JP5258368B2 - 多層反射膜付基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 - Google Patents
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図1は、本発明の方法により形成された多層反射膜付基板を示す図である。図1に示す多層反射膜付基板3は、基板1と、基板1上に形成され、特定の波長の光を反射する多層反射膜2とから主に構成されている。この多層反射膜2は、低屈折率層21と、高屈折率層22とが交互に積層されて構成されている。ここでは、多層反射膜2は、低屈折率層21と高屈折率層22とが約40周期交互に積層されて構成されている。
(実施例1)
まず、基板1として、外形152mm角、厚さが6.3mmであり、低膨張のSiO2−TiO2系のガラス基板を用意した。次いで、上記基板1上に、イオンビームスパッタリングにより、EUV露光光の波長である13〜14nmの領域の反射膜として適したSi層(低屈折率層)21とMo層(高屈折率層)22とを積層して、合計厚さ291nmの多層反射膜2(最初にSi層21を4.2nm成膜し、次にMo層22を2.8nm成膜し、これを1周期として40周期積層した後、最後にSi膜を11nm成膜)を形成した。Mo層22の成膜については、Moターゲットからの飛散粒子が基板の垂直方向に対して63°傾斜して入射(斜入射成膜)するようにした。また、Si層21の成膜については、Siターゲットからの飛散粒子が基板の垂直方向に入射(直入射成膜)するようにした。
この比較例1では、多層反射膜2の高屈折率層(Mo層)22の成膜を、Moターゲットからの飛散粒子が基板の垂直方向に入射(直入射成膜)するようにしたこと以外は、実施例1と同条件で、多層反射膜付基板3、反射型マスクブランク6、反射型マスクを作製した。
まず、基板1として、外形152mm角、厚さが6.3mmであり、低膨張のSiO2−TiO2系のガラス基板を用意した。次いで、上記基板1上に、イオンビームスパッタリングにより、EUV露光光の波長である13〜14nmの領域の反射膜として適したSi層(低屈折率層)21とMo層(高屈折率層)22とを積層して、合計厚さ291nmの多層反射膜2(最初にSi層21を4.2nm成膜し、次にRu層22を2.8nm成膜し、これを1周期として40周期積層した後、最後にSiを11nm成膜)を形成した。Ru層22の成膜については、Moターゲットからの飛散粒子が基板の垂直方向に対して63°傾斜して入射(斜入射成膜)するようにした。また、Si層21の成膜については、Siターゲットからの飛散粒子が基板の垂直方向に入射(直入射成膜)するようにした。
この比較例2では、多層反射膜2の高屈折率層(Ru層)22の成膜を、Ruターゲットからの飛散粒子が基板の垂直方向に入射(直入射成膜)するようにしたこと以外は、実施例2と同条件で、多層反射膜付基板3、反射型マスクブランク6、反射型マスクを作製した。
2 多層反射膜
3 多層反射膜付基板
4 バッファ膜
5 吸収体膜
21 低屈折率層
22 高屈折率層
51 吸収体層
52 低反射層
Claims (11)
- 基板上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成の多層反射膜を有する多層反射膜付基板の製造方法であって、
前記高屈折率層は、高屈折率材料で構成され、前記低屈折率層は、Si又はSi化合物の低屈折率材料で構成されており、
前記高屈折率層は、前記高屈折率材料のスパッタリングターゲットからの飛散粒子が前記基板の表面から垂直な方向に対して、40度以上90度未満の角度を持って入射するように成膜する斜入射成膜で形成され、
前記低屈折率層は、Siターゲットからの飛散粒子が前記基板の表面に対して概ね垂直方向に入射するように成膜する直入射成膜で形成されることを特徴とする多層反射膜付基板の製造方法。 - 前記高屈折率層は、Mo、Nb、Ru及びRhからなる群より選ばれる材料であることを特徴とする請求項1記載の多層反射膜付基板の製造方法。
- 前記斜入射成膜の入射角度は、40度以上80度以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の多層反射膜付基板の製造方法。
- 前記低屈折率層と高屈折率層との間に形成される金属拡散層の厚さは、1.4nm以下であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の多層反射膜付基板の製造方法。
- 前記直入射成膜は、前記Siターゲットからの飛散粒子が前記基板の表面から垂直な方向に対して0度以上40度以下の角度を持って入射するように成膜することを特徴とする請求項4記載の多層反射膜付基板の製造方法。
- 前記多層反射膜は、イオンビームスパッタリング法を用いて成膜されることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の多層反射膜付基板の製造方法。
- 請求項1から請求項6のいずれかに記載の製造方法で得られた多層反射膜付基板の多層反射膜上に、露光光を吸収する吸収体膜を成膜して形成することを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
- 請求項1から請求項6のいずれかに記載の製造方法で得られた多層反射膜付基板の多層反射膜上面に、Ruを主成分とするバッファ膜を成膜し、該バッファ膜上面に露光光を吸収する吸収体膜を成膜して形成することを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
- 請求項1から請求項6のいずれかに記載の製造方法で得られた多層反射膜付基板の多層反射膜上面に、Crを主成分とするバッファ膜を成膜し、該バッファ膜上面に露光光を吸収する吸収体膜を成膜して形成することを特徴とする反射型マスクブランクの製造方法。
- 請求項7又は請求項8記載の製造方法により得られた反射型マスクブランクの前記吸収体膜に転写パターンを形成することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
- 請求項9記載の製造方法により得られた反射型マスクブランクの前記吸収体膜及びバッファ膜に転写パターンを形成することを特徴とする反射型マスクの製造方法。
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