JPWO2020100837A1 - 殺菌及び洗浄用組成物、その製造方法、及びそれを用いた殺菌及び洗浄方法 - Google Patents

Abstract

過酢酸を０．００１〜３０質量％、過酸化水素を０．００１〜３０質量％、酢酸及び／又はその塩を１〜７０質量％、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜５質量％、及び水を含む、殺菌及び洗浄用組成物であって、前記組成物のｐＨが、４．０〜１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。

Description

本発明は、特に医療用器具の殺菌・洗浄に適する殺菌及び洗浄用組成物に関する。

従来、過酸水溶液は広く医療用器具の殺菌・洗浄に使われている（特許文献１〜４）。
しかしながら、従来の過酸水溶液は、安定性、殺菌性、スケール除去能の点で必ずしも満足のいくものではない。

また、従来、医療機器の殺菌・洗浄には、酸性やアルカリ性の薬品が使用されており、過酸水溶液もその１つである。しかしながら、酸性やアルカリ性の薬品が使用されるために、その廃液が下水排除基準を満たさないまま排水されて、コンクリート製の下水道管が損傷している例が後を絶たない。下水道管の損傷は、下水への排水ができなくなると共に、道路陥没を引き起こす可能性もあり、早急な対応が必要である。このような背景のもと、東京都下水道局は、２０１９年１月に、透析排水と下水道管についての注意喚起を発表した。東京都下水道局では、排水についての下水排除基準を水素イオン濃度（ｐＨ）が５を超え９未満の範囲内に収めることを求めている。

医療機器の殺菌・洗浄に用いる殺菌及び洗浄用過酢酸組成物としては、酸性の過酢酸水溶液（特許文献５）、アルミニウム腐食抑制性の酸性酸化剤含有組成物（特許文献６）、アルカリ性の殺菌洗浄用製剤（特許文献７）などが知られている。しかしながら、これらの組成物は、必ずしも排水についての下水排除基準を満たすものとは言えない。よって、依然として、配水管を傷めない洗浄剤に対するニーズも存在する。

特表2007-507599号公報 特表2013-505929号公報 特開2015-40209号公報 特開2016-17056号公報 特開2010-184868号公報 ＷＯ2010/095231号公報 特表2016-532634号公報

安定性、殺菌性が向上され、さらにスケール除去能を有する殺菌及び洗浄用組成物が求められている。また、過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物に対するニーズも存在する。

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、過酢酸へ特殊なアニオン界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸）を添加することにより、従来の過酢酸水溶液より安定性、殺菌性を向上することができ、さらにスケール除去能を有する殺菌及び洗浄用組成物を提供することができることを見出した。また、本発明者らは、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を添加することにより、過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提供することができることも見出した。

すなわち、本発明は、下記の実施形態を含む。

＜１＞
過酢酸を０．００１〜３０質量％、過酸化水素を０．００１〜３０質量％、酢酸及び／又はその塩を１〜７０質量％、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜５質量％、及び水を含む、殺菌及び洗浄用組成物であって、
前記組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
＜２＞
添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤をさらに含む、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞
前記リン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を０．０００１〜５質量％含む、＜２＞に記載の組成物。
＜４＞
前記リン酸系安定剤が、ピロリン酸又はその塩、リン酸又はその塩、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩、ニトリロトリスメチレンホスホン酸又はその塩、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸又はその塩、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸又はその塩からなる群より選択され、好ましくは１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩である、＜２＞又は＜３＞に記載の組成物。
＜５＞
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩、ピコリン酸又はその塩、ジピコリン酸又はその塩、ニトリロ三酢酸又はその塩、Ｎ−（２-ヒドロキシエチル）エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−三酢酸又はその塩、トリエチレンテトラミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’，Ｎ”’−六酢酸又はその塩、１，３-プロパンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、１，３−ジアミノ−２−プロパノール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）イミノ二酢酸又はその塩、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）グリシン又はその塩、グリコールエーテルジアミン四酢酸、及び（Ｓ，Ｓ）−エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二コハク酸又はその塩のいずれかを含み、好ましくはエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、＜２＞又は＜３＞のいずれかに記載の組成物。

＜６＞
＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の組成物と、
追加の水
とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
＜７＞
過酢酸を０．００１〜１．５質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００１〜０．１質量％含み、
前記希釈組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、＜６＞に記載の希釈組成物。

＜８＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）過酸化水素水
（ｉｉ）酢酸
（ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
＜９＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）酢酸塩
（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
＜１０＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）アルカリ
（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
＜１１＞
前記添加剤、酢酸、アルカリ、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を混合した後、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合する、＜１０＞に記載の製造方法。
＜１２＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程と、
得られた混合液を希釈する希釈工程
とを含む、＜６＞又は＜７＞に記載の希釈組成物の製造方法。
（ｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉ）酢酸塩又はアルカリ
（ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
＜１３＞
前記希釈工程が、前記混合工程で得られた混合物と水とを混合することを含む、＜１２＞に記載の希釈組成物の製造方法。

＜１４＞
＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の組成物又は＜６＞若しくは＜７＞に記載の希釈組成物を用いる、医療用器具の殺菌及び洗浄方法。
＜１５＞
前記医療用器具の殺菌及び洗浄方法が、浸漬法、噴霧法、塗布法のいずれかである、＜１４＞に記載の殺菌及び洗浄方法。
＜１６＞
前記医療用器具が、透析用器具である、＜１４＞又は＜１５＞に記載の殺菌及び洗浄方法。

＜１７＞
過酢酸を０．０１〜３０質量％、過酸化水素を０．１〜３０質量％、酢酸を１〜６０質量％、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜５質量％、及び水を含む、殺菌及び洗浄用組成物。
＜１８＞
安定剤をさらに含む、＜１７＞に記載の組成物。
＜１９＞
前記安定剤を０．０１〜５質量％含む、＜１８＞に記載の組成物。
＜２０＞
前記安定剤が、リン酸系安定剤である、＜１８＞又は＜１９＞に記載の組成物。
＜２１＞
前記リン酸系安定剤が、ピロリン酸、リン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、ニトリロトリスメチレンホスホン酸、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸からなる群より選択され、好ましくはピロリン酸である、＜２０＞に記載の組成物。
＜２２＞
キレート剤をさらに含む、＜１７＞〜＜２１＞のいずれかに記載の組成物。
＜２３＞
キレート剤を０．０１〜２質量％含む、＜２２＞に記載の組成物。
＜２４＞
前記キレート剤が、エチレンジアミン四酢酸、クエン酸、リンゴ酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、及びジピコリン酸からなる群より選択される、＜２２＞又は＜２３＞に記載の組成物。

＜２５＞
＜１７＞〜＜２４＞のいずれかに記載の組成物と、
追加の水
とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
＜２６＞
過酢酸を０．００１〜０．２質量％、過酸化水素を０．０１〜２質量％、酢酸を０．０１〜１質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００１〜０．１質量％含む、＜２５＞に記載の希釈組成物。

＜２７＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜１７＞〜＜２４＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）過酸化水素水
（ｉｉ）酢酸
（ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
＜２８＞
＜１７＞〜＜２４＞のいずれかに記載の組成物の製造方法であって、下記工程（Ａ）及び（Ｂ）を含む、前記組成物の製造方法。
工程（Ａ） 少なくとも、酢酸、３０〜６５質量％の過酸化水素水溶液、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を混合する工程
工程（Ｂ） 工程（Ａ）で得られた水溶液（ａ）を２０〜６０℃で１日以上静置する工程
＜２９＞
前記工程（Ａ）が、キレート剤を混合することをさらに含む、＜２８＞に記載の組成物の製造方法。
＜３０＞
＜１７＞〜＜２４＞のいずれかに記載の組成物の製造方法であって、下記工程（Ｃ）〜（Ｅ）を含む、前記組成物の製造方法。
工程（Ｃ） 少なくとも、酢酸、３０〜６５質量％の過酸化水素水溶液を混合する工程
工程（Ｄ） 工程（Ｃ）で得られた水溶液（ｃ）を２０〜６０℃で１日以上静置する工程
工程（Ｅ） 工程（Ｄ）で得られた水溶液（ｄ）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、及び水を混合する工程
＜３１＞
前記工程（Ｅ）において、さらにキレート剤を混合する、＜３０＞に記載の組成物の製造方法。
＜３２＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程と、
得られた混合液を希釈する希釈工程
とを含む、＜２５＞又は＜２６＞に記載の希釈組成物の製造方法。
（ｉ）過酸化水素水
（ｉｉ）酢酸
（ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
＜３３＞
前記希釈工程が、前記混合工程で得られた混合物と水とを混合することを含む、＜３２＞に記載の希釈組成物の製造方法。

＜３４＞
＜１７＞〜＜２４＞のいずれかに記載の組成物又は＜２５＞若しくは＜２６＞に記載の希釈組成物を用いる、医療用器具の殺菌及び洗浄方法。
＜３５＞
前記医療用器具の殺菌及び洗浄方法が、浸漬法、噴霧法、塗布法のいずれかである、＜３４＞に記載の殺菌及び洗浄方法。
＜３６＞
前記医療用器具が、透析用器具である、＜３４＞又は＜３５＞記載の殺菌及び洗浄方法。

＜３７＞
過酢酸を０．００１〜１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７０質量％、過酸化水素を０．００１〜２５質量％、及び水を含み、
添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含む、
殺菌及び洗浄用組成物であって、
前記殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
＜３８＞
前記リン系安定剤が、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩のいずれかを含み、好ましくは１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩である、＜３７＞に記載の組成物。
＜３９＞
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩のいずれかを含み、好ましくはエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、＜３７＞又は＜３８＞に記載の組成物。
＜４０＞
前記リン系安定剤が、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩であって、
前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、＜３７＞〜＜３９＞のいずれかに記載の組成物。
＜４１＞
前記リン系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満、及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満含む、＜３７＞〜＜４０＞のいずれかに記載の組成物。
＜４２＞
リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上をさらに含む、＜３７＞〜＜４１＞のいずれかに記載の組成物。
＜４３＞
さらに、添加剤としてすず酸ナトリウムを含む、＜３７＞〜＜４２＞のいずれかに記載の組成物。
＜４４＞
前記すず酸ナトリウムを０．０００１〜５質量％含む、＜４３＞に記載の組成物。
＜４５＞
過酢酸を０．００１〜１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７０質量％、過酸化水素を０．００１〜２５質量％、及び水を含み、
添加剤としてすず酸ナトリウムを含む、
殺菌及び洗浄用組成物であって、
前記殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
＜４６＞
前記すず酸ナトリウムを０．０００１〜５質量％含む、＜４５＞に記載の組成物。
＜４７＞
さらに、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含む、請求項４５又は４６のいずれかに記載の組成物。
＜４８＞
前記リン系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満、及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満含む、＜４７＞に記載の組成物。
＜４９＞
前記組成物のｐＨ値が、５．０〜９．０である＜３７＞〜＜４８＞のいずれかに記載の組成物。

＜５０＞
＜３７＞〜＜４９＞のいずれかに記載の組成物と、
追加の水
とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
＜５１＞
過酢酸を０．００１〜１．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、及び水を含み、
添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含み、
前記殺菌及び洗浄用希釈組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、＜５０＞に記載の殺菌及び洗浄用希釈組成物。
＜５２＞
過酢酸を０．００１〜１．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、及び水を含み、
添加剤としてすず酸ナトリウムを含み、
前記殺菌及び洗浄用希釈組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、＜５０＞に記載の殺菌及び洗浄用希釈組成物。

＜５３＞
前記過酸化水素が、超純過酸化水素である、＜３７＞〜＜４９＞のいずれかに記載の組成物、又は＜５０＞〜＜５２＞のいずれかに記載の希釈組成物。
＜５４＞
前記酢酸が、超純酢酸である、＜３７＞〜＜４９＞のいずれかに記載の組成物、又は＜５０＞〜＜５３＞のいずれかに記載の希釈組成物。

＜５５＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜３７＞〜＜４９＞、＜５３＞、及び＜５４＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上
＜５６＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜３７＞〜＜４９＞、＜５３＞、及び＜５４＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）アルカリ
＜５７＞
前記添加剤、酢酸及びアルカリを混合した後、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合する、＜５６＞に記載の製造方法。
＜５８＞
少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、＜３７＞〜＜４９＞、＜５３＞、及び＜５４＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）酢酸塩
＜５９＞
前記混合工程において、Ａｌ、Ｚｒ、及びＮｂからなる群より選択される金属を添加することをさらに含む、＜５５＞〜＜５８＞のいずれかに記載の組成物の製造方法。

＜６０＞
＜３７＞〜＜４９＞、＜５３＞及び＜５４＞のいずれかに記載の組成物又は上記＜５０＞〜＜５４＞のいずれかに記載の希釈組成物を用いる、医療用器具の殺菌及び洗浄方法。

＜６１＞
前記医療用器具の殺菌及び洗浄方法が、浸漬法、噴霧法、塗布法のいずれかである、＜６０＞に記載の殺菌及び洗浄方法。

＜６２＞前記医療用器具が、透析用器具である、＜６０＞又は＜６１＞に記載の殺菌及び洗浄方法。

本発明の一実施形態によれば、過酢酸へ特殊なアニオン界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸）を添加することにより、従来の過酢酸水溶液より安定性、殺菌性を向上することができ、さらにスケール除去能を有する殺菌及び洗浄用組成物を提供することができる。本発明の別の実施形態によれば、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を添加することにより、過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提供することができ、この本発明の組成物は、ｐＨ値が下水排除基準を満たすため、使用後の廃液を中和処理する必要なく排水することができる。本発明の組成物はいずれも、医療用器具の中でも特に透析用器具の殺菌・洗浄に適している。

［実施形態Ａ］
Ａ−１．殺菌及び洗浄用組成物
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、及び水を含む。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、そのｐＨ値が４．０〜１０．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、例えば、４．０、４．５、５．０、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６．０、６．５、７．０、７．５、８．０，８．５、９．０，９．５、１０．０などであってよいが、これらの値に限定されない。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、例えば、４．０〜１０．０、４．０〜９．５、４．０〜９．０、４．０〜８．５、４．０〜８．０、４．０〜７．５、４．０〜７．０、４．０〜６．５、４．０〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、４．５〜１０．０、４．５〜９．５、４．５〜９．０、４．５〜８．５、４．５〜８．０、４．５〜７．５、４．５〜７．０、４．５〜６．５、４．５〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．０〜１０．０、５．０〜９．５、５．０〜９．０、５．０〜８．５、５．０〜８．０、５．０〜７．５、５．０〜７．０、５．０〜６．５、５．０〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．１〜１０．０、５．１〜９．５、５．１〜９．０、５．１〜８．５、５．１〜８．０、５．１〜７．５、５．１〜７．０、５．１〜６．５、５．１〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．２〜１０．０、５．２〜９．５、５．２〜９．０、５．２〜８．５、５．２〜８．０、５．２〜７．５、５．２〜７．０、５．２〜６．５、５．２〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．３〜１０．０、５．３〜９．５、５．３〜９．０、５．３〜８．５、５．３〜８．０、５．３〜７．５、５．３〜７．０、５．３〜６．５、５．３〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．４〜１０．０、５．４〜９．５、５．４〜９．０、５．４〜８．５、５．４〜８．０、５．４〜７．５、５．４〜７．０、５．４〜６．５、５．４〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．５〜１０．０、５．５〜９．５、５．５〜９．０、５．５〜８．５、５．５〜８．０、５．５〜７．５、５．５〜７．０、５．５〜６．５、５．５〜６．０であってよい。本発明の好ましい実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．０超である。本発明の好ましい実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５超１０以下である。本発明の好ましい別の実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５超９以下である。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸を０．００１〜３０質量％、過酸化水素を０．００１〜３０質量％、酢酸及び／又はその塩を１〜７０質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜５質量％含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０であってよい。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、前記過酢酸を０．０１〜１５質量％、前記過酸化水素を０．０１〜２５質量％、前記酢酸及び／又はその塩を１〜６０質量％、及び前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜２質量％含み得るものであって、
前記組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０であってよい。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、前記過酢酸を０．０５〜１５質量％、前記過酸化水素を０．０２〜２０質量％、前記酢酸及び／又はその塩を５〜５０質量％、及び前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜１質量％含み得るものであって、
前記組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０であってよい。

本発明の一実施形態において、上記の殺菌及び洗浄用組成物は、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤をさらに含み得る。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、リン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤の濃度は、０．０００１〜５質量％であってよい。

以下、各成分について説明する。

（１）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、アニオン界面活性剤としてポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を含む。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられるポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸は、下記の一般式で表される。ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸の塩は、例えばナトリウム塩、カリウム塩などであってよいが、これらに限定されない。ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩は、好ましくはポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸である。
Ｒ_１−（Ｏ−Ｒ_２）ｎ−Ｏ−Ｒ_３−ＣＯＯＨ
（式中、Ｒ_１はラウリル基であり、Ｒ_２はエチレン基であり、Ｒ_３はメチレン基であり、ｎは１〜３０の数を表す。）

好ましい実施形態において、ｎは、２〜２０であってよい。好ましい実施形態において、ｎは例えば、４、４．５、５、５．５、６、６．５、７、７．５、８、８．５、９、９．５、１０、１１、１２、１３、１４、１５であってよいが、これらに限定されない。より好ましい実施形態において、ｎは４．５又は１０である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられるポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の分子量は、３００〜１２００であってよい。好ましい実施形態において、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の分子量は、４００〜１０００である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の濃度は、０．００１〜５質量％であってよい。ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の濃度は、好ましくは０．００１〜２質量％であってよく、より好ましくは０．００１〜１質量％であってよい。

（２）その他の成分
＜過酸化水素＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物中には、過酸化水素が含まれる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物中には、過酸化水素は、それ自体、殺菌・洗浄能力を有するため、組成物全体の殺菌・洗浄効果を高めるのに寄与するだけでなく、酢酸との平衡反応により十分な量の過酢酸の生成及び維持（水溶液中における安定性）に寄与している。よって、酢酸と過酸化水素との組み合わせにより、さらに本発明の組成物の殺菌・洗浄効果を高めることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における過酸化水素の濃度は、好ましくは０．００１〜３０質量％、より好ましくは０．０１〜２５質量％、さらにより好ましくは０．０２〜２０質量％である。過酸化水素の濃度が低すぎると酢酸との平衡反応により生成する過酢酸の量が十分でなく、本発明の殺菌・洗浄効果が十分に発揮されない場合がある。一方、過酸化水素の濃度が高すぎても前記効果は高まらず、かえって安全性に問題が生じる場合がある。

＜酢酸及び／又はその塩＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられる酢酸及び／又はその塩としては、当技術分野で通常用いられるものを用いることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における酢酸及び／又はその塩の濃度は、好ましくは１〜７０質量％であってよく、より好ましくは１〜６０質量％であり、さらにより好ましくは５〜５０質量％である。

＜過酢酸＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられる過酢酸としては、当技術分野で通常用いられるものを用いることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における過酢酸の濃度は、好ましくは０．００１〜３０質量％であってよく、より好ましくは０．０１〜１５質量％であり、さらにより好ましくは０．０５〜１５質量％である。

＜安定剤＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、添加物として安定剤を含んでよい。安定剤を入れることにより、過酸化水素の安定性が向上する。安定剤としては、過酸化水素の安定剤であればいずれも使用できるが、例えばリン酸系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を用いることができる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いることができるリン系安定剤としては、例えば、ピロリン酸又はその塩、リン酸又はその塩、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩、ニトリロトリスメチレンホスホン酸又はその塩、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸又はその塩、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸又はその塩が挙げられるが、これらに限定されない。リン系安定剤は、好ましくは、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩である。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いることができるカルボン酸系安定剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩、ピコリン酸又はその塩、ジピコリン酸又はその塩、ニトリロ三酢酸又はその塩、Ｎ−（２-ヒドロキシエチル）エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−三酢酸又はその塩、トリエチレンテトラミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’，Ｎ”’−六酢酸又はその塩、１，３-プロパンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、１，３−ジアミノ−２−プロパノール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）イミノ二酢酸又はその塩、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）グリシン又はその塩、グリコールエーテルジアミン四酢酸、及び（Ｓ，Ｓ）−エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二コハク酸又はその塩が挙げられるが、これらに限定されない。カルボン酸系安定剤は、好ましくは、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、安定剤の濃度は、好ましくは０．０００１〜５質量％であってよく、より好ましくは０．０００１〜２質量％であり、さらにより好ましくは０．０００２〜１質量％である。

＜その他の成分＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物には、さらに必要に応じて、一般的な殺菌及び洗浄用薬剤等に使用される添加剤など、例えば界面活性剤、増粘剤、香料、着色剤、加水分解酵素等が適宜配合されていてもよい。本発明の殺菌及び洗浄用組成物中、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、過酸化水素、酢酸、過酢酸、及び必要に応じて添加する安定剤その他の添加剤以外の残分は、主として水である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、希釈することなくそのまま用いるか、あるいは任意の濃度に希釈して殺菌及び洗浄用希釈組成物とすることができる。希釈剤としては通常、水が用いられる。希釈剤として用いられる水は、例えば純水、超純水、蒸留水、精製水、注射用水、水道水などが用いられ得る。希釈倍率は、殺菌及び洗浄用希釈組成物として殺菌及び洗浄効果を発揮する濃度にすることができる希釈倍率であればよく、特に限定されないが、好ましくは１〜１００００倍、より好ましくは１〜１０００倍である。

Ａ−２．殺菌及び洗浄用希釈組成物
本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、及び水、並びに希釈剤として追加の水を含む。各成分については、上述した通りである。

本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物は、上記の殺菌及び洗浄用希釈組成物を水で希釈することにより作製され得る。上述のように、希釈倍率は、殺菌及び洗浄用希釈組成物として殺菌及び洗浄効果を発揮する濃度にすることができる希釈倍率であればよく、特に限定されないが、好ましくは１〜１００００倍、より好ましくは１〜１０００倍である。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酢酸を０．００１〜１．５質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００１〜０．１質量％含むものであってよい。

本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物は、前記過酢酸を０．００１〜０．５質量％、前記過酸化水素を０．００５〜１質量％、前記酢酸及び／又はその塩を０．０５〜５質量％、及び前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００５〜０．０５質量％含み得る。

Ａ−３．殺菌及び洗浄用組成物及び殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法
本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）過酸化水素水
（ｉｉ）酢酸
（ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
を混合する混合工程を含むものであってよい。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。各成分を混合する順序は任意であってよく、本発明の殺菌及び洗浄用組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）酢酸塩
（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
を混合する混合工程を含むものであってよい。

上記酢酸塩としては、水溶液とした際にアルカリ性である酢酸塩であればよく、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ベリリウム、酢酸マグネシウム、酢酸アルミニウム、酢酸カルシウム、酢酸ルビジウム、酢酸ストロンチウム、酢酸セシウム、酢酸バリウム、酢酸アンモニウムを用いることができるがこれらに限定されない。本発明の一実施形態において、酢酸塩は、酢酸ナトリウムであってよい。本発明の別の実施形態において、酢酸塩は、酢酸カリウムであってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）アルカリ
（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
を混合する混合工程を含むものであってよい。

この製造方法では、中和熱が発生し平行移動速度が増加して反応が加速され得る。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。各成分を混合する順序は任意であってよく、本発明の殺菌及び洗浄用組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。

上記アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化ルビジウム、水酸化ストロンチウム、水酸化セシウム、水酸化バリウム、アンモニアなどを用いることができるがこれらに限定されない。本発明の一実施形態において、アルカリは、水酸化ナトリウムであってよい。本発明の別の実施形態において、アルカリは、水酸化カリウムであってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上
（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
を混合する混合工程を含むものであってよい。リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上を添加することにより、希釈後のｐＨの変化をより少なくすることができる。この製造方法において、（ｉｉｉ）としてリン酸塩、クエン酸塩を使用する場合には、中和熱が発生せず、作業性が良い。また、この製造方法において、（ｉｉｉ）としてトリス塩基を用いる場合には、中和熱が発生し平行移動速度が増加して反応が加速され得る。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。各成分を混合する順序は任意であってよく、本発明の殺菌及び洗浄用組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。

上記リン酸塩としては、リン酸のナトリウム塩、リン酸のカリウム塩等が挙げられるが、これらに限定されない。リン酸のナトリウム塩としては、例えば、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸三ナトリウム等が挙げられるがこれらに限定されない。リン酸のカリウム塩としては、例えば、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸三カリウム等が挙げられるがこれらに限定されない。

上記トリス塩基とは、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを意味する。

アルカリ又はトリス塩基を使用する上記の製造方法は、添加剤、酢酸、アルカリ又はトリス塩基、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を混合した後、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合する工程を含み得る。この製造方法では、中和熱が発生するため、添加剤、酢酸、及びアルカリ又はトリス塩基を混合することにより発生する中和熱を利用して、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合することができ、これにより平行移動速度が増加して反応を加速させることができる。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、下記工程（Ａ）及び（Ｂ）：
工程（Ａ） 少なくとも、（ｉ）添加剤、（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸、（ｉｉｉ）酢酸塩又はアルカリ、又はリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上、並びに（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を混合する工程と；
工程（Ｂ） 工程（Ａ）で得られた水溶液（ａ）を１日以上静置する工程
とを含むものであってよい。工程（Ａ）で得られた水溶液（ａ）を工程（Ｂ）において静置することにより、水溶液が平衡状態に達する。酢酸塩、リン酸塩、又はクエン酸塩を用いる実施形態において、工程（Ｂ）において静置する温度は、好ましくは２０〜６０℃であるが、より好ましくは２０〜５０℃である。また、工程（Ｂ）において静置する時間は、好ましくは１日以上であり、例えば２日以上、３日以上、５日以上、１０日以上、３０日以上などであってよい。アルカリ又はトリス塩基を用いる実施形態においては、上述のように、中和熱の発生により、反応を加速することができる。

本発明のさらに別の実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、下記工程（Ｃ）〜（Ｅ）：
工程（Ｃ） 少なくとも、（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸、および（ｉ）添加剤を混合する工程と；
工程（Ｄ） 工程（Ｃ）で得られた水溶液（ｃ）を１日以上静置する工程と；
工程（Ｅ） 工程（Ｄ）で得られた水溶液（ｄ）、（ｉｉｉ）酢酸塩、又はアルカリ、又はリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上、（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、並びに水を混合する工程
とを含むものであってよい。工程（Ｃ）で得られた水溶液（ｃ）を静置することにより、水溶液が平衡状態に達する。工程（Ｄ）において静置する温度は、好ましくは２０〜６０℃であるが、より好ましくは２０〜５０℃である。また、工程（Ｄ）において静置する時間は、好ましくは１日以上であり、例えば２日以上、３日以上、５日以上、１０日以上、３０日以上などであってよい。その後、平衡状態に達した水溶液（ｄ）に酢酸塩、又はアルカリ、又は、リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上、並びに水を混合する。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）酢酸塩、又はアルカリ、又はリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上
（ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
を混合する混合工程と、
得られた混合液を希釈する希釈工程
とを含むものであってよい。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法において、前記希釈工程は、前記混合工程で得られた混合物と水とを混合することを含み得る。希釈剤として用いられる水は、例えば純水、超純水、蒸留水、精製水、注射用水、水道水などが用いられ得る。

［実施形態Ｂ］
Ｂ−１．殺菌及び洗浄用組成物
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、及び水を含む。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸を０．０１〜３０質量％、過酸化水素を０．１〜３０質量％、酢酸を１〜６０質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜５質量％含むものであってよい。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、前記過酢酸を０．１〜１５質量％、前記過酸化水素を１〜２５質量％、前記酢酸を１〜５０質量％及び前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜２質量％含み得る。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、前記過酢酸を０．５〜１５質量％、前記過酸化水素を２〜２０質量％、前記酢酸を５〜５０質量％及び前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜１質量％含み得る。

以下、各成分について説明する。

（１）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、アニオン界面活性剤としてポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を含む。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられるポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸は、下記の一般式で表される。ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸の塩は、例えばナトリウム塩、カリウム塩などであってよいが、これらに限定されない。ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩は、好ましくはポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸である。
Ｒ_１−（Ｏ−Ｒ_２）ｎ−Ｏ−Ｒ_３−ＣＯＯＨ
（式中、Ｒ_１はラウリル基であり、Ｒ_２はエチレン基であり、Ｒ_３はメチレン基であり、ｎは１〜３０の数を表す。）

好ましい実施形態において、ｎは、２〜２０であってよい。好ましい実施形態において、ｎは例えば、４、４．５、５、５．５、６、６．５、７、７．５、８、８．５、９、９．５、１０、１１、１２、１３、１４、１５であってよいが、これらに限定されない。より好ましい実施形態において、ｎは４．５又は１０である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられるポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の分子量は、３００〜１２００であってよい。好ましい実施形態において、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の分子量は、４００〜１０００である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の濃度は、０．００１〜５質量％であってよい。ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の濃度は、好ましくは０．００１〜２質量％であってよく、より好ましくは０．００１〜１質量％であってよい。本発明の一実施形態において、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩の濃度は、０．０１〜５質量％、０．０１〜２質量％、０．０１〜１質量％などであってよい。

（２）その他の成分
＜過酸化水素＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物中には、過酸化水素が含まれる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物中には、過酸化水素は、それ自体、殺菌・洗浄能力を有するため、組成物全体の殺菌・洗浄効果を高めるのに寄与するだけでなく、酢酸との平衡反応により十分な量の過酢酸の生成及び維持（水溶液中における安定性）に寄与している。よって、酢酸と過酸化水素との組み合わせにより、さらに本発明の組成物の殺菌・洗浄効果を高めることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における過酸化水素の濃度は、好ましくは０．１〜３０質量％、より好ましくは１〜２５質量％、さらにより好ましくは２〜２０質量％である。過酸化水素の濃度が低すぎると酢酸との平衡反応により生成する過酢酸の量が十分でなく、本発明の殺菌・洗浄効果が十分に発揮されない場合がある。一方、過酸化水素の濃度が高すぎても前記効果は高まらず、かえって安全性に問題が生じる場合がある。

＜酢酸＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられる酢酸としては、当技術分野で通常用いられるものを用いることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における酢酸の濃度は、好ましくは１〜６０質量％であってよく、より好ましくは１〜５０質量％であり、さらにより好ましくは５〜５０質量％である。

＜過酢酸＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられる過酢酸としては、当技術分野で通常用いられるものを用いることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における過酢酸の濃度は、好ましくは０．０１〜３０質量％であってよく、より好ましくは０．１〜１５質量％であり、さらにより好ましくは０．５〜１５質量％である。

＜安定剤＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、安定剤を含んでよい。安定剤を入れることにより、過酸化水素の安定性が向上する。安定剤としては、過酸化水素の安定剤であればいずれも使用できるが、例えばリン酸系安定剤を用いることができる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いることができるリン系安定剤としては、例えばピロリン酸、リン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、ニトリロトリスメチレンホスホン酸、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸が挙げられるが、これらに限定されない。リン系安定剤は、好ましくは、ピロリン酸である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、安定剤の濃度は、好ましくは０．０１〜５質量％であってよく、より好ましくは０．０１〜２質量％であり、さらにより好ましくは０．０２〜１質量％である。

＜キレート剤＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、キレート剤を含んでよい。キレート剤を入れることにより、スケールの生成抑制、スケールの除去、タンパク除去等の効果が向上する。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いることができるキレート剤としては、例えばエチレンジアミン四酢酸、クエン酸、リンゴ酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、及びジピコリン酸が挙げられるが、これらに限定されない。キレート剤は、好ましくは、ジピコリン酸である。

＜その他の成分＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物には、さらに必要に応じて、一般的な殺菌及び洗浄用薬剤等に使用される添加剤など、例えば界面活性剤、増粘剤、香料、着色剤、加水分解酵素等が適宜配合されていてもよい。本発明の殺菌及び洗浄用組成物中、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、過酸化水素、酢酸、過酢酸、及び必要に応じて添加する安定剤その他の添加剤以外の残分は、主として水である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物のｐＨは７以下であり、好ましくはｐＨ５以下である。ｐＨ７を超えると過酸化水素、過酢酸が分解し、安定性が低下する場合がある。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、希釈することなくそのまま用いるか、あるいは任意の濃度に希釈して殺菌及び洗浄用希釈組成物とすることができる。希釈剤としては通常、水が用いられる。希釈剤として用いられる水は、例えば純水、超純水、蒸留水、精製水、注射用水、水道水などが用いられ得る。希釈倍率は、殺菌及び洗浄用希釈組成物として殺菌及び洗浄効果を発揮する濃度にすることができる希釈倍率であればよく、特に限定されないが、好ましくは１〜１００００倍、より好ましくは１〜１０００倍である。

Ｂ−２．殺菌及び洗浄用希釈組成物
本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、及び水、並びに希釈剤として追加の水を含む。各成分については、上述した通りである。

本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物は、上記の殺菌及び洗浄用希釈組成物を水で希釈することにより作製され得る。上述のように、希釈倍率は、殺菌及び洗浄用希釈組成物として殺菌及び洗浄効果を発揮する濃度にすることができる希釈倍率であればよく、特に限定されないが、好ましくは１〜１００００倍、より好ましくは１〜１０００倍である。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酢酸を０．００１〜０．２質量％、過酸化水素を０．０１〜２質量％、酢酸を０．０１〜１質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００１〜０．１質量％含むものであってよい。

本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物は、前記過酢酸を０．００５〜０．１質量％、前記過酸化水素を０．０１〜１質量％、前記酢酸を０．０５〜０．５質量％、及び前記ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．０００１〜０．１質量％含み得る。

Ｂ−３．殺菌及び洗浄用組成物及び殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法
本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）過酸化水素水
（ｉｉ）酢酸
（ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
を混合する混合工程を含むものであってよい。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。各成分を混合する順序は任意であってよく、本発明の殺菌及び洗浄用組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。

本発明の別の実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、下記工程（Ａ）及び（Ｂ）：
工程（Ａ） 少なくとも、酢酸、３０〜６５質量％の過酸化水素水溶液、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を混合する工程と；
工程（Ｂ） 工程（Ａ）で得られた水溶液（ａ）を２０〜６０℃で１日以上静置する工程
とを含むものであってよい。工程（Ａ）で得られた水溶液（ａ）を工程（Ｂ）において静置することにより、水溶液が平衡状態に達する。工程（Ｂ）において静置する温度は、好ましくは２０〜６０℃であるが、より好ましくは２０〜５０℃である。また、工程（Ｂ）において静置する時間は、好ましくは１日以上であり、例えば２日以上、３日以上、５日以上、１０日以上、３０日以上などであってよい。本発明の殺菌及び洗浄用組成物の製造方法において、前記工程（Ａ）は、キレート剤を混合することをさらに含み得る。キレート剤については、上述した通りである。

本発明のさらに別の実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、下記工程（Ｃ）〜（Ｅ）：
工程（Ｃ） 少なくとも、酢酸、３０〜６５質量％の過酸化水素水溶液を混合する工程と；
工程（Ｄ） 工程（Ｃ）で得られた水溶液（ｃ）を２０〜６０℃で１日以上静置する工程と；
工程（Ｅ） 工程（Ｄ）で得られた水溶液（ｄ）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、及び水を混合する工程
とを含むものであってよい。工程（Ｃ）で得られた水溶液（ｃ）を静置することにより、水溶液が平衡状態に達する。工程（Ｄ）において静置する温度は、好ましくは２０〜６０℃であるが、より好ましくは２０〜５０℃である。また、工程（Ｄ）において静置する時間は、好ましくは１日以上であり、例えば２日以上、３日以上、５日以上、１０日以上、３０日以上などであってよい。その後、平衡状態に達した水溶液（ｄ）にポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、及び水を混合する。本発明の殺菌及び洗浄用組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。本発明の殺菌及び洗浄用組成物の製造方法において、前記工程（Ｅ）は、さらにキレート剤を混合することを含み得る。キレート剤については、上述した通りである。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）過酸化水素水
（ｉｉ）酢酸
（ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
を混合する混合工程と、
得られた混合液を希釈する希釈工程
とを含むものであってよい。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法において、前記希釈工程は、前記混合工程で得られた混合物と水とを混合することを含み得る。希釈剤として用いられる水は、例えば純水、超純水、蒸留水、精製水、注射用水、水道水などが用いられ得る。本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。

［実施形態Ｃ］
Ｃ−１．殺菌及び洗浄用組成物
本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、及び水、ならびに添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含む。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、そのｐＨ値が４．０〜１０．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、例えば、４．０、４．５、５．０、５．１、５．２、５．３、５．４、５．５、５．６、５．７、５．８、５．９、６．０、６．５、７．０、７．５、８．０，８．５、９．０，９．５、１０．０などであってよいが、これらの値に限定されない。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、例えば、４．０〜１０．０、４．０〜９．５、４．０〜９．０、４．０〜８．５、４．０〜８．０、４．０〜７．５、４．０〜７．０、４．０〜６．５、４．０〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、４．５〜１０．０、４．５〜９．５、４．５〜９．０、４．５〜８．５、４．５〜８．０、４．５〜７．５、４．５〜７．０、４．５〜６．５、４．５〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．０〜１０．０、５．０〜９．５、５．０〜９．０、５．０〜８．５、５．０〜８．０、５．０〜７．５、５．０〜７．０、５．０〜６．５、５．０〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．１〜１０．０、５．１〜９．５、５．１〜９．０、５．１〜８．５、５．１〜８．０、５．１〜７．５、５．１〜７．０、５．１〜６．５、５．１〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．２〜１０．０、５．２〜９．５、５．２〜９．０、５．２〜８．５、５．２〜８．０、５．２〜７．５、５．２〜７．０、５．２〜６．５、５．２〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．３〜１０．０、５．３〜９．５、５．３〜９．０、５．３〜８．５、５．３〜８．０、５．３〜７．５、５．３〜７．０、５．３〜６．５、５．３〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．４〜１０．０、５．４〜９．５、５．４〜９．０、５．４〜８．５、５．４〜８．０、５．４〜７．５、５．４〜７．０、５．４〜６．５、５．４〜６．０であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．５〜１０．０、５．５〜９．５、５．５〜９．０、５．５〜８．５、５．５〜８．０、５．５〜７．５、５．５〜７．０、５．５〜６．５、５．５〜６．０であってよい。本発明の好ましい実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５．０超である。本発明の好ましい実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５超１０以下である。本発明の好ましい別の実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値は、５超９以下である。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸を０．００１〜１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７０質量％、過酸化水素を０．００１〜２５質量％、及び水を含み、
添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０であってよい。

本発明の一実施形態において、上記の殺菌及び洗浄用組成物は、リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上をさらに含み得る。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上の濃度は、０．０１〜７０質量％であってよい。

本発明の一実施形態において、上記の殺菌及び洗浄用組成物は、すず酸ナトリウムをさらに含み得る。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、すず酸ナトリウムの濃度は、０．０００１〜５質量％であってよい。

本発明の別の実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸を０．００１〜１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７０質量％、過酸化水素を０．００１〜２５質量％、及び水を含み、
添加剤としてすず酸ナトリウムを含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０であってよい。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、すず酸ナトリウムの濃度は、０．０００１〜５質量％であってよい。

本発明の一実施形態において、上記の殺菌及び洗浄用組成物は、リン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤をさらに含み得る。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、前記リン系安定剤の濃度は０．０００１質量％以上０．５質量％未満であってよく、前記カルボン酸系安定剤の濃度は０．０００１質量％以上０．５質量％未満であってよい。

以下、各成分について説明する。

（１）添加剤
（１−１）安定剤
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、及び水を含み、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含み得る。これらの安定剤を添加することにより、過酸化水素の安定性が向上するとともに、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値を４．０〜１０．０に調整することができる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤のみを含んでもよく、すず酸ナトリウムと組み合わせて含んでもよい。また、本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、添加剤としてリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上をさらに含み得る。

＜リン系安定剤＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、添加剤としてリン系安定剤を含み得る。リン系安定剤としては、過酸化水素を安定化し、かつカルボン酸系安定剤と共に添加することにより殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値を上記の範囲に調整することができるものであればいずれも使用できる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いることができるリン系安定剤としては、例えばピロリン酸又はその塩、リン酸又はその塩、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩、ニトリロトリスメチレンホスホン酸又はその塩、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸又はその塩、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸又はその塩が挙げられるが、これらに限定されない。本発明の一実施形態において、リン系安定剤は、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩であってよい。本発明の別の実施形態において、リン系安定剤は、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩であってよい。本発明のさらに別の実施形態において、リン系安定剤は、ピロリン酸又はその塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、リン系安定剤は、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩であってよい。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、リン系安定剤の濃度は、０．０００１質量％以上０．５質量％未満であってよく、好ましくは０．０００１〜０．３０質量％であってよく、より好ましくは０．０００１〜０．２０質量％であり、さらにより好ましくは０．０００１〜０．１０質量％であってよい。

＜カルボン酸系安定剤＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、添加剤としてカルボン酸系安定剤を含み得る。カルボン酸系安定剤としては、過酸化水素を安定化し、かつリン系安定剤と共に添加することにより殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値を上記の範囲に調整することができるものであればいずれも使用できる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いることができるカルボン酸系安定剤としては、例えばエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩、ピコリン酸又はその塩、ジピコリン酸又はその塩、ニトリロ三酢酸又はその塩、Ｎ−（２-ヒドロキシエチル）エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−三酢酸又はその塩、トリエチレンテトラミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’，Ｎ”’−六酢酸又はその塩、１，３-プロパンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、１，３−ジアミノ−２−プロパノール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）イミノ二酢酸又はその塩、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）グリシン又はその塩、グリコールエーテルジアミン四酢酸、及び（Ｓ，Ｓ）−エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二コハク酸又はその塩が挙げられるが、これらに限定されない。本発明の一実施形態において、カルボン酸系安定剤は、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩であってよい。本発明の別の実施形態において、カルボン酸系安定剤は、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩であってよい。本発明の好ましい実施形態において、カルボン酸系安定剤は、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩であってよい。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、カルボン酸系安定剤の濃度は、０．０００１質量％以上０．５質量％未満であってよく、好ましくは０．０００１〜０．３０質量％であってよく、より好ましくは０．０００１〜０．２０質量％であり、さらにより好ましくは０．０００１〜０．１０質量％であってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、
前記リン系安定剤として、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩のいずれかを含み、
前記カルボン酸系安定剤として、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩のいずれかを含み得る。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、
前記リン系安定剤として、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩を含み、
前記カルボン酸系安定剤として、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩を含み得る。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、前記リン系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満、及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満含むものであってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、前記リン系安定剤を０．０００１〜０．３０質量％、及び前記及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１〜０．３０質量％含むものであってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、前記リン系安定剤を０．０００１〜０．２０質量％、及び前記及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１〜０．２０質量％含むものであってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物は、前記リン系安定剤を０．０００１〜０．１０質量％、及び前記及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１〜０．１０質量％含むものであってよい。

（１−２）すず酸ナトリウム
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、及び水を含み、添加剤としてすず酸ナトリウムを含み得る。すず酸ナトリウムを添加することにより、過酸化水素の安定性が向上するとともに、殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値を４．０〜１０．０に調整することができる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、添加剤としてすず酸ナトリウムを単独で含んでもよく、リン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤と組み合わせて含んでもよい。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、前記すず酸ナトリウムの濃度は、０．０００１〜５質量％であってよく、好ましくは０．０００１〜１質量％、より好ましくは０．０００１〜０．５質量％、さらにより好ましくは０．０００１〜０．２質量％であってよい。

（１−３）リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基
本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、過酢酸、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、及び水を含み、添加剤としてリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上をさらに含み得る。リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上を添加することにより、希釈後のｐＨの変化をより少なくすることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられ得るリン酸塩としては、リン酸のナトリウム塩、リン酸のカリウム塩等が挙げられるが、これらに限定されない。リン酸のナトリウム塩としては、例えば、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸三ナトリウム等が挙げられるがこれらに限定されない。リン酸のカリウム塩としては、例えば、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸三カリウム等が挙げられるがこれらに限定されない。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられ得るトリス塩基とは、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを意味する。

（２）その他の成分
＜過酸化水素＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物中には、過酸化水素が含まれる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物中には、過酸化水素は、それ自体、殺菌・洗浄能力を有するため、組成物全体の殺菌・洗浄効果を高めるのに寄与するだけでなく、酢酸との平衡反応により十分な量の過酢酸の生成及び維持（水溶液中における安定性）に寄与している。よって、酢酸と過酸化水素との組み合わせにより、さらに本発明の組成物の殺菌・洗浄効果を高めることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における過酸化水素の濃度は、０．００１〜２５質量％であってよく、好ましくは０．００５〜２０質量％、より好ましくは０．０１〜１５質量％、さらにより好ましくは０．０２〜１０質量％であってよい。過酸化水素の濃度が低すぎると酢酸との平衡反応により生成する過酢酸の量が十分でなく、本発明の殺菌・洗浄効果が十分に発揮されない場合がある。一方、過酸化水素の濃度が高すぎても前記効果は高まらず、かえって安全性に問題が生じる場合がある。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いる過酸化水素としては、超純過酸化水素を用いることができる。超純過酸化水素に含まれる不純物としては、アルミニウム（１０ｐｐｔ以下）、鉄（１０ｐｐｔ以下）、ナトリウム（５ｐｐｔ以下）が挙げられる。超純過酸化水素は、このように含まれる不純物が少ないため、得られる殺菌及び洗浄用組成物の安定性を向上させることができる。

＜酢酸及び／又はその塩＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられる酢酸としては、当技術分野で通常用いられるものを用いることができる。酢酸の塩としては、水溶液とした際にアルカリ性である酢酸塩であれば特に限定されず、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ベリリウム、酢酸マグネシウム、酢酸アルミニウム、酢酸カルシウム、酢酸ルビジウム、酢酸ストロンチウム、酢酸セシウム、酢酸バリウム、酢酸アンモニウムなどが挙げられる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における酢酸及び／又はその塩の濃度は、０．０１〜７０質量％であってよく、好ましくは０．０５〜６０質量％であってよく、より好ましくは０．１〜５５質量％であり、さらにより好ましくは０．２〜５０質量％であってよい。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において、酢酸及び／又はその塩の濃度は、過酢酸の濃度の３．５〜２５０倍であってよい。本発明の一実施形態において、酢酸及び／又はその塩の濃度は、過酢酸の濃度の３．５〜２５０倍、３．５〜１５０倍、３．５〜１００倍、５〜２５０倍、５〜１５０倍、５〜１００倍、１０〜２５０倍、１０〜１５０倍、１０〜１００倍、などであってよい。本発明の好ましい実施形態において、酢酸及び／又はその塩の濃度は、過酢酸の濃度の１０〜２５０倍、１０〜１５０倍、１０〜１００倍であってよい。酢酸及び／又はその塩の濃度が上記の濃度であれば、殺菌及び洗浄対象物に付着した炭酸カルシウム等のカルシウムスケールを十分に除去することができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いる酢酸としては、超純酢酸を用いることができる。超純酢酸に含まれる不純物としては、アルミニウム（１０ｐｐｔ以下）、鉄（１０ｐｐｔ以下）、ナトリウム（１０ｐｐｔ以下）が挙げられる。超純酢酸は、このように含まれる不純物が少ないため、得られる殺菌及び洗浄用組成物の安定性を向上させることができる。

＜過酢酸＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物において用いられる過酢酸としては、当技術分野で通常用いられるものを用いることができる。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物中における過酢酸の濃度は、０．００１〜１５質量％であってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物中における過酢酸の濃度は、例えば、０．００１質量％、０．００５質量％、０．０１質量％、０．１質量％、０．３質量％、０．４質量％、０．５質量％、０．６質量％、１．０質量％、３．０質量％、４．０質量％、５．０質量％、１０質量％、１５質量％であってよいが、これらに限定されない。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物中における過酢酸の濃度は、例えば、０．００１〜１５質量％、０．００１〜１０質量％、０．００１〜５質量％、０．００１〜３質量％、０．００５〜１５質量％、０．００５〜１０質量％、０．００５〜５質量％、０．００５〜３質量％、０．０１〜１５質量％、０．０１〜１０質量％、０．０１〜５質量％、０．０１〜３質量％、０．１〜１５質量％、０．１〜１０質量％、０．１〜５質量％、０．１〜３質量％、０．３〜１５質量％、０．３〜１０質量％、０．３〜５質量％、０．３〜３質量％、０．４〜１５質量％、０．４〜１０質量％、０．４〜５質量％、０．４〜３質量％、０．５〜１５質量％、０．５〜１０質量％、０．５〜５質量％、０．５〜３質量％、０．６〜１５質量％、０．６〜１０質量％、０．６〜５質量％、０．６〜３質量％、１．０〜１５質量％、１．０〜１０質量％、１．０〜５質量％、１．０〜３質量％、などであってよい。本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物中における過酢酸の濃度は、好ましくは０．００１〜１０質量％であってよく、より好ましくは０．００５〜５質量％であり、さらにより好ましくは０．０１〜３質量％であってよい。

＜その他の成分＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物には、さらに必要に応じて、一般的な殺菌及び洗浄用薬剤等に使用される添加剤など、例えば界面活性剤、増粘剤、香料、着色剤、加水分解酵素等が適宜配合されていてもよい。本発明の殺菌及び洗浄用組成物中、過酸化水素、酢酸及び／又はその塩、過酢酸、及び必要に応じて添加する安定剤その他の添加剤以外の残分は、主として水である。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物は、希釈することなくそのまま用いるか、あるいは任意の濃度に希釈して殺菌及び洗浄用希釈組成物とすることができる。希釈剤としては通常、水が用いられる。希釈剤として用いられる水は、例えば純水、超純水、蒸留水、精製水、注射用水、水道水などが用いられ得る。希釈倍率は、殺菌及び洗浄用希釈組成物として殺菌及び洗浄効果を発揮する濃度にすることができる希釈倍率であればよく、特に限定されないが、好ましくは１〜１００００倍、より好ましくは１〜１０００倍である。

Ｃ−２．殺菌及び洗浄用希釈組成物
本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酢酸、酢酸及び／又はその塩、過酸化水素、及び水、並びに添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含み、さらに希釈剤として追加の水を含む。各成分については、上述した通りである。

本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物は、上記の殺菌及び洗浄用希釈組成物を水で希釈することにより作製され得る。上述のように、希釈倍率は、殺菌及び洗浄用希釈組成物として殺菌及び洗浄効果を発揮する濃度にすることができる希釈倍率であればよく、特に限定されないが、好ましくは１〜１００００倍、より好ましくは１〜１０００倍である。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酢酸の濃度が、０．００１〜１．５質量％であってよく、好ましくは０．００１〜１．０質量％、より好ましくは０．００５〜０．５質量％、さらにより好ましくは０．０１〜０．３質量％であってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、酢酸及び／又はその塩の濃度が、０．０１〜７質量％であってよく、好ましくは０．０５〜６質量％、より好ましくは０．１〜５．５質量％、さらにより好ましくは０．２〜５質量％であってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酸化水素の濃度が、０．００１〜２．５質量％であってよく、好ましくは０．００５〜２質量％、より好ましくは０．０１〜１．５質量％、さらにより好ましくは０．０２〜１．０質量％であってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酢酸を０．００１〜１．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、及び水を含み、
添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０であるものであってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、リン系安定剤の濃度が、０．０００１〜０．０５質量％であってよく、好ましくは０．０００１〜０．０３質量％、より好ましくは０．０００１〜０．０２質量％、さらにより好ましくは０．０００１〜０．０１質量％であってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、カルボン酸系安定剤の濃度が、０．０００１〜０．０５質量％であってよく、好ましくは０．０００１〜０．０３質量％、より好ましくは０．０００１〜０．０２質量％、さらにより好ましくは０．０００１〜０．０１質量％であってよい。

本発明の別の実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、過酢酸を０．００１〜１．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、及び水を含み、
添加剤としてすず酸ナトリウムを含み、
前記組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０であるものであってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物は、すず酸ナトリウムの濃度が、０．０００１〜０．５質量％であってよく、好ましくは０．０００１〜０．１質量％、より好ましくは０．０００１〜０．０５質量％、さらにより好ましくは０．０００１〜０．０２質量％であってよい。

Ｃ−３．殺菌及び洗浄用組成物及び殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法
本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）酢酸塩
を混合する混合工程を含むものであってよい。この製造方法では、中和熱が発生せず、作業性が良い。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。各成分を混合する順序は任意であってよく、本発明の殺菌及び洗浄用組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。

上記酢酸塩としては、水溶液とした際にアルカリ性である酢酸塩であればよく、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ベリリウム、酢酸マグネシウム、酢酸アルミニウム、酢酸カルシウム、酢酸ルビジウム、酢酸ストロンチウム、酢酸セシウム、酢酸バリウム、酢酸アンモニウムを用いることができるがこれらに限定されない。本発明の一実施形態において、酢酸塩は、酢酸ナトリウムであってよい。本発明の別の実施形態において、酢酸塩は、酢酸カリウムであってよい。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）アルカリ
を混合する混合工程を含むものであってよい。この製造方法では、中和熱が発生し平行移動速度が増加して反応が加速され得る。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。各成分を混合する順序は任意であってよく、本発明の殺菌及び洗浄用組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。

上記アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化カルシウム、水酸化ルビジウム、水酸化ストロンチウム、水酸化セシウム、水酸化バリウム、アンモニアなどを用いることができるがこれらに限定されない。本発明の一実施形態において、アルカリは、水酸化ナトリウムであってよい。本発明の別の実施形態において、アルカリは、水酸化カリウムであってよい。

アルカリを使用する上記の製造方法は、添加剤、酢酸及びアルカリを混合した後、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合する工程を含み得る。この製造方法では、中和熱が発生するため、添加剤、酢酸及びアルカリを混合することにより発生する中和熱を利用して、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合することができ、これにより平行移動速度が増加して反応を加速させることができる。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上
を混合する混合工程を含むものであってよい。この製造方法において、（ｉｉｉ）としてリン酸塩、クエン酸塩を使用する場合には、中和熱が発生せず、作業性が良い。また、この製造方法において、（ｉｉｉ）としてトリス塩基を用いる場合には、中和熱が発生し平行移動速度が増加して反応が加速され得る。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。各成分を混合する順序は任意であってよく、本発明の殺菌及び洗浄用組成物では、混合した各成分が平衡状態となっている。

（ｉｉｉ）としてトリス塩基を使用する場合、上記の製造方法は、添加剤、酢酸及びトリス塩基を混合した後、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合する工程を含み得る。この製造方法では、中和熱が発生するため、添加剤、酢酸及びトリス塩基を混合することにより発生する中和熱を利用して、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合することができ、これにより平行移動速度が増加して反応を加速させることができる。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、下記工程（Ａ）及び（Ｂ）：
工程（Ａ） 少なくとも、（ｉ）添加剤、（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸、並びに（ｉｉｉ）酢酸塩、又はアルカリ、又はリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上
を混合する工程と；
工程（Ｂ） 工程（Ａ）で得られた水溶液（ａ）を１日以上静置する工程
とを含むものであってよい。工程（Ａ）で得られた水溶液（ａ）を工程（Ｂ）において静置することにより、水溶液が平衡状態に達する。酢酸塩を用いる実施形態において、工程（Ｂ）において静置する温度は、好ましくは２０〜６０℃であるが、より好ましくは２０〜５０℃である。また、工程（Ｂ）において静置する時間は、好ましくは１日以上であり、例えば２日以上、３日以上、５日以上、１０日以上、３０日以上などであってよい。アルカリ又はトリス塩基を用いる実施形態においては、上述のように、中和熱の発生により、反応を加速することができる。

本発明のさらに別の実施形態において、殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、下記工程（Ｃ）〜（Ｅ）：
工程（Ｃ） 少なくとも、（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸、および（ｉ）添加剤を混合する工程と；
工程（Ｄ） 工程（Ｃ）で得られた水溶液（ｃ）を１日以上静置する工程と；
工程（Ｅ） 工程（Ｄ）で得られた水溶液（ｄ）、（ｉｉｉ）酢酸塩、又はアルカリ、又はリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上、並びに水を混合する工程
とを含むものであってよい。工程（Ｃ）で得られた水溶液（ｃ）を静置することにより、水溶液が平衡状態に達する。工程（Ｄ）において静置する温度は、好ましくは２０〜６０℃であるが、より好ましくは２０〜５０℃である。また、工程（Ｄ）において静置する時間は、好ましくは１日以上であり、例えば２日以上、３日以上、５日以上、１０日以上、３０日以上などであってよい。その後、平衡状態に達した水溶液（ｄ）に酢酸塩、又はアルカリ、又はリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上、並びに水を混合する。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物の製造方法は、前記混合工程において、Ａｌ、Ｚｒ、及びＮｂからなる群より選択される金属を添加することをさらに含み得る。前記混合工程において上記のような金属を添加することにより、原料混合（調合）時における混合物の安定性を向上させることができる。本発明の殺菌及び洗浄用組成物に添加される金属は、例えば、金属の標準原液として添加することができる。好ましい実施形態において、金属の標準原液は、例えば、濃度１，０００ｐｐｍの標準原液であり得る。本発明の殺菌及び洗浄用組成物に添加される金属の濃度は、１０００ｐｐｂ以下の範囲であってよく、例えば５００ｐｐｂ以下、１ｐｐｂ〜２００ｐｐｂ、１０ｐｐｂ〜１５０ｐｐｂ、５０〜１００ｐｐｂであってよい。好ましい実施形態において、前記混合工程において添加される金属はＡｌである。

本発明の一実施形態において、殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法は、少なくとも下記成分：
（ｉ）添加剤
（ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
（ｉｉｉ）酢酸塩、又はアルカリ、又はリン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上
を混合する混合工程と、
得られた混合液を希釈する希釈工程
とを含むものであってよい。水溶液が平衡状態に達することにより、水溶液中には過酢酸も存在することになるが、混合工程において、過酢酸が加えられていてもよい。各成分については上述した通りである。本発明の殺菌及び洗浄用希釈組成物の製造方法において、前記希釈工程は、前記混合工程で得られた混合物と水とを混合することを含み得る。希釈剤として用いられる水は、例えば純水、超純水、蒸留水、精製水、注射用水、水道水などが用いられ得る。

［殺菌及び洗浄用組成物を用いた殺菌及び洗浄方法］
本発明の上記殺菌及び洗浄用組成物又は上記殺菌及び洗浄用希釈組成物はいずれも、例えば、医療用器具、飲料食品容器、工業排水、空調設備の冷却水、衣類、調理器具、食器、浴室、台所、洗濯槽、風呂釜、家具、ペットの殺菌、洗浄等に用いることができる。

本発明の一実施形態において、上記殺菌及び洗浄用組成物又は上記殺菌及び洗浄用希釈組成物を用いる、医療用器具の殺菌及び洗浄方法が提供される。本発明の殺菌及び洗浄方法において、前記医療用器具の殺菌及び洗浄方法が、浸漬法、噴霧法、塗布法のいずれかであってよい。本発明の医療用器具の殺菌及び洗浄方法において、用いる殺菌及び洗浄用組成物又は殺菌及び洗浄用希釈組成物の量や、殺菌及び洗浄する時間は、微生物の種類や量、洗浄用組成物又は殺菌及び洗浄用希釈組成物の濃度などに従って、適宜選択することができる。

本発明の殺菌及び洗浄方法において、前記医療用器具としては、透析用器具、内視鏡用器具、外科手術器具、産科・泌尿器科用器具、麻酔装置類、人工呼吸装置類、歯科用器具、注射針などが挙げられるが、これらに限定されない。本発明の殺菌及び洗浄方法は、前記医療用器具は、好ましくは透析用器具である。

以下に、本発明の実施例を示す。しかしながら、これらの実施例は、本発明の実施形態を例示するものであって、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。

［実施形態Ａ］
＜過酸化水素濃度の測定方法＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の過酸化水素濃度は酸化還元滴定により行った。具体的には試料約０．１ｇを精密に量り、２５０ｍＬの三角フラスコに入れ、純水１００ｍＬ、１．８ｍｏｌ／Ｌ硫酸を１０ｍＬ加えて検液とした。この検液にフェロイン試液を数滴加えて、０．１ｍｏｌ／Ｌ硫酸セリウム（ＩＶ）溶液で滴定し、過酸化水素濃度を算出した。

＜酢酸及び過酢酸濃度の測定方法＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の酢酸及び過酢酸濃度は中和滴定により行った。具体的には試料約０．１ｇを精密に量り、１００ｍＬビーカーに入れ、純水約５０ｍＬを加えて検液とした。この検液を０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液で滴定し、第一変曲点での添加量から酢酸濃度、第一変曲点から第二変曲点までの添加量から過酢酸濃度を算出した。

＜安定性試験＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の全過酸化物濃度は、ヨウ素還元滴定法により行った。具体的には試料約０．１ｇを精密に量り、２５０ｍＬの三角フラスコに入れ、純水１００ｍＬ、１．８ｍｏｌ／Ｌ硫酸１０ｍＬを加えた後、１０質量％のヨウ化カリウム溶液１０ｍＬ、１質量％モリブデン酸アンモニウム溶液を数滴加えて検液とした。この検液に０．１ｍｏｌ／Ｌチオ硫酸ナトリウム溶液を滴下し、指示薬にでんぷんを使用して液の青紫色が消失し無色となったところを終点として、遊離したヨウ素を定量した。そのヨウ素量から、過酸化水素換算で全過酸化物濃度を算出した。

殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の安定度は仕込み時の全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を１００とし、測定時の全過酸化物濃度の比率により算出し、下記のように評価した。
Ａ：９３％以上（良好）
Ｂ：９０％以上９３％未満（実用可能）
Ｃ：９０％未満（実用不可）

＜芽胞懸濁液の調整＞
セレウス菌標準菌株（Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｉｃｓ社製、製品名：Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｃｅｒｅｕｓ ＡＴＣＣ１０８７６）をＮＧＫＧ寒天培地（ＡＺＯＮＥ株式会社製、製品名：サニスペック生培地）に塗布し、３５℃で７日間培養した。この寒天培地に減菌蒸留水を加え、菌体をコンラージ棒で掻き取り採取し、遠心分離により減菌蒸留水で洗浄した。芽胞型のみを得るため８０℃で１０分間加熱し生残した菌を芽胞懸濁液とした。

＜殺菌試験＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を減菌蒸留水で４０〜３００倍に希釈し、過酢酸濃度が９０〜２００ｐｐｍとなるように試料液を調製した。各試料液５ｍＬに芽胞懸濁液５０μＬを加え、２５℃で１２０分間作用させた。作用後、０．１ｍｏｌ／Ｌ減菌チオ硫酸ナトリウム溶液で１０倍に希釈し、セレウス菌検出用培地（日水製薬株式会社製、製品名：コンパクトドライＸ−ＢＣ）を用いて３５℃で４８時間培養し生菌数を測定した。また、芽胞懸濁液の生菌数を測定し、開始時の生菌数とした。

＜実施例Ａ−１＞
純水２１．０ｇと６０質量％の１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ、イタルマッチジャパン株式会社製、製品名：デイクエスト２０１０）を０．０２ｇ、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水和物（ＥＤＴＡ・２Ｎａ・２Ｈ_２Ｏ、ＭＰ Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製）を０．０１ｇ、酢酸ナトリウム三水和物（富士フイルム和光純薬株式会社製）を５５．８ｇ、氷酢酸（昭和電工株式会社製、製品名：９９％純良酢酸）を９．０ｇ、４５質量％の過酸化水素（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＳＥＲ４５）を１４．２ｇ、ポリオキシエチレン（４．５）ラウリルエーテル酢酸（花王株式会社、製品名：カオーアキポＲＬＭ−４５）を０．０１ｇ、ＰＥ容器内で混合した。調合時の全過酸化物濃度は６．１％であった。混合後、２５℃で７日間熟成することで過酸化水素５．８質量％、酢酸８．６質量％、過酢酸０．４５質量％、酢酸ナトリウム３３．６質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸０．０１質量％、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム０．０１質量％、ポリオキシエチレン（４．５）ラウリルエーテル酢酸０．０１質量％、ｐＨ５．１の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）について、安定性試験及び殺菌試験を実施した。その結果は表Ａ−１〜表Ａ−２に示した（［表１］〜［表２］に示す。）。

＜実施例Ａ−２〜Ａ−４、参考例Ａ−１＞
表Ａ−１に記載された通りの配合とした以外は、実施例Ａ−１と同様にして、殺菌及び洗浄用組成物を作製した。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）について、安定性試験及び殺菌試験を実施した。その結果は表Ａ−１〜表Ａ−２に示した。

＜比較例Ａ−１＞
純水３７．１ｇとピロリン酸（純正化学株式会社製、製品名：二りん酸）を０．２ｇ、氷酢酸（昭和電工株式会社製、製品名：９９％純良酢酸）を３７．５ｇ、４５質量％の過酸化水素（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＳＥＲ４５）を１４．２ｇ、ＰＥ容器内で混合した。調合時の全過酸化物濃度は６．１％であった。混合後、５０℃で２日間、２５℃で２日間熟成することで過酸化水素７．５質量％、酢酸３２．４質量％、過酢酸６．０質量％、ピロリン酸０．２質量％、ｐＨ１．１の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）について、安定性試験及び殺菌試験を実施した。その結果は表Ａ−１〜表Ａ−２に示した。

上記の通り、本発明によれば、過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提供することができる。

＜表Ａ−１＞

＜表Ａ−２＞

［実施形態Ｂ］
＜殺菌及び洗浄用組成物中の過酸化水素濃度の測定方法＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の過酸化水素濃度は酸化還元滴定により行った。具体的には殺菌及び洗浄用組成物の試料約０．１ｇを精密に量り、２５０ｍＬの三角フラスコに入れ、２０質量％硫酸を１０ｍＬ加えて検液とした。この検液にフェロイン試液を数滴加えて、０．１ｍｏｌ／Ｌ硫酸セリウム（ＩＶ）溶液で滴定し、過酸化水素濃度を算出した。

＜殺菌及び洗浄用組成物中の酢酸及び過酢酸濃度の測定方法＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の酢酸濃度及び過酢酸濃度は中和滴定により行った。具体的には殺菌及び洗浄用組成物の試料約０．１ｇを精密に量り、１００ｍＬビーカーに入れ、純水約５０ｍＬを加えて検液とした。この検液を０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液で滴定し、第一変曲点での添加量から酢酸濃度を算出し、第一変曲点から第二変曲点までの添加量から過酢酸濃度を算出した。

＜殺菌及び洗浄用組成物の安定性試験＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の全過酸化物濃度は、ヨウ素還元滴定法により行った。具体的には殺菌及び洗浄用組成物の試料約０．１ｇを精密に量り、２５０ｍＬの三角フラスコに入れ、純水１００ｍＬ、２０質量％硫酸１０ｍＬを加えた後、１０質量％のヨウ化カリウム溶液１０ｍＬ、１質量％モリブデン酸アンモニウム溶液を数滴加えて検液とした。この検液に０．１ｍｏｌ／Ｌチオ硫酸ナトリウム溶液を滴下し、指示薬にでんぷんを使用して液の青紫色が消失し無色となったところを終点として、遊離したヨウ素を定量した。そのヨウ素量から、過酸化水素換算で全過酸化物濃度を算出した。

本発明の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の安定度は仕込み時の全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を１００とし、測定時の全過酸化物濃度の比率により算出し、下記のように評価した。
Ａ：９３％以上（良好）
Ｂ：９０％以上９３％未満（実用可能）
Ｃ：９０％未満（実用不可）

＜芽胞懸濁液の調製＞
セレウス菌標準菌株（Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｉｃｓ社製、製品名：Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｃｅｒｅｕｓＡＴＣＣ１０８７６）をＮＧＫＧ寒天培地（ＡＺＯＮＥ株式会社製、製品名：サニスペック生培地）に塗布し、３５℃で７日間培養した。この寒天培地に減菌蒸留水を加え、菌体をコンラージ棒で掻き取り採取し、遠心分離により減菌蒸留水で洗浄した。芽胞型のみを得るため８０℃で１０分間加熱し生残した菌を芽胞懸濁液とした。

＜殺菌試験＞
本発明の殺菌及び洗浄用水溶液（過酢酸組成物）を減菌蒸留水で希釈し、過酢酸の濃度が１０００ｐｐｍとなるように試料液を調製した。各試料液５ｍＬに芽胞懸濁液５０μＬを加え、２５℃で５〜３０分間作用させた。作用後、０．１ｍｏｌ／Ｌ減菌チオ硫酸ナトリウム溶液で１０倍に希釈し、セレウス菌検出用培地（日水製薬株式会社製、製品名：コンパクトドライＸ−ＢＣ）を用いて３５℃で４８時間培養し生菌数を測定した。また、芽胞懸濁液の生菌数を測定し、開始時の生菌数とした。

＜炭酸カルシウムスケールの作成＞
塩化カルシム（富士フイルム和光純薬株式会社製）と炭酸水素ナトリウム（富士フイルム和光純薬株式会社製）を純水に溶解し、炭酸カルシム水溶液（ＣａＣＯ３として９００ｍｇ／Ｌ）を調製した。ＳＵＳ３１６板（厚み１．０×縦４０×横４０ｍｍ）を１２０℃で加熱しながら炭酸カルシウム水溶液を合計２０ｍＬ滴下し、炭酸カルシウムスケールを作成した。
＜スケール除去試験＞
本発明の殺菌及び洗浄用水溶液（過酢酸組成物）を蒸留水で希釈し、過酢酸濃度が２００ｐｐｍの試料液を調製した。各試料液１０ｍＬに炭酸カルシウムスケールが付着したＳＵＳ３１６板を１時間浸漬した後、純水１０ｍＬで洗浄し、乾燥した。炭酸カルシウムスケールが付着したＳＵＳ３１６板の試料液への浸漬前後での重量変化量をスケール除去量とした。スケール除去量は比較例１に記載の値を１とした場合の相対値として示した。スケール除去能はスケール除去量の数値が大きい方が高い。

＜タンパクの吸着＞
タンパク質としてウシ血清アルブミン（富士フイルム和光純薬株式会社製）を使用した。ウシ血清アルブミンを純水に溶解し、０．３質量％のアルブミン溶液を調製した。固体ＴＣ測定用試料ボートにＳＵＳ３０４球（ＡＺＯＮＥ株式会社製）を約０．５ｇ入れ、アルブミン溶液を１ｍＬ滴下し、４０℃で２時間真空乾燥させ、ＳＵＳ３０４球にアルブミンを吸着させた。

＜タンパク除去試験＞
本発明の殺菌及び洗浄用水溶液（過酢酸組成物）を蒸留水で希釈し、過酢酸濃度が２００ｐｐｍの試料液を調製した。各試料液２０ｍＬにアルブミンが吸着したＳＵＳ３０４球の入った固体ＴＣ測定用試料ボートを入れ、４０℃の水槽で１時間振とうした。その後、純水１０ｍＬで洗浄し、４０℃で２時間真空乾燥し、固体ＴＣ測定装置（株式会社島津製作所製、製品名：ＴＯＣ−ＶＣＳＮ、ＳＳＭ−５０００Ａ）で全炭素量を測定し、炭素量から残存タンパク量を算出した。残存タンパク除去量は比較例１に記載の値を１とした場合の相対値として示した。タンパク除去能は残存タンパク量の数値が小さい方が高い。

＜実施例Ｂ−１＞
３５質量％の過酸化水素水（三菱ガス化学株式会社製：３５％過酸化水素）、氷酢酸（昭和電工株式会社製、製品名：９９％純良酢酸）、ピロリン酸（純正化学株式会社製、製品名：二りん酸）、純水、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸（花王株式会社製、製品名：カオーアキポＲＬＭ−１００）を用いて、過酸化水素１１．５質量％、酢酸３７．５質量％、ピロリン酸０．２％、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸１．０％となるよう混合した。混合後、２５℃で１１日間静置することで過酢酸６．５質量％、過酸化水素８．４質量％、酢酸３２．５質量％、ピロリン酸０．２質量％、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸１．０質量％の殺菌及び洗浄用組成物を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物について、殺菌試験及び安定性試験、スケール除去試験、タンパク除去試験を実施した。その結果は表Ｂ−１、表Ｂ−３、及び表Ｂ−５に示した（［表３］、［表５］、及び［表７］に示す。）。

＜実施例Ｂ−２〜Ｂ−１３、比較例Ｂ−１〜Ｂ−１０＞
実施例Ｂ−１と同様にして、表Ｂ−１及び表Ｂ−２（［表３］及び［表４］に示す。）に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、殺菌試験及び安定性試験、スケール除去試験、タンパク除去試験を実施した。その結果は表Ｂ−１〜表Ｂ−５に示した（［表３］〜［表７］に示す。）。

＜実施例Ｂ−１４＞
３５質量％の過酸化水素水（三菱ガス化学株式会社製：３５％過酸化水素）、氷酢酸（昭和電工株式会社製、製品名：９９％純良酢酸）、ピロリン酸（純正化学株式会社製、製品名：二りん酸）、純水、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸（花王株式会社製、製品名：カオーアキポＲＬＭ−１００）を用いて、過酸化水素１５．２質量％、酢酸９．３質量％、ピロリン酸０．０５質量％、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸１．０質量％となるよう混合した。混合後、２５℃で１１日間静置することで過酢酸１．６質量％、過酸化水素１４．５質量％、酢酸８．１質量％、ピロリン酸０．０５質量％、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸１．０質量％の殺菌及び洗浄用組成物を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物について、殺菌試験及び安定性試験、スケール除去試験、タンパク除去試験を実施した。その結果は表Ｂ−１及び表Ｂ−３に示した。

＜実施例Ｂ−１５、比較例Ｂ−１１＞
実施例Ｂ−１４と同様にして、表Ｂ−１及び表Ｂ−２に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、殺菌試験及び安定性試験を実施した。その結果は表Ｂ−１〜表Ｂ−４に示した。

＜実施例Ｂ−１６＞
３５質量％の過酸化水素水（三菱ガス化学株式会社製：３５％過酸化水素）、氷酢酸（昭和電工株式会社製、製品名：９９％純良酢酸）、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）（イタルマッチジャパン株式会社製、製品名：デイクエスト２０１０）、純水、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸（花王株式会社製、製品名：カオーアキポＲＬＭ−１００）を用いて、過酸化水素１２．１質量％、酢酸５９．１質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸０．７質量％、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸１．０質量％となるよう混合した。混合後２５℃で１１日間静置することで過酢酸１３．７質量％、過酸化水素５．４質量％、酢酸４８．４質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸０．７質量％、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸１．０質量％の殺菌及び洗浄用組成物を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物について、殺菌試験及び安定性試験を実施した。その結果は表Ｂ−１及び表Ｂ−３に示した。

＜実施例Ｂ−１７、比較例Ｂ−１２＞
実施例Ｂ−１６と同様にして、表Ｂ−１及びＢ−表２に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、殺菌試験及び安定性試験を実施した。その結果は表Ｂ−１〜表Ｂ−４に示した。

＜実施例Ｂ−１８＞
３５質量％の過酸化水素水（三菱ガス化学株式会社製：３５％過酸化水素）、氷酢酸（昭和電工株式会社製、製品名：９９％純良酢酸）、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）（イタルマッチジャパン株式会社製、製品名：デイクエスト２０１０）、純水、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸（花王株式会社製、製品名：カオーアキポＲＬＭ−１００）を用いて、過酸化水素２０．３質量％、酢酸１０．２質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸０．１質量％、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸１．０質量％となるよう混合した。混合後２５℃で１１日間静置することで過酢酸２．４質量％、過酸化水素１９．３質量％、酢酸８．４質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸０．１質量％、ポリオキシエチレン（１０）ラウリルエーテル酢酸１．０質量％の殺菌及び洗浄用組成物を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物について、殺菌試験及び安定性試験を実施した。その結果は表Ｂ−１〜表Ｂ−４に示した。

＜実施例Ｂ−１９、比較例Ｂ−１３＞
実施例Ｂ−１８と同様にして、表Ｂ−１及び表Ｂ−２に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、殺菌試験及び安定性試験を実施した。その結果は表Ｂ−１〜表Ｂ−４に示した。

＜表Ｂ−１＞

＜表Ｂ−２＞

＜表Ｂ−３＞

＜表Ｂ−４＞

＜表Ｂ−５＞

上記の通り、本発明によれば、過酢酸へ特殊なアニオン界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸）を添加することにより、従来の過酢酸水溶液より安定性、殺菌性を向上することができ、さらにスケール除去能、タンパク除去能を有する殺菌及び洗浄用組成物を提供することができることが示された。

［実施形態Ｃ］

＜殺菌及び洗浄用組成物中の過酸化水素濃度の測定方法＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の過酸化水素濃度は酸化還元滴定により行った。具体的には試料約０．１ｇを精密に量り、２５０ｍＬの三角フラスコに入れ、純水１００ｍＬ、１．８ｍｏｌ／Ｌ硫酸を１０ｍＬ加えて検液とした。この検液にフェロイン試液を数滴加えて、０．１ｍｏｌ／Ｌ硫酸セリウム（ＩＶ）溶液で滴定し、過酸化水素濃度を算出した。

＜殺菌及び洗浄用組成物中の酢酸及び過酢酸濃度の測定方法＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の酢酸濃度及び過酢酸濃度は中和滴定により行った。具体的には殺菌及び洗浄用組成物の試料約０．１ｇを精密に量り、１００ｍＬビーカーに入れ、純水約５０ｍＬを加えて検液とした。この検液を０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム溶液で滴定し、第一変曲点での添加量から酢酸濃度を算出し、第一変曲点から第二変曲点までの添加量から過酢酸濃度を算出した。

＜殺菌及び洗浄用組成物の全過酸化物濃度（ＴＰＯ）＞
本発明において、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の全過酸化物濃度は、ヨウ素還元滴定法により行った。具体的には試料約０．１ｇを精密に量り、２５０ｍＬの三角フラスコに入れ、純水１００ｍＬ、１．８ｍｏｌ／Ｌ硫酸１０ｍＬを加えた後、１０質量％のヨウ化カリウム溶液１０ｍＬ、１質量％モリブデン酸アンモニウム溶液を数滴加えて検液とした。この検液に０．１ｍｏｌ／Ｌチオ硫酸ナトリウム溶液を滴下し、指示薬にでんぷんを使用して液の青紫色が消失し無色となったところを終点として、遊離したヨウ素を定量した。そのヨウ素量から、過酸化水素換算で全過酸化物濃度を算出した。

＜殺菌及び洗浄用組成物の安定度＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）の安定度は仕込み時の全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を１００とし、測定時の全過酸化物濃度の比率により算出した。

＜芽胞懸濁液の調整＞
セレウス菌標準菌株（Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｉｃｓ社製、製品名：Ｂａｃｉｌｌｕｓ ｃｅｒｅｕｓ ＡＴＣＣ１０８７６）をＮＧＫＧ寒天培地（ＡＺＯＮＥ株式会社製、製品名：サニスペック生培地）に塗布し、３５℃で７日間培養した。この寒天培地に減菌蒸留水を加え、菌体をコンラージ棒で掻き取り採取し、遠心分離により減菌蒸留水で洗浄した。芽胞型のみを得るため８０℃で１０分間加熱し生残した菌を芽胞懸濁液とした。

＜殺菌試験＞
本発明の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を減菌蒸留水で４０〜３００倍に希釈し、過酢酸濃度が９０〜２００ｐｐｍとなるように試料液を調製した。各試料液５ｍＬに芽胞懸濁液５０μＬを加え、２５℃で１２０分間作用させた。作用後、０．１ｍｏｌ／Ｌ減菌チオ硫酸ナトリウム溶液で１０倍に希釈し、セレウス菌検出用培地（日水製薬株式会社製、製品名：コンパクトドライＸ−ＢＣ）を用いて３５℃で４８時間培養し生菌数を測定した。また、芽胞懸濁液の生菌数を測定し、開始時の生菌数とした。

＜実施例Ｃ−１＞
純水２２．０ｇと６０質量％の１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ、イタルマッチジャパン株式会社製、製品名：デイクエスト２０１０）を０．１７ｇ、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水和物（ＥＤＴＡ・２Ｎａ・２Ｈ_２Ｏ、ＭＰＢｉｏｍｅｄｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製）を０．１１ｇ、氷酢酸（昭和電工株式会社製、製品名：９９％純良酢酸）を１８．０ｇ、酢酸ナトリウム三水和物（富士フイルム和光純薬株式会社製）を４５．６ｇ、４５質量％の過酸化水素水（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＳＥＲ４５）を１４．２ｇ、ＰＥ容器内で調合した。調合時の全過酸化物濃度は６．１％であった。調合後、２５℃で７日間熟成し、過酸化水素５．６質量％、酢酸１７．１質量％、過酢酸１．１質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）０．１質量％、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム（ＥＤＴＡ・２Ｎａ）０．１質量％、ｐＨ５．１の透析装置洗浄用として使用される過酢酸組成物を得た。得られた過酢酸組成物については、調合してから２５℃で１４日後に全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を測定し、安定度を算出した。その結果は表Ｃ−１に示した（［表８］に示す。）。安定度は、下記のように評価した。
Ａ：９４．５％以上（良好）
Ｂ：９３．８％以上９４．５％未満（実用可能）
Ｃ：９３．８％未満（実用不可）

＜実施例Ｃ−２〜Ｃ−１４、比較例Ｃ−１〜Ｃ−６＞
添加剤として表Ｃ−１に記載されたものを用いた以外は、実施例Ｃ−１と同様にして、表Ｃ−１に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を測定し、安定度を算出した。その結果は表Ｃ−１に示した。表中に示されている、ＤＴＰＰ、すず酸Ｎａ・３Ｈ_２Ｏ、及びＤＴＰＡとしては、下記のものを用いた。
・ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ、三菱ガス化学株式会社製、精製品）
・すず酸ナトリウム三水和物（すず酸Ｎａ・３Ｈ_２Ｏ、富士フイルム和光純薬株式会社製）
・ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ、株式会社同仁化学研究所製）

＜実施例Ｃ−１５〜Ｃ−２０＞
表Ｃ−２（［表９］に示す。）に記載されたとおりの配合とし、５０℃で１日間熟成した以外は、実施例Ｃ−１と同様にして、表Ｃ−２に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、調合してから上記５０℃で１日間の熟成、並びに２５℃で２０日間経過後に全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を測定し、安定度を算出した。その結果は表Ｃ−２に示した。安定度は、下記のように評価した。
Ａ：９３．０％以上（良好）
Ｂ：９０．０％以上９３．０％未満（実用可能）
Ｃ：９０．０％未満（実用不可）

＜実施例Ｃ−２１〜Ｃ−２２、比較例Ｃ−７〜Ｃ−１２＞
表Ｃ−３（［表１０］に示す。）に記載されたとおりの配合とし、２５℃で２１日間熟成した以外は、実施例Ｃ−１と同様にして、表Ｃ−３に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、調合してから２５℃で２１日間経過後に全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を測定し、安定度を算出した。その結果は表Ｃ−３に示した。安定度は、下記のように評価した。
Ａ：９８．０％以上（良好）
Ｂ：９６．０％以上９８．０％未満（実用可能）
Ｃ：９６．０％未満（実用不可）

表中に示されている、５０％フィチン酸、及びＮａＯＨとしては、下記のものを用いた。
・５０質量％フィチン酸溶液（５０％フィチン酸、富士フイルム和光純薬株式会社製）
・水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ、富士フイルム和光純薬株式会社製）

＜実施例Ｃ−２３〜Ｃ−２５、比較例Ｃ−１３〜Ｃ−１４＞
表Ｃ−４（［表１１］に示す。）に記載されたとおりの配合とした以外は、実施例Ｃ−２１と同様にして、表Ｃ−４に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、調合してから２５℃で２１日間経過後に全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を測定し、安定度を算出した。その結果は表Ｃ−４に示した。安定度は、下記のように評価した。
Ａ：９７．０％以上（良好）
Ｂ：９４．０％以上９７．０％未満（実用可能）
Ｃ：９４．０％未満（実用不可）

表中に示されている、ピロリン酸としては、下記のものを用いた。
・ピロリン酸（純正化学株式記会社製、製品名：二りん酸）

＜比較例Ｃ−１５〜Ｃ−２１＞
表Ｃ−５（［表１２］に示す。）に記載されたとおりの配合とし、２５℃で１１日間熟成した以外は、実施例Ｃ−２１と同様にして、表Ｃ−５に示す濃度の殺菌及び洗浄用組成物を得た。殺菌及び洗浄用組成物について、調合してから２５℃で２１日間経過後に全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を測定し、安定度を算出した。その結果は表Ｃ−５に示した。安定度は、下記のように評価した。
Ａ：９７．０％以上（良好）
Ｂ：９３．０％以上９７．０％未満（実用可能）
Ｃ：９３．０％未満（実用不可）

表中に示されている、ジピコリン酸、及びＥＤＴＭＰとしては、下記のものを用いた。
・ジピコリン酸（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸（ＥＤＴＭＰ、東京化成工業株式会社製）

＜表Ｃ−１＞

＜表Ｃ−２−１＞

＜表Ｃ−２−２＞

＜表Ｃ−３−１＞

＜表Ｃ−３−２＞

＜表Ｃ−４＞

＜表Ｃ−５＞

＜実施例Ｃ−２６〜Ｃ−２９＞
下記に、本発明の殺菌及び洗浄用組成物の製造方法について検討した結果を例として表Ｃ−６に示す（［表１３］に示す。）。アルカリを用いた実施例Ｃ−２６及びＣ−２８では、酢酸塩を用いた実施例Ｃ−２７及びＣ−２９と比較して、中和熱による反応速度の増加が認められた。

＜表Ｃ−６＞

＜実施例Ｃ−１０１＞
純水２０．０ｇと６０質量％の１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ、イタルマッチジャパン株式会社製、製品名：デイクエスト２０１０）を０．０２ｇ、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水和物（ＥＤＴＡ・２Ｎａ・２Ｈ_２Ｏ、ＭＰ Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製）を０．０１ｇ、８５質量％の水酸化カリウム（富士フイルム和光純薬株式会社製）を２８．４ｇ、氷酢酸（昭和電工株式会社製、製品名：９９％純良酢酸）を３７．４ｇ、４５質量％の過酸化水素（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＳＥＲ４５）を１４．２ｇ、ＰＥ容器内で混合した。調合時の全過酸化物濃度は６．１％であった。混合後、５０℃で１日間熟成し、２５℃になるまで冷却することで過酸化水素５．７質量％、酢酸１０．７質量％、過酢酸０．３３質量％、酢酸カリウム４４．７質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸０．０１質量％、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム０．０１質量％、ｐＨ５．１の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）について、安定性試験を実施した。その結果は表Ｃ−７に示した（［表１４］に示す。）。

＜実施例Ｃ−１０２〜Ｃ−１０４、比較例Ｃ−１０１＞
表Ｃ−７に記載された配合に変更した以外は、実施例Ｃ−１０１と同様にして、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）について、安定性試験を実施した。その結果は表Ｃ−７に示した。安定度は、下記のように評価した。
Ａ：良好
Ｂ：実用可能
Ｃ：実用不可
・リン酸水素二ナトリウム十二水和物（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・クエン酸ナトリウム二水和物（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン（２−アミノ−１−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、富士フイルム和光純薬株式会社製）
・２−（４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル）エタンスルホン酸（ＨＥＰＥＳ、株式会社同仁化学研究所）

＜表Ｃ−７＞

＜実施例Ｃ−１０５＞
純水２２．２ｇと６０質量％の１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ、イタルマッチジャパン株式会社製、製品名：デイクエスト２０１０）を０．０２ｇ、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水和物（ＥＤＴＡ・２Ｎａ・２Ｈ_２Ｏ、ＭＰＢｉｏｍｅｄｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製）を０．０１ｇ、超純酢酸（関東化学株式会社製、規格：Ｕｌｔｒａｐｕｒ）を１８．０ｇ、酢酸ナトリウム三水和物（富士フイルム和光純薬株式会社製）を４５．６ｇ、４５質量％の過酸化水素水（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＳＥＲ４５）を１４．２ｇ、ＰＥ容器内で調合した。調合時の全過酸化物濃度は６．１％であった。調合後、２５℃で７日間熟成し、過酸化水素５．６質量％、酢酸１７．１質量％、過酢酸１．０質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）０．０１質量％、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム（ＥＤＴＡ・２Ｎａ）０．０１質量％、ｐＨ５．１の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）については、調合してから２５℃で４２日後に全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を測定し、安定度を算出した。その結果は表Ｃ−８に示した（［表１５］に示す。）。

＜実施例Ｃ−１０６〜Ｃ−１０８＞
表Ｃ−８に記載された配合に変更した以外は、実施例Ｃ−１０５と同様にして、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）について、安定性試験を実施した。その結果は表Ｃ−８に示した。安定度は、下記のように評価した。
Ａ：良好
Ｂ：実用可能
Ｃ：実用不可
・３５質量％の超純過酸化水素（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＵＥＬＭ３５）

＜表Ｃ−８＞

＜実施例Ｃ−１０９＞
硫酸カリウムアルミニウム十二水和物（富士フイルム和光純薬株式会社製）１．８ｇを１００ｇの純水に溶かし、Ａｌ水溶液（Ａｌ：１０００ｐｐｍ）を調製した。純水３１．０ｇと６０質量％の１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ、イタルマッチジャパン株式会社製、製品名：デイクエスト２０１０）を０．０２ｇ、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム・二水和物（ＥＤＴＡ・２Ｎａ・２Ｈ_２Ｏ、ＭＰＢｉｏｍｅｄｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．製）を０．０１ｇ、超純酢酸（関東化学株式会社製、規格：Ｕｌｔｒａｐｕｒ）を３８．１ｇ、水酸化ナトリウム（富士フイルム和光純薬株式会社製）を１３．４ｇ、３５質量％の超純過酸化水素（三菱ガス化学株式会社製、製品名：ＵＥＬＭ３５）を１７．５ｇ、Ａｌ水溶液（１０００ｐｐｍ）を０．００５ｇ、ＰＥ容器内で調合した。調合時の全過酸化物濃度は６．１％であった。調合後、２５℃で７日間熟成し、過酸化水素５．６質量％、酢酸１７．５質量％、過酢酸１．１質量％、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）０．０１質量％、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム（ＥＤＴＡ・２Ｎａ）０．０１質量％、ｐＨ５．１の殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）については、調合してから２５℃で２１日後に全過酸化物濃度（ＴＰＯ）を測定し、安定度を算出した。その結果は表Ｃ−９に示した（［表１６］に示す。）。

＜実施例Ｃ−１１０〜Ｃ−１１２、参考例Ｃ−１０２＞
表Ｃ−９に記載された配合に変更した以外は、実施例Ｃ−１０９と同様にして、殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）を得た。得られた殺菌及び洗浄用組成物（過酢酸組成物）について、安定性試験を実施した。その結果は表Ｃ−９に示した。安定度は、下記のように評価した。
Ａ：良好
Ｂ：実用可能
Ｃ：実用不可
・Ｚｒ標準液（Ｚｒ：１０００ｐｐｍ）（富士フイルム和光純薬株式会社製）
・Ｎｂ標準液（Ｎｂ：１０００ｐｐｍ）（富士フイルム和光純薬株式会社製）

＜表Ｃ−９＞

上記の通り、本発明によれば、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を添加することにより、過酸化物の安定性が高く、かつ排水が下水排除基準を満たす、医療機器殺菌及び洗浄用組成物を提供することができることが示された。

Claims (59)

1. 過酢酸を０．００１〜３０質量％、過酸化水素を０．００１〜３０質量％、酢酸及び／又はその塩を１〜７０質量％、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜５質量％、及び水を含む、殺菌及び洗浄用組成物であって、
   前記殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
2. 添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤をさらに含む、請求項１に記載の組成物。
3. 前記リン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を０．０００１〜５質量％含む、請求項２に記載の組成物。
4. 前記リン酸系安定剤が、ピロリン酸又はその塩、リン酸又はその塩、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩、ニトリロトリスメチレンホスホン酸又はその塩、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸又はその塩、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸又はその塩からなる群より選択され、好ましくは１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩である、請求項２又は３に記載の組成物。
5. 前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩、ピコリン酸又はその塩、ジピコリン酸又はその塩、ニトリロ三酢酸又はその塩、Ｎ−（２-ヒドロキシエチル）エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−三酢酸又はその塩、トリエチレンテトラミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’，Ｎ”’−六酢酸又はその塩、１，３-プロパンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、１，３−ジアミノ−２−プロパノール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−四酢酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）イミノ二酢酸又はその塩、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）グリシン又はその塩、グリコールエーテルジアミン四酢酸、及び（Ｓ，Ｓ）−エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ’−二コハク酸又はその塩のいずれかを含み、好ましくはエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、請求項２又は３のいずれかに記載の組成物。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物と、
   追加の水
   とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
7. 過酢酸を０．００１〜１．５質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００１〜０．１質量％含み、
   前記希釈組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、請求項６に記載の希釈組成物。
8. 少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
   （ｉ）過酸化水素水
   （ｉｉ）酢酸
   （ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
9. 少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
   （ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
   （ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
   （ｉｉｉ）酢酸塩
   （ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
10. 少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
    （ｉ）添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤
    （ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
    （ｉｉｉ）アルカリ
    （ｉｖ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
11. 前記添加剤、酢酸、アルカリ、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を混合した後、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合する、請求項１０に記載の製造方法。
12. 少なくとも下記成分を混合する混合工程と、
    得られた混合液を希釈する希釈工程
    とを含む、請求項６又は７に記載の希釈組成物の製造方法。
    （ｉ）過酸化水素水及び酢酸
    （ｉｉ）酢酸塩又はアルカリ
    （ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
13. 前記希釈工程が、前記混合工程で得られた混合物と水とを混合することを含む、請求項１２に記載の希釈組成物の製造方法。
14. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物又は請求項６若しくは７に記載の希釈組成物を用いる、医療用器具の殺菌及び洗浄方法。
15. 前記医療用器具の殺菌及び洗浄方法が、浸漬法、噴霧法、塗布法のいずれかである、請求項１４に記載の殺菌及び洗浄方法。
16. 前記医療用器具が、透析用器具である、請求項１４又は１５に記載の殺菌及び洗浄方法。
17. 過酢酸を０．０１〜３０質量％、過酸化水素を０．１〜３０質量％、酢酸を１〜６０質量％、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００１〜５質量％、及び水を含む、殺菌及び洗浄用組成物。
18. 安定剤をさらに含む、請求項１７に記載の組成物。
19. 前記安定剤を０．０１〜５質量％含む、請求項１８に記載の組成物。
20. 前記安定剤が、リン酸系安定剤である、請求項１８又は１９に記載の組成物。
21. 前記リン酸系安定剤が、ピロリン酸、リン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、ニトリロトリスメチレンホスホン酸、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸、及びエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸からなる群より選択され、好ましくはピロリン酸である、請求項２０に記載の組成物。
22. キレート剤をさらに含む、請求項１７〜２１のいずれか一項に記載の組成物。
23. キレート剤を０．０１〜２質量％含む、請求項２２に記載の組成物。
24. 前記キレート剤が、エチレンジアミン四酢酸、クエン酸、リンゴ酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、及びジピコリン酸からなる群より選択される、請求項２２又は２３に記載の組成物。
25. 請求項１７〜２４のいずれか１項に記載の組成物と、
    追加の水
    とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
26. 過酢酸を０．００１〜０．２質量％、過酸化水素を０．０１〜２質量％、酢酸を０．０１〜１質量％、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を０．００００１〜０．１質量％含む、請求項２５に記載の希釈組成物。
27. 少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項１７〜２４のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
    （ｉ）過酸化水素水
    （ｉｉ）酢酸
    （ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
28. 請求項１７〜２４のいずれか一項に記載の組成物の製造方法であって、下記工程（Ａ）及び（Ｂ）を含む、前記組成物の製造方法。
    工程（Ａ） 少なくとも、酢酸、３０〜６５質量％の過酸化水素水溶液、及びポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩を混合する工程
    工程（Ｂ） 工程（Ａ）で得られた水溶液（ａ）を２０〜６０℃で１日以上静置する工程
29. 前記工程（Ａ）が、キレート剤を混合することをさらに含む、請求項２８に記載の組成物の製造方法。
30. 請求項１７〜２４のいずれか一項に記載の組成物の製造方法であって、下記工程（Ｃ）〜（Ｅ）を含む、前記組成物の製造方法。
    工程（Ｃ） 少なくとも、酢酸、３０〜６５質量％の過酸化水素水溶液を混合する工程
    工程（Ｄ） 工程（Ｃ）で得られた水溶液（ｃ）を２０〜６０℃で１日以上静置する工程
    工程（Ｅ） 工程（Ｄ）で得られた水溶液（ｄ）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩、及び水を混合する工程
31. 前記工程（Ｅ）において、さらにキレート剤を混合する、請求項３０に記載の組成物の製造方法。
32. 少なくとも下記成分を混合する混合工程と、
    得られた混合液を希釈する希釈工程
    とを含む、請求項２５又は２６に記載の希釈組成物の製造方法。
    （ｉ）過酸化水素水
    （ｉｉ）酢酸
    （ｉｉｉ）ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸又はその塩
33. 前記希釈工程が、前記混合工程で得られた混合物と水とを混合することを含む、請求項３２に記載の希釈組成物の製造方法。
34. 請求項１７〜２４のいずれか一項に記載の組成物又は請求項２５若しくは２６に記載の希釈組成物を用いる、医療用器具の殺菌及び洗浄方法。
35. 前記医療用器具の殺菌及び洗浄方法が、浸漬法、噴霧法、塗布法のいずれかである、請求項３４に記載の殺菌及び洗浄方法。
36. 前記医療用器具が、透析用器具である、請求項３４又は３５記載の殺菌及び洗浄方法。
37. 過酢酸を０．００１〜１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７０質量％、過酸化水素を０．００１〜２５質量％、及び水を含み、
    添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含む、
    殺菌及び洗浄用組成物であって、
    前記殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
38. 前記リン系安定剤が、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸（ＤＴＰＰ）又はその塩のいずれかを含み、好ましくは１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩である、請求項３７に記載の組成物。
39. 前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ジエチレントリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）又はその塩のいずれかを含み、好ましくはエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、請求項３７又は３８に記載の組成物。
40. 前記リン系安定剤が、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）又はその塩であって、
    前記カルボン酸系安定剤が、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩である、請求項３７〜３９のいずれか一項に記載の組成物。
41. 前記リン系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満、及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満含む、請求項３７〜４０のいずれか一項に記載の組成物。
42. リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上をさらに含む、請求項３７〜４１のいずれか一項に記載の組成物。
43. さらに、添加剤としてすず酸ナトリウムを含む、請求項３７〜４２のいずれか一項に記載の組成物。
44. 前記すず酸ナトリウムを０．０００１〜５質量％含む、請求項４３に記載の組成物。
45. 過酢酸を０．００１〜１５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７０質量％、過酸化水素を０．００１〜２５質量％、及び水を含み、
    添加剤としてすず酸ナトリウムを含む、
    殺菌及び洗浄用組成物であって、
    前記殺菌及び洗浄用組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、殺菌及び洗浄用組成物。
46. 前記すず酸ナトリウムを０．０００１〜５質量％含む、請求項４５に記載の組成物。
47. さらに、添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含む、請求項４５又は４６のいずれかに記載の組成物。
48. 前記リン系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満、及び前記カルボン酸系安定剤を０．０００１質量％以上０．５質量％未満含む、請求項４７に記載の組成物。
49. 前記組成物のｐＨ値が、５．０〜９．０である請求項３７〜４８のいずれか一項に記載の組成物。
50. 請求項３７〜４９のいずれか１項に記載の組成物と、
    追加の水
    とを含む、殺菌及び洗浄用希釈組成物。
51. 過酢酸を０．００１〜１．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、及び水を含み、
    添加剤としてリン系安定剤及び／又はカルボン酸系安定剤を含み、
    前記殺菌及び洗浄用希釈組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、請求項５０に記載の殺菌及び洗浄用希釈組成物。
52. 過酢酸を０．００１〜１．５質量％、酢酸及び／又はその塩を０．０１〜７質量％、過酸化水素を０．００１〜２．５質量％、及び水を含み、
    添加剤としてすず酸ナトリウムを含み、
    前記殺菌及び洗浄用希釈組成物のｐＨ値が、４．０〜１０．０である、請求項５０に記載の殺菌及び洗浄用希釈組成物。
53. 前記過酸化水素が、超純過酸化水素である、請求項３７〜４９のいずれか一項に記載の組成物、又は請求項５０〜５２のいずれか一項に記載の希釈組成物。
54. 前記酢酸が、超純酢酸である、請求項３７〜４９のいずれか一項に記載の組成物、又は請求項５０〜５３のいずれか一項に記載の希釈組成物。
55. 少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項３７〜４９、５３、及び５４のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
    （ｉ）添加剤
    （ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
    （ｉｉｉ）リン酸塩、クエン酸塩、及びトリス塩基から選択される１種以上
56. 少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項３７〜４９、５３、及び５４のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
    （ｉ）添加剤
    （ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
    （ｉｉｉ）アルカリ
57. 前記添加剤、酢酸及びアルカリを混合した後、３０〜５０℃で過酸化水素水を混合する、請求項５６に記載の製造方法。
58. 少なくとも下記成分を混合する混合工程を含む、請求項３７〜４９、５３、及び５４のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
    （ｉ）添加剤
    （ｉｉ）過酸化水素水及び酢酸
    （ｉｉｉ）酢酸塩
59. 前記混合工程において、Ａｌ、Ｚｒ、及びＮｂからなる群より選択される金属を添加することをさらに含む、請求項５５〜５８のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。