TW202516600A - 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法 - Google Patents

反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法 Download PDF

Info

Publication number
TW202516600A
TW202516600A TW113134209A TW113134209A TW202516600A TW 202516600 A TW202516600 A TW 202516600A TW 113134209 A TW113134209 A TW 113134209A TW 113134209 A TW113134209 A TW 113134209A TW 202516600 A TW202516600 A TW 202516600A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
reflective mask
layer
reflective
gas
Prior art date
Application number
TW113134209A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Inventor
松本光正
池田定達
Original Assignee
日商Agc股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商Agc股份有限公司 filed Critical 日商Agc股份有限公司
Publication of TW202516600A publication Critical patent/TW202516600A/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/22Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
    • G03F1/24Reflection masks; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
TW113134209A 2023-10-10 2024-09-10 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法 TW202516600A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023174933 2023-10-10
JP2023-174933 2023-10-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202516600A true TW202516600A (zh) 2025-04-16

Family

ID=95395688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW113134209A TW202516600A (zh) 2023-10-10 2024-09-10 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPWO2025079375A1 (https=)
TW (1) TW202516600A (https=)
WO (1) WO2025079375A1 (https=)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7250511B2 (ja) * 2018-12-27 2023-04-03 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法
JP7318607B2 (ja) * 2020-07-28 2023-08-01 Agc株式会社 Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク、euvリソグラフィ用反射型マスク、およびそれらの製造方法
WO2023190360A1 (ja) * 2022-04-01 2023-10-05 Agc株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
JP2024013220A (ja) * 2022-07-19 2024-01-31 株式会社トッパンフォトマスク 反射型マスクの製造方法、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び反射型マスクブランクの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2025079375A1 (ja) 2025-04-17
JPWO2025079375A1 (https=) 2025-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI824663B (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法
TWI856466B (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法以及反射型光罩之製造方法
TW202403432A (zh) 反射型遮罩基底、反射型遮罩、反射型遮罩基底之製造方法、及反射型遮罩之製造方法
US20250004360A1 (en) Reflective mask blank and reflective mask
TW202503398A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法及反射型光罩之製造方法
TW202516600A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法
TW202403434A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法
WO2025120973A1 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
TW202449495A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法
US20260099090A1 (en) Reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask
JP2025037417A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
TW202429187A (zh) 反射型光罩基底、反射型光罩、反射型光罩基底之製造方法、及反射型光罩之製造方法
JP2024135499A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
JP2025116888A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
JP2025171653A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
JP2025162297A (ja) 反射型マスクブランクの製造方法
JP2026069718A (ja) 反射型マスクブランクおよび反射型マスク
JP2024156304A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法