(520)는, 제6b도에 도시된 바와 같이, 바-미러(220)의 좌측(바깥쪽)과 우측(안쪽)에 각각 부착되는 것으로, 피에조(530b)는 소정의 구동전압을 인가받아 구동되는 이동부가 탑-테이블(110) 위에 부착된 고정부에 대해 좌우로 이동함으로써, 그 이동부와 결합된 바-미러(220)가 왼쪽 또는 오른쪽으로 이동하도록 동작하는 자동이동부를 구성하고, 고정용 로울러(520)는 압력조절 스크류(521)에 의하여 조절되는 압력으로, 상기 피에조(530b)에 의하여 이동된 바-미러(220)가 그 위치에 고정되도록 하는 고정부를 구성한다.
그리고, 펄스 컨버터(380)에서 출력되는 신호를 인가받는 메인 씨피유(410)는, 그 입력받는 신호를 처리하여, 바-미러(스테이지)의 이동량 및 직교도를 검출함과 아울러 그 이동량 및 직교도에 따른 스테이지 구동부 및 바-미러의 보정량을 구하여 디스플레이함과 동시에 그 각각의 보정신호를 출력하도록 구성된 프로그램(바-미러 측정 프로그램)에 따라 동작하고, 상기 피에조(530a,530b)를 구동제어하기 위한 피에조 드라이브 보드(540)은 상기 메인 씨피유(410)로부터 피에조 보정신호를 인가받아 그 피에조 보정신호에 따른 전압을 피에조(530a,530b)에 인가하도록 구성된다.
이하, 상기와 같이 구성된 본 발명에 따른 스테이지장치의 동작에 대해서 제7도와 제8도 및 제9도를 참조하여 설명하면 다음과 같다. 이때, 상기 제8도는 스테이지 구동부의 이동량과 직교도를 구하는 방법을 설명하기 위한 것으로, 레이저빔이 바-미러의 각 거리 측정지점에 입사되는 상태를 나타낸 평면도이고, 제9도는 상기 제8도와 같은 방법으로 구한 각 검출지점에서의 좌표값을 나타낸 도표로서, X-는 정상위치에 있는 제2 바-미러(220)의 X-좌표값을 나타내고, X'는 비정상위치에 있는 제2 바-미러(220')의 X-좌표값을 나타낸다.
스테이지 구동부는 종래 기술과 동일한 방법으로 웨이퍼 및 바-미러(210,220)가 장착되어 있는 탑-테이블(110)이 이동되도록 구동되고, 이와 같이 이동한 스테이지 구동부의 이동량과 바-미러의 직교성을 구하기 위한 스테이지 이동량/직교도 검출부도 종래 기술과 동일한 방법으로 바-미러의 이돌량과 직교도를 검출하게 되는데, 이에 대해서 간단히 설명하면 다음과 같다.
스테이지 구동부의 이동이 완료된 상태에서, 그 스테이지 구동부를 소정의 기준점(간섭계로부터 방사될 레이저빔이 처음으로 입사될 제2 바-미러의 제1 지점의 X-좌표 및 Y-좌표가 각각 2.5[㎛]인 지점)에 정렬시킨 후, He-Ne 레이저(310)를 가동시키면 그 He-Ne 레이저(310)에서 방사된 레이저빔이 제7도에 도시된 바와 같이 종래와 같은 경로를 거쳐 메인 씨피유(410)로 전달된다. 이에 따라, 상기 메인 씨피유(410)가 그 입력된 신호를 분석하여 그 지점(point)에서 좌표값(기준좌표값)을 기억한다.
계속해서, 제8도에 도시된 바와 같이, 스테이지 구동부(바-미러)를 Y-방향으로 일정한 간격(피치) 만큼씩 이동시키면서, 그 Y-방향 바-미러의 각 피치위치를 구하여 그 좌표값(X,Y)을 슨차적으로 기억한다. 이때, 제8도에 점선으로 도시된 바-미러(220)는 정상 위치에 있는 제2 바-미러를 나타내고, 실선으로 도시된 Y-축 방향의 바-미러(220')는 비정상위치에 있는 제2 바-미러를 나타내며, 그 제2 바-미러(220')의 내부에 있는 점들은 레이저빔을 입사받는 거리측정지점들을 나타내는데, 특히 상기 거리측정지점은 바-미러(210,220)의 길이가 170,000[㎛]이고 단위피치(pitch)가 10,000[㎛]인 경우에, 기준점은 Y-좌표가 2.5[㎛]가 되도록 하고, 2번째 지점부터 17번째 지점까지의 Y-좌표는 각각 처음(O)부터 차례대로 10,000[㎛]씩 증가되는 지점이 되도록 함으로써, 17개의 지점이 됨을 보여주고 있다.
이와 같이 설정된 Y-좌표로 상기 제2 바-미러(220')를 차례대로 이동시키면서, 제7도에 도시된 바와 같은 방법으로 그 이동한 지점에서의 X-좌표값을 구한 결과는, 제9도에 도시된 바와 같이, 정상적인 제1 바-미러(220)의 X-값은 모두 같은 값(기준점에서의 X-좌표값;2.5[㎛])이 되지만, 비정상적인 제2 바-미러(220')의 X'-값은 서로 다른 값(2.5[㎛], 3.0[㎛], 3.2[㎛], 3.4[㎛],...)이 된다.
이후, 상기 제2 바-미러(220')에 대한 이동량 검출과정과 동일한 과정을 통해 구한 제1 바-미러(210)에 대한 이동량을 메인 씨피유(410)가 기억하게 된다.
그리고 나서, 상기와 같은 과정을 모두 마치게 되면, 메인 씨피유(410)는 그가 기억하고 있는 제1 바-미러(210)와 제2 바-미러(220')에 대한 각 지점에서의 좌표값을 비교/분석하여, 그 두 바-미러(210,220')의 직교도를 구한다. 즉, 제1 바-미러(210)는 정상상태에 있고, 제2 바-미러(220')는 그의 그의 X-좌표값이 제7b도에 나타낸 바와 같은 X'=값으로 구해지면, 그 두 바-미러(210,220')가 그들의 사이각이 90°보다 작은 비직교상태로 되었음을 판단함과 아울러 그 바-미러(210,220')보정하기 위한 오차량을 구한다. 이때, 상기 오차량은 두 바-미러(210,220'의 사이각이 90°가 되도록 하기 위한 제2 바-미러(220')의 이동량으로서, 그 제2 바-미러(220')의 기준점(제1지점)이 최초의 좌표와 같은 경우에는 마지막 지점(제17지점)이 이동해야 할 거리(일례로, 제7b도에 나타난 X'-값에 따라서는 2.5[㎛])를 자동보정신호로 하여 피에조 드라이브 보드(540)에 인가한다.
이에 따라, 상기 피에조 드라이브 보드(540)가 상기 자동보정신호에 따른 전압을 제2 피에조(530b)에 인가함으로써, 그 제2 피에조(530b)가 제2 바-미러(220')의 아래 부분을 바깥쪽으로 2.5[㎛] 이동시켜 그 제 2 바-미러(220')의 비직교에 따른 오차량을 자동으로 보정하게 된다.
상술한 바와 같이, 스테이지의 이동량/직교도를 구하기 위해 스테이지 구동부에 장착된 바-미러가 비직교상태인 경우, 그 바-미러의 직교도를 자동으로 보상할 수 있는 바-미러 자동조절부를 포함하여 스테이지장치가 구성되는 본 발명에 따른 노광장비는, 바-미러의 직교도가 안정적으로 확보됨에 따라 스테이지 구동부의 직진성이 확보됨으로써, 최상의 노광조건을 달성할 수 있는 효과를 갖게 된다. 따라서, 상기 노광장비는 미스얼라인(misalign)이 감소된다.

Claims (3)

  1. 그 위에 장착된 웨이퍼를 X-축 방향 및 Y -축 방향으로 이동시키는 스테이지 구동부와; 상기 웨이퍼와 함께 스테이지 구동부 위에 장착된 바-미러(Bar mirror)와 그 바-미러의 위치(이동량/직교도)를 검출하는 레이저 간섭계(Interferometer)로 구성된 스테이지 이동량/직교도 검출부와; 그 스테이지 이동량/직교도 검출부에서 구한 값에 따라 상기 바-미러의 직교도를 보정할 수 있도록 구성된 바-미러 고정/조절부와; 상기 각부를 총괄적으로 구동제어하는 제어부로 구성되는 노광장치의 스테이지장치에 있어서, 상기 바-미러 고정/조절부가, 소정의 구동신호에 따라 바-미러를 이동/고정시키는 바-미러 자동이동/고정부와, 상기 제어부로부터 바-미러의 직교도 불량에 따른 자동보정 신호를 인가받아 상기 바-미러 자동이동/고정부를 구동제어하는 바-미러 구동제어부로 구성되는 것을 특징으로 하는 조광장치의 스테이지장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 바-미러 자동이동/고정부는 인가받는 소정의 구동전압에 따라 바-미러를 이동시키는 피에조(Piezo)로 구성되는 것을 특징으로하는 노광장치의 스테이지장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 바-미러 구동제어부는 제어부로부터 인가받는 소정의 자동 보정신호에 따라 상기 피에조에 구동전압을 인가하는 피에조 드라이브 보드(Piexo Drive Board)로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광장치의 스테이지장치.
KR1019960047886A 1996-10-24 1996-10-24 노광장치의 스테이지장치 KR0179935B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960047886A KR0179935B1 (ko) 1996-10-24 1996-10-24 노광장치의 스테이지장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960047886A KR0179935B1 (ko) 1996-10-24 1996-10-24 노광장치의 스테이지장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19980028718A KR19980028718A (ko) 1998-07-15
KR0179935B1 true KR0179935B1 (ko) 1999-04-01

Family

ID=19478663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960047886A KR0179935B1 (ko) 1996-10-24 1996-10-24 노광장치의 스테이지장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0179935B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100474590B1 (ko) * 1998-12-31 2005-05-24 주식회사 하이닉스반도체 리소그래피정렬오차보정방법

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3825921B2 (ja) * 1998-07-23 2006-09-27 キヤノン株式会社 走査露光装置およびデバイス製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100474590B1 (ko) * 1998-12-31 2005-05-24 주식회사 하이닉스반도체 리소그래피정렬오차보정방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR19980028718A (ko) 1998-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0823977B1 (en) Lithopraphic apparatus for step-and-scan imaging of a mask pattern
US6292254B1 (en) Projection exposure method and apparatus
US8619235B2 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6509971B2 (en) Interferometer system
JP3548298B2 (ja) 位置ずれ計測方法及びそれを用いた位置ずれ計測装置
KR100690882B1 (ko) 반도체 소자 제조용 노광 장비, 진동 감지 및 위치 측정방법, 반도체 소자 제조 방법
US9534934B2 (en) High resolution encoder head
KR0179935B1 (ko) 노광장치의 스테이지장치
US5523574A (en) Exposure apparatus
JP2005147824A (ja) 真直・平面度測定装置
US20090310108A1 (en) Exposure apparatus and method of manufacturing device
JP2001334376A (ja) レーザ加工装置及びレーザ光スポット位置補正方法
JP3050746B2 (ja) レーザリペア装置及びその位置チェック方法
KR100223929B1 (ko) 반도체소자 제조 공정용 스텝퍼의 바미러 직교도 자동 보정장치 및 그 제어방법
JP3258194B2 (ja) 露光装置および露光方法
JP2002228411A (ja) 二次元測定装置
JP3669063B2 (ja) 投影露光装置
KR100205336B1 (ko) 배율 보정 장치
KR100637639B1 (ko) 레이저 간섭계, 위치측정장치 및 측정방법, 노광장치, 및 그들의 제조방법
JPH0323883B2 (ko)
JPH10242248A (ja) 移動ステージの位置測定方法と装置
JPH0976083A (ja) ビーム位置検出方法、ビーム位置調整方法及びこの装置並びに加工装置
WO2024175282A1 (en) Interferometer system, wavefront analysis system, projection system, lithographic apparatus and method to analyze a wavefront of a light beam of an heterodyne interferometer system
JPH1038535A (ja) 形状測定装置
JPH11257919A (ja) 測定装置および測定方法、並びに露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20091028

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee