JP2009237527A - パターン化されたフォトレジスト層の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上面と底面を有する基板を提供するステップ、前記基板の上面にフォトレジスト層を形成するステップ、前記フォトレジスト層上に透明層を提供するステップ、前記透明層上に遮光層を提供するステップ、前記遮光層および前記透明層を通過して前記フォトレジスト層を露光する露光源を提供するステップ、及び前記フォトレジスト層を現像してパターン化されたフォトレジスト層を形成するステップを含み、前記パターン化されたフォトレジスト層と前記基板とが直角でない接触角を有するパターン化されたフォトレジスト層の形成方法である。
【選択図】図3
Description
3 ポジ型フォトレジスト層
3A、3B、4A、4B パターン化されたフォトレジスト層
5 透明層
7 遮光層
9 露光源
10 透明基板
α、β パターン化されたフォトレジスト層と基板との接触角
γ、δ パターン化されたフォトレジスト層と透明基板との接触角
Claims (22)
- 上面と底面を有する基板を提供するステップ、
前記基板の上面にフォトレジスト層を形成するステップ、
前記フォトレジスト層上に透明層を提供するステップ、
前記透明層上に遮光層を提供するステップ、
前記遮光層および前記透明層を通過して前記フォトレジスト層を露光する露光源を提供するステップ、及び
前記フォトレジスト層を現像してパターン化されたフォトレジスト層を形成するステップを含み、
前記パターン化されたフォトレジスト層と前記基板とが直角でない接触角を有するパターン化されたフォトレジスト層の形成方法。 - 前記直角でない接触角は、15〜85度、または95〜165度である請求項1に記載の方法。
- 前記パターン化されたフォトレジスト層は、曲面の側壁を有する請求項1又は2に記載の方法。
- 前記フォトレジスト層は、ポジ型フォトレジスト、またはネガ型フォトレジストを含む請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
- 前記遮光層は、フォトマスクである請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層は、ガラス、インジウムスズ酸化物、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、またはその組み合わせを含む請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層は、0.1〜1mmの厚さを有し、前記直角でない接触角は、60〜85度、または95〜115度である請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層は、1〜2mmの厚さを有し、前記直角でない接触角は、45〜70度、または110〜130度である請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層は、2〜3mmの厚さを有し、前記直角でない接触角は、30〜60度、または120〜140度である請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層は、3〜4mmの厚さを有し、前記直角でない接触角は、20〜50度、または130〜150度である請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層は、4〜5mmの厚さを有し、前記直角でない接触角は、15〜40度、または140〜165度である請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
- 上面と底面を有する透明基板を提供するステップ、
前記基板の上面にフォトレジスト層を形成するステップ、
前記透明基板の底面下に透明層を提供するステップ、
前記透明層下に遮光層を提供するステップ、
前記遮光層、前記透明層、および前記透明基板を通過して前記フォトレジスト層を露光する露光源を提供するステップ、及び
前記フォトレジスト層を現像してパターン化されたフォトレジスト層を形成するステップを含み、
前記パターン化されたフォトレジスト層と前記基板とが直角でない接触角を有するパターン化されたフォトレジスト層の形成方法。 - 前記直角でない接触角は、15〜85度、または95〜165度である請求項12に記載の方法。
- 前記パターン化されたフォトレジスト層は、曲面の側壁を有する請求項12又は13に記載の方法。
- 前記フォトレジスト層は、ポジ型フォトレジスト、またはネガ型フォトレジストを含む請求項12〜14のいずれかに記載の方法。
- 前記遮光層は、フォトマスクである請求項12〜15のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層は、ガラス、インジウムスズ酸化物、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、またはその組み合わせを含む請求項12〜16のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層および前記透明基板は、0.1〜1mmの合計厚さを有し、前記直角でない接触角は、60〜85度、または95〜115度である請求項12〜17のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層および前記透明基板は、1〜2mmの合計厚さを有し、前記直角でない接触角は、45〜70度、または110〜130度である請求項12〜17のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層および前記透明基板は、2〜3mmの合計厚さを有し、前記直角でない接触角は、30〜60度、または120〜140度である請求項12〜17のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層および前記透明基板は、3〜4mmの合計厚さを有し、前記直角でない接触角は、20〜50度、または130〜150度である請求項12〜17のいずれかに記載の方法。
- 前記透明層および前記透明基板は、4〜5mmの合計厚さを有し、前記直角でない接触角は、15〜40度、または140〜165度である請求項12〜17のいずれかに記載の方法。
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