JPWO2020115086A5

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Publication number: JPWO2020115086A5
Application number: JP2021532153A
Authority: JP
Publication date: 2022-12-09

Claims

ＶＵＶ波長域の放射線（１１、２１）を反射する光学素子（４）であって、
基板（４１）と、該基板（４１）に施され且つ少なくとも１つのアルミニウム層（４３）を有する反射コーティング（４２）と
を備えた光学素子（４）において、
分子状水素（Ｈ_２）の解離のための少なくとも１つの水素触媒層（４５）が前記アルミニウム層（４３）に施されることを特徴とする光学素子。
請求項１に記載の光学素子において、前記水素触媒層（４５）は、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｒｈを含む群から選択される光学素子。
請求項１又は２に記載の光学素子において、前記水素触媒層（４５）は、０．１ｎｍ～３．０ｎｍ、好ましくは０．１ｎｍ～１．０ｎｍの層厚（Ｄ）を有する光学素子。
請求項１～３のいずれか１項に記載の光学素子において、前記水素触媒層（４５）は、前記アルミニウム層（４３）を完全に覆わない光学素子。
請求項４に記載の光学素子において、前記水素触媒層（４５）は、１０％～９０％の被覆率で前記アルミニウム層（４３）を覆う光学素子。
請求項１～５のいずれか１項に記載の光学素子において、前記アルミニウム層（４３）及び前記水素触媒層（４５）に施された少なくとも１つの保護層（４６）をさらに備えた光学素子。
請求項６に記載の光学素子において、前記保護層（４６）は密閉層を形成する光学素子。
請求項６又は７に記載の光学素子において、前記保護層（４６）は、透明の、特にフッ化物材料から形成される光学素子。
請求項６～８のいずれか１項に記載の光学素子において、前記保護層（４６）は、ＶＵＶ波長域の放射線（１１、２１）での照射及び／又は水素（Ｈ_２）との接触により剥離可能な材料から形成される光学素子。
請求項９に記載の光学素子において、前記保護層（４６）は、炭素又は少なくとも１つの炭化水素から形成される光学素子。
ＶＵＶ波長域用の光学装置、特にウェーハ検査システム（２）又はＶＵＶリソグラフィ装置（１）であって、
少なくとも１つの光学素子（１２１、２２０、２２１；１４０、１４１；４、５、６）が配置される内部（１２２ａ、２４ａ）と、
該内部（１２２ａ、２４ａ）にガス（Ｈ_２）を供給する少なくとも１つのガス入口（１２３、２６、５２ａ～５２ｆ）と
を備えた光学装置において、前記光学素子（１２１、２２０、２２１、４）は、請求項１～１０のいずれか１項に記載のように設計され、前記ガス入口（１２３、２６）は、前記内部（１２２ａ、２４ａ）に水素（Ｈ_２）を供給するよう設計されることを特徴とする光学装置。
請求項１１に記載の光学装置において、
前記光学素子（５、６）の光学面（５ａ、６ａ）の少なくとも１つの部分領域（５５ａ～５５ｆ）で大気圧プラズマ（５１、６１）を発生させるために前記ガス入口（１２３、２６、５２ａ～５２ｆ）を介して前記内部（１２２ａ、２４ａ）にプラズマガス（５４ａ～５４ｆ）を供給するプラズマ発生デバイス（５０、６０）
を特徴とする光学装置。
請求項１２に記載の光学装置において、前記プラズマ発生デバイス（５０、６０）は、前記光学素子（５、６）の前記光学面（５ａ、６ａ）で水素プラズマ（５１、６１）を発生させるよう設計される光学装置。
請求項１２又は１３に記載の光学装置において、前記ガス入口は、前記光学面（５ａ）の少なくとも１つの部分領域（５５ａ～５５ｆ）に前記プラズマガス（５４ａ～５４ｆ）を供給するプラズマノズル（５２ａ～５２ｆ）として設計される光学装置。
請求項１２～１４のいずれか１項に記載の光学装置において、前記プラズマ発生デバイス（６０）は、前記光学面（６ａ）から離間して、該光学面（６ａ）の前記少なくとも１つの部分領域（６５ａ～６５ｆ）で前記大気圧プラズマ（６１）を発生させる少なくとも１つの電極（６２ａ～６２ｆ）を有する光学装置。
請求項１２～１５のいずれか１項に記載の光学装置において、前記プラズマ発生デバイス（５０、６０）は、前記光学面（５ａ、６ａ）で場所に応じて可変の大気圧プラズマ（５１、６１）を発生させるよう設計される光学装置。