TW202114519A - 醫療設備洗淨用過乙酸組成物及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題為過氧化物之穩定性高，排出之廢水滿足污水排除基準，且蛋白質去除力更好的醫療設備殺菌及洗淨用組成物。 本發明之解決手段為一種殺菌及洗淨用組成物，包含過乙酸0.001～15質量%、乙酸及/或其鹽0.01～70質量%、過氧化氫0.001～25質量%、及水， 包含添加劑， 該組成物之pH值為4.0～10.0。

Description

醫療設備洗淨用過乙酸組成物及其製造方法
本發明關於適合用於醫療設備之殺菌、洗淨的殺菌及洗淨用過乙酸組成物及其製造方法。
以往醫療設備之殺菌、洗淨係使用酸性、鹼性之藥品，過酸水溶液亦為其中1種。然而因為使用酸性、鹼性之藥品，將不滿足污水排除基準之廢液就這樣排出，而損害混凝土製之下水道管的案例不勝枚舉。下水道管的損傷除了造成無法排放廢水到下水道，還會有引起道路陷落的可能性，必須盡快做出因應。在此背景之下，日本東京都下水道局在2019年1月針對透析廢水與下水道管的問題發出了警訊。日本東京都下水道局要求排放廢水之污水排除基準限定氫離子濃度(pH)為超過5且未達9的範圍內。
就用於醫療設備之殺菌、洗淨之殺菌及洗淨用過乙酸組成物而言，酸性之過乙酸水溶液(專利文獻1)、含有抑制對鋁之腐蝕性之酸性氧化劑的組成物(專利文獻2)、鹼性之殺菌洗淨用製劑(專利文獻3)等係為已知。然而，不能說這些組成物就必定滿足排放廢水之污水排除基準。因此，仍尋求不會傷害配水管之洗淨劑。 ［先前技術文獻］ ［專利文獻］
［專利文獻1］日本特開2010-184868號公報 ［專利文獻2］WO2010/095231號公報 ［專利文獻3］日本特表2016-532634號公報
［發明所欲解決之課題］
尋求過氧化物之穩定性高，且排出之廢水滿足污水排除基準的醫療設備殺菌及洗淨用組成物。 ［解決課題之手段］
本案發明人們努力研究，結果發現藉由加入添加劑可提供過氧化物之穩定性提高，排出之廢水滿足污水排除基準，且蛋白質去除力更好的醫療設備殺菌及洗淨用組成物。
亦即，本發明包含下述實施形態。
＜1＞ 一種殺菌及洗淨用組成物，包含過乙酸0.001～15質量%、乙酸及/或其鹽0.01～70質量%、過氧化氫0.001～25質量%、及水， 包含添加劑， 該組成物之pH值為4.0～10.0。 ＜2＞ 如＜1＞之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為選自於由聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、羧酸系穩定劑、及錫酸鹽構成之群組中之1種以上。 ＜3＞ 如＜1＞或＜2＞之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽。 ＜4＞ 如＜1＞至＜3＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為磷系穩定劑。 ＜5＞ 如＜1＞至＜4＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為羧酸系穩定劑。 ＜6＞ 如＜1＞或＜2＞之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、及羧酸系穩定劑。 ＜7＞ 如＜6＞之殺菌及洗淨用組成物，其中，該磷系穩定劑包含羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽、及二伸乙基三胺五亞甲基膦酸(DTPP)或其鹽中任一者。 ＜8＞ 如＜6＞之殺菌及洗淨用組成物，其中，該羧酸系穩定劑包含乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽、及二伸乙基三胺五乙酸(DTPA)或其鹽中任一者。 ＜9＞ 如＜6＞之殺菌及洗淨用組成物，其中，該磷系穩定劑為羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽， 該羧酸系穩定劑為乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽。 ＜10＞ 如＜6＞至＜9＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，包含0.001～5質量%之該聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽。 ＜11＞ 如＜6＞至＜9＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，包含0.0001質量%以上且未達0.5質量%之該磷系穩定劑、及0.0001質量%以上且未達0.5質量%之該羧酸系穩定劑。 ＜12＞ 如＜1＞至＜11＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，該組成物之pH值為5.0～9.0。 ＜13＞ 一種殺菌及洗淨用組成物之製造方法，係製造如＜1＞至＜12＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物之製造方法，包含至少將下列成分予以混合之混合步驟， (i)添加劑 (ii)過氧化氫水及乙酸 (iii)乙酸鹽。 ＜14＞ 一種殺菌及洗淨用組成物之製造方法，係製造如＜1＞至＜12＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物之製造方法，包含至少將下列成分予以混合之混合步驟， (i)添加劑 (ii)過氧化氫水及乙酸 (iii)鹼。 ＜15＞ 如＜14＞之殺菌及洗淨用組成物之製造方法，其中，將該添加劑、乙酸及鹼予以混合後，在30～50℃下混合過氧化氫水。 ＜16＞ 一種殺菌及洗淨用稀釋組成物，包含如＜1＞至＜12＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物，及 追加的水。 ＜17＞ 如＜16＞之殺菌及洗淨用稀釋組成物，其中，包含過乙酸0.001～1.5質量%、乙酸及/或其鹽0.01～7質量%、過氧化氫0.001～2.5質量%、及水， 包含添加劑， 該組成物之pH值為4.0～10.0。 ＜18＞ 一種醫療用器具之殺菌及洗淨方法，係使用如＜1＞至＜12＞中任一項之殺菌及洗淨用組成物或＜16＞或＜17＞之殺菌及洗淨用稀釋組成物。 ＜19＞ 如＜18＞之醫療用器具之殺菌及洗淨方法，該醫療用器具之殺菌及洗淨方法係選自於浸漬法、噴霧法、塗佈法、通液法、循環法、及封入法。 ＜20＞ 如＜18＞或＜19＞之醫療用器具之殺菌及洗淨方法，其中，該醫療用器具為透析用器具。 ［發明之效果］
根據本發明，藉由加入添加劑可提供過氧化物之穩定性提高，排出之廢水滿足污水排除基準，且蛋白質去除力更好的醫療設備殺菌及洗淨用組成物。本發明之組成物因為其pH值滿足污水排除基準，所以使用後之廢液不必進行中和處理便可排放。
1.殺菌及洗淨用組成物 本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物包含過乙酸、過氧化氫、乙酸及/或其鹽、及水，並包含添加劑。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可為4.0～10.0。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可例如為4.0、4.5、5.0、5.1、5.2、5.3、5.4、5.5、5.6、5.7、5.8、5.9、6.0、6.5、7.0、7.5、8.0，8.5、9.0，9.5、10.0等，但並不限於這些數值。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可例如為4.0～10.0、4.0～9.5、4.0～9.0、4.0～8.5、4.0～8.0、4.0～7.5、4.0～7.0、4.0～6.5、4.0～6.0。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可為4.5～10.0、4.5～9.5、4.5～9.0、4.5～8.5、4.5～8.0、4.5～7.5、4.5～7.0、4.5～6.5、4.5～6.0。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可為5.0～10.0、5.0～9.5、5.0～9.0、5.0～8.5、5.0～8.0、5.0～7.5、5.0～7.0、5.0～6.5、5.0～6.0。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可為5.1～10.0、5.1～9.5、5.1～9.0、5.1～8.5、5.1～8.0、5.1～7.5、5.1～7.0、5.1～6.5、5.1～6.0。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可為5.2～10.0、5.2～9.5、5.2～9.0、5.2～8.5、5.2～8.0、5.2～7.5、5.2～7.0、5.2～6.5、5.2～6.0。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可為5.3～10.0、5.3～9.5、5.3～9.0、5.3～8.5、5.3～8.0、5.3～7.5、5.3～7.0、5.3～6.5、5.3～6.0。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可為5.4～10.0、5.4～9.5、5.4～9.0、5.4～8.5、5.4～8.0、5.4～7.5、5.4～7.0、5.4～6.5、5.4～6.0。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值可為5.5～10.0、5.5～9.5、5.5～9.0、5.5～8.5、5.5～8.0、5.5～7.5、5.5～7.0、5.5～6.5、5.5～6.0。本發明較佳的實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值為5.0～9.0。本發明更佳的實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值係超過5.0。本發明又更佳的實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值為超過5且在10以下。本發明又再更佳的實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之pH值為超過5且在9以下。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物包含過乙酸0.001～15質量%、乙酸及/或其鹽0.01～70質量%、過氧化氫0.001～25質量%、及水， 包含添加劑， 該組成物之pH值可為4.0～10.0。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物中包含之添加劑為選自於由聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、羧酸系穩定劑、及錫酸鹽構成之群組中之1種以上。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽作為添加劑。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含磷系穩定劑作為添加劑。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含羧酸系穩定劑作為添加劑。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含錫酸鹽作為添加劑。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含磷系穩定劑及羧酸系穩定劑者。此實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之添加劑可更包含錫酸鹽。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、及羧酸系穩定劑者。此實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之添加劑可更包含錫酸鹽。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、及磷系穩定劑作為添加劑。此實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可更包含錫酸鹽作為添加劑。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、及羧酸系穩定劑作為添加劑。此實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可更包含錫酸鹽作為添加劑。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可包含聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、及錫酸鹽作為添加劑。
本發明之一實施形態中，上述殺菌及洗淨用組成物能以0.0001～5質量%的濃度包含錫酸鹽。
本發明之其它實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可：包含過乙酸0.001～15質量%、乙酸及/或其鹽0.01～70質量%、過氧化氫0.001～25質量%、及水， 包含錫酸鹽作為添加劑， 上述組成物之pH值為4.0～10.0。
本發明之一實施形態中，上述殺菌及洗淨用組成物可更包含磷系穩定劑及羧酸系穩定劑。本發明之殺菌及洗淨用組成物中，上述磷系穩定劑之濃度可為0.0001質量%以上且未達0.5質量%，上述羧酸系穩定劑之濃度可為0.0001質量%以上且未達0.5質量%。
以下，針對各成分進行說明。
(1)添加劑 本發明之殺菌及洗淨用組成物包含過乙酸、過氧化氫、乙酸及/或其鹽、及水，可更包含添加劑。藉由加入這些添加劑，能使過氧化氫之穩定性提高，且能將殺菌及洗淨用組成物之pH值調整成4.0～10.0。進而本發明之殺菌及洗淨用組成物因為可將pH值調整成上述範圍，所以可達成優異的蛋白質去除力。本發明之殺菌及洗淨用組成物，就添加劑而言，可包含選自於由聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、羧酸系穩定劑、及錫酸鹽構成之群組中之1種以上。
＜聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽＞ 本發明之殺菌及洗淨用組成物中，就添加劑而言可包含聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽。本發明之殺菌及洗淨用組成物，就添加劑而言亦可單獨包含聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽，亦可和選自於由磷系穩定劑、羧酸系穩定劑、及錫酸鹽構成之群組中之1種以上組合。可用於本發明之殺菌及洗淨用組成物中之聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽係以下列通式表示。聚氧乙烯月桂醚乙酸的鹽可為例如鈉鹽、鉀鹽等，但不限定於這些。聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽為聚氧乙烯月桂醚乙酸較為理想。 R1 -(O-R2 )n -O-R3 -COOH (式中，R1 為月桂基、R2 為乙烯基、R3 為亞甲基、n為1～30的數值。)
在較佳的實施形態中，n可為2～20。在較佳的實施形態中，n可為例如4、4.5、5、5.5、6、6.5、7、7.5、8、8.5、9、9.5、10、11、12、13、14、15但不限定於這些。在更佳的實施形態中n為4.5或10。
用於本發明之殺菌及洗淨用組成物之聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽的分子量可為300～1200。在較佳的實施形態中，聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽的分子量為400～1000。
本發明之殺菌及洗淨用組成物中，聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽之濃度可為0.001～5質量%。聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽之濃度較佳可為0.01～2質量%，更佳可為0.01～1質量%。
＜磷系穩定劑＞ 本發明之殺菌及洗淨用組成物之添加劑可包含磷系穩定劑。就磷系穩定劑而言，只要是能穩定過氧化氫且能調整使殺菌及洗淨用組成物之pH值落在上述範圍內之任意者均可使用。本發明之殺菌及洗淨用組成物，就添加劑而言亦可單獨包含磷系穩定劑，亦可和選自於由聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、羧酸系穩定劑、及錫酸鹽構成之群組中之1種以上組合。就可用於本發明之殺菌及洗淨用組成物中的磷系穩定劑而言，可列舉如焦磷酸或其鹽、磷酸或其鹽、羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽、二伸乙基三胺五亞甲基膦酸(DTPP)或其鹽、氨基三甲叉膦酸或其鹽、2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸或其鹽、及乙二胺四甲叉膦酸或其鹽，但不限定於這些。本發明之一實施形態中，磷系穩定劑可為羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽。本發明之其它實施形態中，磷系穩定劑可為二伸乙基三胺五亞甲基膦酸(DTPP)或其鹽。本發明之又其它實施形態中，磷系穩定劑可為焦磷酸或其鹽。本發明之較佳實施形態中，磷系穩定劑可為羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽。
本發明之殺菌及洗淨用組成物中，磷系穩定劑之濃度可為0.0001質量%以上且未達0.5質量%，較佳可為0.0001～0.30質量%，更佳為0.0001～0.20質量%，再更佳可為0.0001～0.10質量%。
＜羧酸系穩定劑＞ 本發明之殺菌及洗淨用組成物就添加劑而言可包含羧酸系穩定劑。就羧酸系穩定劑而言，只要是能穩定過氧化氫且能調整使殺菌及洗淨用組成物之pH值落在上述範圍內之任意者均可使用。本發明之殺菌及洗淨用組成物，就添加劑而言亦可單獨包含羧酸系穩定劑，亦可和選自於由聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、及錫酸鹽構成之群組中之1種以上組合。就可用於本發明之殺菌及洗淨用組成物中的羧酸系穩定劑而言，可列舉如乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽、二伸乙基三胺五乙酸(DTPA)或其鹽、吡啶羧酸或其鹽、二吡啶羧酸或其鹽、氮基三乙酸或其鹽、N-(2-羥乙基)乙二胺-N,N’,N”-三乙酸或其鹽、三乙烯四胺-N,N,N’,N”,N”’,N”’-六乙酸或其鹽、1,3-丙烷二胺-N,N,N’,N’-四乙酸、1,3-二胺基-2-丙醇-N,N,N’,N’-四乙酸、N-(2-羥乙基)亞胺基二乙酸或其鹽、N,N-二(2-羥乙基)甘胺酸或其鹽、乙二醇雙氨乙基醚四乙酸、及(S,S)-乙二胺-N,N’-二琥珀酸或其鹽，但不限定於這些。本發明之一實施形態中，羧酸系穩定劑可為乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽。本發明之其它實施形態中，羧酸系穩定劑可為二伸乙基三胺五乙酸(DTPA)或其鹽。本發明之較佳實施形態中，羧酸系穩定劑可為乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽。
本發明之殺菌及洗淨用組成物中，羧酸系穩定劑之濃度可為0.0001質量%以上且未達0.5質量%，較佳可為0.0001～0.30質量%，更佳可為0.0001～0.20質量%，再更佳可為0.0001～0.10質量%。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物中， 就上述磷系穩定劑而言，可包含羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽、及二伸乙基三胺五亞甲基膦酸(DTPP)或其鹽中之任意者， 就上述羧酸系穩定劑而言，可包含乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽、及二伸乙基三胺五乙酸(DTPA)或其鹽中之任意者。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物中， 就上述磷系穩定劑而言，可包含羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽， 就上述羧酸系穩定劑而言，可包含乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可為包含上述磷系穩定劑0.0001質量%以上且未達0.5質量%、及上述羧酸系穩定劑0.0001質量%以上且未達0.5質量%者。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可為包含上述磷系穩定劑0.0001～0.30質量%、及上述羧酸系穩定劑0.0001～0.30質量%者。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可為包含上述磷系穩定劑0.0001～0.20質量%、及上述羧酸系穩定劑0.0001～0.20質量%者。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物可為包含上述磷系穩定劑0.0001～0.10質量%、及上述羧酸系穩定劑0.0001～0.10質量%者。
＜錫酸鹽＞ 本發明之殺菌及洗淨用組成物包含過乙酸、過氧化氫、乙酸及/或其鹽、及水，可包含錫酸鹽作為添加劑。藉由添加錫酸鹽，能使過氧化氫之穩定性提高，且能將殺菌及洗淨用組成物之pH值調整至4.0～10.0。本發明之殺菌及洗淨用組成物可單獨包含錫酸鹽作為添加劑，亦可和選自於由聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、及羧酸系穩定劑構成之群組中之1種以上的添加劑組合。本發明中，錫酸鹽可為例如錫酸鈉、錫酸鉀、錫酸鍶等，但並不限定於這些。本發明之較佳實施形態中，錫酸鹽可為錫酸鈉。
本發明之殺菌及洗淨用組成物中，上述錫酸鹽之濃度可為0.0001～5質量%，較佳為0.0001～1質量%，更佳為0.0001～0.5質量%，再更佳可為0.0001～0.2質量%。
(2)其他成分 ＜過氧化氫＞ 本發明之殺菌及洗淨用組成物中包含過氧化氫。本發明之殺菌及洗淨用組成物中，過氧化氫除了因為其本身即具有殺菌、洗淨能力，所以對組成物整體之殺菌、洗淨效果的提高有所貢獻之外，也因為其與乙酸間的平衡反應而對充足的量的過乙酸之生成及維持(水溶液中的穩定性)有所貢獻。因此，藉由乙酸與過氧化氫間的組合，可進一步地提高本發明之組成物之殺菌、洗淨效果。
本發明之殺菌及洗淨用組成物中之過氧化氫之濃度可為0.001～25質量%，較佳為0.005～20質量%，更佳為0.01～15質量%，再更佳可為0.02～10質量%。若過氧化氫之濃度過低的話，藉由與乙酸間的平衡反應所生成之過乙酸的量不足，而會有無法充分發揮本發明之殺菌、洗淨效果的疑慮。另一方面，即使過氧化氫之濃度過高，也不會再提高上述效果，反而會有在安全性上產生問題的疑慮。
＜乙酸及/或其鹽＞ 就本發明之殺菌及洗淨用組成物中所使用的乙酸而言，可使用在該技術領域中通常所使用者。就乙酸的鹽而言，只要是在形成水溶液的時候是鹼性的乙酸鹽則並不特別限定，可列舉如乙酸鈉、乙酸鉀、乙酸鋰、乙酸鈹、乙酸鎂、乙酸鋁、乙酸鈣、乙酸銣、乙酸鍶、乙酸銫、乙酸鋇、乙酸銨等。
本發明之殺菌及洗淨用組成物中之乙酸及/或其鹽之濃度可為0.01～70質量%，較佳可為0.05～60質量%，更佳可為0.1～55質量%，再更佳可為0.2～50質量%。
本發明之殺菌及洗淨用組成物中，乙酸及/或其鹽之濃度可為過乙酸之濃度的3.5～250倍。本發明之一實施形態中，乙酸及/或其鹽之濃度可為過乙酸之濃度的3.5～250倍、3.5～150倍、3.5～100倍、5～250倍、5～150倍、5～100倍、10～250倍、10～150倍、10～100倍等。本發明之較佳實施形態中，乙酸及/或其鹽之濃度可為過乙酸之濃度的10～250倍、10～150倍、10～100倍。乙酸及/或其鹽之濃度若為上述濃度的話，則可將附著於殺菌及洗淨對象物上之碳酸鈣等鈣垢充分地去除。
＜過乙酸＞ 就本發明之殺菌及洗淨用組成物中所使用的過乙酸而言，可使用該技術領域中通常所使用者。
本發明之殺菌及洗淨用組成物中之過乙酸之濃度可為0.001～15質量%。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物中之過乙酸之濃度可為例如0.001質量%、0.005質量%、0.01質量%、0.1質量%、0.3質量%、0.4質量%、0.5質量%、0.6質量%、1.0質量%、3.0質量%、4.0質量%、5.0質量%、10質量%、15質量%，但並不限定於這些。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物中之過乙酸之濃度可為例如0.001～15質量%、0.001～10質量%、0.001～5質量%、0.001～3質量%、0.005～15質量%、0.005～10質量%、0.005～5質量%、0.005～3質量%、0.01～15質量%、0.01～10質量%、0.01～5質量%、0.01～3質量%、0.1～15質量%、0.1～10質量%、0.1～5質量%、0.1～3質量%、0.3～15質量%、0.3～10質量%、0.3～5質量%、0.3～3質量%、0.4～15質量%、0.4～10質量%、0.4～5質量%、0.4～3質量%、0.5～15質量%、0.5～10質量%、0.5～5質量%、0.5～3質量%、0.6～15質量%、0.6～10質量%、0.6～5質量%、0.6～3質量%、1.0～15質量%、1.0～10質量%、1.0～5質量%、1.0～3質量%等。本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物中之過乙酸之濃度較佳可為0.001～10質量%，更佳可為0.005～5質量%，再更佳可為0.01～3質量%。
＜其他成分＞ 本發明之殺菌及洗淨用組成物中，亦可再視需要而摻合使用於一般的殺菌及洗淨用藥劑等之添加劑等，例如界面活性劑、增稠劑、香料、著色劑、水解酵素等。本發明之殺菌及洗淨用組成物中，除了過氧化氫、乙酸及/或其鹽、過乙酸、及視需要而添加之穩定劑等添加劑以外的殘餘部分主要為水。
本發明之殺菌及洗淨用組成物，可不經稀釋而直接以原狀態使用，或稀釋至任意濃度而成為殺菌及洗淨用稀釋組成物。就稀釋劑而言，通常係使用水。作為稀釋劑而使用的水，可使用例如純水、超純水、蒸餾水、精製水、注射用水、自來水等。稀釋倍率，只要是對殺菌及洗淨用稀釋組成物而言能發揮殺菌及洗淨效果之濃度的稀釋倍率即可，並不特別限定，1～10000倍較為理想，1～1000倍更為理想。
3.殺菌及洗淨用稀釋組成物 本發明之殺菌及洗淨用稀釋組成物包含過乙酸、乙酸及/或其鹽、過氧化氫、及水，並包含添加劑，更包含追加的水作為稀釋劑。關於各成分，係如上述。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物包含上述殺菌及洗淨用組成物及追加的水。
本發明之殺菌及洗淨用稀釋組成物，可藉由將上述殺菌及洗淨用組成物以水進行稀釋而製備。如上述，稀釋倍率，只要是對殺菌及洗淨用稀釋組成物而言能發揮殺菌及洗淨效果之濃度的稀釋倍率即可，並不特別限定，1～10000倍較為理想，1～1000倍更為理想。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物之過乙酸的濃度可為0.001～1.5質量%，較佳為0.001～1.0質量%，更佳為0.005～0.5質量%，再更佳可為0.005～0.3質量%。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物之乙酸及/或其鹽之濃度可為0.01～7質量%，較佳為0.05～6質量%，更佳為0.1～5.5質量%，再更佳可為0.2～5質量%。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物之過氧化氫之濃度可為0.001～2.5質量%，較佳為0.005～2質量%，更佳為0.01～1.5質量%，再更佳可為0.02～1.0質量%。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物可：包含過乙酸0.001～1.5質量%、乙酸及/或其鹽0.01～7質量%、過氧化氫0.001～2.5質量%、及水， 包含添加劑， 上述組成物之pH值為4.0～10.0。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物可包含由選自於聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、羧酸系穩定劑、及錫酸鹽構成之群組中之1種以上作為添加劑。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物中可包含之聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽之濃度可為0.00001～0.1質量%，較佳可為0.00005～0.05質量%，更佳可為0.0001～0.03質量%，再更佳可為0.0001～0.01質量%。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物中可包含之磷系穩定劑之濃度可為0.0001～0.05質量%，較佳為0.0001～0.03質量%，更佳為0.0001～0.02質量%，再更佳可為0.0001～0.01質量%。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物中可包含之羧酸系穩定劑之濃度可為0.0001～0.05質量%，較佳為0.0001～0.03質量%，更佳為0.0001～0.02質量%，再更佳可為0.0001～0.01質量%。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物中可包含之錫酸鹽之濃度可為0.0001～0.5質量%，較佳為0.0001～0.1質量%，更佳為0.0001～0.05質量%，再更佳可為0.0001～0.02質量%。
4.殺菌及洗淨用組成物及殺菌及洗淨用稀釋組成物之製造方法 本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之製造方法可包含至少將下列成分予以混合之混合步驟： (i)添加劑 (ii)過氧化氫及乙酸 (iii)乙酸鹽 此製造方法不產生中和熱，作業性良好。藉由水溶液達成平衡狀態，水溶液中亦存在有過乙酸，但亦可在混合步驟中加入過乙酸。有關各成分係如上所述。各成分混合之順序可為任意，本發明之殺菌及洗淨用組成物中，經混合之各成分係呈平衡狀態。
就上述乙酸鹽而言，只要是在形成水溶液時是鹼性的乙酸鹽皆可，例如可使用乙酸鈉、乙酸鉀、乙酸鋰、乙酸鈹、乙酸鎂、乙酸鋁、乙酸鈣、乙酸銣、乙酸鍶、乙酸銫、乙酸鋇、乙酸銨，但不限定於這些。本發明之一實施形態中，乙酸鹽可為乙酸鈉。本發明之其他實施形態中，乙酸鹽可為乙酸鉀。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之製造方法可包括至少將下列成分予以混合之混合步驟： (i)添加劑 (ii)過氧化氫及乙酸 (iii)鹼 此製造方法會產生中和熱且增加平行移動速度，能加快反應。藉由水溶液達成平衡狀態，水溶液中亦存在有過乙酸，但亦可在混合步驟中加入過乙酸。有關各成分係如上所述。各成分混合之順序可為任意，本發明之殺菌及洗淨用組成物中，經混合之各成分係呈平衡狀態。
就上述鹼而言，可使用例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、氫氧化鈹、氫氧化鎂、氫氧化鋁、氫氧化鈣、氫氧化銣、氫氧化鍶、氫氧化銫、氫氧化鋇、氨等，但不限定於這些。本發明之一實施形態中，鹼可為氫氧化鈉。本發明之其他實施形態中，鹼可為氫氧化鉀。
使用鹼之上述製造方法，可包括將添加劑、乙酸及鹼予以混合後在30～50℃下將過氧化氫予以混合的步驟。此製造方法中，會產生中和熱，所以可利用將添加劑、乙酸及鹼予以混合時所產生的中和熱而在30～50℃下將過氧化氫予以混合，藉此可增加平行移動速度而加快反應。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之製造方法可包括下列步驟(A)及(B)： 步驟(A)，至少將(i)添加劑、(ii)過氧化氫及乙酸、及(iii)乙酸鹽或鹼予以混合； 步驟(B)，將在步驟(A)獲得之水溶液(a)予以靜置1天以上。 藉由將在步驟(A)獲得之水溶液(a)於步驟(B)中予以靜置，水溶液會到達平衡狀態。在使用乙酸鹽之實施形態中，於步驟(B)進行靜置的溫度較佳為20～60℃，但更佳為20～50℃。又，於步驟(B)中進行靜置的時間較佳為1天以上，亦可為例如2天以上、3天以上、5天以上、10天以上、30天以上等。在使用鹼的實施形態中，如上述，藉由中和熱的產生可以加快反應。
本發明在其他的實施形態中，殺菌及洗淨用組成物之製造方法可包括下列步驟(C)～(E)： 步驟(C)，至少將(ii)過氧化氫及乙酸、及(i)添加劑予以混合； 步驟(D)，將在步驟(C)中獲得之水溶液(c)靜置1天以上； 步驟(E)，將在步驟(D)中獲得之水溶液(d)、(iii)乙酸鹽或鹼、及水予以混合。 藉由將在步驟(C)中獲得之水溶液(c)予以靜置，水溶液會到達平衡狀態。在步驟(D)中予以靜置的溫度較佳為20～60℃，但更佳為20～50℃。又，在步驟(D)中靜置的時間較佳為1天以上，例如可為2天以上、3天以上、5天以上、10天以上、30天以上等。之後，將乙酸鹽或鹼、及水混合至到達平衡狀態的水溶液(d)。
本發明之一實施形態中，殺菌及洗淨用稀釋組成物之製造方法可包括至少將下列成分予以混合之混合步驟；及將獲得之混合液予以稀釋之稀釋步驟， (i)添加劑 (ii)過氧化氫及乙酸 (iii)乙酸鹽或鹼 藉由水溶液係達成平衡狀態，水溶液中亦存在有過乙酸，但亦可在混合步驟中加入過乙酸。關於各成分係如上述。在本發明之殺菌及洗淨用稀釋組成物之製造方法中，上述稀釋步驟可包括將在上述混合步驟中獲得之混合物與水進行混合。作為稀釋劑而使用的水，可使用例如純水、超純水、蒸餾水、精製水、注射用水、自來水等。
5.使用殺菌及洗淨用組成物之殺菌及洗淨方法 本發明之上述殺菌及洗淨用組成物或上記殺菌及洗淨用稀釋組成物，可不經稀釋而以原狀態使用，或稀釋成任意的濃度而使用於例如醫療用器具、飲料食品容器、工業排水、空調設備之冷卻水、衣服、烹調器具、餐具、浴室、廚房、洗衣槽、浴缸、家具、寵物之殺菌、洗淨等。
本發明之一實施形態提供一種醫療用器具之殺菌及洗淨方法，係使用上述殺菌及洗淨用組成物或上述殺菌及洗淨用稀釋組成物。本發明之殺菌及洗淨方法中，上述醫療用器具之殺菌及洗淨方法可從浸漬法、噴霧法、塗佈法、液體通過法、循環法、封入法做選擇。本發明之醫療用器具之殺菌及洗淨方法中，使用之殺菌及洗淨用組成物或殺菌及洗淨用稀釋組成物的量、殺菌及洗淨的時間，可根據微生物的種類、量、及洗淨用組成物或殺菌及洗淨用稀釋組成物的濃度等而適當地做選擇。
本發明之殺菌及洗淨方法中，就上述醫療用器具而言，可列舉如透析用器具、內視鏡用器具、外科手術器具、產科、泌尿器科用器具、麻醉裝置類、人工呼吸裝置類、牙科用器具、注射針等，但不限定於這些。本發明之殺菌及洗淨方法中，上述醫療用器具為透析用器具較為理想。 ［實施例］
以下顯示本發明之實施例。但這些實施例係為例示本發明之實施形態者，並非意圖限定本發明之範圍者。
＜殺菌及洗淨用組成物中之過氧化氫濃度之測定方法＞ 本發明中，殺菌及洗淨用組成物(過乙酸組成物)之過氧化氫濃度係藉由氧化還原滴定進行測定。具體而言，精密地秤量試樣約0.1g，裝入250mL之三角燒瓶中，加入純水100mL、1.8mol/L硫酸10mL，製作成檢液。將數滴試亞鐵靈試液加入此檢液中，以0.1mol/L硫酸鈰(IV)溶液進行滴定，算出過氧化氫濃度。
＜殺菌及洗淨用組成物中之乙酸及過乙酸濃度之測定方法＞ 本發明中，殺菌及洗淨用組成物(過乙酸組成物)之乙酸濃度及過乙酸濃度係藉由中和滴定進行測定。具體而言，精密地秤量試樣約0.1g，裝入100mL燒杯中，加入純水約50mL，製作成檢液。將此檢液以0.1mol/L氫氧化鈉溶液進行滴定，從第一反曲點的添加量算出乙酸濃度，從第一反曲點到第二反曲點的添加量算出過乙酸濃度。
＜殺菌及洗淨用組成物之全過氧化物濃度(TPO)＞ 本發明中，殺菌及洗淨用組成物(過乙酸組成物)之全部過氧化物濃度，係藉由碘還原滴定法進行測定。具體而言，精密地秤量試樣約0.1g，裝入250mL之三角燒瓶，加入純水100mL、1.8mol/L硫酸10mL之後，加入10質量%之碘化鉀溶液10mL、及數滴1質量%鉬酸銨溶液，製作成檢液。將0.1mol/L硫代硫酸鈉溶液滴加至此檢液中，使用澱粉作為指示劑，將液體的藍紫色消失而呈無色時作為終點，定量游離的碘。從碘量算出按過氧化氫換算計之全部過氧化物濃度。
＜殺菌及洗淨用組成物之穩定度＞ 本發明之殺菌及洗淨用組成物(過乙酸組成物)之穩定度，係將進料時的全部過氧化物濃度(TPO)設為100，由測定時的全部過氧化物濃度的比例來算出。
＜pH測定＞ 洗淨用組成物及洗淨用組成物之稀釋液之pH係使用pH計(LAQUA、D-71S、堀場製作所(股)公司製)進行測定。
＜芽胞懸浮液之調整＞ 仙人掌桿菌標準菌株(Microbiologics公司製、製品名：Bacillus cereus ATCC10876)塗佈於MYP瓊脂(AZONE(股)公司製、製品名：SANISPEC培養基)，在35℃下培養7天。將減菌蒸餾水加入此瓊脂培養基中，以塗抹棒刮取菌體，並藉由離心分離以減菌蒸餾水予以洗淨。為了只獲得芽胞型而在80℃下加熱10分鐘，將殘存的活菌製成芽胞懸浮液。
＜殺菌試驗＞ 將洗淨用組成物以減菌蒸餾水適當地稀釋，製備成試樣液。在各試樣液4.5mL中添加1質量%白蛋白溶液0.5mL及芽胞懸浮液50μL，在25℃下使其作用120分鐘。作用後，以0.1mol/L減菌硫代硫酸鈉溶液稀釋成10倍，使用仙人掌桿菌檢測用培養基(日水製藥(股)公司製、製品名：Compact Dry X-BC)，在35℃下培養48小時，測定活菌數。又，測定芽胞懸浮液之活菌數作為開始時的活菌數。
＜蛋白質去除試驗＞ 將洗淨用組成物以純水適當地稀釋，製備成試樣液50g。將洗淨評價指示卡(NESCOS IC W･I 櫻花彩色文具(股)公司製)浸漬於各試樣液中60分鐘之後，以純水10mL予以洗淨，在常溫下進行乾燥。使用設定為C光源、2度視野之手持型分光色差計(NF555、日本電色工業(股)公司製)，測定與洗淨評價指示卡上沒有附著污垢之白色部分之色差(ΔEab)。蛋白質去除率係設未洗淨之洗淨評價指示卡之色差為100，由洗淨後之色差的比例來算出。
＜碳酸鈣溶解量試驗＞ 將洗淨用組成物以純水適當地稀釋，製備成試樣液50g。在各試樣液中分別逐步添加少量的碳酸鈣(富士軟片和光純藥(股)公司製)，將溶解之重量定義為碳酸鈣溶解量。
＜實施例1＞ 將純水22.0g與60質量%之羥基亞乙基二膦酸(HEDP、Italmatch Japan(股)公司製、製品名：Dequest2010)0.17g、乙二胺四乙酸二鈉･二水合物(EDTA･2Na･2H2 O、MP Biomedicals, Inc.製)0.11g、冰醋酸(昭和電工(股)公司製、製品名：99%純良乙酸)18.0g、乙酸鈉三水合物(富士軟片和光純藥(股)公司製)45.6g、45質量%之過氧化氫(三菱瓦斯化學(股)公司製、製品名：SER45)14.2g於PE容器內進行調配。調配時之全部過氧化物濃度為6.1%。調配後，在25℃下熟成7天，獲得過氧化氫5.6質量%、乙酸17.1質量%、過乙酸1.1質量%、羥基亞乙基二膦酸(HEDP)0.1質量%、乙二胺四乙酸二鈉(EDTA･2Na)0.1質量%之用於pH 5.1之透析裝置之洗淨之過乙酸組成物。針對獲得之過乙酸組成物，於調配後在25℃下經過14天後，測定全部過氧化物濃度(TPO)並算出穩定度。其結果如表1所示。
＜實施例2～14、比較例1～6＞ 除了添加劑係使用表1所記載者以外，以與實施例1同樣的方法獲得表1所示之濃度的殺菌及洗淨用組成物。針對殺菌及洗淨用組成物，測定全部過氧化物濃度(TPO)，並算出穩定度。其結果如表1所示。表中所示之DTPP、錫酸Na･3H2 O、及DTPA係使用下列者。 二伸乙基三胺五亞甲基膦酸(DTPP、三菱瓦斯化學(股)公司製、精製品) 錫酸鈉三水合物(錫酸Na･3H2 O、富士軟片和光純藥(股)公司製) 二伸乙基三胺五乙酸(DTPA、同仁化學研究所(股)公司製)
＜實施例15～20＞ 進行如表2記載之摻合，並在50℃下熟成1天，除此以外係以與實施例1同樣的方式獲得表2所示之濃度之殺菌及洗淨用組成物。針對殺菌及洗淨用組成物，在調配後經過上述在50℃下進行1天的熟成、及在25℃下經過20天之後，測定全部過氧化物濃度(TPO)，並算出穩定度。其結果如表2所示。
＜實施例21～22、比較例7～12＞ 進行如表3記載之摻合，並在25℃下熟成21天，除此以外係以與實施例1同樣的方式獲得表3所示之濃度之殺菌及洗淨用組成物。針對殺菌及洗淨用組成物，在調配後於25℃下經過21天之後，測定全部過氧化物濃度(TPO)，並算出穩定度。其結果如表3所示。就表中所示之50%植酸、及NaOH而言，係使用下列者。 50質量%植酸溶液(50%植酸、富士軟片和光純藥(股)公司製) 氫氧化鈉(NaOH、富士軟片和光純藥(股)公司製)
＜實施例23～25、比較例13～14＞ 進行如表4記載之摻合，除此以外係以與實施例21同樣的方式獲得表4所示之濃度之殺菌及洗淨用組成物。針對殺菌及洗淨用組成物，在調配後於25℃下經過21天之後，測定全部過氧化物濃度(TPO)，並算出穩定度。其結果如表4所示。就表中所示之焦磷酸而言，係使用下列者。 焦磷酸(純正化學(股)公司製、製品名：diphosphonic acid)
＜比較例15～21＞ 進行如表5記載之摻合，並在25℃下熟成11天，除此以外係以與實施例21同樣的方式獲得如表5所示之濃度之殺菌及洗淨用組成物。針對殺菌及洗淨用組成物，在調配後於25℃下經過21天之後，測定全部過氧化物濃度(TPO)，並算出穩定度。其結果如表5所示。就表中所示之二吡啶羧酸、及EDTMP而言，係使用下列者。 二吡啶羧酸(富士軟片和光純藥(股)公司製) 乙二胺四甲叉膦酸(EDTMP、東京化成工業(股)公司製)
［表1］
Figure 02_image001
［表2-1］
Figure 02_image003
［表2-2］
Figure 02_image005
［表3-1］
Figure 02_image007
［表3-2］
Figure 02_image009
［表4］
Figure 02_image011
［表5］
Figure 02_image013
＜實施例26～29＞ 以下係將針對本發明之殺菌及洗淨用組成物之製造方法進行研究後之結果作為例子而表示。據認為使用鹼之實施例26及28，相較於使用乙酸鹽之實施例27及29，係因為中和熱而在反應速度有所增加。
［表6］
Figure 02_image015
＜實施例101＞ 將純水28.2g與60質量%之羥基亞乙基二膦酸(HEDP、Italmatch Japan(股)公司製、製品名：Dequest 2010)0.02g、乙二胺四乙酸二鈉･二水合物(EDTA･2Na･2H2 O、MP Biomedicals, Inc.製)0.01g、聚氧乙烯(4.5)月桂醚乙酸(花王(股)公司製、製品名：KAO AKYPO RLM-45)0.01g、99質量%乙酸(昭和電工(股)公司製、製品名：99%純良乙酸)8.0g、45質量%之過氧化氫(三菱瓦斯化學(股)公司製、製品名：SER45)14.2g、乙酸鈉三水合物(富士軟片和光純藥(股)公司製)49.6g於PE容器內予以混合。混合後，藉由在25℃進行7天熟成而獲得過氧化氫5.8質量%、乙酸7.6質量%、過乙酸0.4質量%、乙酸鈉29.9質量%、羥基亞乙基二膦酸0.01質量%、乙二胺四乙酸二鈉0.01質量%、聚氧乙烯(4.5)月桂醚乙酸0.01質量%之洗淨用組成物。針對獲得之洗淨用組成物，在調配後經過14天之後，測定全部過氧化物濃度，並算出穩定度。實施pH測定、殺菌試驗、蛋白質去除試驗、碳酸鈣溶解量試驗，算出120分鐘後之菌數、蛋白質去除率、及碳酸鈣溶解量。其結果顯示於表7及表8。表7顯示之穩定度係以下列方式進行評價。 A：95%以上 B：80%以上 C：未達80%
＜實施例102、比較例101＞ 進行如表7記載之摻合，除此以外係以與實施例101同樣的方式獲得如表7所示之濃度之殺菌及洗淨用組成物。針對獲得之洗淨用組成物，在調配後經過14天之後，測定全部過氧化物濃度，算出穩定度。實施pH測定、殺菌試驗、蛋白質去除試驗、碳酸鈣溶解量試驗，並算出120分鐘後之菌數、蛋白質去除率、及碳酸鈣溶解量。其結果如表7及表8所示。對表7所示之穩定度以與實施例101同樣的方式進行評價。就表中所示之焦磷酸而言，係使用下列者。 焦磷酸(純正化學(股)公司製、製品名：diphosphonic acid)
［表7］
Figure 02_image017
［表8］
Figure 02_image019
如上述，根據本發明，顯示藉由加入添加劑便可提供過氧化物之穩定性提高，排出之廢水滿足污水排除基準，且蛋白質去除力更好的醫療設備殺菌及洗淨用組成物。

Claims (20)

  1. 一種殺菌及洗淨用組成物，包含過乙酸0.001～15質量%、乙酸及/或其鹽0.01～70質量%、過氧化氫0.001～25質量%、及水， 包含添加劑， 該組成物之pH值為4.0～10.0。
  2. 如請求項1之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為選自於由聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、羧酸系穩定劑、及錫酸鹽構成之群組中之1種以上。
  3. 如請求項1或2之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽。
  4. 如請求項1至3中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為磷系穩定劑。
  5. 如請求項1至4中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為羧酸系穩定劑。
  6. 如請求項1或2之殺菌及洗淨用組成物，其中，該添加劑為聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽、磷系穩定劑、及羧酸系穩定劑。
  7. 如請求項6之殺菌及洗淨用組成物，其中，該磷系穩定劑包含羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽、及二伸乙基三胺五亞甲基膦酸(DTPP)或其鹽中任一者。
  8. 如請求項6之殺菌及洗淨用組成物，其中，該羧酸系穩定劑包含乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽、及二伸乙基三胺五乙酸(DTPA)或其鹽中任一者。
  9. 如請求項6之殺菌及洗淨用組成物，其中，該磷系穩定劑為羥基亞乙基二膦酸(HEDP)或其鹽， 該羧酸系穩定劑為乙二胺四乙酸(EDTA)或其鹽。
  10. 如請求項6至9中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，包含0.001～5質量%之該聚氧乙烯月桂醚乙酸及/或其鹽。
  11. 如請求項6至9中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，包含0.0001質量%以上且未達0.5質量%之該磷系穩定劑、及0.0001質量%以上且未達0.5質量%之該羧酸系穩定劑。
  12. 如請求項1至11中任一項之殺菌及洗淨用組成物，其中，該組成物之pH值為5.0～9.0。
  13. 一種殺菌及洗淨用組成物之製造方法，係製造如請求項1至12中任一項之殺菌及洗淨用組成物之製造方法，包含至少將下列成分予以混合之混合步驟， (i)添加劑 (ii)過氧化氫水及乙酸 (iii)乙酸鹽。
  14. 一種殺菌及洗淨用組成物之製造方法，係製造如請求項1至12中任一項之殺菌及洗淨用組成物之製造方法，包含至少將下列成分予以混合之混合步驟， (i)添加劑 (ii)過氧化氫水及乙酸 (iii)鹼。
  15. 如請求項14之殺菌及洗淨用組成物之製造方法，其中，將該添加劑、乙酸及鹼予以混合後，在30～50℃下混合過氧化氫水。
  16. 一種殺菌及洗淨用稀釋組成物，包含如請求項1至12中任一項之殺菌及洗淨用組成物，及 追加的水。
  17. 如請求項16之殺菌及洗淨用稀釋組成物，其中，包含過乙酸0.001～1.5質量%、乙酸及/或其鹽0.01～7質量%、過氧化氫0.001～2.5質量%、及水， 包含添加劑， 該組成物之pH值為4.0～10.0。
  18. 一種醫療用器具之殺菌及洗淨方法，係使用如請求項1至12中任一項之殺菌及洗淨用組成物或請求項16或17之殺菌及洗淨用稀釋組成物。
  19. 如請求項18之醫療用器具之殺菌及洗淨方法，該醫療用器具之殺菌及洗淨方法係選自於浸漬法、噴霧法、塗佈法、通液法、循環法、及封入法。
  20. 如請求項18或19之醫療用器具之殺菌及洗淨方法，其中，該醫療用器具為透析用器具。
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