JPWO2019198760A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2019198760A5
JPWO2019198760A5 JP2020513431A JP2020513431A JPWO2019198760A5 JP WO2019198760 A5 JPWO2019198760 A5 JP WO2019198760A5 JP 2020513431 A JP2020513431 A JP 2020513431A JP 2020513431 A JP2020513431 A JP 2020513431A JP WO2019198760 A5 JPWO2019198760 A5 JP WO2019198760A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light absorbing
absorbing element
base point
spiral
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020513431A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2019198760A1 (ja
JP7325122B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2019/015644 external-priority patent/WO2019198760A1/ja
Publication of JPWO2019198760A1 publication Critical patent/JPWO2019198760A1/ja
Publication of JPWO2019198760A5 publication Critical patent/JPWO2019198760A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7325122B2 publication Critical patent/JP7325122B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2020513431A 2018-04-12 2019-04-10 光吸収素子、光吸収体、及び光吸収素子の製造方法 Active JP7325122B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018076915 2018-04-12
JP2018076915 2018-04-12
PCT/JP2019/015644 WO2019198760A1 (ja) 2018-04-12 2019-04-10 光吸収素子、光吸収体、及び光吸収素子の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2019198760A1 JPWO2019198760A1 (ja) 2021-04-22
JPWO2019198760A5 true JPWO2019198760A5 (https=) 2022-04-06
JP7325122B2 JP7325122B2 (ja) 2023-08-14

Family

ID=68163214

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020513431A Active JP7325122B2 (ja) 2018-04-12 2019-04-10 光吸収素子、光吸収体、及び光吸収素子の製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7325122B2 (https=)
WO (1) WO2019198760A1 (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023175657A1 (ja) * 2022-03-14 2023-09-21 ソニーグループ株式会社 電磁波吸収体、電磁波遮蔽部材、シールド材、電磁波吸収シート、センサ、受信及び/又は送信を行う装置、並びに受光及び/又は発光を行う装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102778708A (zh) * 2012-07-20 2012-11-14 华中科技大学 一种光波段吸波器
WO2014019514A1 (zh) * 2012-07-31 2014-02-06 深圳光启创新技术有限公司 一种宽频吸波超材料、电子设备以及获得宽频吸波超材料的方法
CN103582402B (zh) * 2012-08-03 2019-01-22 深圳光启创新技术有限公司 一种吸波材料
AT516164B1 (de) * 2014-08-18 2016-03-15 Univ Wien Tech Optische Diode
CN107479215B (zh) * 2017-07-13 2019-10-25 华中科技大学 一种太赫兹超材料调制方法及其产品
JP2019066633A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 出光興産株式会社 円偏光吸収フィルタ、並びに該円偏光吸収フィルタを備える光学素子及び該円偏光吸収フィルタを備える有機el素子
CN109509986A (zh) * 2018-12-20 2019-03-22 厦门大学 基于金属螺旋微结构的石墨烯太赫兹多频吸波器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5395757B2 (ja) パターン形成方法
EP3043375B1 (en) Reflective photomask and production method therefor
JP5945192B2 (ja) 表面増強ラマン散乱ユニット
JP2020074053A5 (https=)
US20080192347A1 (en) High Aspect-Ratio X-Ray Diffractive Structure Stabilization Methods and Systems
TW201410588A (zh) 表面增強拉曼散射元件之製造方法
JP2015133514A5 (https=)
JP2011124612A5 (https=)
WO2014025035A1 (ja) 表面増強ラマン散乱素子
JP2017026701A5 (https=)
TWI872840B (zh) 用於極紫外光(euv)微影之隔膜及圖案化裝置總成、及製造用於euv微影之護膜之方法
WO2013189141A1 (zh) 柔性显示基板的制作方法
JP2019053288A5 (ja) フォトマスク及び表示装置の製造方法
JPWO2019198760A5 (https=)
JP2010537258A (ja) 像を連続的に直接書き込むためのリソグラフィ法
JP2009237527A (ja) パターン化されたフォトレジスト層の形成方法
WO2017006447A1 (ja) 段差付ウエハおよびその製造方法
CN107272326A (zh) 一种光掩模和利用其制造用于滤色器的柱状间隔件的方法
JP2008158013A5 (https=)
CN1959528A (zh) 微影光罩及其制造方法与使用上述两者制造的半导体元件
WO2019198760A1 (ja) 光吸収素子、光吸収体、及び光吸収素子の製造方法
US10720336B2 (en) Method for manufacturing a mask
JP6203558B2 (ja) 表面増強ラマン散乱素子及びその製造方法
JP4595548B2 (ja) マスク基板及びマイクロレンズの製造方法
KR101200484B1 (ko) 프로젝션 어블레이션용 마스크의 제조 방법