JPWO2021039911A5 - - Google Patents

Claims (4)

1. 真空浸炭炉内で鋼材に対して真空浸炭処理を実施する真空浸炭処理方法であって、
   前記鋼材を浸炭温度に加熱する加熱工程と、
   前記加熱工程後、前記鋼材を前記浸炭温度で均熱する均熱工程と、
   前記均熱工程後、アセチレンガスである浸炭ガスを前記真空浸炭炉内に供給しながら、前記鋼材を前記浸炭温度で保持する浸炭工程と、
   前記浸炭工程後、前記真空浸炭炉内への前記浸炭ガスの供給を停止し、前記鋼材を前記浸炭温度で保持する拡散工程と、
   前記拡散工程後の前記鋼材に対して焼入れを実施する焼入れ工程と、
   を備え、
   前記浸炭工程において、
   前記真空浸炭炉内に供給される前記浸炭ガスの流量を、実際浸炭ガス流量と定義し、
   前記鋼材の前記真空浸炭処理に必要な前記浸炭ガスの流量を、理論浸炭ガス流量と定義し、
   前記浸炭工程の完了時間をｔａと定義し、
   前記浸炭工程の開始後、アセチレン分圧が水素分圧の０．８倍以上となる最初の時間をｔ０と定義したとき、
   前記浸炭工程は、
   前記真空浸炭炉内の雰囲気中の前記水素分圧及び前記アセチレン分圧を継続的に測定して前記時間ｔ０を特定する分圧測定工程と、
   前記浸炭工程の開始から時間ｔ０までの前期浸炭工程と、
   前記時間ｔ０から時間ｔａまでの後期浸炭工程と、
   を含み、
   前記前期浸炭工程では、
   前記実際浸炭ガス流量を、時間ｔａ／１０での前記理論浸炭ガス流量以上、かつ、前記浸炭工程の開始から４秒時点での前記理論浸炭ガス流量以下とし、
   前記後期浸炭工程では、
   前記前期浸炭工程の前記実際浸炭ガス流量をＦＡと定義し、前記浸炭工程の開始時からの時間を時間ｔと定義したとき、
   前記時間ｔ０～時間４ｔ０の期間における前記実際浸炭ガス流量を、ＦＡ√（ｔ０／ｔ）以上、かつ、ＦＡ以下とし、
   前記時間４ｔ０～前記時間ｔａまでの前記実際浸炭ガス流量を、ＦＡ√（ｔ０／ｔ）以上、かつ、２ＦＡ√（ｔ０／ｔ）以下、とする、
   真空浸炭処理方法。
2. 請求項１に記載の真空浸炭処理方法であって、
   前記後期浸炭工程では、
   前記時間４ｔ０～時間ｔａの期間において、時間の経過とともに、（Ａ）又は（Ｂ）の方法で前記実際浸炭ガス流量を低減する、
   真空浸炭処理方法。
   （Ａ）前記実際浸炭ガス流量の維持と低減とを繰り返し、段階的に前記実際浸炭ガス流量を低減する、
   （Ｂ）前記実際浸炭ガス流量を、時間の経過とともに漸減する。
3. 請求項１又は請求項２に記載の真空浸炭処理方法であって、
   前記理論浸炭ガス流量は、拡散方程式を用いた拡散シミュレーションに基づいて決定される、
   真空浸炭処理方法。
4. 浸炭部品の製造方法であって、
   前記鋼材に対して、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の真空浸炭処理方法を実施する工程を備える、
   浸炭部品の製造方法。