KR0164264B1 - 모노 아조 염료 조성물 - Google Patents

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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 고온 염색성을 갖는 모노아조염료 조성물에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명은 고온염색온도인 130℃에서 우수한 흡진성 및 견뢰도를 갖는 혼합염료조성물을 개발하고자 하는 것이다.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명에서는 하기의 일반식(4)의 모노아조 화합물 20-50중량%, 하기의 일반식(5)의 모노아조 화합물 10-30중량%, 하기의 일반식(6)의 모노아조 화합물 20-60중량%, 하기의 일반식(7)의 모노아조 화합물 10중량% 이하로 이루어진 염료 조성물을 제공함으로서 본 발명의 목적을 달성할 수 있다.
4. 발명의 중요한 용도
본 발명은 폴리에스테르 또는 폴리에스테르 함유 섬유를 염색하기 위한 염료로서의 용도를 갖는다.

Description

모노 아조 염료 조성물
본 발명은 2종이상의 분산성 모노아조 염료를 혼합하여 흑색을 나타내는 염료 조성물에 관한 것으로, 좀더 상세하게는 고온·고압 하여서 염색을 하기 위한 아조염료 조성물을 제공하기 위한 것이다.
아조염료를 이용하여 염색 및 날염을 하기 위한 방법 및 그 조성물에 대하여는 종래부터 많이 알려져 있으며, 대표적인 것으로는 일본국 특개소 49-13479, 동 특개소 60-26060호, 동 특허공보소 62-6592호, 유럽 공개특허공보 제0300626호 및 유럽 공개특허공보 제0563975호 등이 있고, 이들 문헌에서는 하기의 일반식(1)로 표현되는 아조화합물을 단독 또는 2이상을 혼합하여 염료로서 사용하고 있다.
상기 일본국 특개소 49-13479호의 경우는 X가 수소, 염소, 취소, 시아노기, 니트로기이고, Y는 수소, 염소, 취소, 시아노기, 트리플루오르메틸기, 저급알킬기, 저급알콕시기, 저급알콜 술폰기이고, R1은 수소, 저급알킬, 저급알콜시기이고, R2는 저급알킬, 저급알콕기, 페닐기며, R3는 아릴기이고, R4는 수소 또는 아릴기인 아조화합물을 사용하여 여러 가지의 색상으로 직물을 염색하기 위한 방법을 제공하고 있다.
또, 일본국 공개특허 공보 제60-26060호의 경우는 수불용성의 상기 일반식(1)을 가지는 화합물을 2종류 이상 배합한 흑색으로 염착되는 염료 조성물을 제공하고 있으며, 이와함께 이들 염료조성물을 이용하여 염색 또는 날염하는 방법을 소개하고 있는 것으로 이 조성물을 이루는 아조화합물은 X가 니트로기이고, Y는 브롬이며, R1은 수소이고, R2는 메틸기, R3및 R4는 에틸기이며, n은 1인 상기 일반식(1)을 갖는 아조화합물과 X 및 Y는 취소이고, R1은 수소, R3는 시아노에틸기, R4는 에틸기이며, n이 0인 상기 일반식(1)의 아조화합물로 이루어진 조성물 또는 상기의 조성물에 X는 니트로기, Y는 브롬, R1은 메톡시기, R2는 메틸기, R3는 아릴기, R4는 벨질기이며, n이 1인 상기 일반식(1)의 아조화합물 또는 X는 니트로기, Y는 취소, R1은 메톡시기, R2는 메틸기, R3및 R4는 아릴기이며, n이 1인 일반식(1)의 아조화합물을 첨가하여 폴리에스테르 섬유에 염색 또는 날염하여 염착성, 내광성, 내승화성, 내세탁성 견뢰도 등을 향상시킨 방법을 제공하고 있다.
그리고, 일본국 특허공보 소62-6592호의 경우에 있어서는 X는 니트로기, Y는 염소 또는 취소이며, R1은 수소이고, R2는 탄소수 1내지 4의 알킬기, R3및 R4는 탄소수 1내지 4의 알킬기이며, n이 1인 상기 일반식(1)의 아조화합물과 X는 니트로기, Y는 염소 또는 취소, R1은 탄소수 1내지 4의 알콕시기, R2는 탄소수 1내지 4의 알킬기이고, R3및 R4는 탄소수 1내지 4의 알킬기이며, n이 1인 상기 일반식(1)의 아조 화합물로 이루어진 염료 조성물 및 이 조성물을 이용하여 폴리에스테르와 셀룰로우스로 된 혼방직물에 염착성, 착색력, 견뢰도를 향상시킨 기술을 공개하고 있다.
유럽 공개특허공보 제0300626호의 경우에 있어서는 X는 시아노기, Y는 염소, 취소 또는 옥소이고, R1은 수소, R2는 탄소수 1내지 4의 알킬기, R3및 R4는 탄소수 1내지 4의 알킬기 또는 탄소수 2내지 4의 알케닐기이며, n이 1인 상기의 일반식(1)의 아조화합물과 X는 니트로기, Y는 염소, 취소 또는 옥소이고, R1은 탄소수 1내지 4의 알콕시기, R2는 탄소수 1내지 4의 알킬기, R3및 R4는 탄소수 1내지 4의 알킬기 또는 탄소수 2내지 4의 알케닐기이며 n이 1인 상기 일반식(1)의 아조화합물로 구성된 조성물 및 이 조성물을 이용하여 폴리에스테르 또는 폴리에스테르 함유 직물을 염색하여 견뢰도 등을 향상시키기 위한 기술을 공개하고 있다.
또 유럽 공개특허공보 제0563957호의 경우에 있어서는 X가 니트로기 또는 할로겐, Y는 할로겐, R1은 저급알콕시, R2는 저급 알킬기이며, R3및 R4는 각각 독립된 알킬기, 시아노 알킬기, 알킬카르보닐 옥시 알킬기이고, n이 1인 상기 일반식(1)의 아조화합물과 X가 니트로기이며, Y는 할로겐, R1은 수소, R2는 메틸, R3및 R4는 각각 독립된 에틸기이고, n이 1인 상기 일반식(1)의 아조화합물과 X 및 Y는 할로겐이고, R1은 수소, R3는 시아노에틸이며, R4는 에틸기이고, n이 0인 상기 일반식(1)의 아조화합물로 구성된 조성물을 이용하여 폴리에스테르 또는 폴리에스테르 함유 직물을 염색하여 견뢰도 등을 향상시키는 기술을 공개하고 있다.
상기에서 열거하고 있는 아조화합물을 이미 알려져 있는 다음의 일반식(2)의 디아조화물 및 (3)의 화합물을 공지의 방법에 의하여 커플링 반응을 시켜줌으로서 쉽게 제조할 수 있다.
상기의 일반식(2) 및 (3)에서의 X, Y, R1, R2, R3, R4및 n은 일반식(1)에서의 정의와 같다.
폴리에스테르 또는 폴리에스테르 함유 섬유를 흑색으로 염색하는 경우에 있어서 일반적으로 청색, 황색, 적색 및 갈색 등의 분산염료를 적당한 함량으로 배합한 염료조성물을 많이 사용되고 있으나, 농흑색으로 염색하고자 하는 경우에는 적당한 단일 염료의 선별과 배합을 엄격히 하여야만 목적하는 만족한 염색물을 얻을 수 있다.
일반적으로 흑색의 염색에는 농색이 많이 요구되며 농색으로서의 염색은 흡진성에 있어서 농색염색을 가능하게 하는 염료의 선택과 배합이 중대한 의미를 지니게 된다.
그러므로 염색성이 떨어지는 염료를 배합하여 얻어진 흑색을 나타내는 배합염료의 경우에 있어서는 단위염료간의 염색속도가 상이하거나, 염료간에 상용성에 문제가 있어서 염색성이 우수한 염료를 얻기가 어려웠을 뿐만 아니라, 염색후에 폐기되는 폐수가 수질오염을 유발시키는 등의 문제가 있어, 이러한 제반 문제를 해결하고, 또 염료의 염착성, 견뢰도 등을 향상시키기 위한 노력이 많은 연구인들에 의하여 연구가 진행되어 왔다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하여 흡진성이 양호하며 실용적인 견뢰도를 지니고, 또한 pH 안전성이 높아 폴리에스테르 함유 직물에도 만족스런 염색 결과를 얻기 위한 것이다.
본 발명은 상기의 일반식(1)으로 정의되는 모노아조염료중 상기와 같은 문제점이 해결될 수 있는 화합물을 2성분 이상 혼합하여 농흑색으로 폴리에스테르 또는 폴리에스테르 함유된 직물을 염색 또는 날염하는 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명에서의 조성물은 일반식(1)으로 정의되는 화합물중 청색의 염료로서 사용되는 다음의 일반식(4) 및 보라색의 염료로서 사용되는 일반식(5)로 정의되는 화합물을 기본 화합물로 하여 구성되어 진다.
상기 구조식에서 X는 염소 또는 취소중에서 선택되며, R5는 탄소수 1내지 4의 알킬기이고, R6및 R7는 각각 독립된 탄소수 2내지 4의 알케닐기이고, R8는 및 R9는 각각 독립된 탄소수 1내지 4의 알킬기 또는 각각 독립된 탄소수 2내지 4의 알케닐기이고, R10는 메틸, 에틸, 메톡시에틸기를 갖는다.
상기의 기본이 되는 일반식(4) 및 일반식(5)의 모노아조화합물의 조성비율은 90:10 중량부 내지 10:90 중량부의 비율로 배합되며, 이러한 배합비율 내에서 흑색 색상을 나타내게 되고, 이와 같은 상기의 염료조성물은 본 발명이 목적하는 고온고압 염색후에 흡진성이 높으므로 염료의 잔욕상태가 낮고, 염착성, 견뢰도 등에서 우수한 결과를 가져오는 것이다.
특히 상기의 일반식(4) 및 일반식(5)의 화합물중에서 농흑색의 색상으로 염색하여 가장 만족스런 결과를 얻기 위한 화합물은 하기의 구조식(4') 및 구조식(5')로 정의되는 모노아조화합물의 경우이다.
(상기식에서 X는 염소 또는 취소이다)
그러나 상기의 염료를 혼합한 조성물만으로 원하는 색상인 농흑색의 염착물은 얻을 수 있으나, 안정된 승화견뢰도를 갖는 염착물을 얻는데에는 많은 어려움이 있다.
본 발명자는 상기와 같은 안정된 색상을 얻기 위하여 연구를 거듭한 결과 하기의 일반식(6)으로 정의되며, 여러 가지 오렌지색을 나타내는 모노아조화합물을 상기의 조성물을 포함한 염료 총량에 대하여 60중량%이하로 첨가하여 줌으로써 상기에서와 같이 흡진성, pH안정성, 염착성, 견뢰도 등에서 우수한 흑색 피염물을 얻을 수 있음을 알게 되었으며, 60중량% 이상으로 첨가되는 경우에는 안정된 블랙칼라의 색상을 갖는 피염물을 얻는 데에는 다소의 문제가 있음을 알 수 있었다.
(상기의 구조식(6)에서 W 및 Y는 각각 독립된 수소, 염소 또는 취소이고, R11는 시아노에틸, R12는 에틸, 시아노에틸, 벤조일옥시에틸기이다.)
본 발명에서 상기의 3성분만으로도 만족할 만한 흑색 피염물을 얻을 수는 있었으나, 고농도의 안정된 흑색 피염물을 얻기 위한 제품화가 진행중에 있고, 또한 외산 염료와의 가격 및 품질면에서 경쟁력을 갖기 위해서는 보다 나은 흑색으로 염착되는 염료를 만들 필요가 있다. 이에 연구를 거듭한 결과 하기의 일반식(7)으로 정의되는 여러 가지 적색을 나타내는 모노아조화합물을 상기의 조성물을 포함한 염료총량에 대하여 10중량%이하로 첨가시켜 줌으로써 흡진성, pH안정성 염착성, 견뢰도 등의 보다 우수한 고농도의 흑색 피염물을 얻을 수 있었다.
(상기식에서 Z는 염소 또는 시아노기이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸, 아세톡시에틸기이다.)
본 발명에서의 흑색염료의 조성은 일반식(4)의 모노아조화합물 20 내지 50중량%, 일반식(5)의 모노아조화합물 10내지 30중량%, 일반식(6)의 모노아조화합물 20내지 60중량%, 일반식(7)의 모노아조화합물 10중량% 이하가 되도록 조성시키는 것이 바람직하며, 특히 일반식(4)의 모노아조화합물을 25내지 35중량%, 일반식(5)의 모노아조화합물 15내지 25중량%, 일반식(6)의 모노아조화합물 45내지 55중량%, 일반식(7)의 모노아조화합물 5중량% 이하로 조성시키는 것이 더욱 바람직하다.
상기의 일반식(6)으로 정의 되는 모노아조화합물중 바람직한 화합물은 R11는 시아노에틸이고, R12는 에틸기인 하기 구조식을 갖는 일반식(6'), R11는 시아노에틸, R12는 벤조일옥시에틸기인 구조식을 갖는 모노아조화합물(6) 및 R11및 R12가 모두 시아노에틸인 구조식(6''')의 모노아조화합물이다.
(상기식에서 W 및 Y는 각각 독립된 수소, 염소 또는 취소를 나타낸다.)
일반식(6)에 대한 상기 구조식(6'), 구조식(6) 및 구조식(6''')의 모노아조화합물은 각각 염료 총량에 대하여 60중량%이하로 함유되기도 하고 또한 일반식(6') 및 일반식(6)의 조성물 비율이 95:5 중량부 내지 5:95 중량부의 비율로 배합된 성분이 염료 총량에 대하여 60중량%이하 되거나 일반식(6') 및 일반식(6''')의 조성비율이 95:5 중량부 내지 5:95 중량부의 비율로 배합된 성분이 염료 총량에 대하여 60중량%이하이며 일반식(6) 및 일반식(6''')의 조성비율이 95:5 중량부 내지 5:95 중량부의 비율로 배합된 성분이 염료 총량에 대하여 60중량%이하로 함유되어도 된다.
일반식(7)로 정의되는 모노아조화합물중 가장 바람직한 화합물은 R13는 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸기인 하기 구조식(7')의 모노아조화합물과 R13는 시아노에틸이고, R14는 에틸기인 구조식(7)로 나타내는 모노아조화합물이다.
(상기식에서 Z는 염소 또는 시아노기를 나타낸다.)
일반식(7)로 정의되는 모노아조화합물은 앞에서 이미 설명한 바와 같이 구조식(7')의 모노아조 화합물 또는 구조식(7)의 모노아조화합물이 염료 총량에 대하여 10중량%이하로 함유된다.
본 발명에서 사용하는 일반식(1)로 정의될 수 있는 모노아조화합물은 이미 공지된 화합물로서 상기에 설명한 바와 같이 일반식(2) 및 일반식(3)의 화합물을 커플링반응 시켜서 용이하게 제조될 수 있는 것이므로 제조에 관하여는 그 설명을 생략하기로 하고 본 발명의 조성에 의한 조성물의 제조방법과 그 실험결과를 하기의 실시예로서 보다 상세하게 설명하기로 한다.
[실시예 1]
상기의 일반식(4')로 정의되는 (2,4-디니트로-6-브로모페닐아조)-4'-(N,N-디아릴아미노-5'-메톡시아세아니리드) 100g을 분산제로서 나프탈렌 설폰산포름알데이드 축합물 100g과 함께 물 300g중에서 미립자로 분산시킨 후 건조하여 배합성분(A)을 얻고, 일반식(5')로 정의되는 (2,4-디니트로-6-브로모페닐아조-4'-(N,N-디에틸아미노아세트아니리드) 100g을 분산제로서 나프탈렌 설폰산 포름알데이드 축합물 100g과 함께 물 300g중에서 미립자로 분산시킨후 건조하여 배합성분(B)을 얻고, 일반식(6')으로 정의되는 (2,6-디클롤로-4-니트로페닐아조)-4-[-(시아노에틸)-N-(에틸)]아미노벤젠 100g을 분산제로서 나프탈렌 설폰산 포름알데이드 축합물 100g과 함께 물 300g중에서 미립자로 분산시킨 후 건조하여 배합성분(C)을 얻는다.
일반식(6) 및 일반식(6''')으로 정의되는 (4-니트로페닐아조)-4-[(N-시아노에틸)-N-(벤조일옥시에틸)]아미노벤젠과 (6-클로로-4-니트로페닐아조)-4-(N,N-디시아노에틸아미오벤젠)도 상기 방법에 의하여 미립자로 분산시킨 후 건조하여 각각 배합성분(C') 및(C)을 얻는다. 또한 일반식(7')로 정의되는(6-클로로-4-니트로페닐아조)-4-[N-시아노에틸)-N-(아세톡시에틸)]아미노벤젠 및 일반식(7)로 정의되는 (6-시아노-4-니트로페닐아조)-4-[(N-시아노이틸)-N-(에틸)]아미노벤젠을 각각 상기의 방법에 의하여 미립자로 분산시킨 후 건조하여 배합성분(D) 및 (D')를 얻는다.
[실시예 2]
상기의 방법에 의하여 제조된 배합성분 (A), (B), (C) 및 (D)를 각각 14.3g, 10.5g, 24.8g 및 0.4g을 배합하여 염료조성물 50g을 얻었다. 상기의 염료조성은 0.5g을 취하여 물 250g에 용해시켜 0.2%의 수용액을 제조하고, 폴리에스테르계 섬유 2g에 대하여 염욕비를 1:15 내지 1:30의 범위내에서 염색하고자 하는 농도(여기서는 3% o.w.f)농도를 맞춘 염액에 계면활성제를 첨가하고, 빙초산으로 각 염욕의 pH를 각각 pH5, pH7, pH9, pH11 로 조정하고, 130℃의 고온염색기에서 1시간동안 염착한 후 80℃에서 환원세정 및 건조하여 각각 흑색의 피염물을 얻고 그 결과를 표 2에 나타내었다.
[실시예 3내지 13]
상기의 실시예 1의 방법에 의하여 제조된 배합성분 A, B, C, C' ,C, D, D'를 실시예 2에서 실시한 배합비율대로 하여 표 1에서와 같은 방법에 따라 염료조성물을 만든 다음 실시예2에서와 같은 방법으로 각각 pH변화에 따라 염색한 후 실시예 3 내지 13과 같은 흑색의 피염물을 얻고 그 결과를 표 2에 나타내었다.
[견뢰도 시험]
상기의 실시예 2 내지 13으로부터 얻은 본 발명의 염료 조성물에 의한 피염물을 가지고 JIS L 0842(1971)의 염색물의 일광견뢰도 시험방법 및 JIS L 0879(1975)의 승화 견뢰도 시험방법에 따라 견뢰도 시험을 하고 그 결과를 표 2에 나타내었다.
[흡진성 시험]
상기 실시예 2 내지 13으로부터 pH5로 조정된 염욕에서 폴리에스테르 섬유를 염색한 후의 잔욕에 각각 폴리에스테르 백포를 넣고 고온고압 염색기로 130℃에서 1hr동안 염착시킨후 80℃에서 환원세정하고 건조하여 잔욕으로부터의 염색상태를 관찰하여 그 결과를 표 2에 나타내었다.
[비교예 1]
시중에서 시판되고 있는 미케론 블랙 PB-SF(일본의 삼정동합 염료사 제품)을 상기 실시예 2의 방법으로 동일 폴리에스테르 섬유에 pH변화에 따라 염색한 후 그 잔욕으로부터 흡진성시험 및 피염물로부터의 견뢰도를 견뢰도 시험 및 흡진성 시험방법에 따라 시험한 후 그 결과를 표 2에 나타냈다.
상기의 표 2에서 염착물의 색상은 pH변화에 따른 염착상태 및 색상변화를 나타낸 것으로 표 2로부터 알 수 있는 바와 같이 본 발명의 조성물을 농흑색으로 염색하고자 하는 경우 pH11로 액성을 조정한 경우를 제외하고는 고온(130℃)에서 흑색으로 잘 염색이 되는 결과를 알 수 있다.
따라서 pH11이하의 범위에서 폴리에스테르 섬유 및 폴리에스테르 함유 직물에서도 1bath 염색이 가능함을 알 수 있다.
흡진성 시험에 있어서도 잔욕으로부터의 염색결과가 동일한 조건에서 실시한 결과 약간의 색상을 띄고 있거나 또는 거의 백포에 가까워 흡진성이 양호한 것을 알 수 있다.
그러나 비교예 1에서 사용된 미케론 블랙은 표 2에서 그 결과를 알 수 있듯이 제반 견뢰도는 본 발명의 조성물과 유사하나, 흡진성에 있어서 떨어지는 것을 알 수 있다. 따라서 본 발명의 모노아조 염료조성물은 고온타입 염료로서 흡진성, 견뢰도 및 pH안정성에 있어서 우수한 것임을 알 수 있다.

Claims (25)

  1. 하기의 일반식(4)의 모노아조화합물 20-50중량%, 하기의 일반식(5)의 모노아조화합물 10-30중량%, 하기의 일반식(6)의 모노아조화합물 20-60중량%, 하기의 일반식(7)의 모노아조화합물 10중량% 이하로 이루어짐을 특징으로 하는 염료 조성물.
    상기 구조식에서 X는 염소 또는 취소 이며, W 및 Y는 수소, 염소 또는 취소이고, Z는 염소 또는 시아노기, R5는 탄소수 1내지 4의 알킬기이며, R6및 R7는 각각 독립된 탄소수 2내지 4의 알케닐기를 나타내고, R8및 R9는 각각 독립된 탄소수 1내지 4의 알킬기 또는 각각 독립된 탄소수 2내지 4의 알케닐기이고, R11는 시아노에틸, R12는 에틸, 시아노에틸, 벤조일옥시에틸, 아세톡시에틸이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸, 아세톡시 에틸기이며, R10는 메틸, 에틸, 메톡시에틸기를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 상기의 일반식(4)의 모노아조화합물을 25 내지 35중량%, 일반식(5)의 모노아조화합물 15내지 25중량%, 일반식(6)의 모노아조화합물 45내지 55중량%, 일반식(7)의 모노아조화합물 5중량% 이하로 이루어짐을 특징으로 하는 염료 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 일반식(4)의 화합물이 X는 취소 R5는 메틸, R6및 R7는 아릴, R10이 메틸인 하기의 구조식(4')로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 일반식(5)의 화합물의 X는 취소 R5는 메틸, R8및 R9는 각각 독립된 에틸인 상기의 구조식(5')로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  5. 제3항에 있어서, 일반식(5)의 화합물의 X는 취소 R5는 메틸, R8및 R9는 각각 독립된 에틸인 상기의 구조식(5')로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  6. 제1항에 또는 제2항에 있어서, 일반식(6)의 화합물의 W 및 Y는 염소, R11는 시아노에틸, R12는 에틸인 하기의 구조식(6')로 정의되는 모노아조화합물이거나, W 및 Y가 수소이고, R11은 시아노에틸, R12는 벤조일옥시에틸인 하기의 구조식(6)로 정의되는 모노아조화합물 또는 W는 염소, Y가 수소이며, R11및 R12가 각각 독립된 시아노에틸인 하기의 구조식(6')로 정의되는 모노아조화합물중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  7. 제3항에 있어서, 일반식(6)의 화합물의 W 및 Y는 염소, R11는 시아노에틸, R12는 에틸인 하기의 구조식(6')로 정의되는 모노아조화합물이거나, W 및 Y가 수소이고, R11은 시아노에틸, R12는 벤조일옥시에틸인 하기의 구조식(6)로 정의되는 모노아조화합물 또는 W는 염소, Y가 수소이며, R11및 R12가 각각 독립된 시아노에틸인 하기의 구조식(6')로 정의되는 모노아조화합물중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  8. 제4항에 있어서, 일반식(6)의 화합물의 W 및 Y는 염소, R11는 시아노에틸, R12는 에틸인 하기의 구조식(6')로 정의되는 모노아조화합물이거나, W 및 Y가 수소이고, R11은 시아노에틸, R12는 벤조일옥시에틸인 하기의 구조식(6)로 정의되는 모노아조화합물 또는 W는 염소, Y가 수소이며, R11및 R12가 각각 독립된 시아노에틸인 하기의 구조식(6')로 정의되는 모노아조화합물중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  9. 제5항에 있어서, 일반식(6)의 화합물의 W 및 Y는 염소, R11는 시아노에틸, R12는 에틸인 하기의 구조식(6')로 정의되는 모노아조화합물이거나, W 및 Y가 수소이고, R11은 시아노에틸, R12는 벤조일옥시에틸인 하기의 구조식(6)로 정의되는 모노아조화합물 또는 W는 염소, Y가 수소이며, R11및 R12가 각각 독립된 시아노에틸인 하기의 구조식(6')로 정의되는 모노아조화합물중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 일반식(6)의 모노아조화합물이 상기의 구조식(6')를 갖는 모노아조화합물과 구조식(6)로 정의되는 모노아조화합물 및 (6')로 정의되는 모노아조화합물중에서 선택된 2종의 혼합물로서 그비가 95-5중량% 내지 5-95중량%로 혼합되어 있는 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  11. 제3항에 있어서, 일반식(6)의 모노아조화합물이 상기의 구조식(6')를 갖는 모노아조화합물과 구조식(6)로 정의되는 모노아조화합물 및 (6')로 정의되는 모노아조화합물중에서 선택된 2종의 혼합물로서 그비가 95-5중량% 내지 5-95중량%로 혼합되어 있는 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  12. 제4항에 있어서, 일반식(6)의 모노아조화합물이 상기의 구조식(6')로 갖는 모노아조화합물 과 구조식(6)로 정의되는 모노아조화합물 및 (6')로 정의되는 모노아조화합물중에서 선택된 2종의 혼합물로서 그비가 95-5중량% 내지 5-95중량%로 혼합되어 있는 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  13. 제5항에 있어서, 일반식(6)의 모노아조화합물이 상기의 구조식(6')를 갖는 모노아조화합물과 구조식(6)로 정의되는 모노아조화합물 및 (6')로 정의되는 모노아조화합물중에서 선택된 2종의 혼합물로서 그비가 95-5중량% 내지 5-95중량%로 혼합되어 있는 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  14. 제1항 또는 제2항에 있어서, 일반식 (7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 하기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  15. 제3항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  16. 제4항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  17. 제5항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  18. 제6항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  19. 제7항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  20. 제8항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  21. 제9항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  22. 제10항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  23. 제11항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  24. 제12항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
  25. 제13항에 있어서, 일반식(7)의 모노아조화합물에서 Z는 염소이고, R13은 시아노에틸, R14는 아세톡시에틸인 상기의 구조식(7')로 정의되는 모노아조화합물 또는 Z는 시안이고, R13는 시아노에틸, R14는 에틸인 상기 구조식(7)로 정의되는 모노아조화합물인 것을 특징으로 하는 염료 조성물.
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