JPWO2025079375A5 - - Google Patents
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023174933 | 2023-10-10 | ||
| PCT/JP2024/032153 WO2025079375A1 (ja) | 2023-10-10 | 2024-09-09 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2025079375A1 JPWO2025079375A1 (https=) | 2025-04-17 |
| JPWO2025079375A5 true JPWO2025079375A5 (https=) | 2025-09-17 |
Family
ID=95395688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025522220A Pending JPWO2025079375A1 (https=) | 2023-10-10 | 2024-09-09 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2025079375A1 (https=) |
| TW (1) | TW202516600A (https=) |
| WO (1) | WO2025079375A1 (https=) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7250511B2 (ja) * | 2018-12-27 | 2023-04-03 | Hoya株式会社 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 |
| JP7318607B2 (ja) * | 2020-07-28 | 2023-08-01 | Ａｇｃ株式会社 | Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランク、ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスク、およびそれらの製造方法 |
| WO2023190360A1 (ja) * | 2022-04-01 | 2023-10-05 | Ａｇｃ株式会社 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法 |
| JP2024013220A (ja) * | 2022-07-19 | 2024-01-31 | 株式会社トッパンフォトマスク | 反射型マスクの製造方法、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び反射型マスクブランクの製造方法 |
-
2024
- 2024-09-09 WO PCT/JP2024/032153 patent/WO2025079375A1/ja active Pending
- 2024-09-09 JP JP2025522220A patent/JPWO2025079375A1/ja active Pending
- 2024-09-10 TW TW113134209A patent/TW202516600A/zh unknown
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