KR0149376B1 - 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법 - Google Patents

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법

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KR0149376B1 KR1019950025119A KR19950025119A KR0149376B1 KR 0149376 B1 KR0149376 B1 KR 0149376B1 KR 1019950025119 A KR1019950025119 A KR 1019950025119A KR 19950025119 A KR19950025119 A KR 19950025119A KR 0149376 B1 KR0149376 B1 KR 0149376B1
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Abstract

본 발명에서는 디메틸테레프탈레이트와 에틸렌글리콜을 주성분으로 하고 디메틸테레프탈레이트에 대하여 하기 일반식 (Ⅰ)로 표현되는 술폰산금속염 유도체 0.1∼20.0중량%, 하기 일반식 (Ⅱ)로 표현되는 실리콘계 화합물 0.01∼4중량%, 수평균 분자량 1,000∼30,000인 폴리에틸렌글리콜 0.5∼10중량% 및 산화방지제를 첨가하여 폴리에틸렌테레프탈레이트를 중합하고 통상의 방법으로 미연신 필름을 얻고 종·횡 2축 연신하여 표면장력이 30.0∼65.0dyne/cm이고, 표면저항이 1016Ω이하인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 제조하였다.
여기에서, CnH2n+1은 n이 5∼20개의 알킬기이고,
M은 Na, Li, K 또는 Mg이고,
여기에서 R1은 -H, -OH, -OCH3, -NH2, -CH3, -COOCH3, -COOH, -CH=CH2또는이고,
R2는 -CH3, -H, -COOH, -NH2, -OCH3또는 페닐기이고,
R3는 -CH3, -H, -COOCH3, -CH=CH2또는 페닐기이고,
x는 0∼100의 정수이고,
y는 1∼100의 정수이다.

Description

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법
본 발명은 대전방지성이 우수한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로는 술폰산금속염 유도체, 폴리에틸렌글리콜, 실리콘계 화합물 및 산화방지제를 폴리에틸렌테레프탈레이트 중합시에 첨가하고 필름으로 제조함으로써 투명성, 기계적 물성 및 대전방지성이 우수한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 제조할 수 있었다.
일반적으로 폴리에스테르 필름은 고도의 결정성, 고연화점, 강·신도, 내약품성, 내열성, 투명성 등이 우수하여 의료용, 식료품 포장용, 산업용, 사진필름용, 포장용, 자기테이프용 등에 광범위하게 적용되고 있다. 그러나, 폴리에스테르 필름은 높은 전기절연성 때문에 정전기 발생으로 인한 문제를 야기시키는 결점을 갖고 있다. 예를들면, 제막공정, 인쇄공정 및 포장공정 등에서 필름표면에 이물질이 부착하거나, 정전기 발생 및 정전기 쇼크 등으로 인한 작업성 저하와 인쇄불균일을 초래하여 제품품질을 저하시키는 원인이 된다.
따라서, 이러한 문제를 해결하기 위해 대전방지제를 폴리에스테르 필름의 표면에 도포하거나 필름 내부에 첨가시켜 대전방지성을 부여하고 있다. 그러나, 폴리에스테르 필름표면에 대전방지제를 도포하는 경우 도포공정이 필요하고 또한 장기간 보관후 사용할 경우 대전방지 효과의 경시변화가 생기는 단점이 있다.
한편, 대전방지제의 내부 첨가방법으로는 폴리에스테르에 폴리알킬렌글리콜을 함유시키거나, 폴리알킬렌글리콜과 알킬술폰산금속염을 동시에 함유시켜 대전방지성을 부여하는 방법이 공지되어 있다. 폴리알킬렌글리콜을 폴리에스테르에 첨가하는 경우에는 산화안정성이 부족하여 강·신도 등의 기계적 물성저하와 색조상승을 초래하며, 폴리알킬렌글리콜과 알킬술폰산금속염을 첨가하는 경우에는 비교적 물성저하가 적으나 필름으로 성형시에 가공성이 저하되는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명의 목적은 투명성, 기계적 물성 및 대전방지성이 우수한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법을 제조하는데 있다.
이에 본 발명에서는 풀리에틸렌테레프탈레이트 중합시에 폴리에틸렌글리콜과 술폰산금속염을 첨가하는 것 이외에도 실리콘계 화합물과 산화방지제를 첨가하여 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 제조함으로써 종래의 문제점을 해결하고 본 발명에 이르게 되었다.
본 발명을 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
본 발명에서는 디메틸테레프탈레이트와 에틸렌글리콜을 주성분으로 하고 디케틸테레프탈레이트에 대하여 하기 일반식 (Ⅰ)로 표현되는 술폰산금속염 유도체0.1∼20.0중량%, 하기 일반식(Ⅱ)로 표현되는 실리콘계 화합물 0.01∼4중량%, 수평균 분자량 1,000∼30,000인 폴리에틸렌글리콜 0.5∼10중량% 및 산화방지제를 첨가하여 폴리에틸렌테레프탈레이트를 중합하고 통상의 방법으로 미연신 필름을 얻고 종·횡 2축 연신하여 표면장력이 30.0∼65.0dyne/cm이고, 표면저항이 1016Ω이하인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 제조하였다.
여기에서, CnH2n+1은 n이 5∼20개의 일킬기이고,
M은 Na, Li, K 또는 Mg이고,
여기에서 R1은 -H, -OH, -OCH3, -NH2, -CH3, -COOCH3, -COOH, -CH=CH2또는이고,
R2는 -CH3, -H, -COOH, -NH2, -OCH3또는 페닐기이고,
R3는 -CH3, -H, -COOCH3, -CH=CH2또는 페닐기이고,
x는 0∼100의 정수이고,
y는 1∼100의 정수이다.
본 발명에 사용된 폴리에틸렌글리콜은 수평균 분자량이 1,000∼30,000인 것을 디메틸테레프탈레이트에 대해 0.5∼10중량% 사용하며 만일, 수평균 분자량이 1,000 미만이면 폴리에틸렌테레르탈레이트 필름의 치수안정성과 연화점이 저하되며, 수평균 분자량이 30,000 초과되면 필름의 투명성 저하 및 백화현상이 발생하는 반면 대전방지성은 증가한다.
그리고, 첨가량이 0.5중량% 미만이면 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 치수 안정성 및 투명성 저하는 줄어들지만 충분한 대전방지성이 발휘되지 못하며, 첨가량이10.0중량% 초과되면 접착성 및 대전방지성은 우수하나 색조증가, 투명도 저하 및 기계적 물성저하가 발생한다. 바람직하게는 폴리에틸렌글리콜의 평균분자량이 4,000∼20,000이고, 그 첨가량은 1.0∼8.0중량%이면 더욱 좋다.
본 발명의 대전방지제로 사용되는 술폰산금속염 유도체를 나타내는 일반식 (Ⅰ)에 있어서, CnH2n+1은 n이 5∼20, 바람직하게는 7∼15인 정수를 갖는 알킬기이고 만일, n이 5미만일 경우에는 폴리에틸렌테레프탈레이트와 상용성이 미비하고 n이 20초과일 경우에는 중합물 내에서 유동성이 떨어져 분산성이 불량하게 되어 필름의 대전방지성 및 투명성이 저하된다.
여기에서, CnH2n+1은 n이 5∼20개의 알킬기이고,
M은 Na, Li, K 또는 Mg이고,
술폰산 금속염 유도체는 디메틸테레프탈레이트에 대해 0.1∼20.0중량%, 바람직하게는 0.3∼8.0중량% 사용하고 만일, 첨가량이 0.1중량% 미만일 경우에는 투명성, 기계적물성, 성형성 등은 우수하나 충분한 대전방지성을 발휘하기가 어렵고, 20중량% 초과이면 대전방지성을 우수하나 투명성 및 색조가 악화되고 기계적 물성이 저하된다.
일반식 (Ⅱ)로 표현되는 실리콘계 화합물의 구체적인 예로는 디메틸폴리실록산계, 메틸하이드록시폴리실록산계, 하이드로겐폴리실록산계, 메틸페닐폴리실록산계, 알킬변성실리콘계, 아미노변성실리콘계, 카르복실변성실리콘계, 고급지방산변성실리콘계, 에폭시변성실리콘계, 비닐기함유실리콘계, 알콜변성실리콘계, 폴리에스테르변성실리콘계, 알킬폴리에테르변성실리콘계 등이 있으며, 이중에서 폴리에테르변성실리콘계, 알킬폴리에테르변성실리콘계, 고급지방산실리콘계, 메틸하이드록시폴리실록산계, 메틸페닐실리콘계 화합물이 특히 바람직하다.
상기 화합물중 1종을 디메틸테레프탈레이트에 대해 0.01∼4.0중량%, 더욱 바람직하게는 0.04∼3.5중량% 사용하는 것이 좋다. 만일, 첨가량이 0.01중량% 미만이면 투명성, 응집성은 양호하나 중합공정상 문제점을 발생시키고, 4.0중량% 초과하면 중합공정상 문제점은 감소하지만 투명성, 응집성은 나빠진다.
여기에서 R1은 -H, -OH, -OCH3, -NH2, -CH3, -COOCH3, -COOH, -CH=CH2또는이고,
R2는 -CH3, -H, -COOH, -NH2, -OCH3또는 페닐기이고,
R3는 -CH3, -H, -COOCH3, -CH=CH2또는 페닐기이고,
x는 0∼100의 정수이고,
y는 1∼100의 정수이다.
산화방지제의 첨가에 있어서 폴리에스테르에 주로 적용되는 물질로는 인계화합물 및 페놀화합물을 단독으로 사용하거나 또는 2종이상 혼합하여 사용할 수 있다. 인계 화합물 또는 페놀계 화합물을 단독으로 사용할 경우, 디메틸테레프탈레이트에 대하여 0.01∼5.0중량%, 바람직하게는 0.015∼3.0중량% 첨가하는 것이 좋다. 만일, 0.01중량% 미만 첨가하면 색조증가, 내열성저하 등의 문제가 발생하고, 5.0중량% 초과하여 첨가하면, 투명성저하, 조대입자증가 등의 문제가 발생한다.
또한, 인계 화합물과 폐놀계 화합물을 혼합하여 사용할 경우에는 단독으로 사용할 경우보다 더 좋은 산화방지성을 부여할 수 있는 장점이 있다. 이때 혼합비율(인계 화합물/페놀계 화합물)은 0.8∼5.0으로 하여 디메틸테레프탈레이트에 대하여 0.8∼5.0중량% 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 술폰산 금속염 유도체는 고농도의 폴리에스테르 마스터 배티 칩(MASTER BATCH CHIP)을 만들어 이것을 통상의 폴리에스테르에 소정의 농도가 되도록 블렌드(BLEND)하여 용융압출하는 경우도 가능하다.
한편, 필름의 표면장력은 30.0∼65.0dyne/cm일 경우에 우수한 투명성과 잉크 및 코팅액 접착성을 나타내며, 바람직하게는 32.0∼60.0dyne/cm이면 더욱 좋다. 30dyne/cm 미만에서는 투명성과 잉크 및 코팅액 접착성이 전혀 개선되지 않고, 65dyne/cm 초과에서는 필름의 내열성이 저하된다.
본 발명의 폴리에스테르 필름의 제법은 특별히 한정된 것은 아니지만, 상기의 첨가제를 포함한 폴리에틸렌테레프탈레이트를 티이-다이(T-Die)법, 인플레이션법 등에 의해 용융압출된 고유점도 0.4∼1.0dl/g의 미연신 시트를 만든 후 이를 이축연신하여 이축배향된 본 발명의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 제작한다.
본 발명에서 제조된 필름은 통상적으로 5.0∼200μm의 필름을 제조하며 대전방지성, 투명성이 우수하므로 투명성과 제전성이 동시에 요구되는 포장용, 그래픽용 및 마그네틱 분야 등 거의 모든 분야에 적용이 가능하다.
이하, 실시예 및 비교예에서 본 발명을 좀다 구체적으로 설명한다.
(1) 극한점도
폴리에틸렌테레프탈레이트의 극한점도는 o-클로로페놀을 사용하여 25℃에서 측정하였다.
(2) 투명성
ASTN-D1003에 의거하여 헤이즈미터로 측정하였고, 샘플의 두께는 100μm필름으로 하였다. 헤이즈치는 낮을수록 투명성이 우수하다.
(3) 접착성
ASTM-D335에 의거하여 평가하였다. 표면장력이 높을 수록 잉크 및 코팅액 접착성이 우수하다.
(4) 표면저항
가오사끼의 모델 R-503을 사용하여 25℃, 50%RH에서 필름 100μm의 샘플을 제작하여 ASTM-D257에 의거하여 평가하였다.
(5) 인장강도의 측정
두께 100μm의 필름을 도요세이키사의 제품을 사용하여 ASTM-D882 규격에 의거하여 평가하였다.
(6) 경시변화의 측정
두께 100μm의 필름을 50℃, 70%RH에서 300시간 경과후의 투명도, 표면저항, 인장강도의 변화를 측정하여 표기를 우수한 기준일 때 ◎로, 양호한 수준일 때 ○로, 다소 미흡한 수준일 때 ×로 표시하였다.
[실시예 1]
디메틸테레프탈레이트에 대해 촉매로서 초산마그네슘 0.03중량%, 삼산화안티몬 0.04중량%, 수평균 분자량 4,000인 메틸페닐폴리실록산오일 1.0중량%, 아인산0.03중량%를 첨가하여 에틸렌글리콜과 에스테르 교환반응 및 축중합 반응을 시킨 후, 수평균 분자량이 10,000인 폴리에틸렌글리콜 6.0중량% 및 하기식으로 표현되는 술폰산 금속염 4.0중량%
를 첨가한 후 중합하여 극한점도 0.65의 폴리에틸렌테레프탈레이트를 얻었다. 이 중합물을 T 다이 성형법을 이용하여 미연신시트로 만들고 120℃에서 종방향 3.5배, 횡방향 4.0배 연신한 후 230℃에서 12초간 열고정한 두께 100μm의 이축연신 폴리에틸렌테레르탈레이트 필름을 제조하고 물성을 평가하여 그 결과를 표1에 나타내었다.
[실시예 2~5 및 비교예 1~5]
표 1에 기재한 바와 같이 폴리에틸렌글리콜, 술폰산금속염, 산화방지제 및 메틸페닐폴리실록산 오일의 량을 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 결과를 표 1에 나타내었다.
·A - 아인산
·B - 아인산+1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)
·C - 1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-하이드록시-2,6,-디메틸벤질)
·비율 - 인계/페놀계의 첨가비율을 나타낸다.
·◎ : 우수, ○ : 양호, × : 다소 미흡을 나타낸다.

Claims (6)

  1. 디메닐테레프탈레이트와 에틸렌글리콜을 주성분으로 하고, 하기 일반식 (Ⅰ)로 표현되는 술폰산금속염 유도체, 하기 일반식(Ⅱ)로 표현되는 실리콘계 화합물, 수평균 분자량 1,000∼30,000인 폴리에틸렌글리콜 및 산화방지제를 첨가하여 폴리에틸렌테레프탈레이트를 중합하여 통상의 방법으로 필름으로 제조함을 특징으로 하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법.
    여기에서, CnH2n+1은 n이 5∼20개의 알킬기이고,
    M은 Na, Li, K 또는 Mg이고,
    여기에서 R1은 -H, -OH, -OCH3, -NH2, -CH3, -COOCH3, -COOH, -CH=CH2또는이고,
    R2는 -CH3, -H, -COOH, -NH2, -OCH3또는 페닐기이고,
    R3는 -CH3, -H, -COOCH3, -CH=CH2또는 페닐기이고,
    x는 0∼100의 정수이고,
    y는 1∼100의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅰ)로 표현되는 술폰산 금속염 유도체의 사용량은 디메틸테레프탈레이트에 대해 0.1∼20.0중량% 임을 특징으로 하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 일반식 (Ⅱ)로 표현되는 실리콘계 화합물의 사용량은 디메틸테레프탈레이트에 대해 0.01∼4중량% 임을 특징으로 하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법
  4. 제1항에 있어서, 폴리에틸렌글리콜은 수평균 분자량이 1,000∼30,000이고, 그 사용량은 디메틸테레프탈레이트에 대해 0.5∼10중량%임을 특징으로 하는 폴리에텔렌테레프탈레이트 필름의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서, 산화방지제는 인계 화합물 또는 페놀계 화합믈을 디메틸테레프탈레이트에 대해 0.1∼5.0중량% 사용함을 특징으로 하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 산화방지제는 인계 화합물과 페놀계 화합물의 혼합비율(인계/페놀계 화합물)을 0.8∼5.0으로 함을 특징으로 하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 제조방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20180086322A (ko) * 2017-01-20 2018-07-31 주식회사 효성 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 중합물을 포함하는 필름
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