JPWO2019230846A1 - 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤 - Google Patents

Abstract

フッ素原子及び（メタ）アクリロイル基を有する含フッ素モノマー（Ａ）を含むモノマー成分と、光重合開始剤と、を含有する、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子用封止剤に関する。また、本発明は、有機ＥＬ表示素子用封止剤の硬化体、当該硬化体を含む有機ＥＬ表示素子用封止材、及び、当該封止材を含む有機ＥＬ表示装置に関する。

有機エレクトロルミネッセンス表示素子（有機ＥＬ表示素子、有機ＥＬ素子又はＯＬＥＤ素子ともいう）は、高い輝度発光が可能な素子体として注目を集めている。しかし、有機ＥＬ表示素子には、水分により劣化し、発光特性が低下してしまうという課題があった。

このような課題を解決するために、有機ＥＬ表示素子を封止し、水分による劣化を防止する技術が検討されている（例えば、特許文献１〜３）

特開平１０−７４５８３号公報 特開２００１−３０７８７３号公報 特開２００９−３７８１２号公報

近年、有機ＥＬ表示素子に対する要求特性が高まり、より高い信頼性を実現可能な封止材が求められている。

本発明の目的の一つは、ガラス基板等との濡れ性に優れ、効率良く有機ＥＬ表示素子を封止可能な、有機ＥＬ表示素子用封止剤を提供することにある。また、本発明の目的の一つは、上記封止剤の硬化物を含む有機ＥＬ表示素子用封止材を提供することにある。更に、本発明の目的の一つは、上記封止材を含む有機ＥＬ表示装置を提供することにある。

本発明の一側面は、フッ素原子及び（メタ）アクリロイル基を有する含フッ素モノマー（Ａ）を含むモノマー成分と、光重合開始剤と、を含有する、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤に関する。

上記有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤は、ガラス基板等との濡れ性に優れるため、効率良く有機ＥＬ表示素子を封止することができる。

一態様において、上記含フッ素モノマーのフッ素原子含有量は、上記含フッ素モノマーの全量基準で、２〜７５質量％であってよい。

一態様において、上記モノマー成分のフッ素原子含有量は、上記モノマー成分の全量基準で、０．１〜７５質量％であってよい。

一態様において、上記含フッ素モノマーは、３〜２５個のフッ素原子を有する化合物を含んでいてよい。

一態様において、上記含フッ素モノマーは、式（Ａ−１）で表される化合物、式（Ａ−２）で表される化合物及び式（Ａ−３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。

［式（Ａ−１）中、
Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示し、
Ｒ^２は、フッ化アルキル基、又は、フッ化アルキル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。］

［式（Ａ−２）中、
Ｒ^３は、水素原子又はメチル基を示し、
Ｒ^４は、フッ化アルカンジイル基、又は、フッ化アルカンジイル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。
複数存在するＲ^３は互いに同一でも異なっていてもよい。］

［式（Ａ−３）中、
Ｒ^５は水素原子又はメチル基を示し、
Ｒ^６は、単結合、アルカンジイル基、フッ化アルカンジイル基、又は、アルカンジイル基若しくはフッ化アルカンジイル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示し、
Ａｒ^１はフッ化アリール基を示す。］

一態様において、上記含フッ素モノマーは、式（Ａ−１−１）で表される化合物、式（Ａ−２−１）で表される化合物及び式（Ａ−３−１）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。

［式（Ａ−１−１）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２１は水素原子又はフッ素原子を示し、ｎは１以上の整数を示す。複数存在するＲ^２１は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^２１の少なくとも一つはフッ素原子である。］

［式（Ａ−２−１）中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^４１は水素原子又はフッ素原子を示し、ｍは１以上の整数を示す。複数存在するＲ^３は互いに同一でも異なっていてもよい。複数存在するＲ^４１は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^４１の少なくとも一つはフッ素原子である。］

［式（Ａ−３−１）中、Ｒ^５は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^６１は水素原子又はフッ素原子を示し、Ｒ^６２は水素原子又はフッ素原子を示し、ｐは０以上の整数を示す。複数存在するＲ^６１は、互いに同一でも異なっていてもよい。複数存在するＲ^６２は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^６２の少なくとも一つはフッ素原子である。］

一態様において、上記モノマー成分は、上記含フッ素モノマー以外のモノマー（Ｂ）を更に含んでいてよい。

一態様において、上記モノマー成分は、上記モノマー（Ｂ）として、環状構造を有するモノマー（Ｂ−１）を含んでいてよい。

一態様において、上記モノマー（Ｂ−１）は、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。

一態様において、上記モノマー成分は、上記モノマー（Ｂ）として、炭素数６以上のアルカンジイル基を有するアルカンジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ−２）を含んでいてよい。

一態様において、上記アルカンジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ−２）は、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。

一態様において、上記光重合開始剤は、アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤を含んでいてよい。

本発明の他の一側面は、上記有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤を硬化してなる、硬化体に関する。このような硬化体は、透湿度が低く、ガラス基板等との接着性に優れるため、有機エレクトロルミネッセンス表示素子を封止する封止材として、好適に用いることができる。

本発明の更に他の一側面は、上記硬化体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材に関する。このような封止材は、防湿性に優れ、且つ、ガラス基板等との接着性に優れる。このため、上記封止材によれば、信頼性及び耐久性に優れた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を得ることができる。

本発明の更に他の一側面は、無機膜と有機膜とが積層した積層体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材に関する。この封止材において、上記有機膜は、上記硬化体を含む。このような封止材によれば、上記硬化体を含む有機膜と無機膜との組み合わせによって、より高い防湿性が実現される。また、上記硬化体は、ガラス基板及び無機膜に対する接着性に優れるため、上記封止材によれば、より高い信頼性及び耐久性が実現される。

本発明の更に他の一側面は、有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、上記有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材と、を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。

本発明によれば、ガラス基板等との濡れ性に優れ、効率良く有機ＥＬ表示素子を封止可能な、有機ＥＬ表示素子用封止剤が提供される。また、本発明によれば、上記封止剤の硬化物を含む有機ＥＬ表示素子用封止材が提供される。更に、本発明によれば、上記封止材を含む有機ＥＬ表示装置が提供される。

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。

本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子用封止剤（以下、単に封止剤ともいう）は、フッ素原子及び（メタ）アクリロイル基を有する含フッ素モノマー（以下、（Ａ）成分ともいう。）を含むモノマー成分と、光重合開始剤と、を含有する。

本実施形態に係る封止剤は、ガラス基板等の無機表面を有する基板（ガラス基板、無機膜が成膜された樹脂基板等）との濡れ性に優れる。封止剤が濡れ性に優れることで、塗布性が良好となり、短時間のうちに基板上に封止剤が拡がるため、作業効率が向上する。また、封止剤が濡れ性に優れることで、塗膜の平坦性が向上し、平坦性に優れる封止材を形成できる。また、本実施形態に係る封止剤によれば、防湿性に優れた封止材を形成できる。更に、本実施形態に係る封止剤により形成される封止材は、ガラス基板、無機膜が成膜された基板（ガラス基板、樹脂基板等）等との接着性に優れる。

上記効果が奏される理由は必ずしも限定されないが、含フッ素モノマーによって封止剤の表面自由エネルギーが低くなり、微細な凹凸に追従しやすくなることで、基板等に対する密着性が向上することが一因と考えられる。

含フッ素モノマーは、フッ素原子と（メタ）アクリロイル基とを有している。尚、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示す。含フッ素モノマーは１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

含フッ素モノマーが有するフッ素原子の数は、１個以上であればよく、例えば２個以上であってもよく、好ましくは３個以上である。また、含フッ素モノマーが有するフッ素原子の数の上限は特に限定されず、例えば４０個以下であってよく、好ましくは３０個以下であり、より好ましくは２５個以下である。

含フッ素モノマーの全量に対するフッ素原子の含有量は、例えば１質量％以上であってよく、好ましくは２質量％以上、より好ましくは５質量％以上である。また、フッ素原子の含有量は、含フッ素モノマーの全量基準で、例えば７５質量％以下であってよく、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。

含フッ素モノマーが有する（メタ）アクリロイル基の数は、１個以上であればよい。ガラス転移温度の低い硬化体が得られやすくなる観点からは、含フッ素モノマーが有する（メタ）アクリロイル基の数は１個であってよい。また、ガラス転移温度の高い硬化体が得られやすくなる観点からは、含フッ素モノマーが有する（メタ）アクリロイル基の数は、２個以上であってよい。含フッ素モノマーが有する（メタ）アクリロイル基の数の上限は特に限定されず、例えば４個以下であってよく、柔軟性に優れる硬化体が得られやすくなる観点からは、好ましくは３個以下、より好ましくは２個以下である。

含フッ素モノマーの具体例の一つとして、式（Ａ−１）で表される化合物が挙げられる。

式（Ａ−１）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示す。また、Ｒ^２は、フッ化アルキル基、又は、フッ化アルキル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。

フッ化アルキル基は、アルキル基が有する水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置換された基、ということができる。フッ化アルキル基の炭素原子数は特に限定されず、例えば、１個以上であってよく、好ましくは２個以上、より好ましくは３個以上である。また、フッ化アルキル基の炭素原子数は、例えば２５個以下であってよく、２０個以下であってもよい。

フッ化アルキル基としては、ジフルオロメチレン（−ＣＦ_２−）を含む基を好適に用いることができる。

フッ化アルキル基の具体例としては、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、１，１，１−トリフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロプロピル基、１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロピル基、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、１−（トリフルオロメチル）−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、ペルフルオロプロピル基、１，１，２，２−テトラフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロブチル基、１，１，１，２，２，３，３−ペプタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、１，１−ビス（トリフルオロ）メチル−２，２，２−トリフルオロエチル基、２−（ペルフルオロプロピル）エチル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペンチル基、１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２−（ペルフルオロブチル）エチル基、１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロペンチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロヘキシル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。

フッ化アルキル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基（以下、Ｒ^２の含酸素基ともいう。）は、酸素原子が一箇所に挿入された基であってよく、二箇所以上に挿入された基であってもよい。

尚、炭素−炭素結合に酸素原子が挿入されると、エーテル結合が形成される。また、炭素−水素結合に酸素原子が挿入されると、ヒドロキシル基が形成される。すなわち、Ｒ^２の含酸素基は、エーテル結合及びヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも一種を含む基ということもできる。

Ｒ^２の含酸素基の具体例としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。

式（Ａ−１）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば２質量％以上であってよく、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１５質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上である。また、式（Ａ−１）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば７５質量％以下であってよく、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。

式（Ａ−１）で表される化合物の具体例の一つとして、例えば、式（Ａ−１−１）で表される化合物が挙げられる。

式（Ａ−１−１）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２１は水素原子又はフッ素原子を示し、ｎは１以上の整数を示す。複数存在するＲ^２１は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^２１の少なくとも一つはフッ素原子である。

ｎは、１以上であればよく、好ましくは２以上である。また、ｎの上限は特に限定されず、例えば２５以下であってよく、２０以下であってもよい。

Ｒ^２１は、式（Ａ−１−１）中に複数存在しているが、そのうちの少なくとも一つがフッ素原子である。また、Ｒ^２１のうち、２つ以上がフッ素原子であることが好ましく、３つ以上がフッ素原子であることがより好ましい。Ｒ^２１は全てフッ素原子であってもよい。

Ｒ^２１の合計数に対するフッ素原子の数の割合は、例えば４％以上であってよく、好ましくは８％以上、より好ましくは１２％以上である。当該割合は、例えば１００％以下であってよく、好ましくは８０％以下、より好ましくは７５％以下である。

式（Ａ−１−１）で表される化合物は、ｎが付された括弧内の２価の基（−Ｃ（Ｒ^２１）_２−）のうち、少なくとも一つがジフルオロメチレン（−ＣＦ_２−）であることが好ましい。

含フッ素モノマーの具体例の他の一つとして、式（Ａ−２）で表される化合物が挙げられる。

式（Ａ−２）中、Ｒ^３は、水素原子又はメチル基を示す。また、Ｒ^４は、フッ化アルカンジイル基、又は、フッ化アルカンジイル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。複数存在するＲ^３は互いに同一でも異なっていてもよい。

フッ化アルカンジイル基は、アルカンジイル基が有する水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置換された基、ということができる。フッ化アルカンジイル基の炭素原子数は特に限定されず、例えば、１以上であってよく、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、更に好ましくは４以上である。また、フッ化アルカンジイル基の炭素原子数は、例えば１７以下であってよく、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下である。

フッ化アルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン（−ＣＦ_２−）を含む基を好適に用いることができる。

フッ化アルカンジイル基の具体例としては、炭素数１〜１７の直鎖状又は分枝状のフッ化アルカンジイル基（例えば、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジイル基）、炭素数１〜１７のフッ化シクロアルカンジイル基等が挙げられる。

フッ化アルカンジイル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基（以下、Ｒ^４の含酸素基ともいう。）は、酸素原子が一箇所に挿入された基であってよく、二箇所以上に挿入された基であってもよい。

尚、炭素−炭素結合に酸素原子が挿入されると、エーテル結合が形成される。また、炭素−水素結合に酸素原子が挿入されると、ヒドロキシル基が形成される。すなわち、Ｒ^４の含酸素基は、エーテル結合及びヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも一種を含む基ということもできる。

Ｒ^４の含酸素基の具体例としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。

式（Ａ−２）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば４質量％以上であってよく、好ましくは８質量％以上、より好ましくは１２質量％以上である。また、式（Ａ−２）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば９０質量％以下であってよく、好ましくは７５質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。

式（Ａ−２）で表される化合物の具体例の一つとして、例えば、式（Ａ−２−１）で表される化合物が挙げられる。

式（Ａ−２−１）中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^４１は水素原子又はフッ素原子を示し、ｍは１以上の整数を示す。複数存在するＲ^３は互いに同一でも異なっていてもよい。複数存在するＲ^４１は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^４１の少なくとも一つはフッ素原子である。

ｍは、１以上であればよく、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、更に好ましくは４以上である。また、ｍの上限は特に限定されず、例えば２０以下であってよく、好ましくは１７以下、より好ましくは１５以下である。

Ｒ^４１は、式（Ａ−２−１）中に複数存在しているが、そのうちの少なくとも一つがフッ素原子である。また、Ｒ^４１のうち、２つ以上がフッ素原子であることが好ましく、４つ以上がフッ素原子であることがより好ましい。Ｒ^４１は全てフッ素原子であってもよい。

Ｒ^４１の合計数に対するフッ素原子の数の割合は、例えば１％以上であってよく、好ましくは５％以上、より好ましくは１０％以上である。当該割合は、例えば１００％以下であってよく、好ましくは９５％以下、より好ましくは９０％以下である。

式（Ａ−２−１）で表される化合物は、ｍが付された括弧内の２価の基（−Ｃ（Ｒ^４１）_２−）のうち、少なくとも一つがジフルオロメチレン（−ＣＦ_２−）であることが好ましい。

含フッ素モノマーの具体例の他の一つとして、式（Ａ−３）で表される化合物が挙げられる。

式（Ａ−３）中、Ｒ^５は水素原子又はメチル基を示す。また、Ｒ^６は、単結合、アルカンジイル基、フッ化アルカンジイル基、又は、アルカンジイル基若しくはフッ化アルカンジイル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。また、Ａｒ^１はフッ化アリール基を示す。

尚、「Ｒ^６が単結合を示す」とは、Ａｒ^１と酸素原子とが直接結合していることを意味する。

Ａｒ^１のフッ化アリール基としては、フッ化フェニル基が好ましい。フッ化フェニル基は、フェニル基中の水素原子の１〜５個がフッ素原子に置換した基ということもできる。フッ化フェニル基は、フッ素原子を１つ以上有するものであってよく、５つ有するものであってもよい。

Ｒ^６のアルカンジイル基の炭素原子数は特に限定されず、例えば、１以上であってよい。また、Ｒ^６のアルカンジイル基の炭素原子数は、例えば１７以下であってよく、好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下である。

アルカンジイル基の具体例としては、炭素数１〜１７の直鎖状又は分枝状のアルカンジイル基（例えば、メチレン基、エチレン基等）、炭素数１〜１７のシクロアルカンジイル基等が挙げられる。

Ｒ^６のフッ化アルカンジイル基は、上述のアルカンジイル基が有する水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置換された基、ということができる。Ｒ^６のフッ化アルカンジイル基の炭素原子数は特に限定されず、例えば、１以上であってよい。また、Ｒ^６のフッ化アルカンジイル基の炭素原子数は、例えば１７以下であってよく、好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下である。

Ｒ^６のフッ化アルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン（−ＣＦ_２−）を含む基を好適に用いることができる。

アルカンジイル基若しくはフッ化アルカンジイル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基（以下、Ｒ^６の含酸素基ともいう。）は、酸素原子が一箇所に挿入された基であってよく、二箇所以上に挿入された基であってもよい。

尚、炭素−炭素結合に酸素原子が挿入されると、エーテル結合が形成される。また、炭素−水素結合に酸素原子が挿入されると、ヒドロキシル基が形成される。すなわち、Ｒ^６の含酸素基は、エーテル結合及びヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも一種を含む基ということもできる。

Ｒ^６の含酸素基の具体例としては、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−を含む基等が挙げられる。

式（Ａ−３）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば３質量％以上であってよく、好ましくは７質量％以上、より好ましくは１５質量％以上である。また、式（Ａ−３）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば９０質量％以下であってよく、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下である。

式（Ａ−３）で表される化合物の具体例の一つとして、例えば、式（Ａ−３−１）で表される化合物が挙げられる。

式（Ａ−３−１）中、Ｒ^５は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^６１は水素原子又はフッ素原子を示し、Ｒ^６２は水素原子又はフッ素原子を示し、ｐは０以上の整数を示す。ｐが１以上のとき、複数存在するＲ^６１は、互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲ^６２は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^６２の少なくとも一つはフッ素原子である。

ｐは、０以上の整数を示す。ここで、ｐが０とは、ベンゼン環と酸素原子とが直接結合していることを示す。ｐは、１以上の整数であってもよい。また、ｐの上限は特に限定されず、例えば１７以下であってよく、好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下である。

式（Ａ−３−１）中にＲ^６１が存在するとき（すなわち、ｐが１以上の整数であるとき）、Ｒ^６１は、全て水素原子であってよく、全てフッ素原子であってもよく、一部が水素原子で他部がフッ素原子であってもよい。

Ｒ^６２は、式（Ａ−３−１）中に複数存在しており、そのうちの少なくとも１個がフッ素原子である。また、Ｒ^６２のうち、２個以上がフッ素原子であってもよく、３個以上がフッ素原子以上であってもよい。また、Ｒ^６２の全て（５個）がフッ素原子であってもよい。

Ｒ^６１及びＲ^６２の合計数に対するフッ素原子の数の割合は、例えば５％以上であってよく、好ましくは１０％以上、より好ましくは２０％以上である。当該割合は、例えば１００％以下であってよく、好ましくは９５％以下、より好ましくは８０％以下である。

含フッ素モノマーは、上記の化合物に限定されない。

本実施形態に係る封止剤は、含フッ素モノマー以外の他のモノマー成分（以下、（Ｂ）成分ともいう。）を更に含有していてよい。（Ｂ）成分は、含フッ素モノマー（（Ａ）成分）と共重合可能な化合物であればよく、例えば、（メタ）アクリロイル基と共重合可能な重合性基を有する化合物であってよい。

（Ｂ）成分が有する重合性基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基等が挙げられ、これらのうち（メタ）アクリロイル基が好ましい。

（Ｂ）成分としては、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーを好適に用いることができる。すなわち、（Ｂ）成分は、フッ素原子を有さず、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーであることが好ましい。

（Ｂ）成分としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノールアクリレート等の単官能（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

（Ｂ）成分の好適な一例としては、環状構造を有するモノマー（以下、（Ｂ−１）成分ともいう。）が挙げられる。（Ｂ−１）成分が有する環状構造としては、例えば、環状アミド、テトラヒドロフラン環、ピペリジン環等のヘテロ環；シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロドデカトリエン環、ノルボルナン環、アダマンタン環等の脂肪族炭化水素環；ベンゼン環等の芳香族炭化水素環が挙げられ、これらのうち脂肪族炭化水素環及び芳香族炭化水素環からなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。なお、（Ｂ−１）成分は、フッ素原子を有さず、上述の含フッ素モノマーとは区別される。

（Ｂ−１）成分のうち、芳香族炭化水素環を有するモノマーとしては、
ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２，４，５−テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４−クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート（２−ＨＰＡ）、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタル酸、ＥＯ変性フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ（エチレンオキシド）変性クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ＰＯ（プロピレンオキシド）変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート等の単官能モノマー、
エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシジ（メタ）アクリレート等の多官能モノマー等が挙げられる。

芳香族炭化水素環を有するモノマーとしては、ベンゼン環を２個有するモノマーがより好ましく、当該モノマーとしては、例えば、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートが挙げられ、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種が特に好ましい。

エトキシ化−ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレートとしては、例えば下記式（Ｂ−１−１）で表される化合物が好ましい。

式（Ｂ−１−１）中、ｑは１以上の整数（好ましくは１〜５）を示し、Ｒ^７は水素原子又はメチル基を示す。

エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートとしては、例えば下記式（Ｂ−１−２）で表される化合物が好ましい。

式（Ｂ−１−２）中、ｒ及びｓはそれぞれ独立に１以上の整数（好ましくは、ｒ＋ｓ＝２〜１０）を示し、Ｒ^８及びＲ^９はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。

（Ｂ−１）成分のうち、脂肪族炭化水素環を有するモノマーとしては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸等が挙げられる。

脂肪族炭化水素環を有するモノマーとしては、ノルボルナン環及びシクロペンタン環からなる群より選択される少なくとも一種を有するモノマーがより好ましく、当該モノマーとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられ、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及びトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種が特に好ましい。

（Ｂ−１）成分としては、低透湿性により優れる封止材が得られやすくなる観点から、環状構造を分子内に２個以上有するモノマーが好ましく、環状構造を分子内に２個有するモノマーがより好ましい。

環状構造を分子内に２個以上有するモノマーとしては、例えば、
エトキシ化−ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される芳香族炭化水素環を有するモノマー；
トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート等の脂肪族炭化水素環を有するモノマーが挙げられる。

（Ｂ−１）成分は、低透湿性により優れる封止材が得られやすくなる観点から、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択されることが好ましい。

（Ｂ）成分の好適な他の一例としては、炭素数６以上のアルカンジイル基を有するアルカンジオールジ（メタ）アクリレート（以下、（Ｂ−２）成分ともいう。）が挙げられる。（Ｂ−２）成分が有するアルカンジイル基の炭素数は、好ましくは１〜２０であり、より好ましくは６〜１５であり、更に好ましくは９〜１２である。また、（Ｂ−２）成分が有するアルカンジイル基は、好ましくはα，ω−アルカンジイル基である。なお、（Ｂ−２）成分は、フッ素原子を有さず、上述の含フッ素モノマーとは区別される。

（Ｂ−２）成分としては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられ、好ましくは１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種であり、より好ましくは１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレートである。

本実施形態において、全モノマー成分に占める含フッ素モノマーの割合は、３質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。当該割合の上限は特に限定されず、例えば１００質量％であってもよい。

モノマー成分の全量に対するフッ素原子含有量は、濡れ性及び接着性の観点から、例えば０．１質量％以上であってよく、好ましくは０．３質量％以上、より好ましくは１質量％以上、更に好ましくは２質量％以上、最も好ましくは５質量％以上である。また、フッ素原子の含有量は、モノマー成分の全量基準で、例えば７５質量％以下であってよく、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。

光重合開始剤は、可視光線、紫外線等の活性光線によって活性化し、含フッ素モノマーを含むモノマー成分を開始又は促進させることができる化合物であればよい。光重合開始剤は１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤が好ましい。

光ラジカル重合開始剤としては、
ベンゾフェノン及びその誘導体；
ベンジル及びその誘導体；
アントラキノン及びその誘導体；
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン型光重合開始剤；
ジエトキシアセトフェノン、４−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン型光重合開始剤；
２−ジメチルアミノエチルベンゾエート；
ｐ−ジメチルアミノエチルベンゾエート；
ジフェニルジスルフィド；
チオキサントン及びその誘導体；
カンファーキノン、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボン酸、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボキシ−２−ブロモエチルエステル、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボキシ−２−メチルエステル、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボン酸クロライド等のカンファーキノン型光重合開始剤；
２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等のα−アミノアルキルフェノン型光重合開始剤；
ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジエトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６―トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤；
フェニル−グリオキシリックアシッド−メチルエステル；
オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル；
オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステル；等が挙げられる。

光重合開始剤としては、３９０ｎｍ以上の可視光線のみを用いて硬化できる観点からは、アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤が好ましい。尚、アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤は、アシルホスフィンオキサイド基（−（Ｃ＝Ｏ）−（Ｐ＝Ｏ）＜）を有する光重合開始剤ということもできる。また、３９５ｎｍ以上の光で硬化でき、可視光透過率のより高い硬化体が得られやすくなる観点からは、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドが特に好ましい。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドとしては、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＴＰＯ」等が挙げられる。

光重合開始剤の含有量は、モノマー成分の総量１００質量部に対して、０．０５質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましく、２質量部以上が更に好ましく、２．５質量部以上が一層好ましい。光重合開始剤の含有量を多くすることで、封止剤の硬化性能がより向上する傾向がある。光重合開始剤の含有量は、モノマー成分の総量１００質量部に対して、１２質量部以下が好ましく、８質量部以下がより好ましく、６質量部以下が更に好ましい。光重合開始剤の含有量を少なくすることで、可視光透過率のより高い硬化体が得られやすくなる。

本実施形態に係る封止剤は、モノマー成分及び光重合開始剤以外の他の成分を更に含有していてもよい。本実施形態に係る封止剤は、例えば、他の成分として当該術分野で用いられる公知の添加剤を更に含有していてもよい。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、金属不活性化剤、填料、安定剤、中和剤、滑剤、抗菌剤等が挙げられる。

本実施形態に係る封止剤の表面張力、特に静的表面張力は、４０ｍＮ／ｍ以下が好ましく、３０ｍＮ／ｍ以下がより好ましい。これにより、インクジェット等による塗布が容易となり、作業性が向上する。また、これにより、基板等に対する密着性が向上して、防湿性及び接着性がより向上する傾向がある。静的表面張力の下限は特に限定されず、例えば１０ｍＮ／ｍ以上であってよい。

尚、静的表面張力は、プレート法、リング法、ペンダントドロップ法等により測定されるが、本実施形態で規定する静的表面張力の値は、ペンダントドロップ法によるものである。ペンダントドロップ法とは、管の先端から液体を押し出し、ぶら下がった懸滴（ペンダントドロップ）の形状から表面張力を算出する方法をいう。

本実施形態に係る封止剤は、可視光線又は紫外線の少なくとも一方を照射することで硬化できる。尚、本明細書中、封止剤の「硬化」とは、必ずしも剛直に固化することに限定されず、モノマー成分が重合して重合体を形成すればよい。例えば、封止剤の硬化体は、剛直な固体（例えば、ガラス状）であってよく、ゴム状であってもよい。

可視光線又は紫外線を照射するためのエネルギー照射源としては、重水素ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、キセノン−水銀混成ランプ、ハロゲンランプ、エキシマランプ、インジウムランプ、タリウムランプ、ＬＥＤランプ、無電極放電ランプ等のエネルギー照射源が挙げられる。

本実施形態に係る封止剤は、有機ＥＬ表示素子にダメージを与えづらい観点から、３８０ｎｍ以上の波長の光で硬化させることが好ましく、３９５ｎｍ以上の波長の光で硬化させることがより好ましく、３９５ｎｍの波長の光で硬化させることが最も好ましい。照射光の波長としては、赤外光による照射部の温度上昇が避けられ、有機ＥＬ表示素子にダメージを与える可能性が小さいことから、５００ｎｍ以下が好ましい。エネルギー照射源としては、発光波長が単波長であるＬＥＤランプが好ましい。

封止剤を硬化させる際の照射量は、１００〜８０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、３００〜２０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。照射量を１００ｍＪ／ｃｍ^２以上とすることで、封止剤が十分に硬化し、高い接着強度が得られやすくなる。また、照射量を８０００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることで、有機ＥＬ表示素子に対してダメージを与えることなく封止剤を硬化することができる。

本実施形態に係る封止剤の硬化体は、透明性に優れることが望ましい。具体的には、硬化体は、３６０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の紫外−可視光線領域の分光透過率が、厚さ１０μｍ当たりで、９５％以上であることが好ましく、９７％以上であることがより好ましく、９９％以上であることが更に好ましい。この分光透過率が９５％以上であると、輝度及びコントラストに優れた有機ＥＬ表示装置が得られやすくなる。

本実施形態に係る封止剤の硬化体は、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６に準拠して、２３℃、９０％ＲＨの環境下に２４時間暴露して測定した１００μｍ厚での透湿度の値が、３５０ｇ／ｍ^２以下であることが好ましく、１５０ｇ／ｍ^２以下であることがより好ましく、７５ｇ／ｍ^２以下であることが更に好ましい。透湿度が低いと、有機発光材料層への水分の到達によるダークスポットの発生を抑制できる。

本実施形態に係る封止剤の使用方法は特に限定されない。例えば、対象物（例えば、有機ＥＬ表示素子）に封止剤を塗布し、対象物上で封止剤を硬化させることによって、封止剤の硬化体からなる封止材を形成できる。

また、封止剤を所定の形状（例えば、フィルム状、シート状等）に硬化させて、所定の形状を有する封止材を形成してもよい。この場合、例えば、当該封止材を有機ＥＬ表示素子上に配置することで、有機ＥＬ表示素子を封止できる。

以下、本実施形態に係る封止剤を用いて形成される有機ＥＬ表示装置の一態様について、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置を例に説明する。尚、本実施形態に係る封止剤を適用する有機ＥＬ表示装置は、トップエミッション型に限定されず、有機ＥＬ層で生じる光を基板側から照射するボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置であってもよい。

トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示素子と、有機ＥＬ表示素子を封止する封止層と、封止層上に設けられる封止基板と、を備えている。

有機ＥＬ表示素子は、例えば、基板上に、陽極と、発光層を含む有機ＥＬ層と、陰極とが順に積層された構造を有している。

有機ＥＬ表示素子の基板としては、例えば、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板等が挙げられる。これらのうち、ガラス基板及びプラスチック基板からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ガラス基板がより好ましい。

プラスチック基板に用いられるプラスチックとしては、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキサジアゾール、芳香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリチアゾール、ポリパラフェニレンビニレン、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィン、ポリアクリル等が挙げられる。これらの中では、低水分透過性、低酸素透過性、耐熱性に優れる点で、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキサジアゾール、芳香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリチアゾール、ポリパラフェニレンビニレンからなる群のうちの１種以上が好ましく、紫外線又は可視光線等のエネルギー線の透過性が高い点で、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートからなる群のうちの１種以上がより好ましい。

陽極としては、比較的仕事関数の大きな（４．０ｅＶより大きな仕事関数を持つものが好適である）、導電性の金属酸化物膜や半透明の金属薄膜等が一般的に用いられる。陽極の材料としては例えば、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、以下、ＩＴＯという）、酸化スズ等の金属酸化物、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）等の金属又はこれらのうちの少なくとも１個を含有する合金、ポリアニリン又はその誘導体、ポリチオフェン又はその誘導体等の有機の透明導電膜等が挙げられる。陽極は、必要があれば２層以上の層構成により形成することができる。陽極の膜厚は、電気伝導度を（ボトムエミッション型の場合には、光の透過性も）考慮して、適宜選択することができる。陽極の膜厚は、１０ｎｍ〜１０μｍが好ましく、２０ｎｍ〜１μｍがより好ましく、５０ｎｍ〜５００ｎｍが最も好ましい。陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。トップエミッション型の場合には、基板側に照射される光を反射させるための反射膜を陽極の下に設けてもよい。

有機ＥＬ層は、少なくとも有機物からなる発光層を含んでいる。この発光層は、発光性材料を含有する。発光性材料としては、蛍光又は燐光を発光する有機物（低分子化合物又は高分子化合物）等が挙げられる。発光層は、更に、ドーパント材料を含有してもよい。有機物としては、色素系材料、金属錯体系材料、高分子材料等が挙げられる。ドーパント材料は、有機物の発光効率の向上や発光波長を変化させる等の目的で、有機物中にドープされるものである。これらの有機物と必要に応じてドープされるドーパントからなる発光層の厚さは通常２〜２００ｎｍである。

色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。

金属錯体系材料としては、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等といった、金属錯体等が挙げられる。金属錯体としては、中心金属に、テルビウム（Ｔｂ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）等の希土類金属、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ベリリウム（Ｂｅ）等を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等が挙げられる。これらの中では、中心金属にアルミニウム（Ａｌ）を有し、配位子にキノリン構造等を有する金属錯体が好ましい。中心金属にアルミニウム（Ａｌ）を有し、配位子にキノリン構造等を有する金属錯体の中では、トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウムが好ましい。

高分子材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体や金属錯体系発光材料を高分子化した物等が挙げられる。

上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、これらの重合体等が挙げられる。これらの中では、高分子材料が好ましい。高分子材料の中では、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体からなる群のうちの１種以上が好ましい。

緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、これらの重合体等が挙げられる。これらの中では、高分子材料が好ましい。高分子材料の中では、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体からなる群のうちの１種以上が好ましい。

赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体、これらの重合体等が挙げられる。これらの中では、高分子材料が好ましい。高分子材料の中では、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体からなる群のうちの１種以上が好ましい。

ドーパント材料としては、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。

有機ＥＬ層は、発光層以外に、発光層と陽極との間に設けられる層と、発光層と陰極との間に設けられる層と、を適宜設けることができる。まず、発光層と陽極との間に設けられる層としては、陽極からの正孔注入効率を改善する正孔注入層や、陽極又は正孔注入層から注入された正孔を発光層へ輸送する正孔輸送層等が挙げられる。発光層と陰極との間に設けられる層としては、陰極からの電子注入効率を改善する電子注入層や、陰極又は電子注入層から注入された電子を発光層へ輸送する電子輸送層等が挙げられる。

正孔注入層を形成する材料としては、４’，４’’−トリス｛２−ナフチル（フェニル）アミノ｝トリフェニルアミン等のフェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体等が挙げられる。

正孔輸送層を構成する材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体等が挙げられる。

これらの正孔注入層又は正孔輸送層が、電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、電子ブロック層ということもある。

電子輸送層を構成する材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。誘導体としては、金属錯体等が挙げられる。これらの中では、８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体が好ましい。８−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の中では、発光層中に含有する、蛍光又は燐光を発光する有機物としても使用できる点で、トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウムが好ましい。

電子注入層としては、発光層の種類に応じて、カルシウム（Ｃａ）層の単層構造からなる電子注入層、又は、周期律表ＩＡ族とＩＩＡ族の金属であり、且つ、仕事関数が１．５〜３．０ｅＶの金属及びその金属の酸化物、ハロゲン化物及び炭酸化物からなる群のうちの１種以上で形成された層の単層構造、又は、周期律表ＩＡ族とＩＩＡ族の金属であり、且つ、仕事関数が１．５〜３．０ｅＶの金属及びその金属の酸化物、ハロゲン化物及び炭酸化物からなる群のうちの１種以上で形成された層とＣａ層との積層構造からなる電子注入層等が挙げられる。仕事関数が１．５〜３．０ｅＶの、周期律表ＩＡ族の金属又はその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物としては、リチウム（Ｌｉ）、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、酸化リチウム、炭酸リチウム等が挙げられる。仕事関数が１．５〜３．０ｅＶの、周期律表ＩＩＡ族の金属又はその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物としては、ストロンチウム（Ｓｒ）、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。

これらの電子輸送層又は電子注入層が、正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの電子輸送層や電子注入層を正孔ブロック層ということもある。

陰極としては、仕事関数が比較的小さく（４．０ｅＶより小さな仕事関数を持つものが好適である）、発光層への電子注入が容易な透明又は半透明の材料が好ましい。陰極の材料としては、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）、ベリリウム（Ｂｅ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、アルミニウム（Ａｌ）、スカンジウム（Ｓｃ）、バナジウム（Ｖ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、インジウム（Ｉｎ）、セリウム（Ｃｅ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、テルビウム（Ｔｂ）、イッテルビウム（Ｙｂ）等の金属、又は上記金属のうち２種以上からなる合金、若しくはそれらのうち１種以上と、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、スズ（Ｓｎ）のうち１種以上とからなる合金、又は、グラファイト若しくはグラファイト層間化合物、又は、ＩＴＯ、酸化スズ等の金属酸化物等が挙げられる。

陰極を２層以上の積層構造としてもよい。２層以上の積層構造としては、上記の金属、金属酸化物、フッ化物、これらの合金と、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ等の金属との積層構造等が挙げられる。陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができる。陰極の膜厚は、１０ｎｍ〜１０μｍが好ましく、１５ｎｍ〜１μｍがより好ましく、２０ｎｍ〜５００ｎｍが最も好ましい。陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が挙げられる。

これらの発光層と陽極との間と、発光層と陰極との間に設けられる層は、製造する有機ＥＬ表示装置に求められる性能に応じて、適宜選択可能である。例えば、本実施形態で使用される有機ＥＬ表示素子の構造としては、下記の（ｉ）〜（ｘｖ）の層構成のいずれかを有することができる。
（ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
（ｉｉ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
（ｉｉｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｉｖ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
（ｖ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
（ｖｉ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
（ｖｉｉ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
（ｖｉｉｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
（ｉｘ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
（ｘ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｘｉ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｘｉｉ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｘｉｉｉ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｘｉｖ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｘｖ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ここで、「／」は各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。）

封止層は、水蒸気や酸素等の気体が有機ＥＬ表示素子に接触することを防ぐために、上記気体に対して高いバリア性を有する層で有機ＥＬ表示素子を封止するために、設けられる。この封止層は、無機膜と有機膜とが下から交互に形成される。無機／有機積層体は２回以上繰り返して形成されてもよい。

無機／有機積層体の無機膜は、有機ＥＬ表示装置が置かれる環境に存在する水蒸気や酸素等の気体に有機ＥＬ表示素子が曝されることを防止するために設けられる膜である。無機／有機積層体の無機膜は、ピンホール等の欠陥が少ない、連続的かつ緻密な膜であることが好ましい。無機膜としては、ＳｉＮ膜、ＳｉＯ膜、ＳｉＯＮ膜、Ａｌ_２Ｏ_３膜、ＡｌＮ膜等の単体膜やこれらの積層膜等が挙げられる。

無機／有機積層体の有機膜は、無機膜上に形成されたピンホール等の欠陥を被覆するために、また、表面に平坦性を付与するために、設けられる。有機膜は、無機膜が形成される領域よりも狭い領域に形成される。これは、有機膜を無機膜の形成領域と同じか又はそれよりも広く形成すると、有機膜が露出する領域で劣化してしまうからである。但し、封止層全体の最上層に形成される最上位有機膜は、無機膜の形成領域とほぼ同じ領域に形成される。そして、封止層の上面が平坦化されるように形成される。有機膜は、上述の本実施形態に係る封止剤を用いて形成される膜（すなわち、封止剤の硬化体を含む膜）であってよい。

本実施形態に係る封止剤は、例えば、短時間で膜厚３μｍ以上の平坦性に優れる塗布が可能なインクジェット塗布に好適であり、インクジェットによる吐出性とインクジェット塗布後の平坦性に優れる。インクジェット法による塗布法を用いれば、高速かつ均一に有機膜を形成することができる。

封止層は、無機／有機積層体を１セットとして数えると、１〜５セットであることが好ましい。無機／有機積層体が６セット以上の場合には、有機ＥＬ表示素子に対する封止効果が５セットの場合とほぼ同じとなるからである。無機／有機積層体の無機膜の厚さは、５０ｎｍ〜１μｍが好ましい。無機／有機積層体の有機膜の厚さは１〜１５μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。有機膜の厚みが１μｍ以上であると、素子形成時に発生するパーティクルを完全に被覆でき、良好な平坦性で無機膜上に成膜できる。有機膜の厚みが１５μｍ以下であると、有機膜の側面からの水分の侵入が抑制され、有機ＥＬ表示素子の信頼性が向上する。

封止基板は、封止層の最上位有機膜の上面全体を覆うように密着して形成される。この封止基板としては、前述の基板が挙げられる。これらの中では、可視光線に対して透明な基板が好ましい。可視光線に対して透明な基板（透明封止基板）の中では、ガラス基板、プラスチック基板からなる群のうちの１種以上が好ましく、ガラス基板がより好ましい。

透明封止基板の厚さは、１μｍ以上１ｍｍ以下が好ましく、１０μｍ以上８００μｍ以下がより好ましく、５０μｍ以上３００μｍ以下が最も好ましい。透明封止基板を封止層の更に上層に設けることによって、最上位有機膜の表面が気体に触れると進行する劣化を抑えることができ、有機ＥＬ表示装置のバリア性を高めることができる。

次に、このような構成を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。まず、第１の基板上に、従来公知の方法によって、所定の形状にパターニングした陽極、発光層を含む有機ＥＬ層、及び陰極を順に形成して、有機ＥＬ表示素子を形成する。例えば、有機ＥＬ表示装置をドットマトリックス表示装置として使用する場合、発光領域をマトリックス状に区切るためにバンクが形成され、このバンクで囲まれる領域に発光層を含む有機ＥＬ層が形成される。

次いで、有機ＥＬ表示素子が形成された基板上に、スパッタ法等のＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等のＣＶＤ法等の成膜方法によって、所定の厚さを有する第１の無機膜を形成する。その後、溶液塗布法やスプレー塗布法等の塗膜形成方法やフラッシュ蒸着法、インクジェット法等を用いて、第１の無機膜上に本実施形態の封止剤を付着させる。これらの中では、生産性の点でインクジェット法が好ましい。その後、紫外線、可視光線等のエネルギー線の照射によって、封止剤が硬化し、第１の有機膜が形成される。以上の工程によって、１セットの無機／有機積層体が形成される。封止剤の硬化率は、本実施形態の効果が奏される限りにおいては特に限定されないが、例えば後述する測定方法に従って得られる値で８０％以上、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上とすることができる。

以上に示される無機／有機積層体の形成工程が、所定の回数だけ繰り返される。但し、最後のセット、即ち、最上層の無機／有機積層体に関しては、上面が平坦化するように封止剤を、塗布法やフラッシュ蒸着法、インクジェット法等によって、無機膜の上面に付着させても良い。

次いで、基板上の封止剤を付着させた面に、透明封止基板を貼り合わせる。貼り合わせの際、位置合わせを行う。その後、透明封止基板側から、エネルギー線を照射することによって、最上層の無機膜と透明封止基板との間に存在する、本実施形態の封止剤を硬化させる。これによって、封止剤が硬化し、最上位有機膜を形成すると共に、最上位有機膜と透明封止基板とが接着される。以上によって、有機ＥＬ表示装置の製造方法が終了する。

無機膜上に封止剤を付着させた後、部分的にエネルギー線を照射して重合させてもよい。このようにすることで、透明封止基板を載置した時に、最上位有機膜の形状の崩れを防止できる。無機膜と有機膜の厚さは、各無機／有機積層体で同じにしてもよいし、各無機／有機積層体で異なっていてもよい。

本実施形態において、有機ＥＬ表示装置は、面状光源、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置として用いることができる。

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
トリフルオロメチルメタクリレート（東京化成工業社製）１００質量部と、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド（ＴＰＯ）（ＢＡＳＦジャパン社製）５質量部とを混合して、封止剤を調製した。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、３２質量％であった。得られた封止剤を、以下に示す評価方法で評価した。また、得られた封止剤を、以下に示す光硬化条件で硬化して硬化体を形成し、以下に示す方法で硬化体の透湿度を評価した。

［表面張力］
封止剤の静的表面張力は、２３℃の雰囲気下、（協和界面科学社製ＤＭ５００）を用いて、ペンダントドロップ法により測定した。測定結果を表１に示す。

［濡れ性］
７０ｍｍ×７０ｍｍ×０．７ｍｍｔの基材（無アルカリガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製 Ｅａｇｌｅ ＸＧ））上に、２５μｍ×２５μｍ×３μｍｔの凹みを前後左右に１０μｍの間隔を開けてエッチング法にて作製した。尚、基材は使用前に、アセトン、イソプロパノールそれぞれを用いて洗浄し、その後にテクノビジョン社製ＵＶオゾン洗浄装置ＵＶ−２０８を用いて５分間洗浄した。次いで、凹みを設けた基板上に、プラズマＣＶＤ法にて２００ｎｍのＳｉＮ膜を形成した。次に、インクジェット吐出装置（武蔵エンジニアリング社製ＭＩＤ５００Ｂ、溶剤系ヘッド「ＭＩＤヘッド」）を用いて５０ｍｍ×５０ｍｍ×１０μｍｔとなるように封止剤をパターン塗布した。パターン塗布後、温度２３℃、相対湿度５０％の条件で５分間放置し、塗布領域（５０ｍｍ×５０ｍｍ）における封止剤の形状を観察した。封止剤の濡れ性を、以下の式で求めた。結果を表１に示す。
濡れ性（％）＝（５分間放置後の塗布領域における封止剤の面積）／（５０ｍｍ×５０ｍｍ）
尚、例えば、濡れ性５０％とは、パターン塗布した封止剤の一部が弾かれて、５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲の半分（５０％）で、ＳｉＮ膜が露出したことを示す。

［引張せん断接着強さ］
ＪＩＳ Ｋ ６８５０に従い測定した。具体的には、被着材として耐熱ガラス（商品名「耐熱パイレックス（登録商標）ガラス」、長さ２５ｍｍ×幅２５ｍｍ×厚さ２．０ｍｍ）を用い、接着部位を直径８ｍｍの円形とし、封止層の厚さが０．０８ｍｍとなるようにして、封止剤を用いて２枚の耐熱ガラスを貼り合わせた。次いで、３９５ｎｍの波長を発光するＬＥＤランプ（ＨＯＹＡ社製ＵＶ−ＬＥＤ ＬＩＧＨＴ ＳＯＵＲＣＥ Ｈ−４ＭＬＨ２００−Ｖ１）により３９５ｎｍの波長の光の積算光量が１，５００ｍＪ／ｃｍ^２となる条件にて光を上面から照射、硬化させ、引張せん断接着強さ試験片を作製した。作製した試験片について、万能試験機を使用して、温度２３℃、湿度５０％の環境下、引張速度１０ｍｍ／ｍｉｎで引張せん断接着強さを測定した。結果を表１に示す。

［光硬化条件］
３９５ｎｍの波長を発光するＬＥＤランプ（ＨＯＹＡ社製ＵＶ−ＬＥＤ ＬＩＧＨＴ ＳＯＵＲＣＥ Ｈ−４ＭＬＨ２００−Ｖ１）により、３９５ｎｍの波長の光の積算光量が１，５００ｍＪ／ｃｍ^２となる条件で、封止剤を光硬化させ、硬化率が８０％以上の硬化体を作製した。

［透湿度］
厚さ０．１ｍｍのシート状の硬化体を、上記光硬化条件で作製した。ＪＩＳ Ｚ０２０８：１９７６「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に準じ、吸湿剤として塩化カルシウム（無水）を用い、温度２３℃又は８５℃、相対湿度９０％の条件に２４時間暴露し、１００μｍ厚での、硬化体の透湿度を測定した。結果を表１に示す。なお、表中、８５℃で硬化体が軟化又は溶解して測定が困難になった場合は「−」で示した。

（実施例２）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ペンタフルオロベンジルメタクリレート（東京化成工業社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、３４質量％であった。

（実施例３）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート（大阪有機化学工業社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、３９質量％であった。

（実施例４）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート（大阪有機化学工業社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、５１質量％であった。

（実施例５）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジオールジアクリレート（共栄社化学社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、５１質量％であった。

（実施例６）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート（大阪有機化学工業社製）２０質量部及び１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート８０質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、１０質量％であった。

（実施例７）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタアクリレート（大阪有機化学工業社製）２０質量部、１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート（サートマー社製）７０質量部、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学社製）５質量部、及び、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノールアクリレート（新中村化学社製）５質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、１０質量％であった。

（実施例８）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジオールジアクリレート（共栄社化学社製ＬＩＮＣ−１６２Ａ）１質量部、１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート（サートマー社製）７０質量部、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学社製）２４質量部、及び、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノールアクリレート（新中村化学社製、式（Ｂ−１−１）におけるＲ^７が水素原子、ｎが１の化合物）５質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。なお、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、０．３質量％であった。

（実施例９）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ、２Ｈ-トリデカフルオロオクチルアクリレート（大阪有機化学工業社製１３Ｆ）１質量部、１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート（サートマー社製）７９質量部、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学社製）１５質量部、及び、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノールアクリレート（新中村化学社製）５質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。なお、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、０．６質量％であった。

（実施例１０）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジオールジアクリレート（大阪有機化学工業社製Ｌｎｉｃ１６２Ａ ＨＰ）１質量部、１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート（サートマー社製）６３質量部、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学社製ＢＰＥ―２００、式（Ｂ−１−２）におけるＲ^８及びＲ^９がメチル基、ｍ＋ｎが４の化合物）７．５質量部、及び、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノールアクリレート（新中村化学社製）２８．５質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。なお、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、０．３質量％であった。

（比較例１）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、エチルメタクリレート（共栄社化学社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例２）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ベンジルメタクリレート（東京化成工業社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例３）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ブチルアクリレート（三菱ケミカル社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例４）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ドデカンジオールジアクリレート（サートマー社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例５）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ブチルアクリレート（三菱ケミカル社製）２０質量部及び１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート（共栄社化学社製）８０質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

（比較例６）
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９−ヘキサデカフルオロ−１，１０−デカンジオールジアクリレートに代えて、１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート１質量部を用いたこと以外は、実施例８と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

表１及び表２に示すとおり、実施例の封止剤によれば、濡れ性、接着性及び防湿性に優れる封止材が形成された。

Claims (16)

1. フッ素原子及び（メタ）アクリロイル基を有する含フッ素モノマー（Ａ）を含むモノマー成分と、光重合開始剤と、を含有する、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
2. 前記含フッ素モノマーのフッ素原子含有量が、前記含フッ素モノマーの全量基準で、２〜７５質量％である、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
3. 前記モノマー成分のフッ素原子含有量が、前記モノマー成分の全量基準で、０．１〜７５質量％である、請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
4. 前記含フッ素モノマーが、３〜２５個のフッ素原子を有する化合物を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
5. 前記含フッ素モノマーが、式（Ａ−１）で表される化合物、式（Ａ−２）で表される化合物及び式（Ａ−３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
   

   

   ［式（Ａ−１）中、
   Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を示し、
   Ｒ^２は、フッ化アルキル基、又は、フッ化アルキル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。］
   

   

   ［式（Ａ−２）中、
   Ｒ^３は、水素原子又はメチル基を示し、
   Ｒ^４は、フッ化アルカンジイル基、又は、フッ化アルカンジイル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。
   複数存在するＲ^３は互いに同一でも異なっていてもよい。］
   

   

   ［式（Ａ−３）中、
   Ｒ^５は水素原子又はメチル基を示し、
   Ｒ^６は、単結合、アルカンジイル基、フッ化アルカンジイル基、又は、アルカンジイル基若しくはフッ化アルカンジイル基における炭素−炭素結合及び炭素−水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示し、
   Ａｒ^１はフッ化アリール基を示す。］
6. 前記含フッ素モノマーが、式（Ａ−１−１）で表される化合物、式（Ａ−２−１）で表される化合物及び式（Ａ−３−１）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
   

   

   ［式（Ａ−１−１）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２１は水素原子又はフッ素原子を示し、ｎは１以上の整数を示す。複数存在するＲ^２１は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^２１の少なくとも一つはフッ素原子である。］
   

   

   ［式（Ａ−２−１）中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^４１は水素原子又はフッ素原子を示し、ｍは１以上の整数を示す。複数存在するＲ^３は互いに同一でも異なっていてもよい。複数存在するＲ^４１は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^４１の少なくとも一つはフッ素原子である。］
   

   

   ［式（Ａ−３−１）中、Ｒ^５は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^６１は水素原子又はフッ素原子を示し、Ｒ^６２は水素原子又はフッ素原子を示し、ｐは０以上の整数を示す。複数存在するＲ^６１は、互いに同一でも異なっていてもよい。複数存在するＲ^６２は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ^６２の少なくとも一つはフッ素原子である。］
7. 前記モノマー成分が、前記含フッ素モノマー以外のモノマー（Ｂ）を更に含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
8. 前記モノマー成分が、前記モノマー（Ｂ）として、環状構造を有するモノマー（Ｂ−１）を含む、請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
9. 前記モノマー（Ｂ−１）が、エトキシ化−ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ−フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項８に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
10. 前記モノマー成分が、前記モノマー（Ｂ）として、炭素数６以上のアルカンジイル基を有するアルカンジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ−２）を含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
11. 前記アルカンジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ−２）が、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，１２−ドデカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
12. 前記光重合開始剤が、アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤を含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
13. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤を硬化してなる、硬化体。
14. 請求項１３に記載の硬化体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材。
15. 無機膜と有機膜とが積層した積層体を含み、
    前記有機膜が請求項１３に記載の硬化体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材。
16. 有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、
    請求項１４又は１５に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材と、を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。