JPWO2019156067A1 - 低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法 - Google Patents

低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2019156067A1
JPWO2019156067A1 JP2019570750A JP2019570750A JPWO2019156067A1 JP WO2019156067 A1 JPWO2019156067 A1 JP WO2019156067A1 JP 2019570750 A JP2019570750 A JP 2019570750A JP 2019570750 A JP2019570750 A JP 2019570750A JP WO2019156067 A1 JPWO2019156067 A1 JP WO2019156067A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
molecular weight
low molecular
composition containing
ptfe
weight polytetrafluoroethylene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019570750A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6939915B2 (ja
Inventor
辻 雅之
雅之 辻
隆之 中村
隆之 中村
田中 勇次
勇次 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Publication of JPWO2019156067A1 publication Critical patent/JPWO2019156067A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6939915B2 publication Critical patent/JP6939915B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/28Treatment by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/09Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
    • C08K5/095Carboxylic acids containing halogens
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F14/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
    • C08F14/18Monomers containing fluorine
    • C08F14/26Tetrafluoroethene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2327/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
    • C08J2327/02Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08J2327/12Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C08J2327/18Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50Reuse, recycling or recovery technologies
    • Y02W30/62Plastics recycling; Rubber recycling

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

本発明は、(I)高分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物に対して電離性放射線を照射し、380℃における溶融粘度が1.0×102〜7.0×105Pa・sの範囲にある低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物を得る工程、及び(II)上記工程で得られる低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物に含まれる低分子量含フッ素化合物を分解する工程を含む低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法、を提供する。

Description

本発明は、低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法に関する。
低分子量ポリテトラフルオロエチレン(以下、「低分子量PTFE」と称することがある)は、化学的安定性に優れ、表面エネルギーが極めて低いことに加え、フィブリル化が生じにくいことから、滑り性又は塗膜表面の質感を向上させる添加剤として、プラスチック、インク、化粧品、塗料、グリース等の製造に用いられてきた(例えば、特許文献1)。このような低分子量PTFEを含む組成物の製造方法の1つとして、高分子量ポリテトラフルオロエチレン(以下、「PTFE」と称することがある)に電離性放射線を照射する方法が挙げられる(例えば、特許文献2)。
特開平10−147617号公報 特公昭47−19609号公報
特許文献2のような低分子量PTFEを含む組成物には、パーフルオロオクタン酸(以下、「PFOA」と称することがある)又はその塩等の低分子量含フッ素化合物(以下、「PFC」と称することがある)が含まれることがあった。本発明者が鋭意検討した結果、上記のようなPFOAに代表されるPFCは、電離性放射線の照射により生じ得ることが見いだされた。
本発明は、PFCの含有量の低減された低分子量PTFEを含む組成物を得ることを目的とする。
本発明の第1の要旨によれば、
(I)PTFEを含む組成物に対して電離性放射線を照射し、380℃における溶融粘度が1.0×10〜7.0×10Pa・sの範囲にある低分子量PTFEを含む組成物を得る工程、及び
(II)上記工程で得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFCを分解する工程
を含む低分子量PTFEを含む組成物の製造方法、が提供される。
本発明によれば、PFCの含有量の低減された低分子量PTFEを含む組成物の製造に適した方法を得ることができる。
本発明の低分子量PTFEを含む組成物の製造方法は、
(I)PTFEを含む組成物に対して電離性放射線を照射し、380℃における溶融粘度が1.0×10〜7.0×10Pa・sの範囲にある低分子量PTFEを含む組成物を得る工程(以下、「工程(I)」と称することがある)、及び
(II)上記工程で得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFCを分解する工程(以下、「工程(II)」と称することがある)を含む。
以下、工程(I)について説明する。
上記PTFEは、通常行い得る重合方法、例えば、乳化重合又は懸濁重合によって得られたものであり得る。
上記PTFEは、分子構造中に、単量体に由来する構成単位として、テトラフルオロエチレン(TFE)に由来する構成単位のみを有するものであってもよいし、TFE以外の構造を有するモノマーに由来する構成単位及びTFEに由来する構成単位を有するもの(以下、「変性PTFE」と称することがある)であってもよい。
上記TFE以外の構造を有するモノマーとしては、TFEとの共重合が可能なものであれば特に限定されず、通常用いられるモノマー(例えば、ヘキサフルオロプロピレン〔HFP〕等のパーフルオロオレフィン;クロロトリフルオロエチレン〔CTFE〕等のクロロフルオロオレフィン;トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン〔VDF〕等の水素原子含有フルオロオレフィン;パーフルオロビニルエーテル;パーフルオロアルキルエチレン;エチレン等)を用いることができる。上記TFE以外の構造を有するモノマーは、1種のみを用いてもよいし、複数種を用いてもよい。
上記パーフルオロビニルエーテルとしては、特に限定されないが、例えば、以下の一般式(1)
CF=CF−ORf (1)
(式中、Rfは、パーフルオロ有機基を表す。)で表されるパーフルオロ不飽和化合物等が挙げられる。本明細書において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基としては、例えば、パーフルオロアルキル基、パーフルオロ(アルコキシアルキル)基等を挙げる事ができる。上記パーフルオロ有機基は、エーテル結合を形成する酸素原子を有していてもよい。
一の態様において、上記パーフルオロビニルエーテルとしては、例えば、上記一般式(1)において、Rfが炭素原子数1〜10(好ましくは炭素原子数1〜5)のパーフルオロアルキル基を表すものであるパーフルオロアルキルビニルエーテル(PAVE)が挙げられる。
上記PAVEにおけるパーフルオロアルキル基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等が挙げられる。好ましいパーフルオロアルキル基としては、パーフルオロプロピル基を挙げることができる。
好ましいPAVEは、パーフルオロアルキル基がパーフルオロプロピル基であるパープルオロプロピルビニルエーテル(PPVE)である。
別の態様において、上記パーフルオロビニルエーテルとしては、上記一般式(1)において、Rfが炭素数4〜9のパーフルオロ(アルコキシアルキル)基であるもの、Rfが下記式:
Figure 2019156067
(式中、mは、0、又は1〜4の整数を表す。)で表される基であるもの、Rfが下記式:
Figure 2019156067
(式中、nは、1〜4の整数を表す。)で表される基であるもの等が挙げられる。
上記パーフルオロアルキルエチレンとしては、特に限定されないが、例えば、(パーフルオロブチル)エチレン(PFBE)、(パーフルオロヘキシル)エチレン、(パーフルオロオクチル)エチレン等が挙げられる。
上記TFE以外の構造を有するモノマーは、HFP、CTFE、VDF、PPVE、PFBE及びエチレンからなる群より選択される少なくとも1であることが好ましく、HFP及びCTFEからなる群より選択される少なくとも1であることがより好ましい。
上記変性PTFE中、TFE以外の構造を有するモノマーに由来する構成単位は、0.001〜1質量%の範囲で含まれていることが好ましい。上記変性PTFE中、上記TFE以外の構造を有するモノマーに由来する構成単位は、0.01質量%以上含まれていることがより好ましい。上記変性PTFE中、上記TFE以外の構造を有するモノマーに由来する構成単位は、0.5質量%以下含まれていることがより好ましく、0.1質量%以下含まれていることがさらに好ましい。上記TFE以外の構造を有するモノマーに由来する構成単位の含有量は、フーリエ変換型赤外分光法(FT−IR)等の公知の方法により求めることができる。
上記PTFEの標準比重(SSG)は、2.130〜2.230の範囲にあることが好ましい。上記SSGは、上記PTFEが懸濁重合により得られる場合はASTM D 4894に、上記PTFEが乳化重合により得られる場合はASTM D 4895に準拠して測定される値である。なお、PTFEの分子量の指標としては、通常、SSG又は溶融粘度が用いられ得る。上記のようなSSGを有するPTFEは、溶融粘度が非常に高く、その溶融粘度を正確に測定することが困難である。従って、上記のようなSSGを有するPTFEにおいては、通常、SSGが分子量の指標として用いられる。
上記PTFEの融点は、324℃〜336℃の範囲にあることが好ましい。上記融点は、例えば、示差走査熱量計(DSC)を用いて測定した値である。具体的には、上記融点は、事前に標準サンプルとして、インジウム及び鉛を用いて温度較正したDSCを用い、200ml/分のエアー気流下で、250℃〜380℃の温度領域において10℃/分で昇温させて得られる、融解熱量の極小点とすることができる。
上記PTFEを含む組成物は、実質的にPTFEよりなることが好ましい。なお、「実質的にPTFEよりなる」とは、上記組成物100質量部に対して、PTFEが90質量部以上含まれ、具体的には95質量部以上含まれ得ることを意味する。上記組成物100質量部に対するPTFEの上限値は特に限定されないが、例えば100質量部以下であり、具体的には98質量部以下であり得る。
上記PTFEを含む組成物としては、PFOA又はその塩を含むものを用いてもよいし、PFOA又はその塩を実質的に含まないものを用いてもよい。ここで、「実質的に含まない」とは、PTFEに対して、質量基準で、PFOAが25ppb未満、好ましくは15ppb以下、さらに好ましくは5ppb以下、特に好ましくは検出限界未満であることを意味する。検出限界未満とは、例えば、5ppb未満を意味する。なお、特に記載していない限り、本明細書において上記含有量は、PFOA及びその塩の合計量を表す。
上記PTFEを含む組成物は、PFOA又はその塩を実質的に含まないことが好ましい。ここで、「実質的に含まない」とは、上記と同意義である。本態様のように、PFOA又はその塩を実質的に含まないPTFEを含む組成物を用いた場合であっても、工程(I)において該PTFEに電離性放射線を照射することにより、PFOA又はその塩が形成され得る。
上記PFOAの塩としては、例えば、PFOAのアンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等を挙げることができる。
上記PFOA及びその塩の含有量は、液体クロマトグラフィーを用いて測定できる。より具体的には、PTFEを含む組成物から、溶媒を用いて上記PFOA及びその塩を抽出し、抽出後の溶媒に含まれる上記PFOA及びその塩の量を、液体クロマトグラフィーを用いて測定し得る。
上記PTFEを含む組成物は、PFCを含むものを用いてもよいし、PFCを実質的に含まないものを用いてもよい。ここで、「実質的に含まない」とは、PTFEに対して、質量基準で、PFCが25ppb未満、好ましくは15ppb以下、さらに好ましくは5ppb以下、特に好ましくは検出限界未満であることを意味する。検出限界未満とは、例えば、5ppb未満を意味する。
上記PTFEを含む組成物は、PFCを実質的に含まないことが好ましい。本態様のように、PFCを実質的に含まないPTFEを含む組成物を用いた場合であっても、工程(I)において該PTFEに電離性放射線を照射することにより、PFCが形成され得る。ここで、「実質的に含まない」とは、上記と同意義である。なお、特に記載していない限り、本明細書において、複数の構造のPFCが存在する場合には、上記含有量は複数の構造のPFCの合計量を表す。
上記PFCの含有量は、例えば、液体クロマトグラフィーを用いて測定できる。より具体的には、PTFEを含む組成物から、溶媒を用いて上記PFCを抽出し、抽出後の溶媒に含まれる上記PFCの量を、液体クロマトグラフィーを用いて測定し得る。
本明細書において、「PFC」とは、PFOA及びその塩等の低分子量含フッ素化合物を意味し、具体的には、官能基を有する低分子量含フッ素化合物及びその誘導体を、より具体的には、含フッ素炭素鎖を有する酸又はその誘導体を意味する。上記含フッ素炭素鎖とは、炭素原子に結合した水素原子の1又はそれ以上がフッ素原子に置換されている炭素鎖を表す。上記酸としては、例えば、カルボン酸、スルホン酸等を挙げることができる。上記誘導体としては、塩等を挙げることができる。上記塩としては、アンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等を挙げることができる。
PFCとしては、例えば、炭素原子数が6〜14の含フッ素炭素鎖を有する酸又はその誘導体を挙げることができる。
上記PTFEを含む組成物の形状は、特に限定されないが、例えば、粉体、成形体、スクラップ、成形体の形成時に生じ得る破片、成形体の切削加工時に生じる切削屑、又は、予備成形体を挙げることができる。
一の態様において、上記PTFEを含む組成物の形状は粉体である。本態様は、PTFEを含む樹脂成分に電離性放射線を均一に照射できる観点から有利である。また、本態様によると、粉体状の低分子量PTFEを含む組成物を容易に得ることができる。
一の態様において、上記PTFEを含む組成物は成形体である。本態様においては、上記PTFEを含む組成物は、一次融点以上に加熱する成形工程を経たものであり得る。即ち、本発明の製造方法は、工程(I)の前に、PTFEの一次融点以上に加熱し、PTFEを含む組成物の成形体を形成する工程をさらに含み得る。
上記一次融点は、DSCを用いて測定できる。具体的には、上記一次融点は、結晶融解曲線上に現れる吸熱カーブの最大ピーク温度であり、上記吸熱カーブは未焼成のPTFEを、昇温速度10℃/分の条件で昇温させて得られる。上記一次融点は、通常320℃以上の温度であり得る。なお、上記未焼成のPTFEとは、一次融点以上の温度に加熱した熱履歴のないPTFEを示す。
上記成形体の形状は、特に限定されない。上記成形体の形状としては、例えば、テープ状、シート状、棒状、チューブ状、繊維状等を挙げることができる。
上記成形体の比重は、1.0g/cm以上であることが好ましく、1.5g/cm以上であることがより好ましく、2.5g/cm以下であることが好ましい。上記比重は、水中置換法により測定することができる。
一の態様において、上記PTFEを含む組成物は、スクラップ、成形体の形成時に生じ得る破片、又は、成形体の切削加工時に生じる切削屑である。
一の態様において、上記PTFEを含む組成物は予備成形体である。ここで、予備成形体とは、粉体状のPTFEを圧縮して得られたものであり、かつ、焼成工程を経ていない(一次融点以上の温度に加熱されていない)成形体をいう。
電離性放射線の照射は、従来公知の方法及び条件により行い得る。電離性放射線の照射により、PTFEを含む組成物に含まれるPTFEが、低分子量化され、低分子量PTFEとなる。電離性放射線の照射により、PFOA又はその塩等のPFCが生じ得る。
上記電離性放射線としては、電子線、γ線、X線、中性子線、高エネルギーイオン等を挙げることができる。電離性放射線は、好ましくは、電子線又はγ線である。
電離性放射線の照射は、特に限定されないが、例えば、空気中、炭化水素系ガス中、水中、又は溶媒中等で実施できる。
一の態様において、電離性放射線の照射は、空気中で行い得る。本態様は、コストの低減の観点から好ましい。
電離性放射線の照射線量は、1〜2500kGyの範囲にあることが好ましい。電離性放射線の照射線量は、1000kGy以下であることがより好ましく、750kGy以下であることがさらに好ましく、200kGy以下であることが特に好ましい。電離性放射線の照射線量は、10kGy以上であることがより好ましく、50kGy以上が特に好ましい。
電離性放射線の照射温度は、例えば、0℃以上である。電離性放射線の照射温度の上限値は、PTFEの融点以下であれば特に限定されない。PTFEの分子鎖の架橋を抑制する観点からは、電離性放射線の照射温度は、320℃以下であることが好ましく、300℃以下であることがより好ましく、260℃以下であることがさらに好ましい。製造コストの低減の観点からは、電離性放射線の照射は、15℃(例えば、19℃)〜60℃で行うことができる。
工程(I)で得られる組成物に含まれる樹脂成分は、実質的に低分子量PTFEからなることが好ましい。なお、「実質的に低分子量PTFEからなる」とは、例えば、上記組成物100質量部に対して、低分子量PTFEが90質量部以上含まれ、具体的には95質量部以上含まれ得ることを意味する。上記組成物100質量部に対する低分子量PTFEの上限値は特に限定されないが、例えば、100質量部以下であり、具体的には98質量部以下であり得る。
上記工程(I)で得られる組成物の形状は特に限定されない。
一の態様において、工程(I)において得られる組成物の形状は粉体である。該組成物は、工程(II)以降における処理の容易さの観点から有利である。
上記態様において、工程(I)で得られる組成物中の低分子量PTFEの平均粒子径は、好ましくは、1000μm以下であり、より好ましくは300μm以下であり、さらに好ましくは100μm以下である。上記低分子量PTFEの平均粒子径の下限値は、特に限定されないが、例えば、1μm超である。このような平均粒子径を有することにより、上記組成物に含まれる粒子径は、比較的小さくなり得る。
上記低分子量PTFEの平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定できる。具体的には、上記平均粒子径は、カスケードを使用せず、分散圧力1.0barで測定を行い得られる粒度分布積算の50%(体積基準)に対応する粒子径に等しいとする。上記レーザー回折式粒度分布測定装置としては、例えば、日本電子株式会社製レーザー回折式粒度分布測定装置(商品名:HELOS&RODOS)を用いることができる。
上記低分子量PTFEの380℃における溶融粘度は、1.0×10〜7.0×10Pa・sの範囲にある。上記溶融粘度のより好ましい下限は、1.5×10Pa・s以上である。上記溶融粘度のより好ましい上限は、3.0×10Pa・s以下である。本発明において、「低分子量PTFE」とは、溶融粘度が上記の範囲内にあるPTFEを意味する。なお、上記のような溶融粘度を有する低分子量PTFEでは、上述した標準比重(SSG)の測定に使用する成形品を形成することが難しく、上記低分子量PTFEの正確なSSGを測定することは困難である。従って、通常、低分子量PTFEの分子量の指標として溶融粘度が用いられる。
上記溶融粘度は、ASTM D 1238に準拠し、フローテスター(島津製作所社製)を使用し、2φ−8Lのダイを用いて、予め測定温度(380℃)で5分間加熱しておいた2gの試料を、0.7MPaの荷重にて上記温度に保って測定することができる。
上記低分子量PTFEは、フィブリル化性を有しないものであり得る。
上記低分子量PTFEの融点は、324℃〜336℃の範囲にあることが好ましい。上記融点は、PTFEの融点の測定方法として上記した方法を用いて測定できる。
以下、工程(II)について説明する。
工程(II)は、工程(I)で得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFCを分解する工程である。本工程によって、PFCの含有量の少ない低分子量PTFEを含む組成物を得ることができる。
工程(I)で得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFCの含有量は特に限定されないが、例えば、該低分子量PTFEに対して、25質量ppb以上である。
工程(I)で得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFOA又はその塩の含有量は特に限定されないが、例えば、該低分子量PTFEに対して、25質量ppb以上である。
上記PFCの分解は、非電離性放射線の照射による分解により行うことが好ましい。
非電離性放射線の照射は、通常行い得る方法を用いて実施できる。
上記非電離性放射線は、紫外線であることがより好ましい。
上記紫外線照射は、例えば、10〜400nmの紫外線を照射することによって行い得る。例えば、200〜380nmの波長の近紫外線、10〜200nmの真空紫外線、及び10〜121nmの極端紫外線よりなる群より選ばれる少なくとも1を照射することによって行い得る。
上記紫外線の照射は、100〜400nmの範囲の紫外線を照射することによって行うことが好ましく、150〜380nmの範囲の紫外線を照射することによって行うことがより好ましい。紫外線の照射は、異なる波長の紫外線を組み合わせて行ってもよい。
紫外線の照射は、例えば、5〜240分間、より具体的には、5〜150分間行うことができる。
上記PFCの分解は、単数回行ってもよく、複数回行ってもよい。複数回行う場合には、同一の方法を複数回行ってもよいし、異なる方法を組み合わせて行ってもよい。
上記工程(II)は、さらに、工程(I)で得られる組成物を粉砕することを含み得る。具体的には、上記工程(II)は、工程(I)で得られる組成物に含まれるPFCを分解すること、及び、該組成物を粉砕することを含み得る。
一の態様において、上記工程(II)は、工程(I)で得られる組成物に含まれるPFCの分解を行い、その後、粉砕する。
一の態様において、上記工程(II)は、工程(I)で得られる組成物を粉砕し、その後、粉砕後の組成物に含まれるPFCを分解する。
好ましい態様において、上記工程(II)では、工程(I)で得られる組成物を粉砕し、その後、粉砕後の組成物に含まれるPFCを分解する。本態様によると、PFCの分解がより有効になり得る。
上記粉砕処理の方法は特に限定されないが、例えば、粉砕機を用いて粉砕する方法を挙げることができる。上記粉砕機としては、例えば、ハンマーミル、ピンミル、ジェットミル等の衝撃式の粉砕機、回転刃及び外周ステーター(固定刃)により生じる剪断力によって粉砕するカッターミル等の摩砕式の粉砕機等を挙げることができる。
上記粉砕処理を行う温度は、−200℃以上50℃未満であることが好ましい。
一の態様においては、上記粉砕は、冷凍粉砕であり、通常、−200℃〜−100℃の範囲の温度で行われ得る。本態様においては、一般に液体窒素を用いて温度を調整し得る。
一の態様においては、上記粉砕は、室温付近の温度(例えば、10℃〜50℃の範囲)で行われる。
一の態様においては、上記粉砕は、10℃以上50℃未満で行われ得、好ましくは、10℃〜40℃の範囲で行われ、より好ましくは、10℃〜30℃の範囲で行われる。本態様は、工程の簡素化、及び粉砕に要するコストの低減の観点から好ましい。
本発明の製造方法において、工程(II)は、さらに、洗浄処理、スチーム処理、及び減圧処理からなる群より選ばれる少なくとも1を行うことを含み得る。即ち、工程(II)は、工程(I)で得られる組成物に含まれるPFCを分解すること、及び該組成物を洗浄処理、スチーム処理、及び減圧処理からなる群より選ばれる少なくとも1を行うことを含み得る。
好ましくは、工程(II)は、工程(I)で得られる組成物に含まれるPFCを分解し、その後、得られる組成物に洗浄処理、スチーム処理、及び減圧処理からなる群より選ばれる少なくとも1を行うことを含む。
一の態様においては、工程(II)は、工程(I)で得られる組成物を粉砕し、及び該組成物に含まれるPFCを分解し、その後、得られた組成物を洗浄処理、スチーム処理、及び減圧処理からなる群より選ばれる少なくとも1を行う工程であり得る。本態様によると、分解されたPFCの除去が容易になり得る。
一の態様においては、工程(II)は、工程(I)で得られる組成物を粉砕し、得られた組成物を洗浄処理、スチーム処理、及び減圧処理からなる群より選ばれる少なくとも1を行う工程と、ついで該組成物に含まれるPFCを分解する工程であり得る。本態様によると、分解されたPFCの除去が容易になり得る。
上記洗浄処理、スチーム処理、及び減圧処理からなる群より選ばれる少なくとも1の処理は、1回のみ行ってもよく、複数回行ってもよい。これらを、複数回行う場合には、同一の方法を繰り返し行ってもよく、異なる方法を組み合わせて行ってもよい。
上記洗浄処理は、水、及び有機溶剤からなる群より選ばれる少なくとも1を含む溶液(以下において、「洗浄用溶液」と称することがある)を用いて行い得る。
上記有機溶剤としては、極性溶剤を用いることが好ましい。極性溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール(IPA)等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、ジイソブチルケトン(DIBK)等のケトン類;アセトニトリル等のニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。
上記洗浄用溶液としては、アルカリ性の溶液を用いることが好ましく、アンモニア、水酸化ナトリウム等の溶液を用いることがより好ましい。金属原子の含有量の少ない低分子量PTFEを得る観点からは、アンモニアの溶液を用いることが好ましい。
上記洗浄処理は、1回のみ行ってもよく、複数回行ってもよい。複数回行う場合には、洗浄用溶液は、同一種類のものであってもよく、異なる種類のものであってもよい。上記洗浄用溶液は、同一濃度の溶液を用いてもよく、異なる濃度の溶液を用いてもよい。
上記洗浄処理は、洗浄用溶液に浸漬した上記組成物に対して、撹拌、加熱、及び超音波からなる群より選ばれる少なくとも1を付与することによって行い得る。
上記撹拌の付与方法は特に限定されず、例えば撹拌子又は撹拌翼を用いる等、通常行い得る方法を用いることができる。
上記超音波の付与方法は特に限定されず、通常行い得る方法を用い得る。
上記洗浄処理は、加圧下、常圧下、又は減圧下で行い得る。製造コストの抑制の観点からは、常圧下で行うことが好ましい。
好ましい態様としては、上記洗浄処理は、洗浄用溶液として水、アルカリ性水溶液、又は極性溶剤を用い、該洗浄用溶液に浸漬した上記組成物に対して、撹拌、加熱、及び超音波からなる群より選ばれる少なくとも1を付与して行う。
好ましい態様としては、上記洗浄処理後に、さらに水洗処理を行う。水洗処理は、好ましくは洗浄水のpHが6.5〜8.0になるまで行う。
より好ましい態様としては、上記洗浄処理後に乾燥処理を行う。
上記乾燥処理を行う方法は特に限定されないが、例えば、箱型乾燥機、熱風循環式乾燥機、真空乾燥機、スプレー乾燥機、振動乾燥機、流動層乾燥機、固定層乾燥機を用いて行い得る。上記乾燥処理は、具体的には、箱型乾燥機、熱風循環式乾燥機等を用いて行い得る。
乾燥処理は、例えば、100℃〜260℃の温度範囲で行い得る。上記乾燥処理は、生産性又は安全性の観点から、100℃〜140℃の温度範囲で行うことが好ましい。
乾燥処理は、洗浄に用いた水分や溶剤等を除去するために行い得る。乾燥処理を行う時間は、例えば5〜24時間とすることができる。
上記乾燥処理を行うことにより、本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFCの含有量を、さらに低減し得る。
上記乾燥処理を行うことにより、本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFOA又はその塩の含有量を、さらに低減し得る。
上記スチーム処理としては、スチーム状の処理溶液と工程(II)に提供される組成物とを接触することによって行い得る。
上記処理溶液としては、水、アルカリ性水溶液、又は極性溶剤を用いることができる。
好ましい態様において、上記スチーム処理は、処理溶液によって異なるが90℃〜160℃の範囲の温度で行い得る。
上記スチーム処理は、90℃〜160℃に加熱したアルカリ性溶液を用いることが好ましく、95℃〜120℃に加熱したアルカリ性溶液を用いて行うことがさらに好ましい。
上記スチーム処理は、加圧下で行うことが好ましい。上記スチーム処理は、0.1〜0.2MPaの範囲の圧力で行うことがより好ましく、0.1〜0.15MPaの範囲の圧力で行うとすることがさらに好ましい。
上記スチーム処理は、例えば、10分から1時間の間、スチーム状の処理溶液と工程(II)に提供される組成物とを接触することによって行い得る。
より好ましい態様としては、上記スチーム処理後に乾燥処理を行う。乾燥処理については、上記と同様に行うことができる。
上記減圧処理は、例えば、ゲージ圧−0.01〜−0.1MPaにおいて行い得、具体的には−0.05〜−0.1MPaにおいて行い得る。
上記減圧処理を行う時間は、特に限定されないが、例えば、数分〜10日間の範囲にある。
上記減圧処理を行う方法は特に限定されないが、例えば、真空乾燥機、アキュームレーター、真空付きダブルコーン型攪拌機を用いて行い得る。
本発明の低分子量PTFEを含む組成物の製造方法は、分級工程をさらに含んでいてもよい。
上記分級工程においては、例えば気流分級を用いることができる。具体的には、微粒子又は繊維状粒子を気流分級により除去した後、さらに分級により粗粒子を除去するものであってもよい。
上記気流分級においては、低分子量PTFE粒子(例えば粉砕された粒子)が減圧空気により円柱柱の分級室に送られ、室内の旋回気流により分散され、遠心力によって微粒子が分級される。微粒子は中央部からサイクロン及びバグフィルターへ回収される。分級室内には、粉砕粒子と空気が均一に旋回運動を行うために円錐状のコーン又はローターなどの回転体が設置されている。
分級コーンを使用する場合には、分級点の調節は二次エアーの風量と分級コーン間の隙間を調節することにより行う。ローターを使用する場合には、ローターの回転数により分級室内の風量を調節する。
粗粒子の除去方法としては、メッシュによる気流分級、振動篩又は超音波篩などが挙げられるが、気流分級が好ましい。
一の態様においては、工程(I)の前に分級処理を行ってもよい。
一の態様において、分級処理は、粉砕処理を経た組成物に対して行う。
好ましい態様において、上記工程(II)は、工程(I)で得られる組成物に対して、粉砕処理を行った後に分級処理を行い、その後、PFCを分解する工程である。
別の好ましい態様において、上記工程(II)は、工程(I)で得られる組成物に対して、粉砕処理を行った後に、PFCを分解する工程を行い、その後、分級処理を行い、低分子量PTFEを含む組成物を得る工程である。
上記のようにして、本発明によると、PFOA等に代表されるPFCが分解され、PFCの含有量の少ない低分子量PTFEを含む組成物を得ることができる。
本発明において得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFOA及びその塩の含有量は、該低分子量PTFEに対して、質量基準で25ppb未満であることが好ましく、15ppb以下であることがより好ましく、5ppb未満であることがさらに好ましい。PFOA及びその塩の含有量の下限値は特に限定されないが、例えば検出限界未満であり、より具体的には0ppbである。本発明によると、上記のようにPFOA及びその塩の含有量の少ない低分子量PTFEを含む組成物を得ることができる。なお、上記含有量は、PFOA及びその塩の合計量を表す。上記PFOAの塩は、上記のとおりである。
上記PFOA及びその塩の含有量は、液体クロマトグラフィーを用いて測定できる。より具体的には、低分子量PTFEを含む組成物から、溶媒を用いて上記PFOA及びその塩を抽出し、抽出後の溶媒に含まれる上記PFOA及びその塩の量を、液体クロマトグラフィーを用いて測定し得る。
本発明において得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFCの含有量は、該低分子量PTFEに対して、質量基準で50ppb以下であることが好ましく、25ppb未満であることがより好ましく、15ppb以下であることがさらに好ましく、5ppb以下であることが特に好ましく、5ppb未満であることがより好ましい。PFCの含有量の下限値は特に限定されないが、例えば検出限界未満であり、より具体的には0ppbである。本発明によると、上記のようにPFCの含有量の少ない低分子量PTFEを含む組成物を得ることができる。なお、特に記載していない限り、複数の構造のPFCが存在する場合には、上記含有量は複数の構造のPFCの合計量を表す。PFCは上記のとおりである。
上記PFCの含有量は、例えば、液体クロマトグラフィーを用いて測定できる。より具体的には、低分子量PTFEを含む組成物から、溶媒を用いて上記PFCを抽出し、抽出後の溶媒に含まれる上記PFCの量を、液体クロマトグラフィーを用いて測定し得る。
一の態様において、本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEを含む組成物の形状は粉体である。本態様の上記粉体の比表面積は、0.1〜30.0m/gの範囲にあることが好ましい。上記比表面積は、表面分析計を用いて得ることができる。具体的には、キャリアガスとして窒素30%及びヘリウム70%からなる混合ガスを用い、冷媒として液体窒素を用いて、BET法により測定する。上記表面分析計としては、例えば、BELSORP−miniII(商品名、マイクロトラック・ベル株式会社製)を用いることができる。上記比表面積は7.0m/g以上であることがより好ましい。
一の態様において、本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEを含む組成物の形状は粉体である。本態様の上記粉体の比表面積は、0.1m/g以上7.0m/g未満である。比表面積の測定方法は上記のとおりである。このような低分子量PTFEは、マトリクス材料に容易に分散し得る。マトリクス材料としては、プラスチック、インクの他、塗料等を用い得る。
上記態様の粉体(具体的には、低分子量PTFE)の比表面積の下限値は、1.0m/g以上であることが好ましい。本態様の上記粉体の比表面積の上限値は、5.0m/g以下であることが好ましく、3.0m/g以下であることがより好ましい。
一の態様において、本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEを含む組成物の形状は粉体である。本態様の上記粉体の比表面積は、7.0m/g以上30.0m/g以下である。比表面積の測定方法は上記のとおりである。このような低分子量PTFEは、マトリクス材料への分散粒径が小さいため、塗膜表面の質感を向上させる等の表面を改質する効果が高く、吸油量が多くなり得る。マトリクス材料としては、オイル、グリース、塗料の他、プラスチック等を用い得る。
上記態様の粉体(具体的には、低分子量PTFE)の比表面積の下限値は、8.0m/g以上であることが好ましい。本態様の上記粉体(具体的には、組成物に含まれる低分子量PTFE)の比表面積の上限値は、30.0m/g以下であることが好ましく、20.0m/g以下であることがより好ましい。
一の態様において、本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEを含む組成物の形状は粉体である。本態様の上記粉体の平均粒子径は、0.5〜200μmの範囲にあることが好ましい。上記平均粒子径は、100μm以下であることがより好ましく、50μm以下であることがさらに好ましい。上記平均粒子径は、例えば1.0μm以上である。本発明によって得られる低分子量PTFEは、上記のような平均粒子径を有することにより、例えば、添加剤として塗料に加えた場合に、より優れた表面平滑性を有する塗膜の形成に寄与し得る。
本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEを含む組成物の平均粒子径の測定方法は、工程(I)で得られる組成物に含まれる低分子量PTFEの平均粒子径の測定方法として記載したとおりである。
好ましい態様において、本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEを含む組成物は粉体状である。
本発明で得られる低分子量PTFEを含む組成物は、必要に応じて、成形して用い得る。
一の態様において、本発明の方法は、PTFEを含む組成物に対して電離性放射線を照射し、380℃における溶融粘度が1×10〜7×10Pa・sの範囲にある低分子量PTFEを得ること、及び、
上記工程で得られる低分子量PTFEを含む組成物に含まれるPFCを分解すること
を含む、低分子量PTFEを含む組成物の精製方法である。
本発明により得られる低分子量PTFEを含む組成物は、好ましくは粉末であり、成形材料、インク、化粧品、塗料、グリース、オフィスオートメーション機器用部材、又はトナー等を改質する添加剤、めっき液への添加剤等として、好適に使用し得る。上記成形材料としては、例えば、ポリオキシベンゾイルポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイドなどのエンジニアリングプラスチックが挙げられる。上記低分子量PTFEを含む組成物は、特にグリース用粘稠材として好適に用い得る。
本発明により得られる低分子量PTFEを含む組成物は、好ましくは粉末であり、成形材料の添加剤として用いることができる。上記組成物は、例えば、コピーロール、又は感光体の非粘着性及び摺動特性を向上させる用途;家具の表層シート、自動車のダッシュボード、家電製品のカバーなどのエンジニアリングプラスチック成形品の質感を向上させる用途;軽荷重軸受、歯車、カム、プッシュホンのボタン、映写機、カメラ部品、摺動材などの機械的摩擦を生じ得る機械部品の滑り性又は耐摩耗性を向上させる用途;エンジニアリングプラスチックの加工助剤等として好適に用いることができる。
本発明により得られる低分子量PTFEを含む組成物は、好ましくは粉末であり、塗料の添加剤として、ニス又はペンキの滑り性向上のために用いることができる。上記低分子量PTFEを含む組成物は、化粧品の添加剤としてファンデーションなどの化粧品の滑り性向上の目的に用いることができる。
本発明により得られる低分子量PTFEを含む組成物は、好ましくは粉末であり、さらに、ワックスなどの撥油性又は撥水性を向上させる用途、グリース用増稠材、又はグリース又はトナーの滑り性を向上させる用途にも好適に用いることができる。
本発明により得られる低分子量PTFEを含む組成物は、好ましくは粉末であり、二次電池や燃料電池の電極バインダー、電極バインダーの硬度調整剤、電極表面の撥水処理剤等としても使用できる。
本発明により得られる低分子量PTFEを含む組成物は、好ましくは粉末であり、潤滑油と共に使用してグリースを調製することもできる。上記グリースは、粉末の低分子量PTFEを含む組成物及び潤滑油を含有することを特徴とすることから、潤滑油中に低分子量PTFEを含む組成物が均一かつ安定に分散し得る。上記グリースは、耐熱性、耐荷重性、電気絶縁性、低吸湿性等の特性に優れ得る。
上記潤滑油(基油)は、鉱物油であっても、合成油であってもよい。上記潤滑油(基油)としては、例えば、パラフィン系やナフテン系の鉱物油、合成炭化水素油、エステル油、フッ素オイル、シリコーンオイルのような合成油等が挙げられる。耐熱性の観点からはフッ素オイルが好ましく、上記フッ素オイルとしては、パーフルオロポリエーテルオイル、三フッ化塩化エチレンの低重合物等が挙げられる。三フッ化塩化エチレンの低重合物は、重量平均分子量が500〜1200であってよい。
上記グリースにおいては、更に、他の増稠剤を併用してもよい。上記増稠剤としては、金属石けん、複合金属石けん、ベントナイト、フタロシアニン、シリカゲル、ウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物、ウレタン化合物、イミド化合物等が挙げられる。上記金属石けんとしては、例えばナトリウム石けん、カルシウム石けん、アルミニウム石けん、リチウム石けん等が挙げられる。また上記ウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物及びウレタン化合物としては、例えばジウレア化合物、トリウレア化合物、テトラウレア化合物、その他のポリウレア化合物、ウレア・ウレタン化合物、ジウレタン化合物又はこれらの混合物等が挙げられる。
上記グリースは、粉末の低分子量PTFEを含む組成物を0.1〜50質量%含むことが好ましく、0.5質量%以上含むことがより好ましく、30質量%以下含むことがより好ましい。上記の量の粉末の低分子量PTFEを含む組成物を含むことによって、適切な硬度のグリースを得ることができる。該グリースは、充分な潤滑性を発揮し得、適切なシール性を発揮し得る。
上記グリースは、さらに、固体潤滑剤、極圧剤、酸化防止剤、油性剤、さび止め剤、粘度指数向上剤、清浄分散剤等を含むこともできる。
本発明について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
(比較例1)
バリアナイロン製の袋にポリフロン(登録商標)PTFE F−104(ダイキン工業株式会社製、PFCの濃度及びPFOAの濃度は、それぞれ測定限界以下)を50g計量し、ヒートシールを用いて密封した。次いで袋内のPTFE F−104に対して、室温にてコバルト−60γ線を150kGy照射し、低分子量PTFE粉末を得た。得られた低分子量PTFE粉末を、PFOA及び炭素数6〜14のパーフルオロカルボン酸及びその誘導体の含有量の測定用サンプルとして用いた。また、得られた低分子量PTFE粉末の溶融粘度を測定した。結果を表2に示す。
(実施例1〜2)
比較例1で得られた低分子量PTFEに、185nm及び254nmの紫外線(UV)を同時に照射し、処理後の低分子量PTFEを得た。
(実施例3〜6)
比較例1で得られた低分子量PTFEに、表2に記載の条件で紫外線照射を行い、処理後の低分子量PTFEを得た。
(溶融粘度の測定)
実施例および比較例で得られた低分子量PTFEの溶融粘度を測定した。
溶融粘度は、ASTM D 1238に準拠して、フローテスター(島津製作所社製)を使用し、2φ−8Lのダイを用いて、予め測定温度(380℃)で5分間加熱しておいた2gの試料を用い、0.7MPaの荷重にて上記温度に保って測定した。
(PFOA及びその塩の含有量の測定)
液体クロマトグラフ質量分析計(Waters、LC−MS ACQUITY UPLC/TQD)を用い、実施例および比較例で得られた低分子量PTFEについて、低分子量PTFE100質量部に対する、PFOAの含有量の測定を行った。
具体的には、測定用粉末1gにアセトニトリル5mlを加え、60分間の超音波処理を行い、PFOAを抽出した。得られた液相について、MRM(Multiple Reaction Monitoring)法を用いて、PFOAの含有量を測定した。移動相として、アセトニトリル(A)及び酢酸アンモニウム水溶液(20mmol/L)(B)を用い、濃度勾配(A/B=40/60−2min−80/20−1min)で送液した。分離カラムとしてACQUITY UPLC BEH C18 1.7μmを使用し、カラム温度は40℃、注入量は5μLとした。イオン化法は、ESI(Electrospray ionization) Negativeを使用し、コーン電圧は25Vに設定し、プリカーサーイオン分子量/プロダクトイオン分子量は413/369を測定した。PFOAの含有量は、外部標準法を用い、算出した。この測定における検出限界は5ppbである。
(炭素数6〜14のパーフルオロカルボン酸及びその誘導体の含有量の測定)
液体クロマトグラフ質量分析計(Waters、LC−MS ACQUITY UPLC/TQD)を用い、実施例および比較例で得られた低分子量PTFEについて、低分子量PTFE100質量部に対する、炭素数6〜14のパーフルオロカルボン酸の含有量の測定を行った。
具体的には、溶液としてはPFOAの測定にて抽出した液相を使用し、MRM法を用いて測定した。PFOAの測定条件から、濃度勾配を変更した測定条件(A/B=10/90−1.5min−90/10−3.5min)で、表1に記載のプリカーサーイオン分子量/プロダクトイオン分子量を測定した。炭素数6〜14のパーフルオロカルボン酸の合計量は、上記測定より得られたパーフルオロオクタン酸の含有量(X)から、下記式を用いて算出した。この測定における検出限界は5ppbである。
(Ac6+Ac7+Ac8+Ac9+Ac10+Ac11+Ac12+Ac13+Ac14)/Ac8×X
上記式中:
c6〜Ac14は、それぞれ、炭素数6〜炭素数14のカルボン酸のピーク面積を表し;
Xは、MRM法を用いた測定結果から外部標準法を用いて算出したパーフルオロオクタン酸(炭素数8)の含有量を表す。
Figure 2019156067
結果を下表に示す。なお、以下の表において「C6〜14の含有量」とは、炭素数6〜14のパーフルオロカルボン酸及びその誘導体の含有量を示す。
Figure 2019156067
本発明の製造方法で得られる低分子量PTFEは、プラスチック、インク、化粧品、塗料、グリース等の製造に有用に用いられ得る。

Claims (10)

  1. (I)高分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物に対して電離性放射線を照射し、380℃における溶融粘度が1.0×10〜7.0×10Pa・sの範囲にある低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物を得る工程、及び
    (II)上記工程で得られる低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物に含まれる低分子量含フッ素化合物を分解する工程
    を含む低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  2. 工程(II)における低分子量含フッ素化合物の分解が、非電離性放射線の照射による分解である、請求項1に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  3. 上記非電離性放射線が、紫外線である、請求項2に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  4. 紫外線照射として、10〜400nmの紫外線を照射することを特徴とする、請求項2又は3に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  5. 工程(II)が、低分子量含フッ素化合物を分解すること、及び、工程(I)で得られる組成物を粉砕することを含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  6. 工程(II)が、工程(I)で得られる組成物を粉砕し、粉砕後の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物に含まれる低分子量含フッ素化合物を分解することを含む、請求項5に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  7. 高分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物が、粉体である請求項1〜6のいずれか1項に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  8. 低分子量含フッ素化合物が、炭素原子数6〜14の含フッ素炭素鎖を有する酸又はその誘導体である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  9. 工程(II)で得られる低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物における低分子量含フッ素化合物の含有量が、該低分子量ポリテトラフルオロエチレンに対して、50質量ppb以下である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
  10. 工程(II)で得られる低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物における低分子量含フッ素化合物が、パーフルオロオクタン酸及びその塩を含み、
    該パーフルオロオクタン酸及びその塩の含有量が、該低分子量ポリテトラフルオロエチレンに対して、25質量ppb未満である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法。
JP2019570750A 2018-02-07 2019-02-05 低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法 Active JP6939915B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018020428 2018-02-07
JP2018020428 2018-02-07
PCT/JP2019/004055 WO2019156067A1 (ja) 2018-02-07 2019-02-05 低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2019156067A1 true JPWO2019156067A1 (ja) 2020-12-03
JP6939915B2 JP6939915B2 (ja) 2021-09-22

Family

ID=67548992

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019570750A Active JP6939915B2 (ja) 2018-02-07 2019-02-05 低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11548989B2 (ja)
EP (1) EP3750946A4 (ja)
JP (1) JP6939915B2 (ja)
CN (1) CN111683997B (ja)
WO (1) WO2019156067A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6791423B1 (ja) 2019-12-25 2020-11-25 ダイキン工業株式会社 冷凍サイクル装置、冷凍機油および冷媒漏洩防止剤
EP4083077A4 (en) * 2020-01-15 2024-02-14 Daikin Industries, Ltd. METHOD FOR PRODUCING LOW MOLECULAR WEIGHT POLYTETRAFLUOROETHYLENE, COMPOSITION AND LOW MOLECULAR WEIGHT POLYTETRAFLUOROETHYLENE

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001513579A (ja) * 1997-08-08 2001-09-04 シャムロック テクノロジーズ インコーポレーテッド 砕けやすいポリテトラフルオロエチレン製品を得る方法
JP2002105124A (ja) * 2000-10-03 2002-04-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 低分子量フッ素樹脂を原料とする多孔質炭素材料の製造方法及びその用途
JP2002327067A (ja) * 2001-05-07 2002-11-15 Reitekku:Kk 架橋フッ素樹脂の製造方法
JP2006063140A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Asahi Glass Co Ltd 低分子量ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法
JP2007131671A (ja) * 2005-11-08 2007-05-31 Du Pont Mitsui Fluorochem Co Ltd 溶融成形用フッ素樹脂組成物
JP2011052063A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Sumitomo Electric Ind Ltd 透明樹脂成形体及びその製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4719609B1 (ja) 1968-08-29 1972-06-05
US4220511A (en) * 1979-03-12 1980-09-02 Radiation Dynamics, Inc. Treatment of sintered poly-tetrafluoroethylene with irradiation and heat to produce a grindable material
JP2847169B2 (ja) * 1990-08-07 1999-01-13 住友重機械工業株式会社 ポリマーの微粉末化方法
JP3317452B2 (ja) * 1992-10-05 2002-08-26 株式会社レイテック 改質ポリテトラフルオロエチレンとその製造方法
JP3931382B2 (ja) 1996-09-18 2007-06-13 ダイキン工業株式会社 ポリテトラフルオロエチレン粉末及びその製造方法
PL209218B1 (pl) 2002-04-23 2011-08-31 Laurel Products Sposób obróbki perfluoropolimeru i kompozycja na bazie perfluoropolimeru
US6824872B2 (en) * 2002-04-23 2004-11-30 Laurel Products Llc Surface-treating fluoropolymer powders using atmospheric plasma
US6875902B2 (en) * 2002-11-06 2005-04-05 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Method decomposing fluorine-containing organic material
DE10351813B4 (de) * 2003-10-30 2006-04-13 Leibniz-Institut Für Polymerforschung Dresden E.V. Radikalisch gekoppelte PTFE-Polymer-Pulver und Verfahren zu ihrer Herstellung
JP2005154277A (ja) 2003-11-20 2005-06-16 National Institute Of Advanced Industrial & Technology フルオロカルボン酸類の変換方法
CN105367692B (zh) * 2015-12-07 2017-11-24 上海三爱富新材料股份有限公司 低分子量聚四氟乙烯树脂的制备方法
CN113429714B (zh) * 2016-08-04 2023-09-15 大金工业株式会社 包含低分子量聚四氟乙烯的粉末
CN106317429B (zh) * 2016-08-22 2018-08-14 太仓金凯特新材料科技有限公司 混合辐照制备ptfe超细粉功能材料的方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001513579A (ja) * 1997-08-08 2001-09-04 シャムロック テクノロジーズ インコーポレーテッド 砕けやすいポリテトラフルオロエチレン製品を得る方法
JP2002105124A (ja) * 2000-10-03 2002-04-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 低分子量フッ素樹脂を原料とする多孔質炭素材料の製造方法及びその用途
JP2002327067A (ja) * 2001-05-07 2002-11-15 Reitekku:Kk 架橋フッ素樹脂の製造方法
JP2006063140A (ja) * 2004-08-25 2006-03-09 Asahi Glass Co Ltd 低分子量ポリテトラフルオロエチレン水性分散液の製造方法
JP2007131671A (ja) * 2005-11-08 2007-05-31 Du Pont Mitsui Fluorochem Co Ltd 溶融成形用フッ素樹脂組成物
JP2011052063A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Sumitomo Electric Ind Ltd 透明樹脂成形体及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20210040277A1 (en) 2021-02-11
US11548989B2 (en) 2023-01-10
EP3750946A1 (en) 2020-12-16
WO2019156067A1 (ja) 2019-08-15
JP6939915B2 (ja) 2021-09-22
CN111683997A (zh) 2020-09-18
CN111683997B (zh) 2023-08-25
EP3750946A4 (en) 2021-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7381947B2 (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法、低分子量ポリテトラフルオロエチレン及び粉末
JP6508266B2 (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法、低分子量ポリテトラフルオロエチレン及び粉末
JP6958640B2 (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法
JP7406126B2 (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法
JP6590096B2 (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法及び粉末
JP6939915B2 (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンを含む組成物の製造方法
JP7261422B2 (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法、及び、粉末
JP2021178912A (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法
JP2021084934A (ja) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法、粉末

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200422

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210202

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210322

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210803

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210816

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6939915

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151