KR0164503B1 - 반도체소자 제조용 사진공정장비의 라인 배치구조 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체소자의 제조장비의 라인 시스템에 관한 것으로, 직렬로 배열된 장비의 라인구조를 설비의 관리가 용이하도록 한 반도체 제조장비의 라인 시스템에 관한 것이다.

종래의 사진공정의 작업라인은 수리 및 점검시 파티클의 유입으로 공정불량의 요인으로 작용하여 제품의 품질을 떨어뜨리고, 고장의 발생시 작업시간이 길어져 설비의 가동효율과 수율을 저하시키는 문제점들이 있었다.

본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로, 사진공정장비 라인의 배치에서 웨이퍼 이송부와 인터페이스부를 전·후 위치이동이 가능하도록 형성하여 수리 및 점검시 작업공간을 충분히 확보할 수 있도록 하여 라인 내 공조를 안정시키고 작업시간을 줄여 수율을 향상시킬 수 있도록 한 것이다.

Description

반도체소자 제조용 사진공정장비의 라인 배치구조

제1도는 본 발명의 제1실시예에 따른 공정라인의 배치도.

제2도는 본 발명의 제2실시예에 따른 공정라인의 배치도.

제3도는 본 발명의 제2실시예에 따른 공정라인의 배치도.

제4a도 및 제4b도는 각각 종래의 사진공정라인의 배치구조와 점검작업시의 이동 상태도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 스피너(Spinner) 설비 20 : 인터페이스(Interface)부

30 : 웨이퍼 이송부 40 : 스텝퍼(Stepper) 설비

100 : 칸막이(Partition)

본 발명은 반도체소자의 제조장비의 라인 시스템에 관한 것으로, 직렬로 배열된 장비의 라인구조를 설비의 관리가 용이하도록 한 반도체 제조장비의 라인 시스템에 관한 것이다.

일반적으로 반도체소자의 제조공정 중 사진공정에 사용되는 장비는 웨이퍼에 포토레지스트(PR)나 현상액을 도포하는 스피너(Spinner) 설비와 웨이퍼에 패턴을 형성하는 스텝퍼(Stepper)설비와 이들 사이를 연결하는 웨이퍼 이송시스템 및 인터페이스부를 가지고 있다.

그리고 상술한 구조를 갖는 사진공정장비는 상기 설비들이 직선으로 배열된(Inline System)구조를 가지고 있었다.

제4a도는 상술한 종래의 사진공정장비의 라인구조를 개략적으로 나타낸 것이다.

상기 사진공정의 공정순서를 간단히 설명하면 스피너 설비(1)로 웨이퍼가 로딩되면 웨이퍼 표면에 PR을 도포하여 웨이퍼 이송부(Wafer Transfer System;3)로 언로딩시키고, 웨이퍼 이송부(3)는 상기 웨이퍼를 스텝퍼 설비(4)로 로딩시킨다.

스텝퍼 설비(4)로 로딩된 웨이퍼는 정렬단계를 거쳐 웨이퍼 표면에 패턴을 형성하고 웨이퍼 이송부(3)로 언로딩시키고, 웨이퍼 이송부를 통하여 스피너 설비(1)로 다시 로딩시켜 현상단계를 거쳐 사진공정이 완료된다.

상술한 사진공정 중 가장 중요한 단계가 스텝퍼 설비(4)에서 웨이퍼를 정렬하는 단계이다. 이 단계에서 웨이퍼의 정렬미스는 사진공정에 있어 가장 큰 공정의 불량요인으로 작용하게 된다.

따라서 상기 웨이퍼 정렬부위는 다른 부위 보다 점검 및 관리가 필요하다.

그러나 스텝퍼의 구조에 있어서 초기 정렬부(4a)는 웨이퍼 이송부(3)와 접하는 부위에 위치하고 있고, 웨이퍼 이송부와 스피너설비 사이에는 인터페이스(Interface)부(2)가 존재하고 있다.

그러나 상기 인터페이스부(2)는 전면(Front)으로만 위치이동이 가능하고 웨이퍼 이송부(3)와 서로 결합된 구조를 가지고 있어 정렬부의 보수나 점검시 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 전면으로 위치 이동시켜도 작업하기 위한 공간을 마련하지 못하는 구조를 가지고 있었다.

왜냐하면 반도체소자 제조를 위한 작업장(FAB)은 진동으로 인한 작업불량의 요인을 방지하기 위하여 내부에 기둥(6)이 많이 설치되어 있어 작업공간의 확보에 어려운 점이 많이 있다.

따라서 상기 사진공정장비의 전면에도 소정범위의 작업공간(Work Area)과 칸막이(Partition;5)로 분리된 서비스 공간(Service)만을 가지고 있기 때문에 상기 정렬부의 관리를 위하여 상기 웨이퍼 이송부(3)나 인터페이스부(2)가 상기 작업공간과 서비스 공간 보다 상대적으로 커 위치이동이 불가능하였다.

이러한 문제점 때문에 부득이 하게 인터페이스부(2)와 웨이퍼 이송부(3)가 위치한 부위의 칸막이(Partition;5)에 도어(5a)를 설치하여 상기 인터페이스부와 웨이퍼 이송부가 작업영역에서 서비스 영역으로 위치 이동되도록 하여 왔다.

제4b도는 상술한 동작과정을 도시한 것이다.

그러나 상술한 종래의 방식은 청정을 가장 최우선으로 관리하고 있는 반도체 FAB라인에서의 청정관리에 위배되어 상기 도어를 통한 파티클의 유입이 많아지고 에러의 발생시 수리시간이 길어지게 된다.

따라서 종래의 사진공정의 작업라인은 수리 및 점검시 파티클의 유입으로 공정불량의 요인으로 작용하여 제품의 품질을 떨어뜨리고, 고장의 발생시 작업시간이 길어져 설비의 가동효율과 수율을 저하시키는 문제점들이 있었다.

본 발명은 상술한 문제점들을 해소하기 위한 것으로, 본 발명의 제1특징으로는 반도체소자의 제조장비 중 스텝퍼설비와 스피너설비 및 상기 설비들 사이에 위치한 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 갖는 사진공정장비 라인에 있어서, 상기 인터페이스부가 공정장비로부터 상호 분리되어 전·후로 위치이동되는 구조로 형성하고, 이 인터페이스부의 작업공간내에서 전·후로 위치이동공간이 확보되도록 배치한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제2특징으로는 반도체소자의 제조장비 중 스텝퍼설비와 스피너설비 및 상기 설비들 사이에 위치한 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 갖는 사진공정장비 라인에 있어서, 상기 웨이퍼 이송부가 사진공정장비로부터 상호 분리되어 전·후로 위치이동되는 구조로 형성하고, 이 웨이퍼 이송부가 전·후에 전·후 위치이동공간이 작업공간내에서 확보되도록 배치한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제3특징으로는 반도체소자의 제조장비 중 스텝퍼설비와 스피너설비 및 상기 설비들 사이에 위치한 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 갖는 사진공정장비 라인에 있어서, 상기 웨이퍼 이송부와 인터페이스부가 사진공정장비로부터 상호 분리되어 전·후로 위치이동되는 구조로 형성하고, 상기 웨이퍼 이송부와 인터페이스부의 전·후에 위치이동공간이 작업공간내에서 확보되도록 배치한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제4특징으로는 반도체소자의 제조장비 중 스텝퍼설비와 스피너설비 및 상기 설비들 사이에 위치한 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 갖는 사진공정장비 라인에 있어서, 상기 인터페이스는 장비로부터 분리되어 전·후 위치이동이 가능하도록 형성하고, 상기 웨이퍼 이송부는 장비로부터 분리되어 좌·우 위치 이동이 가능하도록 형성하며 이들의 위치 이동에 필요한 공간이 확보되도록 배치한 것을 특징으로 한다.

상술한 구성을 갖는 본 발명은 장비의 관리 및 점검시 작업공간의 확보가 손쉬워 이에 따르는 작업효율을 높일 수 있게 된다.

이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 작용·효과를 첨부된 도면에 따라서 상세히 설명하면 다음과 같다.

제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 사진공정장비의 라인 배치를 나타낸 것이다.

제1실시예에 따르면 스텝퍼에 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 이송부(30)와 스피너 설비(10) 사이에 위치하는 인터페이스부(20)를 배치된 상태에서 전·후로 위치이동이 가능한 구조를 갖도록 형성한 것이다.

따라서 장비를 수리하거나 예방점검(Preventive Maintenance)시 칸막이(100)에 별도의 도어를 설치하지 않아도 작업공간내에서 충분한 공간을 확보할 수 있게 된다.

그러므로 작업의 수리 및 점검에 필요한 작업의 공수를 줄일 수 있어 소요되는 시간적 손실을 줄이고 파티클에 의한 장비와 웨이퍼의 오염을 예방할 수 있다.

제2도는 본 발명의 제2실시예를 나타낸 것으로, 스텝퍼 설비(40)에 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 이송부(30)를 전·후로 위치이동이 가능하게 형성하고 이에 따른 전·후 공간을 확보할 수 있도록 장비의 라인을 배치한 것이다.

상술한 배치구조를 갖는 사진공정장비의 라인은 스텝퍼 설비(40)의 초기 정렬부(41)에서 에러의 발생이나 예방점검 또는 수리시 상기 웨이퍼 이송부(30)를 전 또는 후로 동작시켜 서비스 공간을 이용하지 않아도 작업공간을 충분히 확보할 수 있게 된다.

따라서 이러한 라인의 배치구조는 공조의 흐름을 저해하는 요소인 칸막이(100)에 도어를 설치하지 않아도 되므로 작업시 파티클에 대한 장비나 웨이퍼의 노출을 방지할 수 있게 된다.

또 다른 라인 배치방법으로 상기 제1실시예와 제2실시예에 나타낸 구조를 병행하여 상기 웨이퍼 이송부(30)와 인터페이스부(20)가 전·후 위치 이동이 가능하도록 배치하여 수리 및 점검이 용이하도록 한다.

제3도는 제3실시예에 따른 본 발명의 라인 배치구조를 나타낸 것으로, 상기 인터페이스부(20)를 전·후 위치이동이 가능하도록 형성하고, 상기 웨이퍼 이송부(30)는 좌·우로 위치이동이 가능하도록 하였다.

이와 같은 배치로 스피너 설비(10)의 점검시 인터페이스부(20)만을 전·후로 위치이동시켜 작업하고, 상기 스텝퍼 설비(40)의 초기 정렬부(41) 점검시 상기 인터페이스부(20)의 전·후 이송과 상기 웨이퍼 이송부의 좌·우 위치이동을 병행하여 작업공간을 확보할 수 있도록 하였다.

상술한 구성으로 본 발명은 스피너 설비(10)와 스텝퍼 설비(40)의 초기 정렬부위(41)의 수리 및 점검이 용이하며 칸막이에 도어를 설치하지 않아도 되므로 라인의 공조흐름을 개선할 수 있게 된다.

상술한 실시예에 의한 본 발명은 수리 및 점검과 아울러 부품의 교체시 장비의 특정 부위의 위치를 이동시킴으로써 충분한 작업공간을 확보할 수 있어 설비의 가동효율을 향상시킴은 물론 제품의 특성향상과 환경, 안전, 작업 공정 단순화 및 수율을 향상시킬 수 있게 된다.

Claims (4)

1. 반도체소자의 제조장비 중 스텝퍼설비와 스피너설비 및 상기 설비들 사이에 위치한 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 갖는 사진공정장비 라인에 있어서, 상기 인터페이스부가 공정장비로부터 상호 분리되어 전·후로 위치이동되는 구조로 형성하고, 이 인터페이스부의 작업공간내에서 전·후로 위치이동공간이 확보되도록 배치한 것을 특징으로 하는 사진공정장비의 설비라인 구조.
2. 반도체소자의 제조장비 중 스텝퍼설비와 스피너설비 및 상기 설비들 사이에 위치한 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 갖는 사진공정장비 라인에 있어서, 상기 웨이퍼 이송부가 사진공정장비로부터 상호 분리되어 전·후로 위치이동되는 구조로 형성하고, 이 웨이퍼 이송부가 전·후에 전·후 위치이동공간이 작업공간내에서 확보되도록 배치한 것을 특징으로 하는 사진공정장비의 설비라인 구조.
3. 반도체소자의 제조장비 중 스텝퍼설비와 스피너설비 및 상기 설비들 사이에 위치한 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 갖는 사진공정장비 라인에 있어서, 상기 웨이퍼 이송부와 인터페이스부가 사진공정장비로부터 상호 분리되어 전·후로 위치이동되는 구조로 형성하고, 상기 웨이퍼 이송부와 인터페이스부의 전·후에 위치이동공간이 작업공간내에서 확보되도록 배치한 것을 특징으로 하는 사진공정장비의 설비라인 구조.
4. 반도체소자의 제조장비 중 스텝퍼설비와 스피너설비 및 상기 설비들 사이에 위치한 웨이퍼 이송부와 인터페이스부을 갖는 사진공정장비 라인에 있어서, 상기 인터페이스는 장비로부터 분리되어 전·후 위치이동이 가능하도록 형성하고, 상기 웨이퍼 이송부는 장비로부터 분리되어 좌·우 위치 이동이 가능하도록 형성하며 이들의 위치이동이 필요한 공간이 확보되도록 배치한 것을 특징으로 하는 사진공정의 설비라인 구조.