JPWO2019188965A1 - 超純水製造システム及び超純水製造方法 - Google Patents

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Abstract

超純水製造システムを長期間安定的に高純度の純水が製造できる超純水製造システム及び超純水製造方法を提供すること。
直列に接続された限外ろ過膜装置2及びろ過膜装置3を有し、被処理水を前記限外ろ過膜装置2と前記ろ過膜装置3で順に処理して超純水を製造する超純水製造システム1であって、前記限外ろ過膜装置2は、粒子径20nm以上の微粒子の除去率が99.99%以上であり、前記ろ過膜装置3は、耐酸化剤性であり、孔径が2〜40nmのろ過膜を具備する超純水製造システム1及び超純水製造方法。

Description

本発明は、超純水製造システム及び超純水製造方法に関する。
従来、半導体製造工程で使用する超純水は、超純水製造システムを用いて製造されている。超純水製造システムは、例えば、原水中の懸濁物質を除去して前処理水を得る前処理部、前処理水中の全有機炭素(TOC)成分やイオン成分を、逆浸透膜装置やイオン交換装置を用いて除去して一次純水を製造する一次純水製造部及び一次純水中の極微量の不純物を除去して超純水を製造する二次純水製造部で構成されている。原水としては、市水、井水、地下水、工業用水等が用いられる他、超純水の使用場所(ユースポイント:POU)で回収された使用済みの超純水(以下、「回収水」と称する。)が用いられる。
二次純水製造部では、紫外線酸化装置、イオン交換純水装置及び限外ろ過膜(UF)装置等により一次純水が高度に処理されて超純水が生成する。限外ろ過膜装置は、この二次純水製造部の最後段付近に配置され、イオン交換樹脂などから生じる微粒子を除去する。
ところで、超純水については、高純度化に対する要求が年々高まってきており、例えば微粒子濃度は、粒子径が50nm以上の微粒子数で、1000pcs./L以下が求められている。さらに、要求水質はより厳しくなる傾向にあり、粒子径が50nm未満、例えば10nm程度の微粒子の低減も求められてきている。そのため、より粒子径の小さな微粒子を高度に除去する方法が提案されている(例えば、特許文献1、2参照。)。
また、超純水水質の向上を目的として、超純水プラントの上流で生じたコンタミネーション分や粒状形成分を最末端に配置した限外ろ過膜装置で除去する方法も提案されている(例えば、特許文献3参照。)
特開2016−64342号公報 国際公開2015/050125号 特開平10−99855号公報
ところで、従来微細微粒子の除去に用いられる限外ろ過膜は、酸化剤への耐性が十分でないために水中の過酸化水素によって徐々に劣化して、限外ろ過膜自体が発塵を生じることも分かった。そのため、微粒子が低減された超純水を長期間得難いという課題があった。
本発明は、微粒子が低減された超純水を長期間得ることのできる超純水製造システム及び超純水製造方法を提供することを目的とする。
本発明の超純水製造システムは、限外ろ過膜装置と該限外ろ過膜に直列に接続されたろ過膜装置とを有し、被処理水を前記限外ろ過膜装置と前記ろ過膜装置で順に処理して超純水を製造する超純水製造システムであって、前記限外ろ過膜装置は、粒子径20nm以上の微粒子の除去率が99.8%以上であり、前記ろ過膜装置は、耐酸化剤性であり、孔径が2〜40nmのろ過膜を具備することを特徴とする。
本発明の超純水製造システムにおいて、前記限外ろ過膜装置は、分画分子量が3000〜10000の限外ろ過膜を有することが好ましい。また、前記限外ろ過膜装置はポリスルホン、ポリフッ化ビニリデン又はポリテトラフルオロエチレンを材料とする限外ろ過膜を有することが好ましい。
本発明の超純水製造システムにおいて、前記ろ過膜装置は、ポリフッ化ビニリデン又はポリテトラフルオロエチレンを材料とするろ過膜を有することが好ましい。
本発明の超純水製造システムは、前記限外ろ過膜装置の上流に、さらに過酸化水素除去装置を有し、前記過酸化水素除去装置の処理水を前記被処理水として前記限外ろ過膜装置と前記ろ過膜装置とで順に処理可能とすることが好ましい。
本発明の超純水製造システムは、前記限外ろ過膜装置の上流に、紫外線酸化装置、過酸化水素除去装置、脱気膜装置及び非再生型混床式イオン交換樹脂装置をこの順に備え、前記非再生型混床式イオン交換樹脂装置の処理水を被処理水として前記限外ろ過膜装置及びろ過膜装置で処理可能とすることが好ましい。
本発明の超純水製造方法は、被処理水を限外ろ過膜装置に通水して、粒子径20nm以上の微粒子を99.8%以上の除去率で処理し、前記限外ろ過膜装置の処理水を、耐酸化剤性であり、孔径が2〜40nmのろ過膜を具備するろ過膜装置に通水して処理する、ことを特徴とする。
本発明の超純水製造方法において、前記限外ろ過膜装置の被処理水は過酸化水素を0.1〜3μg/L含むことが好ましい。
本発明の超純水製造システム及び超純水製造方法によれば、微粒子が低減された超純水を長期間得ることができる。
実施形態に係る超純水製造システムを表すブロック図である。 実施形態に係る二次純水製造部を表すブロック図である。
限外ろ過膜は、一般的に過酸化水素等の酸化剤に対して比較的耐性がある。したがって、限外ろ過膜への供給水に過酸化水素濃度が含有される場合でも、例えば、0.1〜3μg/L程度の濃度であれば、過酸化水素による膜劣化は起きないと理解されていた。ところが、限外ろ過膜を長期通水した場合、限外ろ過膜の素材によって、長期通水後の処理水水質、特に水中の微粒子濃度に違いが生じること、つまり、長期通水すると、上記のような低濃度の過酸化水素であっても、膜に対して何らかの影響があることが分かってきた。そして、より耐酸化剤性の強い限外ろ過膜を用いて長期通水をした場合、水質の悪化が比較的緩やかであることを見出して、本発明の完成に至った。
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態を詳細に説明する。図1に示すように、本実施形態に係る超純水製造システム1は、前処理部10、一次純水製造部11、タンク12及び二次純水製造部13を備えており、二次純水製造部13内に水中の微粒子を除去する限外ろ過膜装置2とろ過膜装置3を順に備えている。前処理部10及び一次純水製造部11はいずれも、必要に応じて備えられる。
本実施形態の超純水製造システム1では、限外ろ過膜装置2として粒子径が50nm未満やさらに20nm程度の微細微粒子の除去率の高い限外ろ過膜装置を用いるとともに、ろ過膜装置3として耐酸化剤性の限外ろ過膜を有するフィルター装置を用いる。これにより、限外ろ過膜装置2によって、上記のような微細微粒子を高度に除去するとともに、これが劣化してきた際の発塵をろ過膜装置3で捕捉することで、長期にわたって微粒子が高度に除去された超純水を得ることができる。
以下、本実施形態に係る超純水製造システム1が有する限外ろ過膜装置2、ろ過膜装置3及び超純水製造システム1が必要に応じて有するその他の装置について説明する。
前処理部10は、原水中の懸濁物質を除去して、前処理水を生成し、この前処理水を一次純水製造部11に供給する。前処理部10は、例えば、原水中の懸濁物質を除去するための砂ろ過装置、精密ろ過装置等を適宜選択して構成され、さらに必要に応じて被処理水の温度調節を行う熱交換器等を備えて構成される。なお、原水の水質によっては、前処理部10は省略してもよい。
原水は、例えば、市水、井水、地下水、工業用水、半導体製造工場などで使用され、回収されて処理された水(回収水)である。
一次純水製造部11は、逆浸透膜装置、脱気装置(脱炭酸塔、真空脱気装置、脱気膜装置等)、イオン交換装置(陽イオン交換装置、陰イオン交換装置、混床式イオン交換装置等)、紫外線酸化装置のうち1つ以上を適宜組み合わせて構成される。一次純水製造部11は、前処理水中のイオン成分及び非イオン成分、溶存ガスを除去して一次純水を製造し、この一次純水をタンク12に供給する。一次純水は、例えば、全有機炭素(TOC)濃度が5μgC/L以下、抵抗率が17MΩ・cm以上、粒子径20nm以上の微粒子数が100000psc./L以下である。
タンク12は、一次純水を貯留して、その必要量を二次純水製造部13に供給する。
二次純水製造部13は、一次純水中の微量不純物を除去して超純水を製造する。図2に示すように、二次純水製造部13は、例えば、限外ろ過膜装置2の上流側に、熱交換器(HEX)4、紫外線酸化装置(TOC−UV)5、過酸化水素除去装置(H除去装置)6、脱気膜装置(MDG)7及び非再生型混床式イオン交換樹脂装置(Polisher)8を備えて構成される。なお、二次純水製造部13は、上記装置を必ずしも備える必要はなく、上記装置を必要に応じて組み合わせて採用すればよい。
熱交換器(HEX)4は、必要に応じてタンク12から供給された一次純水の温度調節を行う。熱交換器4で温度調節された一次純水の温度は好ましくは25±3℃である。
紫外線酸化装置(TOC−UV)5は、上記熱交換器4で温度調節された一次純水に紫外線を照射して、水中の微量有機物を分解除去する。紫外線酸化装置5は、例えば、紫外線ランプを有し、波長185nm付近の紫外線を発生する。紫外線酸化装置5は、さらに波長254nm付近の紫外線を発生してもよい。紫外線酸化装置5内で水に紫外線を照射すると紫外線が水を分解してOHラジカルを生成し、このOHラジカルが、水中の有機物を酸化分解する。紫外線酸化装置において過剰の紫外線照射が行われた場合、有機物の酸化分解に寄与しないOHラジカル同士が反応して過酸化水素が発生する。この発生した過酸化水素は、下流の限外ろ過膜装置2の有する限外ろ過膜を劣化させることがある。
そのため、紫外線酸化装置5から流出する過酸化水素を低減して、下流の限外ろ過膜装置2の有する限外ろ過膜の劣化を抑制するために、紫外線酸化装置5における紫外線照射量は、0.05〜0.2kWh/mであることが好ましい。
過酸化水素除去装置(H除去装置)6は、水中の過酸化水素を分解除去する装置であり、例えば、パラジウム(Pd)担持樹脂によって過酸化水素を分解除去するパラジウム担持樹脂装置や表面に亜硫酸基及び/又は亜硫酸水素基を有する還元性樹脂を充填した還元性樹脂装置等が挙げられる。過酸化水素除去装置6を設けることで、水中の過酸化水素濃度を低減することができるので、限外ろ過膜装置2の有する限外ろ過膜の劣化を抑制することができる。
脱気膜装置(MDG)7は、気体透過性の膜の二次側を減圧して、一次側を通流する水中の溶存ガスのみを二次側に透過させて除去する装置である。脱気膜装置7として具体的には、3M社製のX−50、X40、DIC社製のSeparelなどの市販品を用いることができる。脱気膜装置7は、過酸化水素除去装置6から得られる処理水中の溶存酸素を除去して、例えば、溶存酸素濃度(DO)が1μg/L以下の処理水を生成する。
非再生型混床式イオン交換樹脂装置(Polisher)8は、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂が混合された混床式イオン交換樹脂を有し、脱気膜装置7の処理水中の微量の陽イオン成分及び陰イオン成分を吸着除去する。
非再生型混床式イオン交換樹脂装置8は、その内部に陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂とを混合して収容する装置である。ここで用いられる陽イオン交換樹脂としては、強酸性陽イオン交換樹脂や弱酸性陽イオン交換樹脂が挙げられ、強酸性陽イオン交換樹脂が好ましく、陰イオン交換樹脂としては、強塩基性陰イオン交換樹脂や弱塩基性陰イオン交換樹脂が挙げられ、強塩基性陰イオン交換樹脂が好ましい。混床式イオン交換樹脂としては、強酸性陽イオン交換樹脂と強塩基性陰イオン交換樹脂を混合したものを用いることが好ましく、その市販品としては、例えば、野村マイクロ・サイエンス製 N−Lite MBSP、MBGPなどを用いることができる。
限外ろ過膜装置2は、非再生型混床式イオン交換樹脂装置8の処理水を処理して、透過水と濃縮水を生成する。限外ろ過膜装置2は、粒子径20nm以上の微粒子の除去率が99.8%以上であり、99.95%以上であることが好ましく、99.99%以上であることがさらに好ましい。これにより限外ろ過膜装置2によって、超純水の水質悪化の原因となる微粒子のほとんどが除去され、例えば、粒子径20nm以上の微粒子数が200pcs./L以下、さらには50pcs./L以下の透過水を得ることができる。限外ろ過膜装置2は、粒子径10nm以上の微粒子を上記の除去率で除去できることがさらに好ましく、これにより、超純水の水質をより向上させて、粒子径10nm以上の微粒子数が200pcs./L以下、さらには50pcs./L以下の透過水を得ることができる。限外ろ過膜装置2において生成した透過水は後段のろ過膜装置3に供給される。濃縮水は系外に排出されるか、超純水製造システムの前段に循環されて再処理される。
なお、限外ろ過膜装置2は、上記では図2の非再生型混床式イオン交換樹脂装置8の処理水を処理することとしているが、これに限られず、粗大な粒子が除去された水、例えば、超純水製造装置における、前処理部で処理された以降の処理水であればよく、前処理水、一次処理水、二次処理水(循環させる場合も含む)等を被処理水とできる。限外ろ過膜装置2は、このような被処理水に対して、上記のような微粒子の除去率を有するものである。この被処理水としては、前処理部10に供えられた懸濁物質除去装置の処理水や、1次純水製造部11に供えられた逆浸透膜装置の処理水を用いることがより好ましい。また、限外ろ過膜装置2は二次純水製造部13内に供えられることが好ましい。
なお、微粒子除去率は、例えば、測定対象の膜に、0.1MPaに加圧した微粒子含有水を水回収率95%以上で通水した際の、透過水中の所定の粒子径以上の微粒子数と供給水中の所定の粒子径の微粒子数とを測定し、{1−(透過水中の所定の粒子径の微粒子数/供給水中の所定の粒子径以上の微粒子数)}×100(%)で算出することができる。除去率は、ポリスチレンラテックス(Thermo Fisher製、型番 3020A
呼径20nm)を超純水に混合し、測定対象の膜装置の供給水に500000個/mlをチャージして確かめられる。
このような限外ろ過膜装置2としては、高い微粒子除去率が得やすいため、分画分子量が好ましくは3000〜10000、より好ましくは4000〜8000の限外ろ過膜を有する装置が好適である。なお、限外ろ過膜の分画分子量は、例えば、次のようにして測定することができる。分子量が既知でかつ異なる複数種のマーカー分子を含有する試料水を測定対象の限外ろ過膜に通水して当該マーカー分子の除去率を測定する。得られた除去率の測定結果を分子量に対してプロットして分画曲線を作成する。この分画曲線から除去率が例えば90%の分子量をその膜の分画分子量とする。マーカー分子としては、デキストラン、ポリエチレングリコール(PEG)、タンパク質等が用いられる。
限外ろ過膜装置2が有する限外ろ過膜は、例えば、非対称膜や複合膜であり、ポリスルホン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリエーテルスルホン又はポリアミドを材料として構成されることが好ましい。膜形状は、シート平膜、スパイラル膜、管状膜、中空糸膜等であるが、これらに限定されない。高い微粒子除去率が得られるためポリスルホン製のものがより好ましい。なお、限外ろ過膜装置2の有する限外ろ過膜は後述するろ過膜装置3の有する限外ろ過膜のような耐酸化剤性を有しなくても構わない。
限外ろ過膜装置2における有効膜面積は、5m〜60mが好ましく、10m〜50mがより好ましい。15m〜40mがさらに好ましく、有効膜面積が上記した範囲であると、膜の劣化を抑制し易い。
限外ろ過膜装置2における水回収率は95%以上が好ましく、99%以上がより好ましい。これにより、微粒子が高度に除去された超純水を得ながら、超純水の製造効率を向上させることができる。
限外ろ過膜装置2の被処理水、すなわち非再生型混床式イオン交換樹脂装置8の処理水が上記したように過酸化水素を含む場合、被処理水中の過酸化水素濃度は、0.1〜3μg/Lが好ましく、0.2〜1μg/Lがより好ましい。限外ろ過膜装置2の被処理水中の過酸化水素濃度が上記した範囲であると、限外ろ過膜の劣化を抑制し易く、より長期にわたって微粒子が高度に除去された超純水を得ることができる。
ろ過膜装置3は、限外ろ過膜装置2の透過水を処理して透過水と濃縮水を生成する。ろ過膜装置3は耐酸化剤性を有し、孔径が2〜40nmのろ過膜を具備する。このようなろ過膜としては、例えば、PVDF又はPTFE等を材料として構成される限外ろ過膜(UF)や精密ろ過膜(MF)が挙げられる。膜形状としては、シート平膜、スパイラル膜、管状膜、中空糸膜等が挙げられるが、これらに限定されない。なお、ろ過膜の耐酸化剤性は、例えば、5質量%の過酸化水素水に10日間浸漬した後、その透過水量の減少が、試験前の5%未満であるもの、又はその引っ張り強度の変化量が、試験前の強度に対して5%未満であるもの、を耐酸化剤性有りと判断することができる。また、上記の方法で耐酸化剤性を有すると判断される膜に限らず、耐過酸化水素性、あるいは耐酸化性を有すると公称される膜を用いてもよい。
上述したように水中の微粒子のほとんどは、限外ろ過膜装置2で除去されるので、ろ過膜装置3は、限外ろ過膜装置2ほどの高い微粒子除去率を実現しなくても構わない。そのためろ過膜装置3における粒子径20nm以上の微粒子の除去率は好ましくは40〜95%、より好ましくは60〜90%であればよい。
また、超純水製造システム1による超純水の長期製造時には、例えば紫外線酸化装置5から流出する過酸化水素によって限外ろ過膜装置2の有する限外ろ過膜が劣化して発塵を生じることがある。この発塵は、例えば、20〜100nm程度である。そのため、ろ過膜装置3におけるろ過膜の孔径は5〜40nmであることが好ましく、10〜30nmであることがより好ましい。このろ過膜の孔径は、公称孔径で判断することができる。または上記限外ろ過膜と同様の方法で、粒子径が既知の物質を用いて測定することができる。
上記微粒子除去率が得やすいため、ろ過膜装置3における限外ろ過膜としては、孔径が好ましくは5〜40nm、より好ましくは10〜30nmであるのが好適である。
ろ過膜装置3における水回収率は80%以上が好ましく、99%以上がより好ましい。これにより、微粒子が高度に除去された超純水を得ながら、超純水の製造効率を向上させることができる。
ろ過膜装置3の透過水として、粒子径20nm以上の微粒子数が好ましくは500pcs./L以下であり、より好ましくは200pcs./L以下の超純水を得ることができる。さらに好ましくは、ろ過膜装置3の透過水として、粒子径20nm以上の微粒子数が好ましくは50pcs./L以下のさらに高純度の超純水を得ることができる。また、超純水の水質は、例えば、全有機炭素(TOC)濃度が1μgC/L以下、抵抗率が18MΩ・cm以上である。ろ過膜装置3で生成した超純水は超純水の使用場所(POU)へ供給される。
本実施形態の超純水製造システム1では、限外ろ過膜装置2の限外ろ過膜が耐酸化剤性を有していない場合には、上記紫外線酸化装置5から流出した過酸化水素によって、当該限外ろ過膜が徐々に劣化して発塵が生じてくることもある。しかしながら、この限外ろ過膜からの発塵は、後段のろ過膜装置3で除去される。そのため、本実施形態の超純水製造システム1によれば、前段の限外ろ過膜が劣化しても微粒子が高度に除去された超純水を得ることができる。
以上で説明した実施形態の超純水製造システム及び超純水製造方法によれば、微粒子が高度に除去された超純水を長期にわたって得ることができる。
以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。本発明は以下の実施例に限定されない。
(実施例)
図2に示すのと同様の二次純水製造部を有する超純水製造システムを使用した。この二次純水製造部は一次純水を貯留するタンクの下流に、熱交換器、紫外線酸化装置(日本フォトサイエンス社製、JPW−2)、Pd担持樹脂装置(LANXESS社製、Lewatit K7333)、脱気膜装置(3M社製、X40 G451H)、非再生型混床式イオン交換装置(野村マイクロ・サイエンス製 N−Lite MBSPを200L充填)、限外ろ過膜装置(旭化成社製、OAT−6036HA(分画分子量(公称):4000、有効膜面積:34m)及びろ過膜装置(日本インテグリス社製、Trinzik 公称孔径15nm)を順に備えている。
上記の二次純水製造部に一次純水を供給して超純水を8年間製造した際の、ろ過膜装置の透過水中の粒子径0.4μm以上の微粒子数の経時変化を表1に示す。微粒子数の測定には、直接検鏡法を用いた。計測には日立製電子顕微鏡を用いた。
Figure 2019188965
また、通水年数8年の時に、Particle Measuring Systems社製の微粒子計UltraDI−20にて、20nm以上の微粒子を測定したところ、微粒子数は500pcs./L以下であった。また、実施例1を再試験し、通水年数1年の微粒子数をUDI−20で測定したところ、微粒子数は500pcs./L以下であった。
(比較例)
実施例で使用した超純水製造システムにおいて、限外ろ過膜装置の後段のろ過膜装置を有しない点のみが異なるシステムに、実施例と同様に一次純水を供給して超純水を8年間製造した際の、限外ろ過膜装置の透過水中の粒子径0.4μm以上の微粒子数の経時変化を測定した。結果を表2に示す。
Figure 2019188965
また、通水年数8年の時に、Particle Measuring Systems社製の微粒子計UltraDI−20にて、20nm以上の微粒子を測定したところ、微粒子数は1000pcs./Lであった。
表1、2に示されるように、限外ろ過膜装置の後段にろ過膜装置を設けた実施例の超純水製造システムでは、8年経過後も粒子径0.4μm以上の微粒子数が0.5pcs./L以下であり、また、UltraDI−20による20nm以上の微粒子数も、初期と同様であったことから、ろ過膜装置を設けない比較例の構成に比べて、長期にわたって微粒子が低減された超純水が得られたことが分かる。
1…超純水製造システム、2…限外ろ過膜装置、3…ろ過膜装置、4…熱交換器(HEX)、5…紫外線酸化装置(TOC−UV)、6…過酸化水素除去装置、7…脱気膜装置(MDG)、8…非再生型混床式イオン交換樹脂装置(Polisher)、10…前処理部、11…一次純水製造部、12…タンク、13…二次純水製造部。

Claims (8)

  1. 限外ろ過膜装置と該限外ろ過膜に直列に接続されたろ過膜装置とを有し、被処理水を前記限外ろ過膜装置と前記ろ過膜装置で順に処理して超純水を製造する超純水製造システムであって、
    前記限外ろ過膜装置は、粒子径20nm以上の微粒子の除去率が99.8%以上であり、
    前記ろ過膜装置は、耐酸化剤性であり、孔径が2〜40nmのろ過膜を具備することを特徴とする超純水製造システム。
  2. 前記限外ろ過膜装置は、分画分子量が3000〜10000の限外ろ過膜を有することを特徴とする請求項1に記載の超純水製造システム。
  3. 前記限外ろ過膜装置は、ポリスルホン、ポリフッ化ビニリデン又はポリテトラフルオロエチレンを材料とする限外ろ過膜を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の超純水製造システム。
  4. 前記ろ過膜装置は、ポリフッ化ビニリデン又はポリテトラフルオロエチレンを材料とするろ過膜を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の超純水製造システム。
  5. 前記限外ろ過膜装置の上流に、さらに過酸化水素除去装置を有し、前記過酸化水素除去装置の処理水を前記被処理水として前記限外ろ過膜装置と前記ろ過膜装置とで順に処理可能とすることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の超純水製造システム。
  6. 前記限外ろ過膜装置の上流に、紫外線酸化装置、過酸化水素除去装置、脱気膜装置及び非再生型混床式イオン交換樹脂装置をこの順に備え、
    前記非再生型混床式イオン交換樹脂装置の処理水を被処理水として前記限外ろ過膜装置及び前記ろ過膜装で処理可能とすることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の超純水製造システム。
  7. 被処理水を限外ろ過膜装置に通水して、粒子径20nm以上の微粒子を99.8%以上の除去率で処理し、
    前記限外ろ過膜装置の処理水を、耐酸化剤性であり、孔径が2〜40nmのろ過膜を具備するろ過膜装置に通水して処理する、
    ことを特徴とする超純水製造方法。
  8. 前記限外ろ過膜装置の被処理水は、過酸化水素を0.1〜3μg/L含むことを特徴とする請求項7に記載の超純水製造方法。
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