JPWO2017221889A1 - 新規ジフェニルメタン保護剤 - Google Patents
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Abstract
一般式(1)
(式中、Yは−OR19(ここでR19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す)、−NHR20(ここで、R20は水素原子、炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す等を示し、R1〜R10のうちの少なく
とも1個は式(2)
で表される基を示し、残余は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を示し;
R11は炭素数1〜16の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し;
XはO又はCONR21(ここでR21は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す)を示し;
Aは式(3)等
で表される基を示す)
で表されるジフェニルメタン化合物。
Description
R11は炭素数1〜16の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し;
XはO又はCONR21(ここでR21は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す)を示し;
Aは式(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)又は(13)
で表されるジフェニルメタン化合物。
〔2〕Yが−OR19(ここでR19は水素原子を示す)、−NHR20(ここでR20は水素原子、炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す)、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム又はメチレン基と一体となったカルボニル基である〔1〕記載のジフェニルメタン化合物。
〔3〕Yが−OR19(ここでR19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す)、−NHR20(ここでR20は水素原子、炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す)、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである〔1〕記載のジフェニルメタン化合物。
〔4〕Yが−OR19(ここでR19は水素原子を示す)、−NHR20(ここでR20は水素原子、炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す)、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである〔1〕記載のジフェニルメタン化合物。
〔5〕R1〜R5のうち少なくとも1個及びR6〜R10のうち少なくとも1個が式(2)で表される基であり、残余が水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基である〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物。
〔6〕R11が炭素数2〜16の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物。
〔7〕R11が炭素数6〜16の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物。
〔8〕R15が単結合又はメチレン基であり、R16、R17及びR18がメチレン基である〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物。
〔9〕〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載のジフェニルメタン化合物からなるカルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基の保護剤。
医薬、農薬等様々な化学物質の製造工程において、原料や中間体の不溶化、固化が支障となっている場合、原料や中間体化合物に本発明のジフェニルメタン化合物(1)を結合させることで、これらの液状性、溶解性を向上させ、これらの問題点を解決することができる。
活性エステル型保護基としては、活性エステル型カルボニル基、活性エステル型スルホニル基が挙げられる。活性エステル型カルボニル基としては、カルボニルオキシコハク酸イミド、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基等が挙げられ、より好ましくはカルボニルオキシコハク酸イミド等が挙げられる。
活性エステル型スルホニル基としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられ、より好ましくはC1−C6アルキルスルホニル基、p−トルエンスルホニル基等が挙げられる。
ここでR21は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、水素原子が好ましい。
置換基を有していてもよいアリール基としては、炭素数6〜10のアリール基が挙げられ、具体的には炭素数1〜3のアルキル基が置換してもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。このうち、フェニル基がさらに好ましい。
また、一般式(1)において、R11が炭素数6〜16の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり;XはO又はCONHであり;Aは、式(3)又は(13)で示される基であり;R12、R13及びR14は、同一又は異なって、炭素数1〜4のアルキル基であり;R15は単結合であり;R16、R17及びR18はメチレン基である化合物がより好ましい。
(d)TIPS6型−PP保護剤
塩基としては、TEA、DIPEA、DBU、ジアザビシクロノネン(DBN)、DABCO、イミダゾール、N−メチルイミダゾール、N、N−ジメチルアニリン、ピリジン、2,6−ルチジン、DMAP、LDA、NaOAc、MeONa、MeOK、リチウムヘキサメチルジシラジド(LHMDS)、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド(NaHMDS)等の有機塩基、Na2CO3、NaHCO3、NaH、NaNH2、K2CO3、Cs2CO3等の無機塩基が挙げられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、N−メチルピロリドン等のラクタム類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応は、例えば0℃〜100℃で1時間〜24時間行えばよい。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、CPME、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、DMF、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、N−メチルピロリドン等のラクタム類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応は、例えば40℃〜150℃で1時間〜24時間行えばよい。
還元剤としては、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムが挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、CPME、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば0℃〜90℃で1時間〜24時間行うのが好ましい。
塩基としてはDBU、DBN、TEA、DIPEA、DABCO等の有機塩基が挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、CPME、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば0℃〜100℃で0.5時間〜144時間行えばよい。
シュタウディンガー反応の溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、CPME、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば20℃〜100℃で1時間〜24時間行えばよい。
−CONH2基や−OCONH2基を有する化合物としては、Fmoc−NH2、エチルカルバメート、イソプロピルカルバメート、AcNH2、HCONH2、Cbz−NH2、CF3CONH2、Fmoc−アミノ酸−NH2等が挙げられる。酸触媒としてはトリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、酢酸、塩酸、硫酸等の酸が挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、CPME、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば20℃〜150℃で0.5時間〜48時間行えばよい。
ハロゲン化剤としては、塩化チオニル、塩化アセチル、臭化アセチル、トリフェニルホスフィン/四塩化炭素、トリフェニルホスフィン/四塩化炭素等が挙げられる。
塩基としては、ピリジン、TEA、DBU、DBN、DIPEA、DABCO等の有機塩基が挙げられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、CPME、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、ジメチルホルムアミド(DMF)またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば0℃〜100℃で0.5時間〜24時間行えばよい。
メルカプト基を有するアミノ酸としては、Cysteine、homocysteine、mercaptonorvaline、mercaptonorleucine等が挙げられる。メルカプト基を有するアミノ酸誘導体としては、これらのアミノ酸のN末端がN−メチル化された化合物、及びこれらのアミノ酸のN末端がベンジルオキシカルボニル(Cbz又はZ)基、フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)基、アセチル(Ac)基、ベンジル基、アリル基、アリルオキシカルボニル(Aloc)基、2−ニトロベンゼンスルホニル(Ns)基、2、4−ジニトロベンゼンスルホニル(DNs)基、4−ニトロベンゼンスルホニル(Nos)基等で保護された化合物、及びアミノ酸C末端がアミド基、メチルエステル基、エチルエステル基、tert−ブチルエステル基、ベンジルエステル基、アリルエステル基等で保護された化合物、及びこれらの保護基でN末端とC末端の両方が保護された化合物、及びこれらに対応するD−アミノ酸化合物等が挙げられる。
酸触媒としてはトリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、酢酸、塩酸、硫酸等の酸が挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、CPME、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば20℃〜150℃で0.5時間〜24時間行えばよい。
塩基としては、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン等の3級アミン等が挙げられる。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、CPME、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば0℃〜100℃で0.5時間〜24時間行えばよい。
塩基としては、TEA、ピリジン、DIPEA、N、N−ジメチルアニリン、DBU、DBN、DABCO等の有機塩基、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基が挙げられる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、またはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応は、例えば20℃〜120℃で1時間〜96時間行えばよい。
(1)本発明のジフェニルメタン化合物(1)を、可溶性溶媒中、N−保護アミノ酸又はN−保護ペプチドのC末端カルボキシル基と縮合させて、本発明のジフェニルメタン化合物(1)でC末端が保護されたN−保護C保護アミノ酸又はN−保護C−保護ペプチドを得る。若しくは、本発明のジフェニルメタン化合物(1)を、可溶性溶媒中、N−保護アミノ酸又はN−保護ペプチドのC末端アミド基と反応させて、本発明のジフェニルメタン化合物(1)でC末端が保護されたN−保護C保護アミノ酸又はN−保護C−保護ペプチドを得る。
(2)得られたN−保護C保護アミノ酸又はN−保護C−保護ペプチドのN末端の保護基を除去して、C−保護アミノ酸又はC−保護ペプチドを得る。
(3)得られたC−保護アミノ酸又はC−保護ペプチドのN末端に、N保護アミノ酸又はN−保護ペプチドを縮合させて、N−保護C−保護ペプチドを得る。
(4)得られたN−保護C−保護ペプチドのN末端の保護基及びC末端の保護基を除去して、目的のペプチドを得る。
TIPS2−Dpm−NH2の合成
13C−NMR(100MHz,CDCl3)δ12.2(6C),18.2(12C),26.0(2C),26.2(2C),29.2−29.8(12C),33.2(2C),63.7(2C),68.4(2C),114.0(4C),130.7(2C),132.4(4C),162.6(2C),194.6
ESIMS MNa+ 889.8
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.8(6C),18.7(12C),26.7(2C),26.8(2C),30.2−30.5(12C),33.9(2C),64.1(2C),68.3(2C),75.9,114.9(4C),128.6(4C),137.8(2C),159.4(2C)
13C−NMR(100MHz,CDCl3)δ12.2(6C),18.2(12C),26.0(2C),26.2(2C),29.2−29.8(12C),33.2(2C),63.7(2C),67.9,68.2(2C),114.7(4C),128.7(4C),131.9(2C),159.0(2C)
13C−NMR(100MHz,CDCl3)δ12.2(6C),18.2(12C),26.0(2C),26.2(2C),29.5−29.8(12C),33.2(2C),58.6,63.7(2C),68.1(2C),114.5(4C),128.0(4C),137.9(2C),158.2(2C)
TIPS2−Dpm−Clの合成
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.8(6C),18.7(12C),26.7(2C),26.8(2C),29.8−30.5(12C),33.9(2C),64.1(2C),65.1,68.4(2C),115.0(4C),129.9(4C),134.4(2C),159.8(2C)
TIPS2−Dpm−OH(C8)の合成
ESIMS MH+ 783.5
ESIMS MNa+ 807.6
TIPS2−Dpm−OH(C14)の合成
ESIMS MH+ 951.8
ESIMS MNa+ 975.7
TIPS2−Dpm−OH(C8OC2)の合成
ESIMS MH+ 871.6
ESIMS MNa+ 895.7
TBDPS2−Dpm−OHの合成
ESIMS MNa+ 1053.5
ESIMS MNa+ 1055.6
TIPS2−Dpm−OH(C10−CONH−C2)の合成
ESIMS MH+ 981.7
TIPS4−Dpm−OH(C10−CONH−CH(CH2)2)の合成
ESIMS MH+ 1353.9
TIPS4−Dpm−NH(CH2)2CH3(C10−CONH−CH(CH2)2)の合成
TIPS2−Dpm−NOH(C14)の合成
TIPS2−Dpm(OMe)2−NH2の合成
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.8(6C),18.7(12C),26.7(2C),26.8(2C),29.9−30.6(12C),33.9(2C),55.3(2C),64.1(2C),68.6(2C),99.8(2C),104.7(2C),126.6(2C),132.8(2C),160.4(2C),163.9(2C),192.7
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.8(6C),18.7(12C),26.7(2C),26.8(2C),29.8−30.6(12C),33.9(2C),55.2(2C),58.0,64.1(2C),68.4(2C),100.1(2C),104.3(2C),121.8(2C),129.8(2C),158.2(2C),161.4(2C)
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.8(6C),18.7(12C),26.8(4C),29.8−30.6(12C),33.9(2C),48.9,55.3(2C),64.1(2C),68.2(2C),100.2(2C),104.1(2C),128.3(2C),129.1(2C),158.2(2C),160.5(2C)
TIPS3−Dpm−NH2の合成
13C−NMR(100MHz,CDCl3)δ12.2(9C),18.2(18C),25.9,26.0(3C),26.2(2C),29.1−29.8(18C),33.2(3C),63.7(3C),68.3,68.4,68.5,99.9,105.3,113.8(2C),122.4,131.7,132.0(3C),158.8,162.7,162.8,195.0
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.8(9C),18.7(18C),26.7(3C),26.8(2C),26.9,29.8−30.5(18C),33.9(3C),63.2,64.1(3C),68.3,68.4,68.5,100.7,105.3,115.0(2C),121.8,129.5(2C),129.8,132.8,158.1,159.6,161.2
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.8(9C),18.7(18C),26.7(2C),26.8(2C),26.9(2C),29.6−30.5(18C),33.9(3C),54.0,64.1(3C),68.2,68.3,68.4,100.8,105.1,114.8(2C),128.3,128.9,129.1(2C),138.9,158.0,158.9,160.2
TIPS6−Dpm−NH2の合成
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.7(18C),18.7(36C),26.6(2C),26.7(2C),29.8−30.3(12C),38.2(2C),62.3(6C),62.8(2C),68.5(2C),114.6(4C),131.9(2C),132.9(4C),163.0(2C),172.3(2C),193.8
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.7(18C),18.7(36C),26.6(2C),26.8(2C),29.8−30.3(12C),38.2(2C),62.3(6C),62.8(2C),68.3(2C),68.4,115.2(4C),129.4(4C),132.8(2C),159.8(2C),172.3(2C)
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.7(18C),18.6(36C),26.6(2C),26.8(2C),29.8−30.3(12C),38.3(2C),59.4,62.3(6C),62.8(2C),68.3(2C),115.0(4C),128.7(4C),139.4(2C),159.0(2C),172.3(2C)
TIPS9−Dpm−NH2の合成
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.7(27C),18.7(54C),26.5,26.6(3C),26.7,26.8,29.7−30.4(18C),38.2(3C),62.3(9C),62.8(3C),68.5(2C),68.8,101.0,105.7,114.4(2C),124.0,132.3,132.6(2C),133.2,159.4,163.1,163.3,172.3(3C),194.1
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.7(27C),18.7(54C),26.6(3C),26.7,26.9(2C),29.8−30.4(18C),38.3(3C),62.3(9C),62.8(3C),63.1,68.3,68.4,68.5,100.6,105.4,115.0(2C),121.8,129.4(2C),129.9,132.8,158.2,159.6,161.2,172.3(3C)
13C−NMR(100MHz,Benzene−d6)δ12.7(27C),18.7(54C),26.6(3C),26.8,26.9(2C),29.8−30.4(18C),38.3(3C),53.9,62.3(9C),62.8(3C),68.3(2C),68.4,100.7,105.1,114.7(2C),128.3,128.9,129.1(2C),139.0,158.0,158.9,160.2,172.3(3C)
Fmoc−D−Ala−NH−(TIPS2−Dpm)の合成
13C−NMR(100MHz,CDCl3)δ12.2(6C),18.2(13C),26.0(2C),26.2(2C),29.4−29.8(12C),33.2(2C),47.2,50.7,56.1,63.7(2C),67.3,68.1,68.2,114.7(4C),120.1(2C),125.2(2C),127.3(2C),127.9(2C),128.5(4C),133.4,133.5,141.4(2C),143.8,144.0,156.2,158.6(2C),171.1
Fmoc−Cys(TIPS2−Dpm)−NH2の合成と脱保護
13C−NMR(100MHz,CDCl3)δ12.2(6C),18.2(12C),26.0(2C),26.2(2C),29.4−29.8(12C),33.2(2C),34.4,47.3,51.0,53.5,63.7(2C),67.3,68.1,68.2,114.6(2C),114.7(2C),120.2(2C),125.2(2C),127.3(2C),127.9(2C),129.4(2C),129.5(2C),133.0(2C),141.5(2C),143.8(2C),156.1,158.5(2C),172.6
13C−NMR(100MHz,DMSO-d6)δ26.2,46.7,57.1,65.7,120.1(2C),125.3(2C),127.1(2C),127.6(2C),140.7(2C),143.8,143.9,156.0,171.9
ペプチド化合物に対する溶解度向上性能の確認
本発明におけるジフェニルメタン保護剤で保護した化合物の溶解度を測定した結果を図1に示す。
モデルとして使用したペプチド:H−Gly−Gly−Gly−NH2
H−Gly−Gly−Gly−NH2、H−Gly−Gly−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)を合成し、25℃でCPME(シクロペンチルメチルエーテル)にそれぞれの化合物を飽和させ、その溶解度を測定した。
その結果、TIPS型保護剤の結合していないH−Gly−Gly−Gly−NH2がCPMEに対しわずか0.039mMしか溶解しないのに比べ、TIPS2−Dpm−NH2を結合した場合、426mMと約1万倍以上溶解度が向上した。その結果を図1に示す。この結果から、ジフェニルメタン保護剤で誘導体化することで、ペプチドの溶解度が著しく向上することが確認できた。なお、H−Gly−Gly−Gly−NH2とH−Gly−Gly−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)は下記の構造を示すこととする。
H−Gly−Gly−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)の合成
TIPS2−Dpm−NH2 0.44g(0.50mmol)をCPME3.3mLに溶解し、DMF0.8ml、DIPEA0.43mL(2.47mmol)、Fmoc−Gly−OH 0.27g(0.89mmol)、WSCI・HCl 0.16g(0.84mmol)を加え、室温で45分撹拌した。TIPS2−Dpm−NH2の消失を確認後、2−(2−アミノエトキシ)エタノール79μL(0.79mmol)を加え、室温で15分撹拌した。反応溶液にDMSO 1.6mLに溶解した3−メルカプト−1−プロパンスルホン酸ナトリウム0.32g(1.78mmol)を添加し、DBU0.60mL(4.01mmol)を加え、30分撹拌した。Fmoc−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)の消失を確認後、5℃に冷却した後、4M CPME/HCl 1.59mL(5.93mmol)を滴下し、室温まで昇温し、CPME1.31mL、20%食塩水7.8mL、10%炭酸ナトリウム水溶液6.7mLを加え、分液洗浄した。得られた有機層に20%食塩水9.7mL、DMSO 0.26mL、DMF 0.26mLを加え、分液洗浄した。溶液を減圧下で濃縮し、残渣をヘプタン17.5mLに溶解させ、90%含水アセトニトリル17.5mLで2回分液洗浄した。ヘプタン層を減圧下で濃縮し、残渣を減圧下で乾燥し、H−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)を含む混合物を得た。なお、Fmoc−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)とH−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)は下記の構造を示すこととする。
なお、Fmoc−Gly−Gly−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)は下記の構造を示すこととする。
H−Gly−Gly−Gly−NH2の合成
H−Gly−Gly−Gly−NH−(TIPS2−Dpm) 51.0mg(0.049mmol)にトリフルオロ酢酸0.932mL(12.17mmol)、3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジチオール 25μL(0.151mmol)、トリイソプロピルシラン25μL(0.114mmol)を添加し、室温で2時間撹拌した。H−Gly−Gly−Gly−NH−(TIPS2−Dpm)の消失を確認後、反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣を5℃に冷却したジイソプロピルエーテル3.4mLに滴下し、沈澱物を濾取した。このジイソプロピルエーテルによるスラリー洗浄、濾過をさらに3回行い、沈殿物を濾取した。沈澱物を減圧下で乾燥し、H−Gly−Gly−Gly−NH2 14.8mgを得た。ESIMS MK+ 226.9
Claims (9)
- 一般式(1)
R11は炭素数1〜16の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し;
XはO又はCONR21(ここでR21は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す)を示し;
Aは式(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)又は(13)
で表されるジフェニルメタン化合物。 - Yが−OR19(ここでR19は水素原子を示す)、−NHR20(ここでR20は水素原子、炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す)、アジド、ハロゲン原子、メチレン基と一体となったオキシム、又はメチレン基と一体となったカルボニル基である請求項1記載のジフェニルメタン化合物。
- Yが−OR19(ここでR19は水素原子又は活性エステル型保護基を示す)、−NHR20(ここでR20は水素原子、炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す)、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである請求項1記載のジフェニルメタン化合物。
- Yが−OR19(ここでR19は水素原子を示す)、−NHR20(ここでR20は水素原子、炭素数1〜6の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又はアラルキル基を示す)、アジド、ハロゲン原子、又はメチレン基と一体となったオキシムである請求項1記載のジフェニルメタン化合物。
- R1〜R5のうち少なくとも1個及びR6〜R10のうち少なくとも1個が式(2)で表される基であり、残余が水素原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基である請求項1〜4のいずれか1項記載のジフェニルメタン化合物。
- R11が炭素数2〜16の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である請求項1〜5のいずれか1項記載のジフェニルメタン化合物。
- R11が炭素数6〜16の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基である請求項1〜6のいずれか1項記載のジフェニルメタン化合物。
- R15が単結合又はメチレン基であり、R16、R17及びR18がメチレン基である請求項1〜7のいずれか1項記載のジフェニルメタン化合物。
- 請求項1〜8のいずれか1項記載のジフェニルメタン化合物からなるカルボキシ基、水酸基、ジオール基、アミノ基、アミド基又はメルカプト基の保護剤。
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