JPWO2020136982A1 - 殺菌水、殺菌水の製造方法及び殺菌済物体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
高い殺菌力を有し高い安全性を有し強いオゾン臭を発生しない殺菌水を提供する。殺菌水は、水、オゾン、過酸化水素、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを含む。オゾン、過酸化水素、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルは、水に溶解している。殺菌水は、接触した物体を殺菌する殺菌力を有する。
Description
本発明は、殺菌水、殺菌水の製造方法及び殺菌済物体の製造方法に関する。
水及びオゾンを含みオゾンが水に溶解しているオゾン水は、接触した物体を殺菌する殺菌力を有する。しかし、オゾンは粘膜を侵す等人体に対して有害であるため、オゾン水は高い安全性を有しない。また、オゾンは強いオゾン臭を有し水に対して低い溶解度しか有しないため、オゾン水は強いオゾン臭を発生する。そこで、オゾン水に代えて用いることができる、高い殺菌力を有し高い安全性を有し強いオゾン臭を発生しない殺菌水が求められている。
特許文献1に記載された技術においては、酸素が還元され過酸化水素が発生する(段落0032)。また、水が酸化されオゾンが発生する(段落0032)。発生した過酸化水素及びオゾンは、純水に溶解させられる(段落0032)。過酸化水素水及びオゾン水が混合され、促進酸化処理水が取り出される(段落0032)。促進酸化処理水は、強力な酸化作用を有する(段落0033)。特許文献1によれば、促進酸化処理水が強力な酸化作用を有するのは、オゾンの酸化分解能力が強く、過酸化水素を加えることでより酸化力を強めることができるためである(段落0003)。
本発明は、オゾン水に代えて用いることができる、高い殺菌力を有し高い安全性を有し強いオゾン臭を発生しない殺菌水が求められていることに鑑みてなされた。本発明が解決しようとする課題は、高い殺菌力を有し高い安全性を有し強いオゾン臭を発生しない殺菌水を提供することである。
本発明は、接触した物体を殺菌する殺菌力を有する殺菌水に向けられる。
殺菌水は、水、オゾン、過酸化水素、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを含む。オゾン、過酸化水素、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルは、水に溶解している。
また、本発明は、接触した物体を殺菌する殺菌力を有する殺菌水の製造方法にも向けられる。
殺菌水の製造方法においては、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液が作製される。また、溶液中でオゾン及び過酸化水素が互いに反応させられてヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが生成する。これにより、溶液が、水、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを含みヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが水に溶解している殺菌水に変化する。
また、本発明は、殺菌済物体の製造方法にも向けられる。
殺菌済物体の製造方法においては、上述した殺菌水の製造方法により殺菌水が製造される。また、殺菌水が物体に接触させられる。これにより、物体が殺菌済物体に変化する。
本発明によれば、短い寿命しか有しないヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが、長い寿命を有するオゾン及び過酸化水素から生成する。このため、殺菌水は、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが短い寿命しか有しないにもかかわらず、高いヒドロキシラジカル濃度及び高いヒドロペルオキシドラジカル濃度を有する。また、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルは、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水に付与する殺菌因子となる。これらにより、高い殺菌力を有する殺菌水を提供することができる。
また、本発明によれば、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水に付与する殺菌因子となる。このため、殺菌水は、高いオゾン濃度を有しなくてもよい。また、本発明によれば、オゾンがヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを生成するために消費される。このため、殺菌水は、高いオゾン濃度を有しない。これらにより、高い安全性を有し強いオゾン臭を発生しない殺菌水を提供することができる。
この発明の目的、特徴、局面及び利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。
1 第1実施形態
1.1 殺菌水の製造方法
図1は、第1実施形態の殺菌水の製造方法を説明する図である。
1.1 殺菌水の製造方法
図1は、第1実施形態の殺菌水の製造方法を説明する図である。
第1実施形態の殺菌水の製造方法においては、図1に図示されるように、水(H2O)及びオゾン(O3)を含みオゾンが水に溶解しているオゾン水10が作製される。また、水及び過酸化水素(H2O2)を含み過酸化水素が水に溶解している過酸化水素水11が作製される。
続いて、作製されたオゾン水10及び過酸化水素水11が互いに混合される。これにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液12が作製される。オゾン水10及び過酸化水素水11を経由せずに溶液12が作製されてもよい。
続いて、溶液12中でオゾン及び過酸化水素を互いに反応させてヒドロキシラジカル(OH*)及びヒドロペルオキシドラジカル(HO2 *)を生成する。これにより、溶液12は、水、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを含みヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが水に溶解している殺菌水13に変化する。ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルは、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水13に付与する殺菌因子となる。このため、殺菌水13は、接触した物体を殺菌する殺菌力を有する。
殺菌水13は、殺菌因子14となるヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルに加えて、殺菌因子14の前駆体15となるオゾン及び過酸化水素を含む。このため、殺菌水13中では、殺菌因子14の前駆体15となるオゾン及び過酸化水素が互いに反応して殺菌因子14となるヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが生成する反応が進行している。
溶液12中のオゾンのモル濃度に対する溶液12中の過酸化水素のモル濃度の比は、望ましくは、0.5以上10以下である。これにより、溶液12中のオゾンのモル濃度が、強いオゾン臭を発生しない低い濃度である場合においても、高い殺菌力を有する殺菌水13を得ることができる。
1.2 殺菌水が製造される際の溶液中の各成分の濃度の時間変化
図2は、第1実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水が製造される際の溶液中の各成分の濃度の時間変化の概略を示すグラフである。
図2は、第1実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水が製造される際の溶液中の各成分の濃度の時間変化の概略を示すグラフである。
第1実施形態の殺菌水13の製造方法により殺菌水13が製造される際には、オゾン及び過酸化水素が互いに反応しヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドが生成する。このため、図2に示されるように、溶液12が作製されたタイミングT1から時間が経過するにつれて溶液12中のオゾン濃度及び過酸化水素濃度が低下し、タイミングT2に溶液12中のオゾン濃度及び過酸化水素濃度の少なくとも一方が0になる。なお、図2には、タイミングT2に溶液12中のオゾン濃度のみが0になる例が示されている。このため、タイミングT1からタイミングT2までの期間においては、溶液12中のヒドロキシラジカル濃度及びヒドロペルオキシドラジカル濃度が緩やかに減少するが、タイミングT2より後の期間においては、溶液12中のヒドロキシラジカル濃度及びヒドロペルオキシドラジカル濃度が急に減少する。なお、オゾン水10が過酸化水素水11と混合されずに放置された場合は、オゾン水10中のオゾン濃度は、少なくとも30分程度はそのまま維持される。
1.3 殺菌済物体の製造方法
図3は、第1実施形態の殺菌水の製造方法により製造される殺菌水を利用する殺菌済物体の製造方法を示すフローチャートである。
図3は、第1実施形態の殺菌水の製造方法により製造される殺菌水を利用する殺菌済物体の製造方法を示すフローチャートである。
第1実施形態の殺菌水13の製造方法により製造される殺菌水13を利用する殺菌済物体の製造方法においては、図3に示されるように、ステップS101において、第1実施形態の殺菌水13の製造方法により殺菌水13が製造される。
続くステップS102においては、製造された殺菌水13が殺菌される物体に接触させられる。これにより、殺菌水13に含まれるヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが殺菌される物体に作用し、殺菌される物体が殺菌され殺菌済物体に変化する。
ステップS102は、図2に示されるタイミングT1からタイミングT2までの期間に実行される。これにより、ステップS102が、オゾン及び過酸化水素が互いに反応しヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが生成する反応の進行中に実行される。
1.4 溶液及び殺菌水の液性
溶液12及び殺菌水13は、望ましくは5より大きい水素イオン濃度指数(pH)を有し、さらに望ましくは7より大きいpHを有する。これにより、殺菌水13の殺菌力を向上することができる。また、溶液12及び殺菌水13は、望ましくは9より小さいpHを有する。溶液12及び殺菌水13が9以上のpHを有する場合は、オゾンと過酸化水素との反応が速く進み、得られる液体を間接処理のための殺菌水13として使用することが困難になる傾向が現れるためである。このため、溶液12及び殺菌水13は、望ましくは5より大きく9より小さいpHを有し、さらに望ましくは7より大きく9より小さいpHを有する。
溶液12及び殺菌水13は、望ましくは5より大きい水素イオン濃度指数(pH)を有し、さらに望ましくは7より大きいpHを有する。これにより、殺菌水13の殺菌力を向上することができる。また、溶液12及び殺菌水13は、望ましくは9より小さいpHを有する。溶液12及び殺菌水13が9以上のpHを有する場合は、オゾンと過酸化水素との反応が速く進み、得られる液体を間接処理のための殺菌水13として使用することが困難になる傾向が現れるためである。このため、溶液12及び殺菌水13は、望ましくは5より大きく9より小さいpHを有し、さらに望ましくは7より大きく9より小さいpHを有する。
pHの調整は、溶液12及び殺菌水13を緩衝液とすることにより行われてもよいし、クエン酸、水酸化ナトリウム等を水に溶解させることにより行われてもよいし、イオン交換膜を介して水を電気分解することにより行われてもよい。イオン交換膜を介して水を電気分解することにおりpHの調整が行われる場合は、pHの調整のための試薬が不要になる。
1.5 第1実験例
第1実施形態の殺菌水13の製造方法により殺菌水13を製造した。
第1実施形態の殺菌水13の製造方法により殺菌水13を製造した。
オゾン水10は、生成装置から生成したオゾン水を水道水で希釈することにより作製した。過酸化水素水11は、市販の過酸化水素水の試薬を水道水で希釈することにより作製した。溶液12中のオゾン濃度は、8.3×10−4mmol/リットルとした。溶液12中の過酸化水素濃度は、溶液12中のオゾン濃度である8.3×10−4mmol/リットルの4倍から10000倍までの範囲とした。溶液12及び殺菌水13のpHは、7とした。
製造した殺菌水13について、溶液12中のオゾン濃度に対する溶液12中の過酸化水素濃度の比による殺菌桁数及びオゾン減少率の変化を測定した。
殺菌桁数の測定においては、殺菌前の菌液中の大腸菌数を測定した。また、製造した殺菌水13を菌液に混合して30秒かけて菌液の殺菌を行い、殺菌後の菌液中の大腸菌数を測定した。また、殺菌桁数は、殺菌前の大腸菌数に対する殺菌後の大腸菌数の比の常用対数の絶対値をとることにより得た。
オゾン減少率の測定においては、作製された直後の溶液12中のオゾン濃度を測定した。また、作製されてから5分が経過した時点の溶液12中のオゾン濃度を測定した。オゾン減少率は、前者のオゾン濃度に対する、前者のオゾン濃度と後者のオゾン濃度との差の比をとることにより得た。
溶液12中のオゾン濃度に対する溶液12中の過酸化水素濃度の比による殺菌桁数及びオゾン減少率の変化の測定の結果を図4のグラフに示す。
図4に示されるように、殺菌桁数は、当該比が概ね4倍以上約1000倍以下である場合は、概ね2以上3以下となるが、当該比が概ね1000倍以上である場合は、概ね0となる。
一方、オゾン減少率は、当該比が概ね4倍以上500倍以下である場合は、概ね20%以下となるが、当該比が概ね500倍以上10000倍以下である場合は、概ね90%以上となる。
したがって、当該比が概ね500倍以上1000倍以下である場合は、高い殺菌力を有し高い安全性を有し強いオゾン臭を発生しない殺菌水13を得ることができる。ただし、当該殺菌水13を得ることができる比の範囲は、上述した「30秒」及び「5分」という時間が延長又は短縮された場合は変化する。
なお、溶液12及び殺菌水13のpHを8とした場合は、殺菌桁数を定量的に測定することができないほど殺菌水13の殺菌力が著しく上昇した。
1.6 第2実験例
第1実施形態の殺菌水13の製造方法により殺菌水13を製造した。
第1実施形態の殺菌水13の製造方法により殺菌水13を製造した。
オゾン水10は、オゾナイザーで生成したオゾンを脱イオン水にバブリングすることにより作製した。過酸化水素水11は、市販の過酸化水素水の試薬を脱イオン水で希釈することにより作製した。溶液12中のオゾン濃度は、8.3×10−4mmol/リットルとした。溶液12中の過酸化水素濃度は、溶液12中のオゾン濃度である8.3×10−4mmol/リットルの0.49倍から204倍までの範囲とした。溶液12及び殺菌水13のpHは、7とした。
製造した殺菌水13について、第1実験例と同様に、溶液12中のオゾン濃度に対する溶液12中の過酸化水素濃度の比による殺菌桁数の変化を測定した。
溶液12中のオゾン濃度に対する溶液12中の過酸化水素濃度の比による殺菌桁数の変化の測定の結果を図5のグラフに示す。
図5に示されるように、殺菌桁数は、当該比が概ね0.5以上10以下である場合は、概ね検出限界に達する6となるが、当該比が概ね0.5より小さい又は10より大きい場合は、概ね2以上5以下となる。
したがって、当該比が概ね0.5以上10以下である場合は、高い殺菌力を有する殺菌水13を得ることができる。なお、第2実験例において測定された殺菌桁数が第1実験例において測定された殺菌桁数より著しく大きいのは、第1実験例においては塩素を含む水道水を用いていたが、第2実験例においては塩素を含まない脱イオン水を用いたため、塩素の影響でオゾンが失われることがなくなったためである。
1.7 第1実施形態の効果
第1実施形態によれば、数μ秒から数m秒程度の短い寿命しか有しないヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが、長い寿命を有するオゾン及び過酸化水素から生成する。このため、殺菌水13は、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが短い寿命しか有しないにもかかわらず、高いヒドロキシラジカル濃度及び高いヒドロペルオキシドラジカル濃度を有する。また、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルは、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水13に付与する殺菌因子14となる。これらにより、高い殺菌力を有する殺菌水13を提供することができる。
第1実施形態によれば、数μ秒から数m秒程度の短い寿命しか有しないヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが、長い寿命を有するオゾン及び過酸化水素から生成する。このため、殺菌水13は、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが短い寿命しか有しないにもかかわらず、高いヒドロキシラジカル濃度及び高いヒドロペルオキシドラジカル濃度を有する。また、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルは、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水13に付与する殺菌因子14となる。これらにより、高い殺菌力を有する殺菌水13を提供することができる。
また、第1実施形態によれば、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水に付与する殺菌因子14となる。このため、殺菌水13は、高いオゾン濃度を有しなくてもよい。また、第1実施形態によれば、オゾンがヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを生成するために消費される。このため、殺菌水13は、高いオゾン濃度を有しない。これらにより、高い安全性を有し強いオゾン臭を発生しない殺菌水13を提供することができる。
2 第2実施形態
2.1 第1実施形態と第2実施形態との相違
第2実施形態の殺菌水13の製造方法は、主に下記の点で第1実施形態の殺菌水13の製造方法と相違する。
2.1 第1実施形態と第2実施形態との相違
第2実施形態の殺菌水13の製造方法は、主に下記の点で第1実施形態の殺菌水13の製造方法と相違する。
第1実施形態の殺菌水13の製造方法においては、オゾン水10及び過酸化水素水11を互いに混合することにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液12が作製される。これに対して、第2実施形態の殺菌水13の製造方法においては、水中にキャビテーションバブルを発生させキャビテーションバブルが発生させられる空間に放電プラズマを発生させることにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液12が作製される。これにより、第2実施形態の殺菌水13の製造方法においては、試薬を用いることなく、水から殺菌水13を製造することができる。
2.2 殺菌水の製造装置
図6は、第2実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する際に使用される殺菌水の製造装置を模式的に図示する図である。
図6は、第2実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する際に使用される殺菌水の製造装置を模式的に図示する図である。
図6に図示される殺菌水13の製造装置100は、環状管110、リアクタ112、冷却器114及びポンプ116を備える。殺菌水の製造装置100がこれらの要素以外の要素を備えてもよい。
環状管110は、環状水路を有する。環状管110内の環状水路には、水が循環する。環状管110が管ではない部材に置き換えられてもよい。例えば、環状管110が環状ホースに置き換えられてもよい。
環状管110には、リアクタ112、冷却器114及びポンプ116が挿入される。このため、環状管110内の環状水路を循環する水は、リアクタ112、冷却器114及びポンプ116を順次に通過する。リアクタ112は、リアクタ112を通過する水を処理する。冷却器114は、冷却器114を通過する水を冷却する。ポンプ116は、ポンプ116を通過する水に流れを与える。これにより、冷却器114により冷却された水がリアクタ112により繰り返し処理され、処理された水中にオゾン及び過酸化水素が生成し、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液12が作製される。作製された溶液12は、第1実施形態と同様に、殺菌水13に変化する。製造された殺菌水13は、第1実施形態の殺菌水13の製造方法により製造される殺菌水13と同様に使用することができる。
製造装置100は、分岐管118及びバルブ120をさらに備える。
分岐管118は、分岐水路を有する。分岐管118内の分岐水路は、環状管110内の環状水路から殺菌水13の製造装置100の外部に至る。製造された殺菌水13は、分岐管118内の分岐水路を経由して製造装置100の外部に取り出される。分岐管118が管ではない部材に置き換えられてもよい。例えば、分岐管118が分岐ホースに置き換えられてもよい。分岐管118が省略され、殺菌水13が環状管110に形成された孔を経由して製造装置100の外部に取り出されてもよい。
分岐管118には、バルブ120が挿入される。バルブ120が閉じられている間は、環状管110内の環状水路内の水が製造装置100の外部に取り出されることなく環状管110内の環状水路を循環する。バルブ120が開かれている間は、殺菌水13を分岐管118内の分岐水路を経由して製造装置100の外部に取り出すことができる。
製造装置100は、パルス電圧印加回路122をさらに備える。
パルス電圧印加回路122は、リアクタ112にパルス電圧を印加する。リアクタ112は、印加されたパルス電圧を用いてリアクタ112を通過する水を処理する。
パルス電圧印加回路122は、パルス電源130、第1の配線132及び第2の配線134を備える。
パルス電源130は、負極140及び正極142を備える。パルス電源130は、負極140と正極142との間にパルス電圧を発生させる。
第1の配線132及び第2の配線134は、発生したパルス電圧をパルス電源130からリアクタ112に伝送する。これにより、リアクタ112には、伝送されてきたパルス電圧が印加される。パルス電源130を備えリアクタ112にパルス電圧を印加するパルス電圧印加回路122が、他の種類の電圧印加回路に置き換えられてもよい。例えば、パルス電圧印加回路122が、直流(DC)電源を備えリアクタ112にDC電圧を印加するDC電圧印加回路、交流(AC)電源を備えリアクタ112にAC電圧を印加するAC電圧印加回路等に置き換えられてもよい。
2.3 リアクタ
図7は、第2実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する際に使用される殺菌水の製造装置に備えられるリアクタの断面を模式的に図示する断面図である。
図7は、第2実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する際に使用される殺菌水の製造装置に備えられるリアクタの断面を模式的に図示する断面図である。
リアクタ112は、図7に図示されるように、筒状構造体150を備える。筒状構造体150は、リアクタ内水路160を有する。リアクタ内水路160は、環状管110内の環状水路に接続される。これにより、リアクタ112を通過する水Wは、リアクタ内水路160を流れる。
筒状構造体150は、ノズル170を備える。
ノズル170は、オリフィス形状を有する。このため、リアクタ112を通過する水Wがノズル170を通過する際には、水Wの流速が速くなり、水Wの圧力が低くなる。また、リアクタ112を通過する水Wがノズル170を通過した後には、水Wの流速が遅くなり、水Wの圧力が高くなる。これにより、ノズル170の付近においては、キャビテーションが発生する。すなわち、水Wがノズル170を通過する際には、水Wの圧力が低くなることにより、水Wが沸騰し、水W中にキャビテーションバブル180が発生する。また、水Wがノズル170を通過した後には、水Wの圧力が高くなることにより、発生したキャビテーションバブル180が消滅する。したがって、ノズル170は、水W中にキャビテーションバブル180を発生させる。また、リアクタ112は、キャビテーションバブル180が発生させられる空間を有する。当該空間は、ノズル170の付近にある。キャビテーションバブル180を発生させるノズル170が、キャビテーションバブル180を発生させる他の種類の障害物に置き換えられてもよい。
リアクタ112は、第1の電極190及び第2の電極192を備える。
第1の電極190は、図6に図示されるように、第1の配線132を介して電気的に接地され、第1の配線132を介してパルス電源130の負極140に電気的に接続される。第2の電極192は、第2の配線134を介してパルス電源130の正極142に電気的に接続される。これにより、第1の電極190が接地電極となり、第2の電極192が高圧電極となり、第1の電極190と第2の電極192との間にパルス電圧が印加され、第1の電極190と第2の電極192との間に放電プラズマが発生する。第1の配線132が省略され、第1の電極190が負極140に直結されてもよい。第2の配線134が省略され、第2の電極192が正極142に直結されてもよい。
第1の電極190及び第2の電極192は、ノズル170の付近に配置される。これにより、キャビテーションバブル180が発生させられる空間に第1の電極190及び第2の電極192が配置され、キャビテーションバブル180が発生させられる空間に放電プラズマが発生する。したがって、第1の電極190、第2の電極192及びパルス電圧印加回路122は、当該空間に放電プラズマを発生させる放電プラズマ発生機構200を構成する。第2実施形態においては、第1の電極190及び第2の電極192は、ノズル170より下流側に配置される。第1の電極190及び第2の電極192がノズル170内に配置されてもよい。
キャビテーションバブル180が発生させられる空間に発生した放電プラズマは、キャビテーションバブル180内にオゾン及び過酸化水素を生成する。オゾン及び過酸化水素は、試薬を用いることなく、水Wから生成される。生成したオゾン及び過酸化水素は、水Wに溶解し、互いに反応してヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを生成する。これにより、水、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを含みヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが水に溶解している殺菌水13が製造される。
キャビテーションバブル180は、主に水蒸気からなり、空気に由来する窒素をほとんど含まない。このため、キャビテーションバブル180が発生させられる空間に放電プラズマが発生した場合においても、窒素酸化物等の窒素を含む化合物はほとんど生成しない。このため、製造される殺菌水13は、高い安全性を有する。
第1の電極190及び第2の電極192は、導電体からなり、例えば金属又は合金からなる。第1の電極190及び第2の電極192が、導電体、及び導電体の表面の一部を被覆するセラミックスを備える電極であってもよい。
第1の電極190及び第2の電極192は、棒状の形状を有し、筒状構造体150の径方向に延びる。第1の電極190及び第2の電極192の前端部は、リアクタ内水路160内に配置される。第1の電極190及び第2の電極192の後端部は、筒状構造体150の外部に配置される。第1の電極190及び第2の電極192の前端部は、筒状構造体150の軸方向すなわち水Wが流れる方向に互いに離される。
第1の電極190と第2の電極192との間の距離は、望ましくは4mm以上32mm以下である。
第1の電極190と第2の電極192との間にパルス電圧が印加されることにより、第1の電極190と第2の電極192との間の距離を長くすることができる。例えば、第1の電極190と第2の電極192との間に交流電圧が印加される場合は、第1の電極190と第2の電極192との間の距離を16mm以上にすることが困難であるが、第1の電極190と第2の電極192との間にパルス電圧が印加される場合は、第1の電極190と第2の電極192との間の距離を16mm以上にすることが容易である。
パルス電圧のピーク電圧、パルス電圧のパルス幅、ポンプ116の吐出圧等は、オゾン及び過酸化水素が効率的に生成するように決められる。
2.4 殺菌水の製造
製造装置100により殺菌水が製造される際は、環状管110内の環状水路に水Wが満たされる。満たされる水Wは、純水であってもよいし、水道水等の若干の不純物を含む水であってもよい。
製造装置100により殺菌水が製造される際は、環状管110内の環状水路に水Wが満たされる。満たされる水Wは、純水であってもよいし、水道水等の若干の不純物を含む水であってもよい。
続いて、バルブ120が閉じられる。
続いて、ポンプ116が動作させられる。これにより、水Wが環状管110内の環状水路を循環し、キャビテーションバブル180が発生する。ポンプ116の吐出圧は、望ましくは0.1MPa以上1.5MPa以下である。
続いて、冷却器114が動作させられる。これにより、循環する水Wが望ましくは約4℃まで冷却される。
続いて、パルス電源130が動作させられる。これにより、パルス電圧が第1の電極190と第2の電極192との間に印加され、キャビテーションバブル180が発生させられる空間に放電プラズマが発生する。パルス電圧の周波数は、望ましくは10kHz以下である。パルス電圧のピーク電圧は、望ましくは15kV以下である。パルス電圧のパルス幅は、望ましくは半値全幅で1μ秒以下である。
発生した放電プラズマは、オゾン及び過酸化水素を生成する。オゾン及び過酸化水素は、互いに反応してヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを生成する。これにより、殺菌水13が製造される。
続いて、バルブ120が開けられる。
続いて、製造された殺菌水13が分岐管118内の分岐水路を経由して製造装置100の外部に取り出される。
製造装置100によれば、水W中にキャビテーションバブル180を発生させキャビテーションバブル180が発生させられる空間に放電プラズマを発生させる処理が水Wに対して繰り返し行われる。これにより、高いヒドロキシラジカル濃度及び高いヒドロペルオキシドラジカル濃度を有する殺菌水13を製造することができる。
また、製造装置100によれば、水Wが冷却されることにより、オゾン、過酸化水素、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルの水Wへの溶解度を高くし、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルの寿命を長くすることができる。
2.5 実験例
製造装置100を使用して殺菌水13を製造した。
製造装置100を使用して殺菌水13を製造した。
水Wの量は、0.8リットルとした。第1の電極190と第2の電極192との間の距離は、32mmとした。パルス電圧の周波数は、5kHzとした。パルス電圧のパルス幅は、半値全幅で1μ秒以下とした。水Wに投入されたエネルギー密度は、42000J/リットルとした。溶液12及び殺菌水13のpHは、7とした。
製造された殺菌水13について、殺菌桁数を測定した。
殺菌桁数の測定においては、殺菌前の菌液中の大腸菌数を測定した。また、製造した殺菌水13を菌液に混合して20分かけて菌液の殺菌を行い、殺菌後の菌液中の大腸菌数を測定した。また、殺菌桁数は、殺菌前の大腸菌数に対する殺菌後の大腸菌数の比の常用対数の絶対値をとることにより得た。
測定された殺菌桁数は、2.5桁であった。
また、製造された殺菌水13中のオゾン濃度及び過酸化水素濃度を測定した。殺菌水中のオゾン濃度は、測定限界以下であった。殺菌水13中の過酸化水素濃度は、200ppmであった。
殺菌力を有する殺菌水13が得られていること、及び過酸化水素が存在していることから、実施の形態2の殺菌水13の製造方法においても、オゾン及び過酸化水素からヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが生成していると推定される。
2.6 変形例
製造装置100以外の製造装置により殺菌水13が製造されてもよい。例えば、空気を水中に放出することにより水中にバブルを発生させバブルが発生させられる空間に放電プラズマを発生させることにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液を作製する製造装置により殺菌水13が製造されてもよい。
製造装置100以外の製造装置により殺菌水13が製造されてもよい。例えば、空気を水中に放出することにより水中にバブルを発生させバブルが発生させられる空間に放電プラズマを発生させることにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液を作製する製造装置により殺菌水13が製造されてもよい。
2.7 第2実施形態の効果
第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、数μ秒から数m秒程度の短い寿命しか有しないヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが、長い寿命を有するオゾン及び過酸化水素から生成する。このため、殺菌水13は、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが短い寿命しか有しないにもかかわらず、高いヒドロキシラジカル濃度及びヒドロペルオキシドラジカル濃度を有する。また、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルは、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水13に付与する殺菌因子となる。これらにより、高い殺菌力を有する殺菌水13を提供することができる。
第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、数μ秒から数m秒程度の短い寿命しか有しないヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが、長い寿命を有するオゾン及び過酸化水素から生成する。このため、殺菌水13は、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが短い寿命しか有しないにもかかわらず、高いヒドロキシラジカル濃度及びヒドロペルオキシドラジカル濃度を有する。また、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルは、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水13に付与する殺菌因子となる。これらにより、高い殺菌力を有する殺菌水13を提供することができる。
また、第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが、接触した物体を殺菌する殺菌力を殺菌水13に付与する殺菌因子となる。このため、殺菌水13は、高いオゾン濃度を有しなくてもよい。また、第2実施形態によれば、オゾンがヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを生成するために消費される。このため、殺菌水13は、高いオゾン濃度を有しない。これらにより、高い安全性を有し強いオゾン臭を発生しない殺菌水13を提供することができる。
3 第3実施形態
3.1 第2実施形態と第3実施形態との相違
第3実施形態の殺菌水13の製造方法は、主に下記の点で第2実施形態の殺菌水13の製造方法と相違する。
3.1 第2実施形態と第3実施形態との相違
第3実施形態の殺菌水13の製造方法は、主に下記の点で第2実施形態の殺菌水13の製造方法と相違する。
第2実施形態の殺菌水13の製造方法においては、水中にキャビテーションバブルを発生させキャビテーションバブルが発生させられる空間に放電プラズマを発生させることにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液12が作製される。これに対して、第3実施形態の殺菌水13の製造方法においては、水中にキャビテーションバブルを発生させキャビテーションバブルが発生させられる空間に放電プラズマを発生させることにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している混合前溶液が作製される。また、作製された混合前溶液にオゾン水を混合することにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液12が作製される。
3.2 殺菌水の製造装置
図8は、第3実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する際に使用される殺菌水の製造装置を模式的に図示する図である。
図8は、第3実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する際に使用される殺菌水の製造装置を模式的に図示する図である。
図8に図示される殺菌水13の製造装置201は、図6に図示される殺菌水13の製造装置100と同じく、環状管110、リアクタ112、冷却器114、ポンプ116、分岐管118及びバルブ120を備える。
また、製造装置201は、図6に図示される殺菌水13の製造装置100と異なり、オゾナイザー210をさらに備える。
オゾナイザー210は、オゾン水を生成し、生成したオゾン水を分岐管118内の分岐水路に供給する。これにより、冷却器114により冷却された水がリアクタ112により繰り返し処理され、処理された水中にオゾン及び過酸化水素が生成し、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している混合前溶液が作製される。また、作製された混合前溶液に、殺菌因子を生成し長い寿命を有するオゾンを含むオゾン水が混合される。これにより、高い殺菌力を有する殺菌水13を製造することができる。オゾナイザー210が、他の種類のオゾン水供給部に置き換えられてもよい。
オゾナイザー210により生成されるオゾン水は、環状管110内の環状水路から殺菌水13の製造装置201の外部に至る分岐管118内の分岐水路に供給される。これにより、供給されたオゾン水がリアクタ112を通過せず、供給されたオゾン水にキャビテーションに伴う衝撃が加わってオゾン水に含まれるオゾンがオゾン水から出ることを抑制することができる。
4 第4実施形態
4.1 第2実施形態と第4実施形態との相違
第4実施形態の殺菌水13の製造方法は、主に下記の点で第2実施形態の殺菌水13の製造方法と相違する。
4.1 第2実施形態と第4実施形態との相違
第4実施形態の殺菌水13の製造方法は、主に下記の点で第2実施形態の殺菌水13の製造方法と相違する。
第2実施形態の殺菌水13の製造方法においては、水を循環させ、水中にキャビテーションバブルを発生させキャビテーションバブルが発生させられる空間に放電プラズマを発生させることにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液12が作製される。これに対して、第4実施形態の殺菌水13の製造方法においては、水を循環させず、水中にキャビテーションバブルを発生させキャビテーションバブルが発生させられる空間に放電プラズマを発生させることにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している混合前溶液が作製される。また、作製された混合前溶液にオゾン水を混合することにより、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液12が作製される。作製された溶液12は、第1実施形態と同様に、殺菌水13に変化する。製造された殺菌水13は、第1実施形態の殺菌水13の製造方法により製造される殺菌水13と同様に使用することができる。
4.2 殺菌水の製造装置
図9は、第4実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する際に使用される殺菌水の製造装置を模式的に図示する図である。
図9は、第4実施形態の殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する際に使用される殺菌水の製造装置を模式的に図示する図である。
図9に図示される殺菌水13の製造装置300は、図6に図示される殺菌水13の製造装置100と同じく、リアクタ112、冷却器114、ポンプ116及びバルブ120を備える。
また、製造装置300は、図6に図示される殺菌水13の製造装置100と異なり、環状管110及び分岐管118に代えて管220を備え、オゾナイザー210をさらに備える。
管220には、リアクタ112、冷却器114及びポンプ116が挿入される。このため、管220内の水路を流れる水は、リアクタ112、冷却器114及びポンプ116を順次に通過する。リアクタ112は、リアクタ112を通過する水を処理する。冷却器114は、冷却器114を通過する水を冷却する。ポンプ116は、ポンプ116を通過する水に流れを与える。これにより、冷却器114により冷却された水がリアクタ112により処理され、処理された水中にオゾン及び過酸化水素が生成し、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している混合前溶液が作製される。
オゾナイザー210は、オゾン水を生成し、生成したオゾン水を管220内の水路のリアクタ112より下流側に供給する。これにより、作製された混合前溶液に、殺菌因子を生成し長い寿命を有するオゾンを含むオゾン水が混合される。これにより、高い殺菌力を有する殺菌水13を製造することができる。オゾナイザー210が、他の種類のオゾン水供給部に置き換えられてもよい。
オゾナイザー210により生成されるオゾン水は、管220内の水路のキャビテーションバブル180が発生させられる空間より下流側に供給される。これにより、供給されたオゾン水がリアクタ112を通過せず、供給されたオゾン水にキャビテーションに伴う衝撃が加わってオゾン水に含まれるオゾンがオゾン水から出ることを抑制することができる。
4.3 実験例
第4実施形態の殺菌水13の製造方法により殺菌水13を製造した。
第4実施形態の殺菌水13の製造方法により殺菌水13を製造した。
溶液12中のオゾン濃度は、8.3×10−4mmol/リットルとした。溶液12中の過酸化水素濃度は、溶液12中のオゾン濃度である8.3×10−4mmol/リットルの0.4倍から149倍までの範囲とした。溶液12及び殺菌水13のpHは、7とした。
溶液12中のオゾン濃度に対する溶液12中の過酸化水素濃度の比による殺菌桁数の変化の測定の結果を図10のグラフに示す。
図10に示されるように、殺菌桁数は、当該比が概ね0.5以上10以下である場合は、概ね検出限界に達する6となるが、当該比が概ね0.5より小さい又は10より大きい場合は、概ね2以上5以下となる。
したがって、当該比が概ね0.5以上10以下である場合は、高い殺菌力を有する殺菌水13を得ることができる。なお、第4実施形態の実験例において測定された殺菌桁数が第1実施形態の第1実験例において測定された殺菌桁数より著しく大きいのは、第1実施形態の第1実験例においては塩素を含む水道水を用いていたが、第4実施形態の実験例においては塩素を含まない脱イオン水を用いたため、塩素の影響でオゾンが失われることがなくなったためである。
この発明は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
10 オゾン水
11 過酸化水素水
12 溶液
13 殺菌水
14 殺菌因子
15 前駆体
100,201,300 製造装置
112 リアクタ
122 パルス電圧印加回路
170 ノズル
180 キャビテーションバブル
210 オゾナイザー
W 水
11 過酸化水素水
12 溶液
13 殺菌水
14 殺菌因子
15 前駆体
100,201,300 製造装置
112 リアクタ
122 パルス電圧印加回路
170 ノズル
180 キャビテーションバブル
210 オゾナイザー
W 水
Claims (13)
- 水、オゾン、過酸化水素、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを含み、
オゾン、過酸化水素、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが水に溶解しており、
接触した物体を殺菌する殺菌力を有する
殺菌水。 - オゾン及び過酸化水素が互いに反応してヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが生成する反応が殺菌水中で進行している
請求項1の殺菌水。 - 前記反応の進行が開始する時点において、オゾンのモル濃度に対する過酸化水素のモル濃度の比が0.5以上10以下である
請求項2の殺菌水。 - 5より大きいpHを有する
請求項1から3までのいずれかの殺菌水。 - a) 水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している溶液を作製する工程と、
b) 前記溶液中でオゾン及び過酸化水素を互いに反応させてヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを生成させ、前記溶液を、水、ヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルを含みヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが水に溶解しており接触した物体を殺菌する殺菌力を有する殺菌水に変化させる工程と、
を備える殺菌水の製造方法。 - 前記溶液及び前記殺菌水は、5より大きいpHを有する
請求項5の殺菌水の製造方法。 - 前記溶液中のオゾンのモル濃度に対する前記溶液中の過酸化水素のモル濃度の比が、0.5以上10以下である
請求項5又は6の殺菌水の製造方法。 - 前記殺菌水は、水に溶解しているオゾン及び過酸化水素をさらに含む
請求項5から7までのいずれかの殺菌水の製造方法。 - 工程a)は、
a-1) 水からオゾン及び過酸化水素を生成する工程
を備える
請求項5から8までのいずれかの殺菌水の製造方法。 - 工程a-1)は、
a-1-1) 水中にキャビテーションバブルを発生させる工程と、
a-1-2) 前記キャビテーションバブルが発生させられる空間に放電プラズマを発生させる工程と、
を備える
請求項9の殺菌水の製造方法。 - 前記工程a-1)は、水、オゾン及び過酸化水素を含みオゾン及び過酸化水素が水に溶解している混合前溶液を作製し、
工程a)は、
a-2) 前記工程a-1)の後に前記混合前溶液にオゾン水を混合する工程
をさらに備える
請求項9又は10の殺菌水の製造方法。 - d) 請求項5から11までのいずれかの殺菌水の製造方法により殺菌水を製造する工程と、
e) 前記殺菌水を物体に接触させ、前記物体を殺菌済物体に変化させる工程と、
を備える殺菌済物体の製造方法。 - 工程e)は、オゾン及び過酸化水素が互いに反応しヒドロキシラジカル及びヒドロペルオキシドラジカルが生成する反応の進行中に実行される
請求項12の殺菌済物体の製造方法。
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