JPWO2019039159A1 - 硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ - Google Patents
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Abstract
Description
<1> 近赤外線吸収色素と、
エチレン性不飽和結合を有する重合性モノマーと、
樹脂と、
を含み、
前記樹脂は、エポキシ価が5meq/g以下で、かつ、下記式(1)の条件を満たす樹脂Pを含む硬化性組成物であり、
硬化性組成物は、波長700〜1300nmの範囲に極大吸収波長を有し、波長400〜600nmの範囲における吸光度の最大値A1と、極大吸収波長における吸光度A2との比であるA1/A2が0.3以下であり、
近赤外線吸収色素の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して5質量%以上である、硬化性組成物;
|d1−d2|≦5.0MPa0.5 ・・・(1)
式(1)中、d1は、硬化性組成物に含まれる重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値であり、硬化性組成物が重合性モノマーを2種以上含む場合は、2種以上の重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値の質量平均値である;d2は樹脂Pのハンセン溶解度パラメータのd値である。
<2> 樹脂Pは、(メタ)アクリル樹脂、ポリエステル樹脂およびフェノール樹脂から選ばれる少なくとも1つである、<1>に記載の硬化性組成物。
<3> 硬化性組成物に含まれる樹脂の10質量%以上が樹脂Pである、<1>または<2>に記載の硬化性組成物。
<4> 樹脂Pの100質量部に対して、重合性モノマーを10〜500質量部含有する、<1>〜<3>のいずれか1つに記載の硬化性組成物。
<5> 近赤外線吸収色素は、酸基および塩基性基から選ばれる少なくとも1つの基を有する化合物を含む、<1>〜<4>のいずれか1つに記載の硬化性組成物。
<6> 近赤外線吸収色素は、酸基を有する化合物を含む、<1>〜<4>のいずれか1つに記載の硬化性組成物。
<7> 近赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物およびシアニン化合物から選ばれる少なくとも1つである、<1>〜<6>のいずれか1つに記載の硬化性組成物。
<8> 近赤外線吸収色素の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して40質量%以下である、<1>〜<7>のいずれか1つに記載の硬化性組成物。
<9> 近赤外線吸収色素の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して25質量%以下である、<1>〜<7>のいずれか1つに記載の硬化性組成物。
<10> 重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合を3個以上有する化合物を含む、<1>〜<9>のいずれか1つに記載の硬化性組成物。
<11> <1>〜<10>のいずれか1つに記載の硬化性組成物から得られる膜。
<12> <11>に記載の膜を有する近赤外線カットフィルタ。
<13> <11>に記載の膜を有する固体撮像素子。
<14> <11>に記載の膜を有する画像表示装置。
<15> <11>に記載の膜を有する赤外線センサ。
本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)測定でのポリスチレン換算値として定義される。
本明細書において、化学式中のMeはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Buはブチル基を表し、Phはフェニル基を表す。
本明細書において、近赤外線とは、波長700〜2500nmの光(電磁波)をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本発明の硬化性組成物は、近赤外線吸収色素と、エチレン性不飽和結合を有する重合性モノマーと、樹脂と、を含み、樹脂は、エポキシ価が5meq/g以下で、かつ、式(1)の条件を満たす樹脂Pと、を含む硬化性組成物であり、硬化性組成物は、波長700〜1300nmの範囲に極大吸収波長を有し、波長400〜600nmの範囲における吸光度の最大値A1と、極大吸収波長における吸光度A2との比であるA1/A2が0.3以下であり、近赤外線吸収色素の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して5質量%以上であることを特徴とする。
|d1−d2|≦5.0MPa0.5 ・・・(1)
式(1)中、d1は、硬化性組成物に含まれる重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値であり、硬化性組成物が重合性モノマーを2種以上含む場合は、2種以上の重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値の質量平均値である;d2は樹脂Pのハンセン溶解度パラメータのd値である。
また、本発明の硬化性組成物は、クラックなどが生じにくい信頼性に優れた膜を形成することもできる。このような効果が得られる理由としては、重合性モノマーと式(1)の条件を満たす樹脂Pとを含むことにより、重合性モノマー由来の成分と樹脂Pとがほぼ均一に混ざった膜を得ることができるためであると推測される。
Aλ=−log(Tλ/100)
Aλは、波長λにおける吸光度であり、Tλは、波長λにおける透過率(%)である。
本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、硬化性組成物を用いて製膜した膜での値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように組成物を塗布し、ホットプレートを用いて100℃、120秒間乾燥して調製した膜を用いて測定することが好ましい。膜の厚さは、膜を有する基板について、触針式表面形状測定器(ULVAC社製 DEKTAK150)を用いて測定することができる。また、吸光度は、従来公知の分光光度計を用いて測定できる。
本発明の硬化性組成物は、近赤外線吸収色素を含有する。近赤外線吸収色素は、顔料(近赤外線吸収顔料ともいう)であってもよく、染料(近赤外線吸収染料ともいう)であってもよい。また、近赤外線吸収染料と近赤外線吸収顔料とを併用することも好ましい。近赤外線吸収染料と近赤外線吸収顔料とを併用する場合、近赤外線吸収染料と近赤外線吸収顔料との質量比は、近赤外線吸収染料:近赤外線吸収顔料=99.9:0.1〜0.1:99.9であることが好ましく、99.9:0.1〜10:90であることがより好ましく、99.9:0.1〜20:80であることがさらに好ましい。
塩基性基としては、3級アミノ基、2級アミノ基、1級アミノ基、アンモニウム基などが挙げられる。
式中、R1aおよびR1bは、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、R2およびR3は、各々独立に水素原子または置換基を表し、R2およびR3は、互いに結合して環を形成してもよく、R4は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−BR4AR4B、または金属原子を表し、R4は、R1a、R1bおよびR3から選ばれる少なくとも一つと共有結合もしくは配位結合していてもよく、R4AおよびR4Bは、各々独立に置換基を表す。R4AおよびR4Bは互いに結合して環を形成していてもよい。式(PP)の詳細については、特開2009−263614号公報の段落番号0017〜0047、特開2011−68731号公報の段落番号0011〜0036、国際公開第2015/166873号公報の段落番号0010〜0024の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
アルキル基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30のアルケニル基)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30のアルキニル基)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30のアリール基)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜30のアミノ基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30のアルコキシ基)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜30のアリールオキシ基)、ヘテロアリールオキシ基、アシル基(好ましくは炭素数1〜30のアシル基)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30のアルコキシカルボニル基)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30のアリールオキシカルボニル基)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜30のアシルオキシ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30のアシルアミノ基)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30のアルコキシカルボニルアミノ基)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜30のアリールオキシカルボニルアミノ基)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30のスルファモイル基)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜30のカルバモイル基)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜30のアルキルチオ基)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30のアリールチオ基)、ヘテロアリールチオ基(好ましくは炭素数1〜30)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜30)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜30)、ヘテロアリールスルホニル基(好ましくは炭素数1〜30)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜30)、アリールスルフィニル基(好ましくは炭素数6〜30)、ヘテロアリールスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜30)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30)、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロアリール基(好ましくは炭素数1〜30)。これらの基は、さらに置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよく、さらなる置換基としては、上述した置換基Tで説明した基が挙げられる。
式(SQ)中、A1およびA2は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または式(A−1)で表される基を表す;
式(A−1)中、Z1は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、R2は、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、dは、0または1を表し、波線は連結手を表す。式(SQ)の詳細については、特開2011−208101号公報の段落番号0020〜0049、特許第6065169号公報の段落番号0043〜0062、国際公開第2016/181987号公報の段落番号0024〜0040の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
環Aおよび環Bは、それぞれ独立に芳香族環を表し、XAおよびXBはそれぞれ独立に置換基を表し、GAおよびGBはそれぞれ独立に置換基を表し、kAは0〜nAの整数を表し、kBは0〜nBの整数を表し、nAおよびnBはそれぞれ環Aまたは環Bに置換可能な最大の整数を表し、XAとGA、XBとGB、XAとXBは、互いに結合して環を形成しても良く、GAおよびGBがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環構造を形成していても良い。
式(SQ−10)
−(CH2)n1− ・・・(S1)
式(S1)中、n1は2または3である。
−(CH2)n2−O−(CH2)n3− ・・・(S2)
式(S2)中、n2とn3はそれぞれ独立して0〜2の整数であり、n2+n3は1または2である。
R1およびR2は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基を表す。アルキル基およびアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した式(PP)で説明した置換基Tが挙げられる。
R3〜R6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表す。
nは2または3である。
式(C)
式中、Z1およびZ2は、それぞれ独立に、縮環してもよい5員または6員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、R101およびR102は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、L1は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、aおよびbは、それぞれ独立に、0または1であり、aが0の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、bが0の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、式中のCyで表される部位がカチオン部である場合、X1はアニオンを表し、cは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のCyで表される部位がアニオン部である場合、X1はカチオンを表し、cは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のCyで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、cは0である。
本発明の硬化性組成物は、上述した近赤外線吸収色素以外の近赤外線吸収剤(他の近赤外線吸収剤ともいう)を更に含んでもよい。他の近赤外線吸収剤としては、無機顔料(無機粒子)が挙げられる。無機顔料の形状は特に制限されず、球状、非球状を問わず、シート状、ワイヤー状、チューブ状であってもよい。無機顔料としては、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)粒子、酸化アンチモンスズ(ATO)粒子、酸化亜鉛(ZnO)粒子、Alドープ酸化亜鉛(AlドープZnO)粒子、フッ素ドープ二酸化スズ(FドープSnO2)粒子、ニオブドープ二酸化チタン(NbドープTiO2)粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀(Ag)粒子、金(Au)粒子、銅(Cu)粒子、ニッケル(Ni)粒子などが挙げられる。また、無機顔料としては酸化タングステン系化合物を用いることもできる。酸化タングステン系化合物は、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。酸化タングステン系化合物の詳細については、特開2016−006476号公報の段落番号0080を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
また、上述した近赤外線吸収色素と他の近赤外線吸収剤との合計質量中における他の近赤外線吸収剤の含有量は、1〜99質量%が好ましい。上限は、80質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、30質量%以下がさらに好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は他の近赤外線吸収剤を実質的に含有しないことも好ましい。他の近赤外線吸収剤を実質的に含有しないとは、上述した近赤外線吸収色素と他の近赤外線吸収剤との合計質量中における他の近赤外線吸収剤の含有量が0.5質量%以下であることが好ましく、0.1質量%以下であることがより好ましく、他の近赤外線吸収剤を含有しないことが更に好ましい。
本発明の硬化性組成物は、エチレン性不飽和結合を有する重合性モノマーを含有する。本発明において、重合性モノマーは、後述する樹脂Pとの間で式(1)の条件を満たす材料を選択して用いる。
daveは、2種以上の重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値の質量平均値であり、nは2以上の整数であり、Miは重合性モノマーの全量中における重合性モノマーiの質量比(重合性モノマーiの質量/全重合性モノマーの質量)であり、diは、重合性モノマーiのハンセン溶解度パラメータのd値である。
上記式(MO−1)〜(MO−6)で表される化合物の各々において、複数のRの内の少なくとも1つは、−OC(=O)CH=CH2、−OC(=O)C(CH3)=CH2、−NHC(=O)CH=CH2または−NHC(=O)C(CH3)=CH2を表す。
上記式(MO−1)〜(MO−6)で表される重合性化合物の具体例としては、特開2007−269779号公報の段落0248〜0251に記載されている化合物が挙げられる。
式(Z−2)中、R1は水素原子又はメチル基を示し、mは1又は2の数を示し、「*」は結合手であることを示す。
式(Z−3)中、R1は水素原子又はメチル基を示し、「*」は結合手であることを示す。
式(Z−5)中、nは、0〜6の整数が好ましく、0〜4の整数がより好ましい。また、各nの合計は、3〜60の整数が好ましく、3〜24の整数がより好ましく、6〜12の整数が特に好ましい。
また、式(Z−4)又は式(Z−5)中の−((CH2)yCH2O)−又は−((CH2)yCH(CH3)O)−は、酸素原子側の末端がXに結合する形態が好ましい。
本発明の硬化性組成物において、重合性モノマーは、樹脂の100質量部に対して、10〜500質量部含有することが好ましい。上限は、480質量部以下であることが好ましく、450質量部以下であることがより好ましく、400質量部以下であることが更に好ましい。下限は、15質量部以上であることが好ましく、20質量部以上であることがより好ましく、30質量部以上であることが更に好ましい。
また、重合性モノマーは、後述する樹脂Pの100質量部(樹脂Pを2種以上含む場合は2種以上の樹脂Pの合計100質量部)に対して、10〜500質量部含有することが好ましい。上限は、480質量部以下であることが好ましく、450質量部以下であることがより好ましく、400質量部以下であることが更に好ましく、350質量部以下であることが特に好ましい。下限は、15質量部以上であることが好ましく、25質量部以上であることがより好ましく、40質量部以上であることが更に好ましく、60質量部以上であることが特に好ましい。
本発明の硬化性組成物は、重合性モノマーを1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。重合性モノマーを2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明の硬化性組成物は樹脂を含む。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。なお本発明において、樹脂は、繰り返し単位を有する高分子の化合物のことを意味する。
|d1−d2|≦5.0MPa0.5 ・・・(1)
式(1)中、d1は、硬化性組成物に含まれる重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値であり、硬化性組成物が重合性モノマーを2種以上含む場合は、2種以上の重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値の質量平均値である;d2は樹脂Pのハンセン溶解度パラメータのd値である。
|d1−d2|≦3.5MPa0.5 ・・・(1−1)
|d1−d2|≦2.0MPa0.5 ・・・(1−2)
|d1−d2|≦1.0MPa0.5 ・・・(1−3)
|d1−d2|≦0.5MPa0.5 ・・・(1−4)
式(1−1)〜(1−4)における、d1およびd2は、式(1)のd1およびd2と同じである。
|d21−d22|≦5.0MPa0.5 ・・・(2−1)
|d21−d22|≦3.5MPa0.5 ・・・(2−2)
|d21−d22|≦2.0MPa0.5 ・・・(2−3)
式(2−1)〜(2−3)中、d21は2種以上の樹脂のうち、ハンセン溶解度パラメータのd値が最も高い樹脂のd値であり、d22は2種以上の樹脂のうち、ハンセン溶解度パラメータのd値が最も低い樹脂のd値である。
|d31−d32|>5.0MPa0.5 ・・・(3)
式(3)中、d31は、硬化性組成物に含まれる重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値であり、硬化性組成物が重合性モノマーを2種以上含む場合は、2種以上の重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値の質量平均値である;d32は樹脂のハンセン溶解度パラメータのd値である。
式(ED2)中、Rは、水素原子または炭素数1〜30の有機基を表す。式(ED2)の具体例としては、特開2010−168539号公報の記載を参酌できる。
式(X)において、R1は、水素原子またはメチル基を表し、R2は炭素数2〜10のアルキレン基を表し、R3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数1〜20のアルキル基を表す。nは1〜15の整数を表す。
|d41−d42|≦5.0MPa0.5 ・・・(4−1)
|d41−d42|≦3.5MPa0.5 ・・・(4−2)
|d41−d42|≦2.0MPa0.5 ・・・(4−3)
式(4−1)〜(4−3)中、d41は樹脂Pのハンセン溶解度パラメータのd値であり、d42は分散剤としての樹脂のハンセン溶解度パラメータのd値である。
本発明の硬化性組成物は、ラジカル重合開始剤を含有することができる。ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のラジカル重合開始剤の中から適宜選択することができる。ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤などが挙げられ、光ラジカル重合開始剤が好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。
オキシム化合物の波長365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、1,000〜300,000であることが好ましく、2,000〜300,000であることがより好ましく、5,000〜200,000であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計(Varian社製Cary−5 spectrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
本発明の硬化性組成物は、エポキシ基を有する化合物(以下、エポキシ化合物ともいう)を含有することができる。エポキシ化合物は、エポキシ基を1分子に1〜100個有する化合物であることが好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、10個以下とすることもでき、5個以下とすることもできる。下限は、2個以上が好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、エポキシ化合物を実質的に含有しないことも好ましい。エポキシ化合物を実質的に含有しない場合は、エポキシ化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し、0.1質量%以下が好ましく、0.05質量%以下がより好ましく、含有しないことが更に好ましい。
本発明の硬化性組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長400nm以上650nm未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
カラーインデックス(C.I.)Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214等(以上、黄色顔料)、
C.I.Pigment Orange 2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上、オレンジ色顔料)、
C.I.Pigment Red 1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279等(以上、赤色顔料)、
C.I.Pigment Green 7,10,36,37,58,59等(以上、緑色顔料)、
C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42等(以上、紫色顔料)、
C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80等(以上、青色顔料)、
これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
また、本発明の硬化性組成物は、有彩色着色剤を実質的に含有しないことも好ましい。本発明の硬化性組成物が有彩色着色剤を実質的に含有しない場合とは、有彩色着色剤の含有量が硬化性組成物の全固形分に対して0.1質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以下であることがより好ましく、含有しないことが更に好ましい。
本発明の硬化性組成物は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、色素骨格に、酸基および塩基性基から選ばれる少なくとも1つの基が結合した化合物が挙げられる。顔料誘導体としては、式(B1)で表される化合物が好ましい。
式(B1)中、Pは色素骨格を表し、Lは単結合または連結基を表し、Xは酸基または塩基性基を表し、mは1以上の整数を表し、nは1以上の整数を表し、mが2以上の場合は複数のLおよびXは互いに異なっていてもよく、nが2以上の場合は複数のXは互いに異なっていてもよい。
Xが表す塩基性基としてはアミノ基が挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第2015/166779号公報の段落番号0223を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ジクロロメタン、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。本発明において有機溶剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド、3−ブトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミドも溶解性向上の観点から好ましい。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある(例えば、有機溶剤全量に対して、50質量ppm(parts per million)以下とすることもでき、10質量ppm以下とすることもでき、1質量ppm以下とすることもできる)。
本発明の硬化性組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、tert−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩(アンモニウム塩、第一セリウム塩等)が挙げられる。中でも、p−メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、0.001〜5質量%が好ましい。
本発明の硬化性組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、(メタ)アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開2009−288703号公報の段落番号0018〜0036に記載の化合物、特開2009−242604号公報の段落番号0056〜0066に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の硬化性組成物は、界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤は、国際公開第2015/166779号公報の段落番号0238〜0245を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは3,000〜50,000であり、例えば、14,000である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す%はモル%である。
本発明の硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開2012−208374号公報の段落番号0052〜0072、特開2013−68814号公報の段落番号0317〜0334の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、UV−503(大東化学(株)製)などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のMYUAシリーズ(化学工業日報、2016年2月1日)を用いてもよい。紫外線吸収剤としては、式(UV−1)〜式(UV−3)で表される化合物が好ましく、式(UV−1)または式(UV−3)で表される化合物がより好ましく、式(UV−1)で表される化合物が更に好ましい。
式(UV−2)において、R201及びR202は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R203及びR204は、各々独立に、置換基を表す。
式(UV−3)において、R301〜R303は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R304及びR305は、各々独立に、置換基を表す。
本発明の硬化性組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性水酸基に隣接する部位(オルト位)に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数1〜22の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス[2−[[2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン−6−イル]オキシ]エチル]アミン、トリス[2−[(4,6,9,11−テトラ−tert−ブチルジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン−2−イル)オキシ]エチル]アミン、亜リン酸エチルビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ AO−20、アデカスタブ AO−30、アデカスタブ AO−40、アデカスタブ AO−50、アデカスタブ AO−50F、アデカスタブ AO−60、アデカスタブ AO−60G、アデカスタブ AO−80、アデカスタブ AO−330(以上、(株)ADEKA)などが挙げられる。また、酸化防止剤として、国際公開第17/006600号公報に記載された多官能ヒンダードアミン酸化防止剤を用いることもできる。
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤、潜在酸化防止剤及びその他の助剤類(例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など)を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開2012−003225号公報の段落番号0183以降(対応する米国特許出願公開第2013/0034812号明細書の段落番号0237)の記載、特開2008−250074号公報の段落番号0101〜0104、0107〜0109等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、潜在酸化防止剤とは、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、100〜250℃で加熱するか、又は酸/塩基触媒存在下で80〜200℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物などが挙げられる。潜在酸化防止剤としては国際公開第2014/021023号公報、国際公開第2017/030005号公報、特開2017−008219号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズGPA−5001((株)ADEKA製)等が挙げられる。
本発明の硬化性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。硬化性組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して硬化性組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した2つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時(塗布時)にこれらを混合して硬化性組成物として調製してもよい。
フィルタの孔径は、0.01〜7.0μm程度が適しており、好ましくは0.01〜3.0μm程度であり、更に好ましくは0.05〜0.5μm程度である。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のSBPタイプシリーズ(SBP008など)、TPRタイプシリーズ(TPR002、TPR005など)、SHPXタイプシリーズ(SHPX003など)のフィルタカートリッジが挙げられる。
また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社(DFA4201NIEYなど)、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第2のフィルタは、第1のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用することができる。
また、第1のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタでろ過を行ってもよい。
次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の硬化性組成物から得られるものである。本発明の膜は、近赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタとして用いることもできる。本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜(平坦膜)であってもよい。また、本発明の膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜を支持体から剥離して用いてもよい。
本発明の膜は、本発明の硬化性組成物を塗布する工程を経て製造できる。
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の硬化性組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程(露光工程)と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程(現像工程)と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程(ポストベーク工程)を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線(光)としては、g線、i線等の紫外線が好ましく、i線がより好ましい。照射量(露光量)は、例えば、0.03〜2.5J/cm2が好ましく、0.05〜1.0J/cm2がより好ましく、0.08〜0.5J/cm2が最も好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が19体積%以下の低酸素雰囲気下(例えば、15体積%、5体積%、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が21体積%を超える高酸素雰囲気下(例えば、22体積%、30体積%、50体積%)で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常1000W/m2〜100000W/m2(例えば、5000W/m2、15000W/m2、35000W/m2)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度10体積%で照度10000W/m2、酸素濃度35体積%で照度20000W/m2などとすることができる。
次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、20〜30℃が好ましい。現像時間は、20〜180秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
ドライエッチング法でのパターン形成は、硬化性組成物を支持体上などに塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理(ポストベーク処理)を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開2013−064993号公報の段落番号0010〜0067の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
次に、本発明の近赤外線カットフィルタについて説明する。本発明の近赤外線カットフィルタは、上述した本発明の膜を有する。本発明の近赤外線カットフィルタは、波長400〜600nmの光の平均透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、85%以上であることがさらに好ましく、90%以上であることが特に好ましい。また、波長400〜600nmの全ての範囲での透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。また、近赤外線カットフィルタの近赤外線遮蔽性の好ましい範囲は用途によって異なるが、波長700〜1300nm(好ましくは、波長700〜1000nm)の範囲の少なくとも1点での透過率が20%以下であることが好ましく、15%以下がより好ましく、10%以下がさらに好ましい。
本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を含む。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
本発明の画像表示装置は、本発明の膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木昭夫著、(株)工業調査会、1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田龍男編集、(株)工業調査会、1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機EL素子を有するものであってもよい。白色有機EL素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機EL素子のタンデム構造については、特開2003−45676号公報、三上明義監修、「有機EL技術開発の最前線−高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集−」、技術情報協会、326〜328ページ、2008年などに記載されている。有機EL素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域(430〜485nm)、緑色領域(530〜580nm)及び黄色領域(580〜620nm)に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域(650〜700nm)に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
<硬化性組成物の調製>
下記の表に記載の原料を混合して、硬化性組成物を調製した。なお、原料として分散液を用いた硬化性組成物においては、以下のように調製した分散液を用いた。
下記表の分散液の欄に記載の種類の近赤外線吸収色素、顔料誘導体、分散剤および溶剤を、それぞれ下記の表の分散液の欄に記載の質量部で混合し、更に直径0.3mmのジルコニアビーズ230質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて5時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。
また、樹脂の欄に記載したHSP−d、HSP−p、HSP−hの数値は、それぞれ、ハンセン溶解度パラメータのd値、p値およびh値を表し、単位はMPa0.5である。
また、重合性モノマーの欄に記載したHSP−d、HSP−p、HSP−hの数値は、それぞれ、ハンセン溶解度パラメータのd値、p値およびh値を表し、単位はMPa0.5である。重合性モノマーを2種以上含む場合は、それぞれの値の質量平均値である。
(近赤外線吸収色素)
A1〜A7:下記構造の化合物。以下の式中、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基を表し、EHはエチルヘキシル基を表す。
A8:特開2008−88426号公報の段落番号0051に記載の化合物31
A9:特開2008−88426号公報の段落番号0049に記載の化合物16
A10:特開2016−146619号公報の段落番号0173に記載の化合物a−1
A11:特開2016−146619号公報の段落番号0173に記載の化合物a−2
A12:特開2016−146619号公報の段落番号0173に記載の化合物a−3
A13:NK−5060((株)林原製、シアニン化合物)
A14〜A16:下記構造の化合物。
B1〜B4:下記構造の化合物。以下の構造式中、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基を表す。
C1:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Mw=20,000、酸価=105mgKOH/g)
C2:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Mw=20,000、酸価=30mgKOH/g)
D1:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比である。Mw=40,000、酸価=100mgKOH/g、エポキシ価0meq/g)
D2:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比である。Mw=10,000、酸価=70mgKOH/g、エポキシ価0meq/g)
D3:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比である。Mw=20,000、酸価=258mgKOH/g、エポキシ価1.67meq/g)
D4:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比である。Mw=20,000、酸価=246mgKOH/g、エポキシ価4.38meq/g)
D5:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比である。Mw=20,000、エポキシ価0meq/g)
D6:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比である。Mw=20,000、エポキシ価0meq/g)
D7:EHPE3150((株)ダイセル製、エポキシ価5.3meq/g)
D8:下記構造の樹脂。(主鎖に付記した数値はモル比である。酸価=11.2mgKOH/g、Mw=5,000、エポキシ価0meq/g)
M1〜M5:下記構造の化合物
F1:IRGACURE OXE01 (BASF製)
F2:IRGACURE 369 (BASF製)
F3:下記構造の化合物
UV1〜UV3:下記構造の化合物
W1:下記混合物(Mw=14000、フッ素系界面活性剤)。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す%はモル%である。
H1:p−メトキシフェノール
S1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)
S2:3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド
S3:3−ブトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド
[凝集物]
各硬化性組成物をプリベーク後の膜厚が0.8μmとなるようにスピンコーター(ミカサ(株)製)を用いてガラス基板上に塗布して塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃、120秒間の加熱(プリベーク)を行った後、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を用いて1000mJ/cm2の露光量で全面露光を行った後、再度ホットプレートを用いて200℃、300秒間の加熱(ポストベーク)を行い、膜を得た。得られた膜について、波長400〜600nmの光の吸光度の平均値を、光路中に積分球を用いずに測定したA1と、サンプルのディテクタ側に積分球を設置して測定したA2との比である散乱比率A1/A2を算出し、この散乱比率A1/A2を用いて凝集物の発生度を評価した。
5:A1/A2が1.05以下
4:A1/A2が1.05より大きく、1.1以下
3:A1/A2が1.1より大きく、1.2以下
2:A1/A2が1.2より大きく、1.5以下
1:A1/A2が1.5より大きい
各硬化性組成物をプリベーク後の膜厚が0.8μmとなるようにスピンコーター(ミカサ(株)製)を用いてガラス基板上に塗布して塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃、120秒間の加熱(プリベーク)を行った後、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を用いて1000mJ/cm2の露光量で全面露光を行った後、再度ホットプレートを用いて200℃、300秒間の加熱(ポストベーク)を行い、膜を得た。得られた膜について、85℃、95%の耐湿試験機に入れた後、2000時間耐湿信頼性試験を実施した。試験後の膜について、目視と、倍率100倍の反射型明視野光学顕微鏡で確認し、クラック評価を実施した。
5:光学顕微鏡及び目視でクラックが見られない
4:目視ではクラックが見られないが、光学顕微鏡で10μm以下のクラックが見られる。
3:目視ではクラックが見られないが、光学顕微鏡で10μmを超え100μm以下のクラックが見られる。
2:目視でクラックが見られる
1:クラックにより膜の剥離が見られる
各硬化性組成物をプリベーク後の膜厚が0.8μmとなるようにスピンコーター(ミカサ(株)製)を用いてガラス基板上に塗布して塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃、120秒間の加熱(プリベーク)を行った後、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を用いて1000mJ/cm2の露光量で全面露光を行った後、再度ホットプレートを用いて200℃、300秒間の加熱(ポストベーク)を行い、膜を得た。得られた膜について、波長400〜1300nmの光の吸光度を測定し、波長400〜600nmの範囲における吸光度の最大値A1と、波長700〜1300nmの範囲における極大吸収波長での吸光度A2との比であるA1/A2を算出し、以下の基準で分光性能を評価した。
A:A1/A2が0.3以下
B:A1/A2が0.3より大きい
各実施例の硬化性組成物を、製膜後の膜厚が1.0μmになるように、シリコンウェハ上にスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を用い、1000mJ/cm2の露光量にて、2μm四方のBayerパターンを有するマスクを介して露光した。
次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱することで2μm四方のBayerパターン(近赤外線カットフィルタ)を形成した。
次に、近赤外線カットフィルタのBayerパターン上に、Red組成物を製膜後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用い、100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を用い、1000mJ/cm2の露光量にて、2μm四方のBayerパターンを有するマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用い、200℃で5分間加熱することで、近赤外線カットフィルタのBayerパターン上にRed組成物をパターニングした。同様にGreen組成物、Blue組成物を順次パターニングし、赤、緑および青の着色パターンを形成した。
次に、上記パターン形成した膜上に、赤外線透過フィルタ形成用組成物を、製膜後の膜厚が2.0μmになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon(株)製)を用い、1000mJ/cm2の露光量にて、2μm四方のBayerパターンを有するマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱することで、近赤外線カットフィルタのBayerパターンの抜け部分に、赤外線透過フィルタのパターニングを行った。これを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。
得られた固体撮像素子について、低照度の環境下(0.001Lux)で赤外発光ダイオード(赤外LED)光源から光を照射し、画像の取り込みを行い、画像性能を評価した。画像上で被写体をはっきりと認識できた。また、入射角依存性が良好であった。
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Red組成物を調製した。
Red顔料分散液 ・・51.7質量部
樹脂4 ・・・0.6質量部
重合性モノマー4 ・・・0.6質量部
ラジカル重合開始剤1 ・・・0.4質量部
界面活性剤1 ・・・4.2質量部
紫外線吸収剤(UV−503、大東化学(株)製) ・・・0.3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA) ・・・42.6質量部
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Green組成物を調製した。
Green顔料分散液 ・・・73.7質量部
樹脂4 ・・・0.3質量部
重合性モノマー1 ・・・1.2質量部
ラジカル重合開始剤1 ・・・0.6質量部
界面活性剤1 ・・・4.2質量部
紫外線吸収剤(UV−503、大東化学(株)製) ・・・0.5質量部
PGMEA ・・・19.5質量部
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Blue組成物を調製した。
Blue顔料分散液 44.9質量部
樹脂4 ・・・2.1質量部
重合性モノマー1 ・・・1.5質量部
重合性モノマー4 ・・・0.7質量部
ラジカル重合開始剤1 ・・・0.8質量部
界面活性剤1 ・・・4.2質量部
紫外線吸収剤(UV−503、大東化学(株)製) ・・・0.3質量部
PGMEA ・・・45.8質量部
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、赤外線透過フィルタ形成用組成物を調製した。
顔料分散液1−1 ・・・46.5質量部
顔料分散液1−2 ・・・37.1質量部
重合性モノマー5 ・・・1.8質量部
樹脂4 ・・・1.1質量部
ラジカル重合開始剤2 ・・・0.9質量部
界面活性剤1 ・・・4.2質量部
重合禁止剤(p−メトキシフェノール) ・・・0.001質量部
シランカップリング剤 ・・・0.6質量部
PGMEA ・・・7.8質量部
C.I.Pigment Red 254を9.6質量部、C.I.Pigment Yellow 139を4.3質量部、分散剤(Disperbyk−161、BYKChemie社製)を6.8質量部、PGMEAを79.3質量部とからなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2000kg/cm3の圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、Red顔料分散液を得た。
C.I.Pigment Green 36を6.4質量部、C.I.Pigment
Yellow 150を5.3質量部、分散剤(Disperbyk−161、BYKChemie社製)を5.2質量部、PGMEAを83.1質量部からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2000kg/cm3の圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、Green顔料分散液を得た。
C.I.Pigment Blue 15:6を9.7質量部、C.I.Pigment Violet 23を2.4質量部、分散剤(Disperbyk−161、BYKChemie社製)を5.5質量部、PGMEAを82.4質量部からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2000kg/cm3の圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、Blue顔料分散液を得た。
下記組成の混合液を、0.3mm径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル(減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製))で、3時間、混合、分散して、顔料分散液1−1を調製した。
・赤色顔料(C.I.Pigment Red 254)及び黄色顔料(C.I.Pigment Yellow 139)からなる混合顔料 ・・・11.8質量部
・樹脂(Disperbyk−111、BYKChemie社製) ・・・9.1質量部
・PGMEA ・・・79.1質量部
下記組成の混合液を、0.3mm径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル(減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製))で、3時間、混合、分散して、顔料分散液1−2を調製した。
・青色顔料(C.I.Pigment Blue 15:6)及び紫色顔料(C.I.Pigment Violet 23)からなる混合顔料 ・・・12.6質量部
・樹脂(Disperbyk−111、BYKChemie社製) ・・・2.0質量部
・樹脂A ・・・3.3質量部
・シクロヘキサノン ・・・31.2質量部
・PGMEA ・・・50.9質量部
樹脂A:下記構造の樹脂(Mw=14,000、構造単位における比はモル比である)
・重合性モノマー4:下記構造の化合物
・重合性モノマー5:下記構造の化合物(左側化合物と右側化合物とのモル比が7:3の混合物)
・ラジカル重合開始剤2:下記構造の化合物
Claims (15)
- 近赤外線吸収色素と、
エチレン性不飽和結合を有する重合性モノマーと、
樹脂と、
を含み、
前記樹脂は、エポキシ価が5meq/g以下で、かつ、下記式(1)の条件を満たす樹脂Pを含む硬化性組成物であり、
前記硬化性組成物は、波長700〜1300nmの範囲に極大吸収波長を有し、波長400〜600nmの範囲における吸光度の最大値A1と、極大吸収波長における吸光度A2との比であるA1/A2が0.3以下であり、
前記近赤外線吸収色素の含有量が、前記硬化性組成物の全固形分に対して5質量%以上である、硬化性組成物;
|d1−d2|≦5.0MPa0.5 ・・・(1)
式(1)中、d1は、前記硬化性組成物に含まれる前記重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値であり、前記硬化性組成物が前記重合性モノマーを2種以上含む場合は、2種以上の重合性モノマーのハンセン溶解度パラメータのd値の質量平均値である;d2は樹脂Pのハンセン溶解度パラメータのd値である。 - 前記樹脂Pは、(メタ)アクリル樹脂、ポリエステル樹脂およびフェノール樹脂から選ばれる少なくとも1つである、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記硬化性組成物に含まれる樹脂の10質量%以上が前記樹脂Pである、請求項1または2に記載の硬化性組成物。
- 前記樹脂Pの100質量部に対して、前記重合性モノマーを10〜500質量部含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素は、酸基および塩基性基から選ばれる少なくとも1つの基を有する化合物を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素は、酸基を有する化合物を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物およびシアニン化合物から選ばれる少なくとも1つである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素の含有量が、前記硬化性組成物の全固形分に対して40質量%以下である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記近赤外線吸収色素の含有量が、前記硬化性組成物の全固形分に対して25質量%以下である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 前記重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合を3個以上有する化合物を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の硬化性組成物から得られる膜。
- 請求項11に記載の膜を有する近赤外線カットフィルタ。
- 請求項11に記載の膜を有する固体撮像素子。
- 請求項11に記載の膜を有する画像表示装置。
- 請求項11に記載の膜を有する赤外線センサ。
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---|---|---|---|---|
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JP2022013316A (ja) * | 2020-07-03 | 2022-01-18 | 凸版印刷株式会社 | 赤外光カットフィルター、固体撮像素子用フィルター、固体撮像素子、および、固体撮像素子用フィルターの製造方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009017160A1 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Sony Chemical & Information Device Corporation | 接着剤組成物 |
JP2010106129A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 近赤外線吸収部材用組成物およびそれを用いた近赤外線吸収部材 |
JP2010164964A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-29 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置 |
JP2012115407A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Sri Sports Ltd | ゴルフボール用有機硫黄化合物の選定方法、ゴルフボールの製造方法、及び、ゴルフボール |
JP2014197170A (ja) * | 2013-02-14 | 2014-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
WO2016031810A1 (ja) * | 2014-08-26 | 2016-03-03 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、硬化膜、近赤外線吸収フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、化合物 |
JP2016053677A (ja) * | 2014-09-04 | 2016-04-14 | コニカミノルタ株式会社 | 静電荷像現像用トナーおよびその製造方法 |
WO2016135695A1 (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | Marco De Angelis | Gymnastic equipment |
WO2017043175A1 (ja) * | 2015-09-09 | 2017-03-16 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性硬化性組成物、硬化膜、固体撮像素子、赤外線吸収剤および化合物 |
WO2017130825A1 (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカラーフィルタ |
WO2017135300A1 (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 膜、膜の製造方法、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4055824B1 (ja) | 2006-09-08 | 2008-03-05 | 東洋インキ製造株式会社 | 近赤外線吸収材料、これを含む近赤外線吸収組成物およびその用途 |
CN102540709B (zh) * | 2010-12-30 | 2014-05-07 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 红外线敏感的免化学处理感光组成物和用其制作的平印版 |
JP5575825B2 (ja) * | 2011-03-17 | 2014-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、並びに、染料の製造方法 |
US8632941B2 (en) * | 2011-09-22 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes |
JP5829641B2 (ja) * | 2012-05-08 | 2015-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
JP2014026178A (ja) * | 2012-07-27 | 2014-02-06 | Fujifilm Corp | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
CN104854486A (zh) * | 2012-11-30 | 2015-08-19 | 富士胶片株式会社 | 硬化性树脂组合物、使用其的图像传感器芯片的制造方法及图像传感器芯片 |
JP2014191190A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Fujifilm Corp | 赤外線吸収性組成物、赤外線カットフィルタ、カメラモジュール及びカメラモジュールの製造方法 |
JP2015017244A (ja) | 2013-06-12 | 2015-01-29 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法 |
JP6166997B2 (ja) * | 2013-09-27 | 2017-07-19 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、赤外線透過フィルタおよびその製造方法、赤外線センサならびにカラーフィルタ。 |
WO2015115536A1 (ja) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用赤色着色組成物、着色膜、カラーフィルタ、固体撮像素子 |
JP6170515B2 (ja) * | 2014-01-31 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用緑色着色組成物、着色膜、カラーフィルタ、固体撮像素子 |
JP2015200878A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線センサ、近赤外線吸収組成物、硬化膜、近赤外線吸収フィルタ、イメージセンサ、カメラモジュールおよび化合物 |
CN106461830B (zh) * | 2014-05-01 | 2019-08-27 | 富士胶片株式会社 | 红外线传感器、近红外线吸收组合物、感光性树脂组合物、化合物及其应用 |
TWI663218B (zh) * | 2014-09-04 | 2019-06-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 組成物、組成物的製造方法、硬化性組成物、硬化膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線感測器、照相機模組及化合物 |
WO2016136783A1 (ja) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、および化合物 |
JP6539333B2 (ja) | 2015-02-27 | 2019-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収組成物、硬化膜、近赤外線吸収フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
TWI723994B (zh) | 2015-05-22 | 2021-04-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器 |
CN111560094A (zh) * | 2015-05-29 | 2020-08-21 | 富士胶片株式会社 | 近红外线吸收性色素多聚物、组合物、膜、滤光片、图案形成方法及装置 |
WO2017056909A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 積層体、光学センサー、および、キット |
TWI629564B (zh) * | 2016-06-17 | 2018-07-11 | 長興材料工業股份有限公司 | 可聚合組合物及其應用 |
WO2018142799A1 (ja) * | 2017-02-01 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
KR102217493B1 (ko) * | 2017-02-27 | 2021-02-19 | 후지필름 가부시키가이샤 | 수지 조성물, 막, 적외선 차단 필터 및 그 제조 방법, 고체 촬상 소자, 적외선 센서와, 카메라 모듈 |
-
2018
- 2018-07-20 CN CN201880054630.3A patent/CN111032701A/zh active Pending
- 2018-07-20 JP JP2019537999A patent/JP7041159B2/ja active Active
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-
2020
- 2020-02-12 US US16/788,821 patent/US20200183272A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009017160A1 (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Sony Chemical & Information Device Corporation | 接着剤組成物 |
JP2010106129A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 近赤外線吸収部材用組成物およびそれを用いた近赤外線吸収部材 |
JP2010164964A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-29 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、カラーフィルタ、および液晶表示装置 |
JP2012115407A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Sri Sports Ltd | ゴルフボール用有機硫黄化合物の選定方法、ゴルフボールの製造方法、及び、ゴルフボール |
JP2014197170A (ja) * | 2013-02-14 | 2014-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
WO2016031810A1 (ja) * | 2014-08-26 | 2016-03-03 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、硬化膜、近赤外線吸収フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、化合物 |
JP2016053677A (ja) * | 2014-09-04 | 2016-04-14 | コニカミノルタ株式会社 | 静電荷像現像用トナーおよびその製造方法 |
WO2016135695A1 (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | Marco De Angelis | Gymnastic equipment |
WO2017043175A1 (ja) * | 2015-09-09 | 2017-03-16 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性硬化性組成物、硬化膜、固体撮像素子、赤外線吸収剤および化合物 |
WO2017130825A1 (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカラーフィルタ |
WO2017135300A1 (ja) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | 富士フイルム株式会社 | 膜、膜の製造方法、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201912725A (zh) | 2019-04-01 |
KR102197490B1 (ko) | 2020-12-31 |
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