JPWO2021101819A5 - - Google Patents

Claims (24)

1. 音響光学変調器（ＡＯＭ）レーザ周波数シフタシステムであって、
   入射ビームを生成するように構成されたレーザと、
   前記レーザに光学的に結合された第１光学スプリッタであって、前記第１光学スプリッタは、前記入射ビームを前記入射ビームの少なくとも１つの部分に分割するように構成されている、第１光学スプリッタと、
   前記第１光学スプリッタに光学的に結合された少なくとも１つの位相シフトチャネルであって、前記少なくとも１つの位相シフトチャネルは、ＡＯＭを含み、前記少なくとも１つの位相シフトチャネルは、前記入射ビームの前記少なくとも１つの部分を受取るように構成され、前記ＡＯＭは、前記入射ビームの前記少なくとも１つの部分から少なくとも１つの周波数被シフトビームを生成するように構成されている、少なくとも１つの位相シフトチャネルと、
   前記少なくとも１つの位相シフトチャネルから前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを受取るように構成された第２光学スプリッタであって、前記第２光学スプリッタは、前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを用いて試料の干渉図形を取得するように構成された干渉計に、前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを指向させるように構成されており、前記干渉計は、センサに通じる１つ又は複数の光学経路を備え、前記１つ又は複数の光学経路のうちの１つの光学経路は、１組の試験光学系を含み、前記１組の試験光学系は、前記試料を含む、第２光学スプリッタと、
   周波数被シフトフィードバック（ＦＳＦ）レーザシステムであり、前記干渉計に光学的に結合されることにより前記１つ又は複数の光学経路の光学経路長を測定し、前記１つ又は複数の光学経路の前記光学経路長を測定した後に前記干渉計から分離されるＦＳＦレーザシステムと、
   を備え、前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムは、前記ＦＳＦレーザシステムが分離された後に前記干渉計に光学的に結合される、
   ＡＯＭレーザ周波数シフタシステム。
2. 前記少なくとも１つの位相シフトチャネル及び前記少なくとも１つの周波数被シフトビームは、前記入射ビームの第１部分を受取るように構成された第１位相シフトチャネルと、前記入射ビームの第２部分を受取るように構成された第２位相シフトチャネルと、前記入射ビームの少なくとも第３部分を受取るように構成された少なくとも第３位相シフトチャネルと、を含む、請求項１に記載のＡＯＭレーザ周波数シフタシステム。
3. 前記第１位相シフトチャネルは、前記入射ビームの前記第１部分から第１周波数被シフトビームを生成するように構成され、前記第２位相シフトチャネルは、第２周波数被シフトビームを生成するように構成され、前記少なくとも第３位相シフトチャネルは、少なくとも第３周波数被シフトビームを生成するように構成されている、請求項２に記載のＡＯＭレーザ周波数シフタシステム。
4. 前記少なくとも１つの位相シフトチャネルの周波数は、同調可能である、請求項１に記載のＡＯＭレーザ周波数シフタシステム。
5. 前記第２光学スプリッタと前記干渉計との間に光学的に結合された基準検出器を更に備え、前記基準検出器は、前記入射ビーム内のパワー変動に関して前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを監視するように構成されている、請求項１に記載のＡＯＭレーザ周波数シフタシステム。
6. 方法であって、
   レーザ源を用いて入射ビームを生成するステップと、
   第１光学スプリッタを用いて前記入射ビームを前記入射ビームの少なくとも１つの部分に分割するステップと、
   前記第１光学スプリッタを用いて音響光学変調器（ＡＯＭ）レーザ周波数シフタシステムの少なくとも１つの位相シフトチャネル内に前記入射ビームの前記少なくとも１つの部分を指向させるステップと、
   前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムの前記少なくとも１つの位相シフトチャネル内でＡＯＭを用いて前記入射ビームの前記少なくとも１つの部分から少なくとも１つの周波数被シフトビームを生成するステップと、
   第２光学スプリッタを用いて前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを受取るステップと、
   前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを用いて試料の干渉図形を取得するように構成された干渉計に、前記第２光学スプリッタを介して前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを指向させるステップであり、前記干渉計は、センサに通じる１つ又は複数の光学経路を備え、前記１つ又は複数の光学経路のうちの１つの光学経路は、１組の試験光学系を含み、前記１組の試験光学系は、前記試料を含む、ステップと、
   周波数被シフトフィードバック（ＦＳＦ）レーザシステムを前記干渉計に光学的に結合するステップと、
   前記ＦＳＦレーザシステムで前記１つ又は複数の光学経路の光学経路長を測定するステップと、
   前記ＦＳＦレーザシステムを前記干渉計から分離するステップと、
   前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムを、前記ＦＳＦレーザシステムが分離された後に前記干渉計に光学的に結合するステップと、
   を含む方法。
7. 前記少なくとも１つの位相シフトチャネル及び前記少なくとも１つの周波数被シフトビームは、前記入射ビームの第１部分を受取るように構成された第１位相シフトチャネルと、前記入射ビームの第２部分を受取るように構成された第２位相シフトチャネルと、前記入射ビームの少なくとも第３部分を受取るように構成された少なくとも第３位相シフトチャネルと、を含む、請求項６に記載の方法。
8. 前記第１位相シフトチャネルは、前記入射ビームの前記第１部分から第１周波数被シフトビームを生成するように構成され、前記第２位相シフトチャネルは、第２周波数被シフトビームを生成するように構成され、前記少なくとも第３位相シフトチャネルは、少なくとも第３周波数被シフトビームを生成するように構成されている、請求項７に記載の方法。
9. 前記少なくとも１つの位相シフトチャネルの周波数は、同調可能である、請求項６に記載の方法。
10. 前記第２光学スプリッタと前記干渉計との間に光学的に結合された基準検出器を介して前記入射ビーム内のパワー変動に関して前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを監視するステップを更に含む、請求項６に記載の方法。
11. 特性評価システムであって、
    試料の干渉図形を取得するように構成された干渉計であり、センサに通じる１つ又は複数の光学経路を備え、前記１つ又は複数の光学経路のうちの１つの光学経路は、１組の試験光学系を含み、前記１組の試験光学系は、前記試料を含む、干渉計と、
    前記干渉計に光学的に結合された音響光学変調器（ＡＯＭ）レーザ周波数シフタシステムであって、前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムは、
    入射ビームを生成するように構成されたレーザ、
    前記レーザに光学的に結合された第１光学スプリッタであって、前記第１光学スプリッタは、前記入射ビームを前記入射ビームの少なくとも１つの部分に分割するように構成されている、第１光学スプリッタ、
    前記第１光学スプリッタに光学的に結合された少なくとも１つの位相シフトチャネルであって、前記少なくとも１つの位相シフトチャネルは、ＡＯＭを含み、前記少なくとも１つの位相シフトチャネルは、前記入射ビームの少なくとも１つの部分を受取るように構成され、前記ＡＯＭは、前記入射ビームの前記少なくとも１つの部分から少なくとも１つの周波数被シフトビームを生成するように構成されている、少なくとも１つの位相シフトチャネル、及び
    前記少なくとも１つの位相シフトチャネルから前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを受取るように構成された第２光学スプリッタであって、前記第２光学スプリッタは、前記干渉計に前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを指向させるように構成され、前記干渉計は、前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを用いて前記試料の前記干渉図形を取得するように構成されている、第２光学スプリッタと、
    周波数被シフトフィードバック（ＦＳＦ）レーザシステムであり、前記干渉計に光学的に結合されることにより前記１つ又は複数の光学経路の光学経路長を測定し、前記１つ又は複数の光学経路の前記光学経路長を測定した後に前記干渉計から分離されるＦＳＦレーザシステムと、
    を備える、ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムと、
    を備え、前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムは、前記ＦＳＦレーザシステムが分離された後に前記干渉計に光学的に結合される、特性評価システム。
12. 前記少なくとも１つの位相シフトチャネル及び前記少なくとも１つの周波数被シフトビームは、前記入射ビームの第１部分を受取るように構成された第１位相シフトチャネルと、前記入射ビームの第２部分を受取るように構成された第２位相シフトチャネルと、前記入射ビームの少なくとも第３部分を受取るように構成された少なくとも第３位相シフトチャネルと、を含む、請求項１１に記載の特性評価システム。
13. 前記第１位相シフトチャネルは、前記入射ビームの前記第１部分から第１周波数被シフトビームを生成するように構成され、前記第２位相シフトチャネルは、第２周波数被シフトビームを生成するように構成され、前記少なくとも第３位相シフトチャネルは、少なくとも第３周波数被シフトビームを生成するように構成されている、請求項１２に記載の特性評価システム。
14. 前記少なくとも１つの位相シフトチャネルの周波数は、同調可能である、請求項１１に記載の特性評価システム。
15. 前記第２光学スプリッタと前記干渉計との間に光学的に結合された基準検出器を更に備え、前記基準検出器は、前記入射ビーム内のパワー変動に関して前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを監視するように構成されている、請求項１１に記載の特性評価システム。
16. 前記センサは、２次元センサである、請求項１１に記載の特性評価システム。
17. 前記ＦＳＦレーザシステムが前記干渉計に光学的に結合されているときに、ミラーが前記干渉計内に設置され、前記ミラーは、前記ＦＳＦレーザシステムを用いて前記１つ又は複数の光学経路の前記光学経路長を測定した後に前記干渉計から除去され、前記センサは、前記ＦＳＦレーザシステムが分離された後に前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムが前記干渉計に光学的に結合されているときに、前記干渉計内に設置される、請求項１１に記載の特性評価システム。
18. 方法であって、
    レーザ源を用いて入射ビームを生成するステップと、
    第１光学スプリッタを用いて前記入射ビームを前記入射ビームの少なくとも１つの部分に分割するステップと、
    前記第１光学スプリッタを用いて音響光学変調器（ＡＯＭ）レーザ周波数シフタシステムの少なくとも１つの位相シフトチャネル内に前記入射ビームの前記少なくとも１つの部分を指向させるステップと、
    前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムの前記少なくとも１つの位相シフトチャネル内でＡＯＭを用いて前記入射ビームの前記少なくとも１つの部分から少なくとも１つの周波数被シフトビームを生成するステップと、
    第２光学スプリッタを用いて前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを受取るステップと、
    前記第２光学スプリッタを介して干渉計に前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを指向させるステップであり、前記干渉計は、センサに通じる１つ又は複数の光学経路を備え、前記１つ又は複数の光学経路のうちの１つの光学経路は、１組の試験光学系を含み、前記１組の試験光学系は、前記試料を含む、ステップと、
    周波数被シフトフィードバック（ＦＳＦ）レーザシステムを前記干渉計に光学的に結合するステップと、
    前記ＦＳＦレーザシステムで前記１つ又は複数の光学経路の光学経路長を測定するステップと、
    前記ＦＳＦレーザシステムを前記干渉計から分離するステップと、
    前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムを、前記ＦＳＦレーザシステムが分離された後に前記干渉計に光学的に結合するステップと、
    前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを用いて前記干渉計内の前記試料の干渉図形を取得するステップと、
    を含む方法。
19. 前記少なくとも１つの位相シフトチャネル及び前記少なくとも１つの周波数被シフトビームは、前記入射ビームの第１部分を受取るように構成された第１位相シフトチャネルと、前記入射ビームの第２部分を受取るように構成された第２位相シフトチャネルと、前記入射ビームの少なくとも第３部分を受取るように構成された少なくとも第３位相シフトチャネルと、を含む、請求項１８に記載の方法。
20. 前記第１位相シフトチャネルは、前記入射ビームの前記第１部分から第１周波数被シフトビームを生成するように構成され、前記第２位相シフトチャネルは、第２周波数被シフトビームを生成するように構成され、前記少なくとも第３位相シフトチャネルは、少なくとも第３周波数被シフトビームを生成するように構成されている、請求項１９に記載の方法。
21. 前記少なくとも１つの位相シフトチャネルの周波数は、同調可能である、請求項１８に記載の方法。
22. 前記第２光学スプリッタと前記干渉計との間に光学的に結合された基準検出器を介して、前記入射ビーム内のパワー変動に関して前記少なくとも１つの周波数被シフトビームを監視するステップを更に含む、請求項１８に記載の方法。
23. 前記センサは、２次元センサである、請求項１８に記載の方法。
24. 前記ＦＳＦレーザシステムが前記干渉計に光学的に結合されているときに、前記干渉計内部にミラーを設置するステップと、
    前記ＦＳＦレーザシステムを用いて前記１つ又は複数の光学経路の前記光学経路長を測定した後に、前記干渉計から前記ミラーを除去するステップと、
    前記ＦＳＦレーザシステムが分離された後に前記ＡＯＭレーザ周波数シフタシステムが前記干渉計に光学的に結合されているときに、前記干渉計内に前記センサを設置するステップと、
    を更に含む、請求項１８に記載の方法。