JPWO2019167926A1 - 積層体、有機電界発光装置、液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、偏光子および光学異方性層を有し、熱耐久性に優れた積層体、積層体を有する有機電界発光装置および液晶表示装置を提供する。本発明の積層体は、２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光板とを有する積層体であって、偏光板が、偏光子および光学異方性層を有し、偏光子が、ポリビニルアルコール系樹脂を含み、光学異方性層が、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、基板の透湿度が１０−３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、偏光板の含水量が３．０ｇ／ｍ２以下である。Ｌ１−Ｇ１−Ｄ１−Ａｒ−Ｄ２−Ｇ２−Ｌ２・・・（Ｉ）

Description

本発明は、積層体、有機電界発光装置、および、液晶表示装置に関する。

従来から、光学異方性層と偏光子とを有する偏光板が、光学補償および反射防止などを目的として、有機電界発光装置および液晶表示装置などに用いられている。
近年、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対して、全ての波長の光線に対応して同様の効果を与えることができる偏光板（いわゆる広帯域偏光板）の開発が進められており、特に、偏光板が適用される装置の薄型化の要求から、偏光板に含まれる光学異方性層についても薄型化が求められている。
上記の要求に対して、特許文献１および２においては、光学異方性層の形成に使用する重合性化合物として、逆波長分散性の重合性液晶化合物の利用が提案されている。

国際公開第２０１４／０１０３２５号 特開２０１１−２０７７６５号公報

しかしながら、特許文献１および２に記載されている逆波長分散性の重合性液晶（重合性液晶化合物）を用いて形成された光学異方性層を有する偏光板を作製し、実用上の態様（例えば、有機電界発光方式のスマホの反射防止を目的とした円偏光板）に合わせてこの偏光板を両側から透湿度の低い基板（例えば、ガラス基板）で挟みこみ、得られた積層体を高温下の条件に長時間曝した場合、積層体の面内の中央部に赤みムラが生じることが分かった。解析の結果、赤み領域において、面内レターデーション（Ｒｅ）が大きく変動しており、色味変化を生じていることが明らかとなった。そのため、高温下に長時間曝した場合でも、面内レターデーションの変化が抑制された、偏光子および光学異方性層を有する積層体の開発が望まれていた。以後、積層体を高温下に曝した際に面内レターデーションの変化が抑制されることを、熱耐久性に優れると表現する。

そこで、本発明は、偏光子および光学異方性層を有し、熱耐久性に優れた積層体を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記積層体を有する有機電界発光装置および液晶表示装置を提供することも課題とする。

本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

（１） ２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光板とを有する積層体であって、
偏光板が、偏光子および光学異方性層を有し、
偏光子が、ポリビニルアルコール系樹脂を含み、
光学異方性層が、後述する一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、
基板の透湿度が１０^−３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、
偏光板の含水量が３．０ｇ／ｍ^２以下である、積層体。
（２） 偏光板の含水量が２．３ｇ／ｍ^２以下である、（１）に記載の積層体。
（３） 偏光子の厚みが１０μｍ未満である、（１）または（２）に記載の積層体。
（４） 光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションであるＲｅ（４５０）と、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションであるＲｅ（５５０）と、光学異方性層の波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションであるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たす、（１）〜（３）のいずれかに記載の積層体。
（５） 光学異方性層がポジティブＡプレートである、（１）〜（４）のいずれかに記載の積層体。
（６） 光学異方性層がλ／４板である、（１）〜（５）のいずれかに記載の積層体。
（７） 偏光子の少なくとも一方の表面上に偏光子保護フィルムを有し、
偏光子保護フィルムの少なくとも１つがノルボルネン系樹脂を含む、（１）〜（６）のいずれかに記載の積層体。
（８） （１）〜（７）のいずれかに記載の積層体を有する、有機電界発光装置。
（９） （１）〜（７）のいずれかに記載の積層体を有する、液晶表示装置。

本発明によれば、偏光子および光学異方性層を有し、熱耐久性に優れた積層体を提供できる。
また、本発明によれば、上記積層体を有する有機電界発光装置および液晶表示装置を提供できる。

本発明の積層体の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。 本発明の積層体の実施形態の他の例を示す模式的な断面図である。

以下に、本発明の偏光板、有機電界発光装置、および、液晶表示装置について説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、角度について「直交」および「平行」とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味するものとし、角度について「同一」および「異なる」は、その差が５°未満であるか否かを基準に判断できる。
また、本明細書では、「可視光」とは、３８０〜７８０ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
次に、本明細書で用いられる用語について説明する。

＜遅相軸＞
本明細書において、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。なお、光学異方性層の遅相軸という場合は、光学異方性層全体の遅相軸を意図する。

＜Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）＞
面内レターデーション（Ｒｅ（λ））および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（λ））は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１にて、平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

なお、本明細書において、Ａプレートは以下のように定義される。
Ａプレートは、ポジティブＡプレート（正のＡプレート）とネガティブＡプレート（負のＡプレート）との２種があり、フィルム面内の遅相軸方向（面内での屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、ポジティブＡプレートは式（Ａ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＡプレートは式（Ａ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＡプレートはＲｔｈが正の値を示し、ネガティブＡプレートはＲｔｈが負の値を示す。
式（Ａ１） ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ
式（Ａ２） ｎｙ＜ｎｘ≒ｎｚ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｙ−ｎｚ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｙ≒ｎｚ」に含まれ、（ｎｘ−ｎｚ）×ｄが、−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｚ」に含まれる。
Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
式（Ｃ２） ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０〜１０ｎｍ、好ましくは０〜５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

本発明の特徴点としては、積層体の含水量などを所定の範囲に調整している点が挙げられる。
本発明者らは、上述した赤みムラが生じる原因について検討したところ、積層体を高温条件下に曝した場合、一定の誘導期間を経て、光学異方性層中の液晶化合物由来の構造の分解が急激に起こり、面内レターデーションの値の変動が大きくなることを知見している。
上記のような分解が生じる原因としては、水分が影響していることを知見している。つまり、２枚の透湿度の低い基板で挟まれた積層体に加熱処理を施すと、基板の透湿度が低いために、ポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子に含まれていた水分が基板の外側に抜け出しにくく、光学異方性層に拡散する状況となり、その水分によって上記分解が誘発していると考えられる。特に、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物においては、逆波長分散性の特性の点から電子吸引性の性質を持たせる場合があり、その結果、重合性液晶化合物を構成するいずれかの炭素原子のプラスへの分極が大きくなり、求核種の攻撃を受けやすくなるものと推測される。
なお、光学異方性層の端面においては基板が存在しないため、水分が積層体外に拡散できるが、光学異方性層の中央部においては２枚の基板に挟まれているため、分解が生じやすく、より大きな面内レターデーションの値の変動を起こしていると考えられる。
それに対して、本発明では光学異方性層および偏光子を含む積層体自体の水分量を所定の範囲に調整することにより、積層体を高温条件下に曝した場合でも、液晶化合物の分解などを抑制して、結果として積層体の熱耐久性が優れることを知見している。

図１に、本発明の積層体の一実施形態の模式的な断面図を示す。積層体１０Ａは、第１基板１２Ａと、偏光板１４と、第２基板１２Ｂとをこの順に有する。つまり、偏光板１４は、第１基板１２Ａと第２基板１２Ｂとの間に配置される。偏光板１４は、偏光子１６と光学異方性層１８とを有する。
以下、各部材について詳述する。

＜基板（第１基板１２Ａおよび第２基板１２Ｂ）＞
積層体は、２枚の基板を有する。図１においては、２枚の基板は、第１基板１２Ａおよび第２基板１２Ｂに該当する。
基板の透湿度は、１０^−３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下である。なかでも、積層体が適用される有機電界発光装置および液晶表示装置などの耐久性の点で、１０^−４ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下が好ましく、１０^−５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０^−１０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以上の場合が多い。
基板の透湿度の測定方法は、以下の通りである。測定温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（商標登録））を用いて測定する。

基板を構成する材料は特に制限されず、無機物であっても、有機物であってもよい。
基板としては、透湿度が規定より低ければ特に制限されないが、ガラス基板、および、ガスバリアフィルムが挙げられる。より具体的には、有機電界発光装置に用いられる封止ガラス、液晶セル用中のガラスおよび表面カバーガラスなどのガラス基板、並びに、ハイバリアフィルムおよび有機電界発光装置に用いられるバリアフィルムなどのガスバリアフィルムが挙げられる。
基板は、単層構造であってもよいし、複層構造であってもよい。

基板は、透明であることが好ましく、いわゆる透明基板であることが好ましい。
なお、本明細書において、「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００％未満の場合が多い。

基板の厚みは特に制限されないが、薄型化の点から、８００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０μｍ以上が好ましい。

＜偏光子＞
積層体は、偏光子を有する。偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光子である。
偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む。
ポリビニルアルコール系樹脂は、−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−という繰り返し単位を含む樹脂であり、例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。
ポリビニルアルコール系樹脂は、例えば、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体などが挙げられる。
酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、および、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は特に制限されないが、８５〜１００モル％が好ましく、９５．０〜９９．９５モル％がより好ましい。ケン化度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。
ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は特に制限されないが、１００〜１００００が好ましく、１５００〜８０００がより好ましい。平均重合度は、ケン化度と同様に、ＪＩＳ Ｋ ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。

偏光子中におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は特に制限されないが、偏光子中においてポリビニルアルコール系樹脂が主成分として含まれることが好ましい。主成分とは、ポリビニルアルコール系樹脂の含有量が、偏光子全質量に対して、５０質量％以上であることを意味する。ポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、偏光子全質量に対して、９０質量％以上が好ましい。上限は特に制限されないが、９９．９質量％以下の場合が多い。

偏光子は、二色性物質をさらに含むことが好ましい。二色性物質としては、ヨウ素または有機染料（二色性有機染料）が挙げられる。つまり、偏光子は、主成分としてポリビニルアルコールを含み、かつ、二色性物質を含むことが好ましい。

上記偏光子の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられ、ポリビニルアルコールを含む基板に二色性物質を吸着させ、延伸する方法が挙げられる。

偏光子の厚みは特に制限されないが、２０μｍ以下の場合が多く、１５μｍ以下の場合がより多く、本発明の効果がより優れる点で、１０μｍ以下が好ましく、１０μｍ未満がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、２μｍ以上の場合が多く、３μｍ以上の場合がより多い。例えば、偏光子の厚みは２〜１０μｍが好ましい。

＜光学異方性層＞
積層体は、光学異方性層を有する。光学異方性層は、後述する一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層である。
以下では、まず、光学異方性層の形成に用いられる組成物中の成分について詳述し、その後、光学異方性層の製造方法および特性について詳述する。

（一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物）
組成物には、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物が含まれる。一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物は、液晶性を示す化合物である。
Ｌ_１−Ｇ_１−Ｄ_１−Ａｒ−Ｄ_２−Ｇ_２−Ｌ_２ ・・・（Ｉ）

一般式（Ｉ）中、Ｄ_１およびＤ_２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−または−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４のそれぞれが複数存在する場合には、複数のＲ^１、複数のＲ^２、複数のＲ^３および複数のＲ^４はそれぞれ、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｇ_１およびＧ_２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、または、−ＮＨ−で置換されていてもよい。
Ｌ_１およびＬ_２はそれぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ_１およびＬ_２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。
Ａｒは、下記一般式（ＩＩ−１）、一般式（ＩＩ−２）、一般式（ＩＩ−３）または一般式（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。

上記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｑ_１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−ＮＲ^１１−を表し、
Ｒ^１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ_１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し（なお、上記芳香族炭化水素基および上記芳香族複素環基は置換基を有していてもよい）、
Ｚ_１、Ｚ_２およびＺ_３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^１２Ｒ^１３または−ＳＲ^１２を表し、
Ｚ_１およびＺ_２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ^１２およびＲ^１３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ_１およびＡ_２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ^２１−、−Ｓ−および−ＣＯ−からなる群から選ばれる基であって、Ｒ^２１は、水素原子または置換基を表し、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子（好ましくは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’、＝Ｃ(Ｒ’)Ｒ’が挙げられる（ここでＲ’は置換基を表す））を表し、
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、好ましくは、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基が挙げられ、
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表し、この有機基の好適態様は、上記Ａｘの有機基の好適態様と同じであり、
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環はそれぞれ、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、
Ｑ_２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
なお、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、またはこれらを組み合わせた基が挙げられる。

一般式（Ｉ）で表される液晶化合物の各置換基の定義および好ましい範囲については、特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＤ^１、Ｄ^２、Ｇ^１、Ｇ^２、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｘ^１、Ｙ^１、Ｑ^１、Ｑ^２に関する記載をそれぞれＤ_１、Ｄ_２、Ｇ_１、Ｇ_２、Ｌ_１、Ｌ_２、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｑ_１、Ｙ_１、Ｚ_１、およびＺ_２について参照でき、特開２００８−１０７７６７号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡ_１、Ａ_２、およびＸに関する記載をそれぞれＡ_１、Ａ_２、およびＸについて参照でき、国際公開第２０１３／０１８５２６号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡｘ、Ａｙ、Ｑ^１に関する記載をそれぞれＡｘ、Ａｙ、Ｑ_２について参照できる。Ｚ_３については特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＱ^１の記載を参照できる。

特に、Ｌ_１およびＬ_２で示される有機基としては、それぞれ、特に、−Ｄ_３−Ｇ_３−Ｓｐ−Ｐ_３で表される基であることが好ましい。
Ｄ_３は、Ｄ_１と同義である。
Ｇ_３は、単結合、炭素数６〜１２の２価の芳香環基もしくは複素環基、または炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ^７−で置換されていてもよく、ここでＲ^７は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｓｐは、単結合、−（ＣＨ_２）_ｎ−、−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−（ＣＨ_２−Ｏ−）_ｎ−、−（ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−）_ｍ、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ_２−Ｏ−）_ｎ−、−Ｏ−（ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−）_ｍ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２−Ｏ−）_ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−）_ｍ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^８）−（ＣＨ_２）_ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^８）−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^８）−（ＣＨ_２−Ｏ−）_ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^８）−（ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−）_ｍ、または、−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−で表されるスペーサー基を表す。ここで、ｎは２〜１２の整数を表し、ｍは２〜６の整数を表し、Ｒ^８は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。また、上記各基における−ＣＨ_２−の水素原子は、メチル基で置換されていてもよい。
Ｐ_３は重合性基を示す。

重合性基は特に制限されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基が挙げられ、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性が挙げられ、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基が挙げられる。中でも、脂環式エーテル基、または、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。

なお、本明細書において、「アルキル基」は、直鎖状、分枝鎖状および環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、および、シクロヘキシル基が挙げられる。

一般式（Ｉ）で表される液晶化合物の好ましい例を以下に示すが、これらの液晶化合物に制限されるものではない。

なお、上記式中、「＊」は結合位置を表す。

ＩＩ−２−８

ＩＩ−２−９

なお、上記式ＩＩ−２−８およびＩＩ−２−９中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

組成物中における一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、５０〜１００質量％が好ましく、７０〜９９質量％がより好ましい。
固形分とは、組成物中の溶媒を除いた他の成分を意味し、その性状が液状であっても固形分として計算する。

組成物は、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物以外の他の液晶化合物を含んでいてもよい。他の液晶化合物としては、公知の液晶化合物（棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物）が挙げられる。他の液晶化合物は、重合性基を有していてもよい。
組成物中における他の液晶化合物の含有量は、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物全質量に対して、０〜５０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。

他の液晶化合物としては、直鎖状のアルキル基で水素原子が１個置換されたシクロヘキサン環を一部に有する液晶化合物が好ましい。
ここで、「直鎖状のアルキル基で水素原子が１個置換されたシクロヘキサン環」とは、例えば、下記一般式（２）に示すように、シクロヘキサン環を２つ有する場合には、分子末端側に存在するシクロヘキサン環の水素原子が直鎖状のアルキル基で１個置換されたシクロヘキサン環をいう。

上記化合物としては、例えば、下記一般式（２）で表される構造を有する化合物が挙げられ、なかでも、熱耐久性に優れた積層体が得られる点で、（メタ）アクリロイル基を有する下記一般式（３）で表される化合物であるのが好ましい。

上記一般式（２）中、＊は結合位置を表す。
また、上記一般式（２）および（３）中、Ｒ^２は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｎは１または２を表し、Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、また、Ｗ^１およびＷ^２はこれらが互いに結合し、置換基を有していてもよい環構造を形成していてもよい。
また、上記一般式（３）中、Ｚは−ＣＯＯ−を表し、Ｌは炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を表す。

上記化合物としては、例えば、下記式Ａ−１〜Ａ−５で表される化合物が挙げられる。なお、下記式Ａ−３中、Ｒ^４は、エチル基またはブチル基を表す。

他の液晶化合物としては、例えば、特開２０１４−０７７０６８号公報の段落［００３０］〜［００３３］に記載された式（Ｍ１）、（Ｍ２）、または（Ｍ３）で表される化合物が挙げられる。

（重合性モノマー）
組成物は、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物および重合性基を有する他の液晶化合物以外の他の重合性モノマーを含んでいてもよい。なかでも、光学異方性層の強度がより優れる点で、重合性基を２個以上有する重合性化合物（多官能重合性モノマー）が好ましい。
多官能重合性モノマーとしては、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。多官能性ラジカル重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載の重合性モノマーが挙げられる。
また、組成物中に多官能重合性モノマーが含まれる場合、多官能重合性モノマーの含有量は、組成物中の全固形分に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％がさらに好ましい。

（重合開始剤）
組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
重合開始剤としては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、並びに、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）などが挙げられる。

重合開始剤としてはオキシム型の重合開始剤が好ましく、一般式（２）で表される化合物がより好ましい。

上記一般式（２）中、Ｘ^２は、水素原子またはハロゲン原子を表す。
また、上記一般式（２）中、Ａｒ^２は、２価の芳香族基を表し、Ｄ^７は、炭素数１〜１２の２価の有機基を表す。
また、上記一般式（２）中、Ｒ^１１は、炭素数１〜１２のアルキル基を表し、Ｙ^２は、１価の有機基を表す。

上記一般式（２）中、Ｘ^２が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
また、上記一般式（２）中、Ａｒ^２が示す２価の芳香族基としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、および、フェナンスロリン環などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、および、ベンゾチアゾール環などの芳香族複素環；を有する２価の基などが挙げられる。
また、上記一般式（２）中、Ｄ^７が示す炭素数１〜１２の２価の有機基としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、および、プロピレン基が挙げられる。
また、上記一般式（２）中、Ｒ^１１が示す炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、および、プロピル基が挙げられる。
また、上記一般式（２）中、Ｙ^２が示す１価の有機基としては、例えば、ベンゾフェノン骨格（（Ｃ_６Ｈ_５）_２ＣＯ）を含む官能基が挙げられる。具体的には、下記一般式（２ａ）および下記一般式（２ｂ）で表される基のように、末端のベンゼン環が無置換または１置換であるベンゾフェノン骨格を含む官能基が好ましい。なお、下記一般式（２ａ）および下記一般式（２ｂ）中、＊は結合位置、すなわち、上記一般式（２）におけるカルボニル基の炭素原子との結合位置を表す。

上記一般式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式Ｓ−１で表される化合物、および、下記式Ｓ−２で表される化合物が挙げられる。

組成物中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。

（溶媒）
組成物は、光学異方性層を形成する作業性の点から、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノン）、エーテル類（例えば、ジオキサン、および、テトラヒドロフラン）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼン）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエン）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、および、酢酸ブチル）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノール）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、および、エチルセロソルブ）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド）、および、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド）が挙げられる。
これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

（レベリング剤）
組成物は、光学異方性層の表面を平滑に保つ点から、レベリング剤を含んでいてもよい。
レベリング剤としては、添加量に対するレベリング効果が高い理由から、フッ素系レベリング剤またはケイ素系レベリング剤が好ましく、泣き出し（ブルーム、ブリード）を起こしにくい点から、フッ素系レベリング剤がより好ましい。
レベリング剤としては、例えば、特開２００７−０６９４７１号公報の段落［００７９］〜［０１０２］の記載に記載された化合物、特開２０１３−０４７２０４号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物（特に段落［００２０］〜［００３２］に記載された化合物）、特開２０１２−２１１３０６号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物（特に段落［００２２］〜［００２９］に記載された化合物）、特開２００２−１２９１６２号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される液晶配向促進剤（特に段落［００７６］〜［００７８］および段落［００８２］〜［００８４］に記載された化合物）、並びに、特開２００５−０９９２４８号公報に記載された一般式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される化合物（特に段落［００９２］〜［００９６］に記載された化合物）などが挙げられる。なお、後述する配向制御剤としての機能を兼ね備えてもよい。

（配向制御剤）
組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含んでいてもよい。
配向制御剤により、ホモジニアス配向の他、ホメオトロピック配向（垂直配向）、傾斜配向、ハイブリッド配向、および、コレステリック配向などの種々の配向状態を形成でき、また、特定の配向状態をより均一かつより精密に制御して実現できる。

ホモジニアス配向を促進する配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤、および、高分子の配向制御剤を用いることができる。
低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２−２０３６３号公報の段落［０００９］〜［００８３］、特開２００６−１０６６６２号公報の段落［０１１１］〜［０１２０］、および、特開２０１２−２１１３０６公報の段落［００２１］〜［００２９］の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４−１９８５１１号公報の段落［００２１］〜［００５７］、および、特開２００６−１０６６６２号公報の段落［０１２１］〜［０１６７］を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。

また、ホメオトロピック配向を形成または促進する配向制御剤としては、例えば、ボロン酸化合物、オニウム塩化合物が挙げられ、具体的には、特開２００８−２２５２８１号公報の段落［００２３］〜［００３２］、特開２０１２−２０８３９７号公報の段落［００５２］〜［００５８］、特開２００８−０２６７３０号公報の段落［００２４］〜［００５５］、および、特開２０１６−１９３８６９号公報の段落［００４３］〜［００５５］などに記載された化合物を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。

組成物が配向制御剤を含む場合、配向制御剤の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましい。

（その他の成分）
組成物は、上述した成分以外の成分を含んでいてもよく、例えば、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、および、架橋剤などが挙げられる。

（光学異方性層の製造方法）
光学異方性層の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、所定の基板（例えば後述する支持体層）に、上記組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）を施すことにより、硬化させた塗膜（光学異方性層）を製造できる。なお、必要に応じて、後述する配向膜を用いてもよい。
組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法）により実施できる。

上記光学異方性層の製造方法において、上記塗膜に対する硬化処理を行う前に、上記塗膜に含まれる液晶化合物の配向処理を行うことが好ましい。
配向処理は、室温（例えば、２０〜２５℃）で乾燥させる、または、加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
配向処理が加熱処理である場合、加熱時間（加熱熟成時間）は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間がより好ましく、１０秒間〜２分間がさらに好ましい。

上述した、塗膜に対して硬化処理（活性エネルギー線の照射（光照射処理）および／または加熱処理）は、液晶化合物の配向を固定するための固定化処理ということもできる。
固定化処理は、活性エネルギー線（好ましくは紫外線）の照射により行われることが好ましく、液晶化合物の重合により液晶が固定化される。

（光学異方性層の特性）
光学異方性層は、上述した組成物を用いて形成されるフィルムである。
光学異方性層の光学特性は特に制限されないが、λ／４板として機能することが好ましい。
λ／４板は、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板であり、特定の波長λｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）＝λ／４を満たす板（光学異方性層）のことをいう。
この式は、可視光域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよいが、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍの関係を満たすことが好ましく、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。

光学異方性層の波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーションであるＲｅ（４５０）と、光学異方性層の波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションであるＲｅ（５５０）と、光学異方性層の波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションのであるＲｅ（６５０）とは、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にあることが好ましい。すなわち、この関係は、逆波長分散性を表す関係といえる。
なお、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）の範囲は特に制限されないが、１．０５〜１．２５が好ましく、１．１３〜１．２３がより好ましい。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）の範囲は特に制限されないが、１．０１〜１．２５が好ましく、１．０１〜１．１０がより好ましい。

光学異方性層は、Ａプレートであっても、Ｃプレートであってもよく、ポジティブＡプレートであることが好ましい。
ポジティブＡプレートは、例えば、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を水平配向させることにより得ることができる。

光学異方性層は、単層構造であっても、複層構造であってもよい。複層構造である場合、Ａプレート（例えば、ポジティブＡプレート）とＣプレート（例えば、ポジティブＣプレート）との積層であってもよい。
なお、光学異方性層が複層構造である場合、それぞれの層が上述した組成物を用いて形成される層に該当する。

光学異方性層の厚みは特に制限されないが、薄型化の点から、０．５〜１０μｍが好ましく、１．０〜５μｍがより好ましい。

なお、積層体中において偏光子の透過軸と光学異方性層の遅相軸との関係は特に制限されない。
積層体を反射防止用途に適用する場合、光学異方性層がλ／４板で、かつ、偏光子の透過軸と光学異方性層の遅相軸とのなす角度は４５±１０°の範囲（３５〜５５°）が好ましい。
また、積層体をＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）液晶の斜め視野角の光学補償用途に適用する場合、光学異方性層がλ／４板のポジティブＡプレートとポジティブＣプレートとの複層構造であり、かつ、偏光子の透過軸と光学異方性層の遅相軸とのなす角度は０±１０°の範囲（−１０〜１０°）または９０±１０°の範囲（８０〜１００°）が好ましい。

＜その他の層＞
本発明の積層体は、上述した基板、偏光子および光学異方性層以外の他の部材を有していていもよい。

積層体は、偏光子保護フィルムをさらに有していてもよい。より、具体的には、図２に示すように、本発明の積層体の他の実施形態である積層体１０Ｂは、第１基板１２Ａと、第１偏光子保護フィルム２０Ａと、偏光子１６と、第２偏光子保護フィルム２０Ｂと、光学異方性層１８と、第２基板１２Ｂとを順に有する。なお、図２においては、２枚の偏光子保護フィルム（第１偏光子保護フィルム２０Ａおよび第２偏光子保護フィルム２０Ｂ）を有する態様について述べたが、この態様に制限されず、第１偏光子保護フィルム２０Ａおよび第２偏光子保護フィルム２０Ｂの一方のみを有する態様であってもよい。

なかでも、積層体は、偏光子の光学異方性層とは逆側の表面上に偏光子保護フィルムを有することが好ましい。つまり、光学異方性層、偏光子、および、偏光子保護フィルムの順に積層された積層体が好ましい。なお、後述するように、積層体は、各層に間に粘接着層または接着層を有していてもよく、上記態様においては、光学異方性層と、偏光子との間に粘接着層または接着層を有していてもよい。

偏光子保護フィルムの構成は特に制限されず、例えば、透明支持体またはハードコート層であっても、透明支持体とハードコート層との積層体であってもよい。
ハードコート層としては、公知の層を使用でき、例えば、多官能モノマーを重合硬化して得られる層であってもよい。
また、透明支持体としては、公知の透明支持体（好ましくは、透明樹脂支持体）を使用できる。透明支持体を形成する材料としては、例えば、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系樹脂（以下、セルロースアシレートともいう）、ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートンなど）、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、および、ポリスチレン系樹脂が挙げられる。なかでも、セルロース系樹脂、または、ノルボルネン系樹脂が好ましく、ノルボルネン系樹脂がより好ましい。
なお、ノルボルネン系樹脂とは、ノルボルネン骨格を有する樹脂をいう。より具体的には、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）およびシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）が挙げられる。

偏光子保護フィルムの厚みは特に制限されないが、偏光板の厚みを薄くできる点から、４０μｍ以下が好ましく、２５μｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１０μｍ以上の場合が多い。

積層体は、配向膜を含んでいてもよい。配向膜は、その上に配置される液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する層である。
配向膜は、通常、上記光学異方性層の一方の面に設けられる膜（層）である。

配向膜としては、ポリマーなどの有機化合物を含む層のラビング処理膜、無機化合物の斜方蒸着膜、および、マイクログルーブを有する膜が挙げられる。
配向膜としては、光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向膜とした、いわゆる光配向膜（光配向膜）も挙げられる。
配向膜としては、ポリマーなどの有機化合物を含む層（ポリマー層）の表面をラビング処理して形成されたものを好ましい。ラビング処理は、ポリマー層の表面を紙または布で一定方向（好ましくは支持体の長手方向）に数回こすることにより実施される。配向膜の形成に使用するポリマーとしては、ポリイミド系樹脂、および、ポリビニルアルコール系樹脂が挙げられる。
配向膜の厚みは、配向機能を発揮することができれば特に制限されないが、０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜２μｍがより好ましい。

積層体は、各層の間の密着性担保のために、各層の間に粘接着層または接着層を有していていもよい。
また、積層体は、各層の間に透明支持体を有していてもよい。
積層体は、上述した一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成される光学異方性層以外の他の光学異方性層を有していてもよい。
他の光学異方性層は、Ａプレートであっても、Ｃプレートであってもよい。

積層体は、タッチセンサーを含んでいてもよい。タッチセンサーの構成は特に制限されないが、静電容量方式のＩＴＯ（Indium Tin Oxide）フィルム、銀メッシュフィルム、銅メッシュフィルム、および、銀ナノワイヤフィルムを用いてもよい。また、ＩＴＯの電極を不可視とするため、積層体は屈折率マッチング層をさらに含んでいてもよい。

＜偏光板＞
偏光板は、上述した光学異方性層および偏光子を少なくとも含む。
偏光板の含水量は、３．０ｇ／ｍ^２以下であり、熱耐久性により優れた積層体が得られる点で、２．３ｇ／ｍ^２以下が好ましく、１．５ｇ／ｍ^２以下がより好ましく、０．８ｇ／ｍ^２以下が特に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１ｇ／ｍ^２以上の場合が多い。
偏光板の含水量の調整方法は特に制限されず、例えば、偏光板を所定の環境下に静置して、偏光板の含水量を調整する方法が挙げられる。後述するように、所定の含水量になった偏光板を２枚のガラス板で挟むことにより、所定の積層体が得られる。
上記含水量の測定対象としては、光学異方性層と偏光子とを含み、両者の間に位置する部材を含む偏光板が挙げられる。例えば、光学異方性層、粘接着層、偏光子保護フィルム、および、偏光子がこの順で配置されている場合、上記含水量の測定対象は、光学異方性層、粘接着層、偏光子保護フィルム、および、偏光子を含む偏光板が該当する。
なお、偏光子の光学異方性層側とは反対側の表面上に偏光子保護フィルムが配置されている場合は、この偏光子保護フィルムを含む偏光板が上記含水量の測定対象となる。例えば、光学異方性層、粘接着層、偏光子保護フィルム、偏光子、および、偏光子保護フィルムがこの順で配置されている場合、上記含水量の測定対象は、光学異方性層、粘接着層、偏光子保護フィルム、偏光子、および、偏光子保護フィルムを含む偏光板が該当する。また、例えば、光学異方性層、粘接着層、偏光子、および、偏光子保護フィルムがこの順で配置されている場合、上記含水量の測定対象は、光学異方性層、粘接着層、偏光子、および、偏光子保護フィルムを含む偏光板が該当する。
なお、積層体中の２枚の基板の間にタッチセンサーなどの他の部材が配置されている際、他の部材が含水量に略影響しない場合には、他の部材と偏光板とを含む測定対象物を用いて上記含水量の測定を実施してもよい。
また、含水量の測定方法としては、測定対象である偏光板の初期質量、および、１２０℃で２時間乾燥後の乾燥質量との変化量（初期質量−乾燥質量）を単位面積当たりに換算した質量を意味する。例えば、偏光板を所定の環境下に静置して、偏光板の含水量を調整して２枚のガラス板で挟んで積層体を作製する場合、２枚のガラス板で挟む直前の偏光板の含水量を上記方法により測定できる。なお、２枚の基板と、２枚の基板の間に配置された偏光板とを有する積層体を分解して、偏光板の含水量を測定する場合には、温度２５℃、湿度６０％の環境下において３０分以内に積層体を分解して偏光板を取り出して、上記方法により偏光板の含水量を算出できる。

＜積層体の製造方法＞
上記積層体の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
まず、所定の支持体上に形成された光学異方性層を偏光子に貼り合せた後、支持体を剥離して、光学異方性層と偏光子とを含む偏光板を製造して、偏光板の含水量を調整して、２枚の基板で挟み、積層体を製造する方法が挙げられる。
なお、偏光板を製造する際には、偏光子上に直接光学異方性層を形成してもよい。

＜用途＞
本発明の積層体中の偏光板は、反射防止板として有用である。
より具体的には、偏光板中の光学異方性層がλ／４板である場合、積層体は反射防止板として好適に適用できる。特に、上述したように、積層体中の光学異方性層がポジティブＡプレートとポジティブＣプレートとの複層構造である場合、光学異方性層の合計Ｒｔｈをゼロに近くなるように調整でき、斜め方向における視認性が改善される。
なお、光学異方性層がポジティブＡプレート（好ましくは、λ／４板として機能するポジティブＡプレート）とポジティブＣプレートとの複層構造である場合、ポジティブＡプレートが偏光子側に配置されていてもよいし、ポジティブＣプレートが偏光子側に配置されていてもよい。
積層体を反射防止板として用いる場合、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機電界発光装置、および、陰極管表示装置のような各種画像表示装置に適用できる。

また、本発明の積層体中の光学異方性層は、光学補償フィルムとして有用である。
光学補償フィルムは、液晶表示装置の光学補償用途に好適に用いられ、斜め方向から視認した時の色味変化および黒表示時の光漏れを改善できる。例えば、ＩＰＳ液晶表示装置の偏光子と液晶セルとの間に光学補償フィルムを設けることができる。特に、ＩＰＳ液晶の光学補償においては、積層体中の光学異方性層がポジティブＡプレートとポジティブＣプレートとを含むことにより、大きな効果が得られる。
光学異方性層がポジティブＡプレート（好ましくは、λ／４板として機能するポジティブＡプレート）とポジティブＣプレートとの複層構造である場合、ポジティブＡプレートが偏光子側に配置されていてもよいし、ポジティブＣプレートが偏光子側に配置されていてもよい。なお、偏光子、ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートがこの順に配置される場合、ポジティブＡプレートの遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角は９０°±１０°の範囲であることが好ましい。また、偏光子、ポジティブＣプレートおよびポジティブＡプレートがこの順に配置される場合、ポジティブＡプレートの遅相軸と偏光子の吸収軸とが平行であることが好ましい。
ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートは、逆波長分散性を示すことが好ましい。

＜有機電界発光装置、液晶表示装置＞
上記積層体は、有機電界発光装置（好ましくは、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置）、および、液晶表示装置に好ましく用いることができる。

（有機ＥＬ表示装置）
本発明の有機電界発光装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、本発明の積層体と、有機ＥＬ表示パネルとをこの順で有する態様が好適に挙げられる。積層体に含まれる光学異方性層は、偏光子よりも有機ＥＬ表示パネル側に配置されることが好ましい。この場合、偏光板は、いわゆる反射防止板として使用される。
また、本発明の積層体中の２枚の基板のうち、有機ＥＬ表示パネル側に配置される基板は、有機ＥＬ表示パネルの封止層として機能してもよい。例えば、基板がガラス基板である場合、本発明の積層体中の２枚のガラス基板のうち、有機ＥＬ表示パネル側に配置されるガラス基板は、いわゆる封止ガラスとして機能してもよい。
有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。
なかでも、積層体を含む有機ＥＬ表示装置としては、スマートフォンおよびタブレット用途の有機ＥＬ表示装置の態様が挙げられ、積層体に該当する構成としては、カバーガラス/（タッチセンサー）/（偏光子保護フィルム）/偏光子/（偏光子保護フィルム）/光学異方性層/（タッチセンサー）/有機ＥＬ封止用ガラス、ハイバリアフィルムまたは有機ＥＬバリアフィルムが想定される。なお、上記構成中の（ ）で示された部材は、なくてもよいことを示す。

（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、画像表示装置の一例であり、上述した本発明の積層体と、液晶層とを有する。
なお、本発明においては、液晶層の両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の積層体中の偏光板を用いることが好ましく、フロント側およびリア側の偏光板として本発明の積層体中の偏光板を用いることがより好ましい。また、偏光板に含まれる光学異方性層は、偏光子よりも液晶層側に配置されることが好ましい。この場合、光学異方性層は、光学補償フィルムとして好適に使用できる。
また、本発明の積層体中の２枚の基板のうち、液晶層側に配置される基板は、液晶層の両側に配置される基板として機能してもよい。例えば、基板がガラス基板である場合、本発明の積層体中の２枚の基板のうち、液晶側に配置されるガラス基板は、液晶層と液晶層を挟む２枚のガラス基板とで構成される液晶セル中のガラス基板として機能してもよい。
なかでも、積層体を含む液晶表示装置としては、スマートフォンおよびタブレット用途のＩＰＳ液晶表示装置の態様が挙げられ、積層体に該当する構成としては、カバーガラス/（タッチセンサー）/（偏光子保護フィルム）/偏光子/（偏光子保護フィルム）/光学異方性層/液晶セル用ガラスが想定される。なお、上記構成中の（ ）で示された部材は、なくてもよいことを示す。

液晶表示装置は、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳモード、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、または、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに制限されるものではない。
ＦＦＳモードは、ＩＰＳモードと同様に液晶層表面に対して液晶分子が常に水平であるようにスイッチングするモードであり、本発明においては、ＩＰＳモードの一つと考えてよい。

以下、実施例を用いて、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明はこれに制限されるものではない。

＜保護フィルム付き偏光子１の作製＞
セルローストリアセテートフィルムＴＪ２５「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム製：厚み２５μｍ）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、支持体を室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥して、偏光子保護フィルムを得た。
厚み７５μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中でＭＤ（Machine Direction）方向に延伸し、乾燥して、厚み１４μｍの偏光子１を得た。
上記偏光子１の両方の面に、上記偏光子保護フィルムを貼り合わせて、保護フィルム付き偏光子１を作製した。

＜保護フィルム付き偏光子２の作製＞
２つの偏光子保護フィルムの一方を、表面がコロナ処理された無延伸シクロオレフィンフィルム（厚み２５μｍ）に変更して、偏光子１の一方の面に偏光子保護フィルムを貼り合せて、他方の面に上記無延伸シクロオレフィンフィルムを貼り合せた以外は、＜保護フィルム付き偏光子１の作製＞と同様の手順に従って、保護フィルム付き偏光子１を作製した。

＜保護フィルム付き偏光子３の作製＞
偏光子の厚みを１４μｍから９μｍに変更した以外は、＜保護フィルム付き偏光子１の作製＞と同様の手順に従って、保護フィルム付き偏光子３を作製した。

＜保護フィルム付き偏光子４の作製＞
特開２０１７−１９４７１０号公報の実施例１の記載を参考にして、厚み４μｍのポリビニルアルコール系偏光子を含む積層フィルム（基材フィルム／プライマー層／偏光子）を得た。次に、偏光子上に＜保護フィルム付き偏光子１の作製＞で作製した偏光子保護フィルムを貼り合せて、得られた積層フィルム中から基材フィルムおよびプライマー層を剥離して、露出した偏光子の表面に＜保護フィルム付き偏光子１の作製＞で作製した偏光子保護フィルムを貼り合せて、保護フィルム付き偏光子４を作製した。

＜保護フィルム付き偏光子５の作製＞
特開２０１７−１９４７１０号公報の実施例１の記載を参考にして、厚み４μｍのポリビニルアルコール系偏光子を含む積層フィルム（基材フィルム／プライマー層／偏光子）を得た。次に、偏光子上に＜保護フィルム付き偏光子１の作製＞で作製した偏光子保護フィルムを貼り合せて、得られた積層フィルム中から基材フィルムおよびプライマー層を剥離して、露出した偏光子の表面に無延伸シクロオレフィンフィルム（厚み２５μｍ）を貼り合せて、保護フィルム付き偏光子５を作製した。

＜保護フィルム付き偏光子６の作製＞
偏光子の厚みを１４μｍから１５μｍに変更し、偏光子の片面のみに保護フィルムを張り付けるように変更した以外は、＜保護フィルム付き偏光子１の作製＞と同様の手順に従って、保護フィルム付き偏光子６を作製した。

＜保護フィルム付き偏光子７の作製＞
特開２０１５−１２９８２６号公報の実施例１の記載を参考にして、厚み４μｍのポリビニルアルコール系偏光子と、上記偏光子の片面にアクリル系樹脂フィルムＨＸ−４０ＵＣ（東洋鋼鈑（株）製：厚み４０μｍ）を保護フィルムとして有する直線偏光板７を作製した。

＜実施例１：積層体１の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
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アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
下記の化合物Ｇ ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶媒） ６４質量部
─────────────────────────────────

化合物Ｇ

上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶剤） １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────

上記コア層セルロースアシレートドープおよび上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。溶剤含有率略２０質量％の状態でフィルムをドラム上から剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製した。光学フィルムのコア層は厚み３６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られた光学フィルムのＲｅ（５５０）は０ｎｍであった。

次に、特開２０１２−１５５３０８号公報の実施例３の記載を参考に、光配向膜１用塗布液を調製し、上記光学フィルム上にワイヤーバーで塗布した。その後、得られた光学フィルムを６０℃の温風で６０秒間乾燥し、厚み３００ｎｍの塗膜１を作製した。

続いて、下記のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記重合性液晶化合物Ｘ−１ ２０．００質量部
下記液晶化合物Ｌ−１ ４０．００質量部
下記液晶化合物Ｌ−２ ４０．００質量部
下記重合開始剤Ｓ−１ ０．６０質量部
レベリング剤（下記化合物Ｔ−１） ０．１０質量部
メチルエチルケトン（溶媒） ２００．００質量部
シクロペンタノン（溶媒） ２００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

作製した塗膜１に、大気下にて超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子（Moxtek社製, ProFlux PPL02）を塗膜１の面と平行になるようにセットして露光し、光配向処理を行い、光配向膜１を得た。
この際、紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（紫外線Ａ波、波長３２０〜３８０ｎｍの積算）において１０ｍＪ／ｃｍ^２とした。

次いで、光配向膜１上にポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１を、バーコーターを用いて塗布した。得られた塗膜を膜面温度１００℃で２０秒間加熱熟成し、９０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、ネマチック配向状態を固定化することにより光学異方性層１（ポジティブＡプレートＡ１）を形成し、光学異方性層付き光学フィルムを得た。

形成された光学異方性層１は、膜厚が２．５μｍであった。光学異方性層１のＲｅ（５５０）は１４５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７３ｎｍ、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）は１．１５、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０１、光軸のチルト角は０°であり、液晶化合物はホモジニアス配向であった。

特開２０１７−１３４４１４号公報の実施例１の手順に従って、粘着剤付きフィルムを作製した。

次に、粘着剤付きフィルムを用いて保護フィルム付き偏光子１の一方の面に対して、光学異方性層付き光学フィルム中の光学異方性層１側を貼り合せた。その際、偏光子の吸収軸と光学異方性層１の遅相軸とのなす角度は４５°であった。具体的には、保護フィルム付き偏光子１の一方の面に対して、粘着剤付きフィルムの粘着剤を貼り合せて、粘着剤付きフィルム中のフィルムを剥離して、さらに粘着剤に対して、光学異方性層付き光学フィルム中の光学異方性層１を貼り合せた。
次に、得られた積層体から、光配向膜１と光学異方性層１との界面で剥離して、光配向膜１付き光学フィルムを取り除き、偏光板を作製した。
得られた偏光板から１４ｃｍ×７ｃｍのサイズの偏光板サンプルを切り出して、適当に調湿条件を調整することにより、偏光板サンプル中の含水量を２．４ｇ／ｍ^２とした。その含水量を保ったまま、偏光板サンプルの両側から粘着剤付きフィルムを用いて、ガラス板で挟み込み、ガラス板、偏光板、および、ガラス板をこの順で含む積層体１を得た。
水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（商標登録））を用い、４０℃、９０％ＲＨの雰囲気で、ガラス板の透湿度を測定したところ、１．０×１０^−３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満であった。

＜実施例２＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−２を用いて、偏光板の含水量を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体２を得た。
なお、積層体２中の偏光板の含水量を表１に示す。
なお、形成された光学異方性層２（ポジティブＡプレートＡ２）は、膜厚が２．７μｍであった。光学異方性層２のＲｅ（５５０）は１４５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７３ｎｍ、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）は１．１５、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０１であった。

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ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−２の組成
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上記重合性液晶化合物Ｘ−１ ２０．００質量部
上記液晶化合物Ｌ−１ ４０．００質量部
上記液晶化合物Ｌ−２ ４０．００質量部
上記重合開始剤Ｓ−１ ０．６０質量部
下記重合性化合物Ｂ−１ ７．００質量部
レベリング剤（上記化合物Ｔ−１） ０．１０質量部
メチルエチルケトン（溶媒） ２００．００質量部
シクロペンタノン（溶媒） ２００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜実施例３および４＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、積層体３および４を得た。

＜実施例５〜８＞
保護フィルム付き偏光子１の代わりに保護フィルム付き偏光子２〜５を用いて、保護フィルム付き偏光子のＺ−ＴＡＣで構成された偏光子保護フィルム側に光学異方性層を貼り合わせ、偏光板の含水量を表１に示すように変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、積層体５〜８を得た。

＜実施例９＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−３を用いて、偏光板の含水量を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体９を得た。
なお、形成された光学異方性層３（ポジティブＡプレートＡ３）のＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６５ｎｍ、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）は１．１９、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０２であった。

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ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−３の組成
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下記液晶化合物Ｌ−６ １００．００質量部
上記重合開始剤Ｓ−１ ０．６０質量部
上記重合性化合物Ｂ−１ ７．００質量部
レベリング剤（上記化合物Ｔ−１） ０．１０質量部
メチルエチルケトン（溶媒） ２００．００質量部
シクロペンタノン（溶媒） ２００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜実施例１０＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−４を用いて、偏光板の含水量を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１０を得た。
なお、形成された光学異方性層４（ポジティブＡプレートＡ４）のＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６５ｎｍ、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）は１．２、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０２であった。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−４の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記液晶化合物Ｌ−９ １００．００質量部
上記重合開始剤Ｓ−１ ０．６０質量部
上記重合性化合物Ｂ−１ ７．００質量部
レベリング剤（上記化合物Ｔ−１） ０．１０質量部
メチルエチルケトン（溶媒） ２００．００質量部
シクロペンタノン（溶媒） ２００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶化合物Ｌ−９（以下構造）

＜実施例１１＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１１を得た。

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ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５の組成
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下記液晶化合物Ｌ−５ １００．００質量部
重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦジャパン） ３．００質量部
重合開始剤ＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦジャパン） ３．００質量部
アデカクルーズＮＣＩ−８３１（アデカ） ３．００質量部
レベリング剤ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン） ０．１０質量部
酸化防止剤ＢＨＴ（東京化成工業） ０．９０質量部
メチルエチルケトン（溶媒） ６０．００質量部
シクロペンタノン（溶媒） ２００．００質量部
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＜実施例１２＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１２を得た。

液晶化合物Ｌ−５の代わりに、液晶化合物Ｌ−１０を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５の組成と同様の組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−６を調製した。

＜実施例１３＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−７を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１３を得た。

液晶化合物Ｌ−５の代わりに、液晶化合物Ｌ−７を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５の組成と同様の組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−７を調製した。

＜実施例１４＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−８を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１４を得た。

液晶化合物Ｌ−５の代わりに、液晶化合物Ｌ−８を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５の組成と同様の組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−８を調製した。

＜実施例１５＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−９を用いて、偏光板の含水量を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１５を得た。

液晶化合物Ｌ−５の代わりに、液晶化合物Ｌ−１３を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５の組成と同様の組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−９を調製した。

＜実施例１６＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１０を用いて、偏光板の含水量を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１６を得た。

液晶化合物Ｌ−５の代わりに、液晶化合物Ｌ−１４を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５の組成と同様の組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１０を調製した。

＜実施例１７＞
ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１の代わりに後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１１を用いて、偏光板の含水量を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、積層体１７を得た。

液晶化合物Ｌ−５の代わりに、液晶化合物Ｌ−１５を用いた以外は、ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−５の組成と同様の組成のポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１１を調製した。

＜比較例１〜２＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、積層体１８および１９を得た。

＜比較例３＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例５と同様の手順に従って、偏光板２０を得た。

＜比較例４＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例９と同様の手順に従って、偏光板２１を得た。

＜比較例５＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、偏光板２２を得た。

＜比較例６＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例１１と同様の手順に従って、偏光板２３を得た。

＜比較例７＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例１２と同様の手順に従って、偏光板２４を得た。

＜比較例８＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例１３と同様の手順に従って、偏光板２５を得た。

＜比較例９＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例１４と同様の手順に従って、偏光板２６を得た。

＜比較例１０＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例１５と同様の手順に従って、偏光板２７を得た。

＜比較例１１＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例１６と同様の手順に従って、偏光板２８を得た。

＜比較例１２＞
偏光板の含水量を表１のように変更した以外は、実施例１７と同様の手順に従って、偏光板２９を得た。

なお、実施例および比較例における偏光板の含水量は、偏光子を２枚のガラス板で挟む前に偏光子を所定の環境下にて静置して調整した。

＜評価：熱耐久性試験＞
実施例および比較例において得られた積層体について、Ａｘｏ Ｓｃａｎ（ＯＰＭＦ−１、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション（Ｒｅ）の熱耐久性を下記の指標で評価した。結果を、表３に示す。
なお、熱耐久性試験条件は、積層体を８５℃の環境下に４００時間放置する試験を行った。「Ａ」以上と評価されれば、耐久性は良好であると判断することができる。
ＡＡＡ：初期のＲｅ値に対する試験後のＲｅ値の変化量が初期のＲｅ値の１％未満
ＡＡ：初期のＲｅ値に対する試験後のＲｅ値の変化量が初期のＲｅ値の１％以上３％未満
Ａ：初期のＲｅ値に対する試験後のＲｅ値の変化量が初期のＲｅ値の３％以上７％未満
Ｂ：初期のＲｅ値に対する試験後のＲｅ値の変化量が初期のＲｅ値の７％以上１５％未満
Ｃ：初期のＲｅ値に対する試験後のＲｅ値の変化量が初期のＲｅ値の１５％以上

以上の評価試験の結果を第１表に示す
なお、表１中の「光学異方性層」欄の「Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）」は、光学異方性層のＲｅ（４５０）に対する、光学異方性層のＲｅ（５５０）の比を表す。
また、表１中の「光学異方性層」欄の「Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）」は、光学異方性層のＲｅ（５５０）に対する、光学異方性層のＲｅ（６５０）の比を表す。

表１に示すように、本発明の積層体であれば、所望の効果が得られることが確認された。
なかでも、実施例１〜３の比較より、偏光板含水量が２．３ｇ／ｍ^２以下の場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例５〜７の比較より、偏光子の厚みが１０μｍ未満の場合、より効果が優れることが確認された。

＜実施例１８〜３４＞
（ポジティブＣプレート１の作製）
仮支持体として、トリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。
セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
次いで、同じくバーコーターを用いて、フィルム上に純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、フィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。

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（アルカリ溶液）
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ−１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
─────────────────────────────────

下記の組成の配向膜形成用塗布液２を、＃８のワイヤーバーを用いて上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２上に連続的に塗布した。得られたフィルムを６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜を形成した。
─────────────────────────────────
（配向膜形成用塗布液２）
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ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
─────────────────────────────────

後述するポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ−１を配向膜上に塗布し、得られた塗膜を６０℃で６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート１を作製した。
得られたポジティブＣプレートのＲｔｈ（５５０）は、−６０ｎｍであった。

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（ポジティブＣプレート形成用塗布液Ｃ−１）
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下記液晶化合物Ｌ−１１ ８０質量部
下記液晶化合物Ｌ−１２ ２０質量部
下記垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
下記化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
─────────────────────────────────

（偏光板の作製）
実施例１〜１７の偏光板のポジティブＡプレート側に、粘着剤付フィルムを用いて、上記で作製したポジティブＣプレート１を張り合わせ、配向膜とセルロースアシレートフィルム２を除去して、偏光板３０〜４６を得た。

有機ＥＬ表示パネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示パネル（封止ガラス付き）、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示パネルと再度貼り合せて、さらに上記作製した偏光板３０〜４６をポジティブＣプレート１側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼り合せて、さらにカバーガラスを貼り合せて、有機ＥＬ表示装置を作製した。
得られた有機ＥＬ表示装置中においては、封止ガラス（ガラス板に該当）と、偏光板（偏光板３０〜４６のいずれか）と、カバーガラス（ガラス板に該当）とを含む積層体が含まれていた。
なお、有機ＥＬ表示装置に偏光板を組み込む際の偏光板３０〜４６の含水量は、それぞれ偏光板１〜１７と同じであった。例えば、偏光板３０の含水量は、偏光板１の含有量と同じであった。
作製した有機ＥＬ表示装置においては、偏光板が反射防止板として機能することを確認した。

＜実施例３５＞
Ｌａｎｇｍｕｉｒ，３２（３６），９２４５−９２５３（２０１６年）に記載された方法に従い、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）（東京化成試薬）と下記桂皮酸クロリド誘導体を用いて、以下に示すモノマーｍ−１を合成した。

桂皮酸クロリド誘導体

モノマーｍ−１

冷却管、温度計、および撹拌機を備えたフラスコに、溶媒として２−ブタノン（５質量部）を仕込み、フラスコ内に窒素を５ｍＬ／ｍｉｎ流しながら、水浴加熱により還流させた。フラスコ内に、モノマーｍ−１（５質量部）、サイクロマーＭ１００（ダイセル社製）（５質量部）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（１質量部）、および、２−ブタノン（５質量部）を混合した溶液を３時間かけて滴下し、さらに３時間還流状態を維持したまま撹拌した。
反応終了後、室温まで放冷し、フラスコ内に２−ブタノン（３０質量部）を加えて希釈することで約２０質量％の重合体溶液を得た。得られた重合体溶液を大過剰のメタノール中へ投入して重合体を沈殿させ、回収した沈殿物をろ別し、大量のメタノールで洗浄した。その後、得られた固形分を５０℃において１２時間送風乾燥することにより、光配向性基を有する重合体ＰＡ−１を得た。

重合体ＰＡ−１

後述する組成の光配向膜２形成用塗布液を、上記にて作製した光学フィルム上に＃２．４のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜２を形成した。
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（光配向膜２形成用塗布液）
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上記重合体ＰＡ−１ １００．００質量部
イソプロピルアルコール １６．５０質量部
酢酸ブチル １０７２．００質量部
メチルエチルケトン ２６８．００質量部
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次いで、後述するポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１２を、バーコーターを用いて光配向膜上に塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて液晶化合物の配向を安定化させた。その後、塗膜を８０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚み２μｍの光学異方性層１２（ポジティブＡプレートＡ１２）を作製した。得られた光学異方性層１２のＲｅ（５５０）は１３０ｎｍであり、Ｒｅ（５５０）／Ｒｅ（４５０）は１．１８、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０２であった。

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ポジティブＡプレート形成用塗布液Ａ−１２の組成
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上記液晶化合物Ｌ−１ ４２．００質量部
上記液晶化合物Ｌ−２ ４２．００質量部
上記重合性液晶化合物Ｘ−１ １２．００質量部
下記重合性化合物Ａ−２ ４．００質量部
上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
下記レベリング剤Ｔ−２ ０．２３質量部
ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
メチルエチルケトン ４２４．８質量部
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重合性化合物Ａ−２

レベリング剤Ｔ−２（ａ／ｂ／ｃ＝６６／２６／８）

光学異方性層Ａ１２表面を放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を行い、コロナ処理を行った面に後述するポジティブＣプレート２形成用塗布液をワイヤーバーで塗布した。
次いで、塗膜を７０℃の温風で９０秒間加熱した。その後、窒素パージ下（酸素濃度０．１％）で４０℃にて塗膜に対して紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ^２）を行い、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層１２上にポジティブＣプレート２を作製し、光学異方性層１２とポジティブＣプレート２とを有する位相差フィルムを得た。得られたポジティブＣプレート２のＲｔｈ（５５０）は−１００ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｔｈ（４５０）は１．０５であった。

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ポジティブＣプレート２形成用塗布液の組成
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上記液晶化合物Ｌ−１ １０．０質量部
上記液晶化合物Ｌ−２ ５４．０質量部
下記液晶化合物Ｌ−１６ ２８．０質量部
上記重合性化合物Ａ−２ ８．０質量部
下記化合物Ｂ−１ ４．５質量部
ＮＫエステルＡ−６００（（新中村化学工業社製） １２．０質量部
上記重合開始剤Ｓ−１ １．５質量部
下記界面活性剤Ｐ−２ ０．４質量部
下記界面活性剤Ｐ−３ ０．５質量部
アセトン １７５．０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７５．０質量部
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液晶化合物Ｌ−１６
下記液晶化合物（ＲＡ）（ＲＢ）（ＲＣ）の８３：１５：２（質量比）の混合物

化合物Ｂ−１

界面活性剤Ｐ−２

・界面活性剤Ｐ−３（重量平均分子量：１１，２００）

下記化合物を記載の比率で混合し、接着剤液Ａを作製した。
アロニックスＭ−２２０（東亞合成株式会社製）：２０質量部
４−ヒドロキシブチルアクリレート（日本化成株式会社製）：４０質量部
アクリル酸−２−エチルヘキシル（三菱化学株式会社製）：４０質量部
Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ製）：１．５質量部
ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ（日本化薬株式会社製）：０．５質量部

作製したポジティブＣプレート２の表面を放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理してから、上記接着剤を、厚み０．５μｍになるように塗設した。その後、接着剤塗布面を保護フィルム付き偏光子６の偏光子側（偏光子の表面）と貼り合わせ、大気雰囲気下４０℃にて位相差フィルムの光学フィルム側から紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２照射した。得られたフィルムを６０℃で３分間乾燥した後、光配向膜２と光学異方性層１２の界面で剥離して、光配向膜２付きの光学フィルムを取り除き、偏光子と、ポジティブＣプレート２、および、光学異方性層１２をこの順で有する偏光板４７を作製した。このとき、偏光子の吸収軸に対して光学異方性層１２の遅相軸方向が平行であった。
得られた偏光板から１４ｃｍ×７ｃｍのサイズの偏光板サンプルを切り出して、調湿条件を調整することにより、偏光板サンプル中の含水量を２．８ｇ／ｍ^２とした。その含水量を保ったまま、偏光板サンプルの両側から粘着剤付きフィルムを用いて、ガラス板で挟み込み、ガラス板、偏光板、および、ガラス板をこの順で含む積層体４７を得た。
水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡＱＵＡＴＲＡＮ２（商標登録））を用い、４０℃、９０％ＲＨの雰囲気で、ガラス板の透湿度を測定したところ、１．０×１０^−３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ未満であった。

＜実施例３６および比較例１３＞
表２に示すように、偏光板の含水量および保護フィルム付き偏光子の種類を変更した以外は、実施例３５の積層体４７と同様の手順に従って、積層体４８および４９を得た。なお、積層体４８で作製した偏光板を、それぞれ偏光板４８という。

得られた積層体４７〜４９を用いて、実施例１〜１７と同様の評価を行った。結果を表２に示す。

表２に示すように、本発明の積層体であれば、所望の効果が得られることが確認された。

（液晶表示装置の作製）
市販の液晶表示装置（ｉＰａｄ（商標登録）、Ａｐｐｌｅ社製）（ＦＦＳモードの液晶セルを含む液晶表示装置）を分解し、カバーガラス、タッチパネル、液晶セルより視認側の偏光子をそれぞれ単離した。次に、上記作製した偏光板４７〜４８中の光学異方性層が偏光子よりも液晶セル側になるようにして、上記粘着フィルムを用いて液晶セルに貼り合わせた。このとき、液晶表示装置のバックライト側の偏光子の吸収軸と偏光板４７〜４８中の偏光子の吸収軸とが互いに直交するようにした。次いで、偏光板４７〜４８の偏光子保護フィルム上に単離したタッチパネルを再度貼り合せ、さらにカバーガラスを貼り合せて、液晶表示装置を作製した。
得られた液晶表示装置中においては、液晶セルガラス（ガラス板に該当）と、偏光板と、カバーガラス（ガラス板に該当）とを含む積層体が含まれていた。
なお、液晶表示装置に偏光板を組み込む際の偏光板４７〜４８の含水量は、上記表２の積層体４７〜４８中の偏光板の含水量と同じであった。
作製した液晶表示装置においては、斜めの黒表示性能が良好であり、偏光板が光学補償機能を有していることを確認した。

１０Ａ，１０Ｂ 積層体
１２Ａ 第１基板
１２Ｂ 第２基板
１４ 偏光板
１６ 偏光子
１８ 光学異方性層
２０Ａ 第１偏光子保護フィルム
２０Ｂ 第２偏光子保護フィルム

Claims (9)

1. ２枚の基板と、前記２枚の基板の間に配置された偏光板とを有する積層体であって、
   前記偏光板が、偏光子および光学異方性層を有し、
   前記偏光子が、ポリビニルアルコール系樹脂を含み、
   前記光学異方性層が、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層であり、
   前記基板の透湿度が１０^−３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であり、
   前記偏光板の含水量が３．０ｇ／ｍ^２以下である、積層体。
   Ｌ_１−Ｇ_１−Ｄ_１−Ａｒ−Ｄ_２−Ｇ_２−Ｌ_２ ・・・（Ｉ）
   一般式（Ｉ）中、Ｄ_１およびＤ_２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−または−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｇ_１およびＧ_２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、前記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、または、−ＮＨ−で置換されていてもよい。
   Ｌ_１およびＬ_２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ_１およびＬ_２からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する１価の基を表す。
   Ａｒは、下記一般式（ＩＩ−１）、一般式（ＩＩ−２）、一般式（ＩＩ−３）または一般式（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表す。
   

   

   一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｑ_１は、−Ｓ−、−Ｏ−、または、−ＮＲ^１１−を表し、Ｒ^１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｙ_１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表し、Ｚ_１、Ｚ_２およびＺ_３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^１２Ｒ^１３または−ＳＲ^１２を表し、Ｚ_１およびＺ_２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ^１２およびＲ^１３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ａ_１およびＡ_２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ^２１−、−Ｓ−および−ＣＯ−からなる群から選ばれる基であって、Ｒ^２１は、水素原子または置換基を表し、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子を表し、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表し、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環はそれぞれ、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、Ｑ_２は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
2. 前記偏光板の含水量が２．３ｇ／ｍ^２以下である、請求項１に記載の積層体。
3. 前記偏光子の厚みが１０μｍ未満である、請求項１または２に記載の積層体。
4. 前記光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションであるＲｅ（４５０）と、前記光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションであるＲｅ（５５０）と、前記光学異方性層の波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションであるＲｅ（６５０）とが、Ｒｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係を満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
5. 前記光学異方性層がポジティブＡプレートである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
6. 前記光学異方性層がλ／４板である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
7. 前記偏光子の少なくとも一方の表面上に偏光子保護フィルムを有し、
   前記偏光子保護フィルムの少なくとも１つがノルボルネン系樹脂を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体を有する、有機電界発光装置。
9. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体を有する、液晶表示装置。

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