JPWO2017126094A1 - 積層造形物およびそれを有する機器ならびに造形方法 - Google Patents

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Abstract

積層造形物を有する金属部品埋込み造形物20であり、複数の樹脂層が積層され、溝部が形成された第1樹脂部21と、第1樹脂部21と同じ材質からなり、積層構造を有していない第2樹脂部23と、第1樹脂部21と異なる材質からなる金属ナット27と、を有している。さらに、第1樹脂部21の上記溝部において、第1樹脂部21と第2樹脂部23とが密着し、金属ナット27は、第2樹脂部23と密着している。

Description

本発明は、積層造形物および積層造形物を有する機器ならびに造形方法に関する。
樹脂の射出成形では、金型の内部に金属製の部品を予め設置しておき、その後、金型内に樹脂を流し込んで樹脂と金属製の部品とを一体成形するインサート成形が知られており、このインサート成形と同様な異種部材の一体構造を樹脂積層方式で実現する例も知られている。
例えば、樹脂粉末にレーザを選択的に照射し、硬化させて積層する方式では、部品製造プロセス中に、硬化させていない一部の粉末材料を除去し、その除去した部分に、別工程で製造した埋設用部材を埋設し、その後さらに粉末材料に光ビームを照射して硬化層を積み重ねることが、特開2000−190086号公報(特許文献1)に開示されている。
また、液状の光硬化性の樹脂にレーザを選択的に照射し、樹脂を積層する光造形積層方式では、型構成部品の挿入箇所まで積層造形し、挿入箇所に型構成部品を挿入し、成形型の最終形状になるまで積層造形することが、特開2000−127252号公報(特許文献2)に開示されている。
特開2000−190086号公報 特開2000−127252号公報
特許文献1に開示されている3次元積層方式は、単一の粉体の体積とレーザ光の照射による硬化を繰返し、一層あたり厚さ0.1mm程度の厚さの層を積層する方式のため、局所的に積層厚みを厚くしたり薄くしたりすることは困難である。
つまり、できあがる積層造形物の積層部分は、積層方向に均一な層状構造にしかできず、積層方向に部分的に任意な層厚や積層の変化による構造を形成することはできないという課題がある。
このため、硬化させていない粉末材料を除去した部分を中空にしたり、粉末材料を除去した部分に別工程で製造した埋設用部材を埋設し、さらに粉末材料を積み重ねることで、埋設部材を固定している。
この場合、埋設部材を埋設後に、埋設部材の上面に粉末材料を積み重ねるプロセスが必要となり、一部を表面に露出させた方が使い勝手が良い埋設部材を積層造形物の最表面に設置することが困難である。
また、除去部分と埋設部材の間に、側面の粗さによる凹凸と埋設部材挿入のためにさらに接着剤等の接合材を塗る必要があり、0.1〜1mm程度の隙間が発生しやすく、除去部分に対する埋設部材の挿入位置がばらつく可能性が大きい。
さらに特許文献1では、硬化させていない粉末材料を除去した部分と埋設部材の間に接着剤やシール剤を注入して固定する場合や、埋設部材の周囲にハンダ層を予め形成しておき、積層造形物全体を加熱することによって、ハンダを溶融させて固定する場合が開示されている。この場合、接着剤やシール剤を注入するプロセスや、ハンダを形成するプロセスが余分に必要となる課題がある。
また、ハンダを溶融する温度まで硬化された積層造形物全体を高温に晒すことになるため、積層造形物全体が劣化することについて考慮されていない。さらに、ハンダと硬化された樹脂の組み合わせによっては、接合できない場合や、ハンダが溶融することによって埋設部材の位置が埋設された際と加熱後で変化する点についても考慮されていない。また、積層造形物の樹脂部分に溶融したハンダが接触すると、樹脂の熱による劣化も考慮されていない。
また、特許文献2に記載された光造形積層方式は、液状の光硬化性の樹脂を用いる積層造形方式であり、粉末積層方式に比べ、使用する材料の強度や耐熱温度が低く、完成品の使用範囲が限定される。また、液状中に部品を埋没させる造形方式のため、液を付着させたくない箇所にも、液の付着が避けられない場合について考慮していない。
本発明の目的は、埋設部材の位置決めを容易にし、接着剤やシール剤の注入、および埋設部材へのハンダ層の形成を不要にすることができる技術を提供することにある。
本発明の上記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
本発明の積層造形物は、複数の樹脂層が積層された第1樹脂部と、上記第1樹脂部と同じ材質からなり、積層構造を有していない第2樹脂部と、を有しており、上記第2樹脂部は、上記第1樹脂部内に配置され、上記第1樹脂部と上前記第2樹脂部と、が密着している。
また、本発明の機器は、複数の樹脂層が積層された第1樹脂部と、上記第1樹脂部と同じ材質からなり、積層構造を有していない第2樹脂部と、上記第1樹脂部と異なる材質からなり、上記第2樹脂部と密着する密着部材と、を有している。さらに、上記第1樹脂部内において、上記第1樹脂部と上記第2樹脂部と、が密着している。
また、本発明の造形方法は、(a)樹脂の粉末を位置制御されたレーザで溶融硬化して複数の薄層を形成し、上記複数の薄層を積層することにより、凹部を有する第1樹脂部を造形し、かつ上記凹部内に、上記第1樹脂部と同じ材質からなる引き抜き体を造形する工程、を有する。さらに、(b)上記(a)工程の後、上記第1樹脂部から上記引き抜き体を引き抜く工程、(c)上記(b)工程の後、上記凹部内に、上記第1樹脂部と同じ材質からなる第2樹脂部を介して、上記第1樹脂部と異なる材質からなる密着部材を配置する工程、を有する。さらに、(d)上記(c)工程の後、上記第2樹脂部を溶融硬化して上記密着部材を上記第2樹脂部によって固定する工程、を有している。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
本発明によれば、3次元積層造形物の品質を向上させることができる。
本発明の実施の形態1に係る積層造形物の外観構造と樹脂内部に造形した第2樹脂部の構造の一例を示す斜視図である。 図1に示す積層造形物の第1樹脂部の造形方法をA−A線に沿って切断して示す断面図である。 図1に示す積層造形物の第2樹脂部の造形方法をA−A線に沿って切断して示す断面図である。 図1に示す積層造形物の第2樹脂部を覆う第1樹脂部の造形方法をA−A線に沿って切断して示す断面図である。 本発明の実施の形態2に係る金属部品埋込み造形物の構造の一例を示す斜視図である。 図5に示す金属部品埋込み造形物の第1樹脂部と引き抜き体の造形方法をB−B線に沿って示す断面図である。 図5に示す金属部品埋込み造形物の引き抜き体を金属部品に置き換える状態をB−B線に沿って切断して示す断面図である。 図5に示す金属部品埋込み造形物の第2樹脂部の造形方法をB−B線に沿って切断して示す断面図である。 本発明の実施の形態3に係るリード線埋込み造形物の構造の一例を示す斜視図である。 図9のリード線埋込み造形物の造形方法の手順の一例を示す斜視図である。 図9のリード線埋込み造形物の完成状態の一例を示す斜視図である。 本発明の実施の形態4に係る2層リード線埋込み造形物の造形方法の手順の一例を示す断面図である。 図12に示す2層リード線埋込み造形物の完成状態の一例を示す断面図である。 図12に示す2層リード線埋込み造形物の上下リード線を導体部材で接続した構造を示す断面図である。 図12に示す2層リード線埋込み造形物の上下リード線を導体部材で接続した他の構造を示す断面図である。 本発明の実施の形態5に係る、センサ内蔵の非接触ICカードモジュールの造形方法の手順の一例を示す斜視図である。 図16に示すセンサ内蔵の非接触ICカードモジュールをD−D線に沿って切断して示す断面図である。 本発明の実施の形態6に係る、光コネクタの造形方法の手順を示す斜視図である。 図18に示す光コネクタの造形方法の手順を示す断面図である。
以下の実施の形態では特に必要なとき以外は同一または同様な部分の説明を原則として繰り返さない。
さらに、以下の実施の形態では便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明などの関係にある。
また、以下の実施の形態において、要素の数など(個数、数値、量、範囲などを含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良いものとする。
また、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。
また、以下の実施の形態において、構成要素等について、「Aからなる」、「Aよりなる」、「Aを有する」、「Aを含む」と言うときは、特にその要素のみである旨明示した場合等を除き、それ以外の要素を排除するものでないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲等についても同様である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、図面をわかりやすくするために平面図であってもハッチングを付す場合がある。
(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1に係る積層造形物の外観構造と樹脂内部に造形した第2樹脂部の構造の一例を示す斜視図、図2は図1に示す積層造形物の第1樹脂部の造形方法をA−A線に沿って切断して示す断面図である。また、図3は図1に示す積層造形物の第2樹脂部の造形方法をA−A線に沿って切断して示す断面図、図4は図1に示す積層造形物の第2樹脂部を覆う第1樹脂部の造形方法をA−A線に沿って切断して示す断面図である。
以下、積層造形物10の構造およびその造形方法を説明する。
3次元積層構造体である積層造形物10は、3次元積層造形(一般には3次元プリンタと称されることも多い)により形成され、粉末床溶融結合方式を採用している。粉末床溶融結合方式とは、例えば、薄く敷き詰められた熱可塑性の0.1mm以下程度の粒径の粉末樹脂、例えばPA12(Polyamid12、ナイロン系樹脂)に対し、造形する形状に選択的にレーザ等を照射して、樹脂を溶融し硬化して一層の厚さが0.1mm程度の造形物を形成し、それを順次繰り返して積層し、立体的な造形物を構成する方法である。
本粉末床溶融結合方式は、造形時に構造物の下面を未硬化の樹脂粉末が支えるため、構造物を支えるサポート材が不要であり、未硬化な樹脂の上に次の樹脂を積層造形することが可能である。
ここで、本粉末床溶融結合方式による樹脂造形の場合、レーザを照射して溶融硬化する部分と、その周囲の未硬化の粉末樹脂が残存する部分との温度差が大きいと、造形物が熱変形し積層造形を継続できなくなる。これを防止するため、一般の装置では、粉末樹脂全体を樹脂粉末の融点直下(融点より10〜20℃程度低い温度)まで予熱し、レーザでの溶融硬化部分との温度差を小さくして積層造形を可能としている。この予熱のため、一度積層造形を行うと、レーザの未照射部分、つまり未硬化部分も融点近い温度にさらされ、粉末樹脂は未硬化ではあるが、粉同士が軽く引っ付いて形状を保つ状態となる。本願発明は、この粉同士が引っ付いて形状を保つ状態を活用するものである。
まず、図1に示す3次元積層構造体である積層造形物10の構造とその造形方法を説明する。積層造形物10は、XY面内に積層厚Hが0.1mm程度の熱可塑性樹脂の粉末層を敷き、それにCADデータに基づいた場所にレーザ1(図2参照)を照射して溶融固化した層を順次Z軸の+方向に積層して第1樹脂部11を造形した構造である。
そして、この第1樹脂部11の積層途中、すなわち第1樹脂部11の内部に、例えば星型の第2樹脂部13を造形し、その上に、第1樹脂部11の造形方法と同様の方法で、図4に示すような蓋となる樹脂層15を積層造形した構造となっている。
詳細には、第1樹脂部11は、図2に示すように、3次元積層によって薄層の樹脂層11aが複数積層造形されたものであり、その上面側に開口する溝部11bを有している。溝部11bは、穴、窪み、凹み等であってもよく、中空部または空洞部を備えていればよい。図1に示す例では、溝部11bは、平面視で星型に形成されている。
一方、第2樹脂部13は、第1樹脂部11と同じ材質からなるが、第1樹脂部11とは異なって積層構造を有していない。言い換えれば、第2樹脂部13は、単一構造である。そして、第2樹脂部13は、第1樹脂部11の溝部11b内に配置されており、溝部11b内において、第1樹脂部11と第2樹脂部13とが密着している。
本願明細書において、密着とは、2つの部材が接触して隣り合った状態を指す。2つの部材のうち隣り合う部分の全てが接触している必要はなく、一部でも接触していれば密着するの概念に含まれる。ここでは、第1樹脂部11の空隙に配置された第2樹脂部13の側面部と底面部は第1樹脂部11に接触している部分を有しているということである。
第2樹脂部13は、レーザ1が照射されない領域に残存した樹脂粉末であり、レーザ1の周辺への照射時の予熱によって半硬化状態となった樹脂を、図3に示すようなランプヒータ3で局所的に加熱溶融して硬化させたものである。
さらに、図4に示すように、溝部11b内に配置された第2樹脂部13の上に、3次元積層造形で形成された第1樹脂部11の樹脂層15が配置されている。この樹脂層15は、第2樹脂部13を覆っており、蓋の機能を有している。
つまり、第2樹脂部13は、第1樹脂部11の略密閉された溝部11bに配置されている。
次に、第2樹脂部13を横切るA-A断面を示す図2から図4を用いて、積層造形物10の造形手順を説明する。
まず、熱可塑性の粉末樹脂(図示せず)を平面に敷設する。上記熱可塑性の粉末樹脂は、一例として、PA12(Polyamid12、ナイロン系樹脂)等のポリアミド系樹脂である。
その後、図2に示すように、薄く敷き詰められた熱可塑性の0.1mm以下程度の粒径の粉末樹脂に対し、造形する形状に走査ミラー2を用いて、数値データで位置制御されたレーザ1を選択的に照射し、樹脂を溶融し硬化することを繰り返して第1樹脂部11を形成する。
すなわち、レーザ1で焼結した薄層を複数積層して第1樹脂部11を形成する。その際、中央部付近に溝部11bを有する第1樹脂部11を造形する。この時、レーザ1が照射されなかった領域は、粉末樹脂が溶融されずに残る。
すなわち、レーザ1を照射して第1樹脂部11を造形する際に、レーザ1が照射されない星型の部分が第1樹脂部11内に残るように第1樹脂部11を造形する。
言い換えると、レーザ1を照射しないことで星型の未硬化粉末(半硬化状態の粉末)12を残す。つまり、星型の溝部11b内に、第1樹脂部11と同じ材質からなる半硬化状態の粉末(未硬化粉末12)を残存させた状態を形成する。この未硬化粉末12は、前述のように、予熱により粉同士が引っ付いた半硬化状態のものである。
第1樹脂部11形成後、図3に示すように、この未硬化粉末12を、レーザ以外のハロゲン等のランプヒータ3の熱線照射により溶融硬化し、第1樹脂部11の溝部11b内に第2樹脂部13を造形する。
ここで、第1樹脂部11は、積層造形のため、断面は地層状となるが、この第2樹脂部13は、0.1mm程の積層厚(積層部)Hに対し、複数の積層部(樹脂層11a)にまたがり、一括で溶融硬化しているため、積層構造を有しておらず、一様に溶融した断面(単一構造)となる。
つまり、第1樹脂部11と第2樹脂部13は、同じ粉末樹脂が溶融硬化したものであるが、それぞれ地層状と、地層状とは異なる単一構造とになり、同一の断面構造とはならないことが特徴である。
第2樹脂部13を造形した後、図4に示すように、第1樹脂部11と第2樹脂部13の上面に、第1樹脂部11の積層造形方法と同様に、走査ミラー2を用いて、選択的にレーザ1を照射し、粉末樹脂を溶融し硬化して、樹脂層15を造形する。つまり、第2樹脂部13を樹脂層15によって覆う。
以上により、第1樹脂部11に星型の第2樹脂部13を内包した(ほぼ密閉された)構造が造形される。なお、上記例では、第2樹脂部13を星型のマークとしたが、文字記号や形状パターン等を造形することも可能であり、個体識別機能を3次元積層造形物の内部に造形することも可能になる。
これを、造形物が薄い場合には透過光で読み取り、透過しにくい場合にはOCT(Optical Coherence Tomography、光干渉断層法)で樹脂内部の形状を読み取る。
3次元積層造形の技術により、3次元積層造形物の複写が容易となった。そこで、本実施の形態1の積層造形物10およびその造形方法により、造形物の表面に加え、内部にも個体識別機能を付加し、造形物の真贋性やトレーサビリティを付与することが可能である。
そして、図4に示すように、第2樹脂部13を樹脂層15で覆うことにより、第1樹脂部11に第2樹脂部13を内包して、第2樹脂部13が表面に露出しないようにすることができる。
これにより、第2樹脂部13が有する情報を改ざんや複写できないようにすることが可能になる。
したがって、本実施の形態1を実施することによって、積層造形物の品質を向上させることができる。
(実施の形態2)
図5は本発明の実施の形態2に係る金属部品埋込み造形物の構造の一例を示す斜視図、図6は図5に示す金属部品埋込み造形物の第1樹脂部と引き抜き体の造形方法をB−B線に沿って示す断面図である。
また、図7は図5に示す金属部品埋込み造形物の引き抜き体を金属部品に置き換える状態をB−B線に沿って切断して示す断面図、図8は図5に示す金属部品埋込み造形物の第2樹脂部の造形方法をB−B線に沿って切断して示す断面図である。
以下、金属部品埋込み造形物20の構造および造形方法の順に説明する。
図5に示す金属部品埋込み造形物(機器)20は、図1同様に、熱可塑性樹脂を、その積層厚さHを0.1mm程度として順次Z軸の+方向に積層して第1樹脂部21を造形した構造である。
中央部に大きな凹部29があり、機械部品や電子部品を保護する筐体等への使用を想定し、蓋をネジ止めするための埋設部材である金属ナット(密着部材)27が、第1樹脂部21の四隅に設けられた空洞である図8に示す溝部21bに配置されている。
この第1樹脂部21の積層途中に、金属ナット27を溝部21b内の第2樹脂部23で固定している。第2樹脂部23は、第1樹脂部21と同じ材質からなるが、積層構造は有していない。金属ナット27は、金属製であり、第1樹脂部21と異なる材質からなる。
そして、第1樹脂部21の四隅の溝部21bにおいて、第1樹脂部21と第2樹脂部23とが密着しており、さらに金属ナット27は、第2樹脂部23と密着している。
なお、金属ナット27は、その一部が露出した状態で第2樹脂部23と密着している。すなわち、金属ナット27に対して外部からネジ止めを行うため、例えば各金属ナット27のねじ穴を含む上面が露出している。
次に、図6〜図8に示す金属ナット27を横切るB−B断面を用いて、金属部品埋込み造形物20の造形手順を説明する。
図6では、図2と同様に、造形する形状に走査ミラー2を用いて、数値データで位置制御されたレーザ1を選択的に照射し、樹脂を溶融し硬化することを繰り返して第1樹脂部21を形成する。
その四隅の溝部21bには、レーザ1を照射していない未硬化粉末(半硬化状態の粉末)22を残し、その上に、第1樹脂部21と同じ材質からなるとともに金属ナット27と同等の形状で、さらに同等の大きさの引き抜き体24を、第1樹脂部21と同様に造形する。
つまり、レーザ1を照射することで第1樹脂部21を造形し、第1樹脂部21の造形とともに第1樹脂部21内に引き抜き体24を造形する。すなわち、引き抜き体24も第1樹脂部21と同様に積層構造である。
この時、引き抜き体24の上面の中央部に凹部24aや凸部(図示せず)を設けてもよい。なお、この未硬化粉末22は、前述のように、予熱により粉同士が軽く引っ付いた状態である。
なお、引き抜き体24は、第1樹脂部21の溝部21bに未硬化粉末22を介して形成されている。つまり、引き抜き体24は、溝部21bにおいてその底面および内壁面から離れた位置に第1樹脂部21と同様の積層構造で造形され、この底面および内壁面と、引き抜き体24との間の隙間に未硬化粉末22が残存する。
第1樹脂部21および引き抜き体24を形成した後、図7に示すように、引き抜き体24を第1樹脂部21から分離する。すなわち、第1樹脂部21から引き抜き体24を引き抜く(引き抜き動作25)。
このとき、未硬化粉末22を溝部21b内に残したまま、引き抜き体24の凹部24aや上記凸部(図示せず)等を把持して引き抜き体24を除去し、さらに引き抜き体24の除去によって形成された空洞部26に金属ナット27を挿入する(挿入動作28)。
つまり、引き抜き体24を引き抜いて形成された第1樹脂部21と同じ材質からなる未硬化粉末(第2樹脂部)22の空洞部26に、第1樹脂部21と異なる材質からなる金属ナット(密着部材)27を配置する(埋め込む)。
言い換えると、第1樹脂部21の溝部21b内に、第1樹脂部21と同じ材質からなる未硬化粉末(第2樹脂部)22を介して、金属ナット(密着部材)27を配置する(埋め込む)。
金属ナット配置後、図8に示すように、第1樹脂部21と金属ナット27との間の隙間に配置された未硬化粉末(第2樹脂部)22をランプヒータ3の熱線照射により、加熱溶融する。
すなわち、未硬化粉末22を溶融硬化し、第2樹脂部23を造形する。つまり、第2樹脂部23を溶融硬化して金属ナット27を第2樹脂部23によって固定する。ここでは、第2樹脂部23が金属ナット27を固定する接着剤の代わりとなる。
また、金属ナット27の側面部の表面状態が粗い場合には、未硬化粉末(第2樹脂部)22が金属ナット27の側面部の表面の凹部に入り込むことによってアンカー効果が生じ、さらに接着性が向上する。
そのため、金属ナット27の側面部の表面には、水平方向に凹部が設けられているとさらに接着性が向上する。
また、金属ナット27の底面部の表面に凹部がある場合には、未硬化粉末22が金属ナット27の底面部に面しているため、凹部に入り込むこととで接着性が向上する。
なお、金属ナット27を配置して埋め込んだ際にその底面部は未硬化粉末22で構成されなくても実施可能である。つまり、金属ナット27の底面部の樹脂が硬化状態であっても、金属ナット27の側面部が接着されていれば実施できる。この場合は、第2樹脂部23は、底面部と側面部が接続されていないため、複数の部材で構成、または、側面部同士が接続される形状で構成される。
なお、金属ナット27の下面の未硬化粉末22が溶融しにくい場合には、金属ナット27そのものを伝熱ヒータ等で加熱し、金属ナット27の温度上昇により、金属ナット27の全体を溶融硬化することも可能である。
未硬化粉末22が金属ナット27の側面部の表面に入り込まない場合であっても、加熱溶融された際に第2樹脂部23の側面部の一部が金属ナット27の側面部の表面の凹部に入り込むことによって接着性が向上する。また、金属ナット27の底面部の表面部の凹部も同様に接着性が向上する。
ここで、第1樹脂部21は、積層造形のため、断面は地層状となるが、この第2樹脂部23は、複数の積層厚(樹脂層21a)にまたがり、かつU字状に一様に溶融硬化した断面(単一構造)となる。
すなわち、第2樹脂部23の側面部は、第1樹脂部21とは異なる方向に層構造を有する部分と、底面部は第1樹脂部21と同様の方向の層構造を有する。また、これらは、方向の異なる部分において、溶融硬化されることによって接続されるため、ひとつの構造体を形成する。
つまり、第1樹脂部21と第2樹脂部23は、同じ粉末樹脂が溶融硬化したものであるが、地層状と単一構造にそれぞれなり、同一の断面構造とはならないことが特徴である。地層状とは、水平方向(X方向)に同質の層が構成されており、積層方向(Z方向)に積層された状態をいう。
また、第1樹脂部21はレーザによる溶融が行われることから、層ごとに層方向に凸形状である。つまり、第1樹脂部21aの中央付近は、第2樹脂部23側に凸形状であって、一の第1樹脂部21aと接触する他の第1樹脂部21aとの間は凹形状を構成する。
そのため、第2樹脂部23のZ方向の深さが、第1樹脂部21aの1層あたりの厚みよりも大きいため、第1樹脂部21aが構成する凹凸に対して、第2樹脂部23の側面部が入り込む構造となる。これにより、アンカー効果が生じ、接着性が向上する。
少なくとも、第2樹脂部23のZ方向の深さが、第1樹脂部21aの1層の厚みよりも大きければ、実施可能である。この場合は、第1樹脂部21a同士の凹部が少なくとも一つは構成されるため、この凹部によってアンカー効果を生じさせ、接着強度を高めることができる。
また、第1樹脂部21のZ方向の断面は積層毎の凹凸があり、この積層の凹凸に複数層にまたがって、第2樹脂部23が溶融硬化しているため、凹凸面へのアンカー効果により、第1樹脂部21に対し、第2樹脂部23は強固に固定される。
以上により、第1樹脂部21の上面に金属ナット27を第2樹脂部23を介して強固に固定した構造を造形することができる。また、上記で説明した例は、金属ナット27と同等の形状および大きさの引き抜き体24を造形し、除去する方法であるため、除去部分と埋設部材の隙間を小さくすることができ、第1樹脂部21に対する金属ナット27の埋設位置のばらつきを抑えることができる。さらに、第1樹脂部21と、金属ナット27との間の隙間に接着剤やシール剤を注入して固定する手間を省略することができる。
つまり、本実施の形態2の金属部品埋込み造形物(機器)20およびその製造方法によれば、埋設部材である金属ナット27の位置決めを容易にし、接着剤やシール剤の注入を不要にすることができる。
これにより、金属ナット27周辺で他の部材を用いる必要がないため、積層構造体全体を同一の材料で構成することができ、積層構造体全体の特性が安定する。また、第1樹脂部材21と第2樹脂部材23は同一の部材で構成されるため、接着性が高い。
したがって、本実施の形態2を実施することによって、積層造形物の品質を向上させることができる。
(実施の形態3)
図9は本発明の実施の形態3に係るリード線埋込み造形物の構造の一例を示す斜視図、図10は図9のリード線埋込み造形物の造形方法の手順の一例を示す斜視図、図11は図9のリード線埋込み造形物の完成状態の一例を示す斜視図である。
本実施の形態3では、積層造形物を有する機器が、電気コネクタ等のリード線埋込み造形物30の場合を説明する。
以下、リード線埋込み造形物(機器)30の構造および造形方法について説明する。なお、図11に示す本実施の形態3のリード線埋込み造形物30は、第1樹脂部31と異なる材質からなる密着部材(埋設部材)がリード線(導体線)37の場合である。
図11に示すリード線埋込み造形物30の構造では、第1樹脂部31の溝部31bに複数のリード線37が埋め込まれ、これら複数のリード線37は、第2樹脂部33によって接着されるとともに、第1樹脂部31と同じ材質からなる引き抜き体34によって上方から固定されている。
次に、リード線埋込み造形物30の製造方法について説明する。
図9では、図6と同様に、第1樹脂部31を形成し、その中央部には、レーザ1が未照射の領域である未硬化粉末32を残し、その上に引き抜き体34を、第1樹脂部31と同様に造形する。なお、この未硬化粉末32は、上述のように、予熱により粉同士が軽く引っ付いた状態である。
第1樹脂部31および引き抜き体34形成後、図10に示すように、この未硬化粉末32を残したまま、引き抜き体34を引き抜いて除去し、空いた溝部31bに、リード線固定部38によって一体化された複数のリード線37を挿入し、その上を引き抜き体34で埋め戻す。
すなわち、引き抜いた引き抜き体34を、複数のリード線37の上に配置して、引き抜き体34によって複数のリード線37を固定する。
図11では、引き抜き体34をZ軸の−方向(下方)に加圧しながら、表面から見えている未硬化粉末32を上述の図8に示すランプヒータ3で加熱する。
また、表面から見えない未硬化粉末32については、図10に示すリード線固定部38で一体化された複数のリード線37を伝熱ヒータ等で加熱し、これにより、リード線37の周囲の未硬化粉末32を溶融硬化する。
その結果、未硬化粉末32が溶融硬化して形成された図11に示す第2樹脂部33が接着剤の機能を満たし、第2樹脂部33によって複数のリード線37および引き抜き体34が第1樹脂部31に固定される。
その後、リード線固定部38を切断除去して、リード線埋込み造形物30の造形が完了となる。
以上により、第1樹脂部31の上面に複数のリード線37が、第2樹脂部33を介して強固に固定された構造を造形することができ、このリード線埋込み造形物30を電気コネクタ等に活用することが可能となる。
したがって、本実施の形態3を実施することによって、積層造形物の品質を向上させることができる。
(実施の形態4)
図12は本発明の実施の形態4に係る2層リード線埋込み造形物の造形方法の手順の一例を示す断面図、図13は図12に示す2層リード線埋込み造形物の完成状態の一例を示す断面図である。
また、図14は図12に示す2層リード線埋込み造形物の上下リード線を導体部材で接続した構造を示す断面図、図15は図12に示す2層リード線埋込み造形物の上下リード線を導体部材で接続した他の構造を示す断面図である。
本実施の形態4では、積層造形物を有する機器が、多層リード回路基板およびスルーホール基板等の2層リード線埋込み造形物50の場合を説明する。
以下、2層リード線埋込み造形物(機器)50の構造および造形方法について説明する。なお、図14に示す本実施の形態4の2層リード線埋込み造形物(機器)50は、第1樹脂部41や第3樹脂部51と異なる材質からなる埋設部材である密着部材がリード線(導体線、導体層)47またはグランド層(導体層)57の場合である。
図14に示す2層リード線埋込み造形物50の構造を説明すると、図11に示すリード線埋込み造形物30と同様の構造の図12に示すリード線埋込み造形物40と、第1樹脂部41と同じ材質からなる第3樹脂部51とが、第4樹脂部53によって接着されている。
リード線埋込み造形物40は、第1樹脂部41の溝部41bに第2樹脂部43を接着剤として、引き抜き体44と複数のリード線47とが固定された構造を備えており、図11に示すリード線埋込み造形物30と同様の構造および同様の造形方法で造形されるものである。
そして、図13に示すように溝部51bが形成された第3樹脂部51の溝部51bに第4樹脂部53を介して図12のリード線埋込み造形物40およびグランド層57が固定されている。
すなわち、第3樹脂部51の溝部51bにグランド層57とリード線埋込み造形物40とが埋め込まれ、グランド層57およびリード線埋込み造形物40は、第4樹脂部53を接着剤として第3樹脂部51に固定されている。
すなわち、2層リード線埋込み造形物50では、図14に示すように、間に第1樹脂部41を介して上層側に複数のリード線(導体層)47が配置され、一方、下層側にグランド層(導体層)57が配置されており、これら密着部材である複数の導体層(リード線47、グランド層57)が、間に第1樹脂部41を介在してその上下層に配置されている。
さらに、上記複数の導体層のうち、上層側に配置されたリード線47と、下層側に配置されたグランド層57とが、スルーホール(貫通孔)48に埋め込まれた導体部材49によって電気的に接続されている。
次に、2層リード線埋込み造形物50の製造方法について説明する。
図12に示すように、図11のリード線埋込み造形物30と同様の構造のリード線埋込み造形物40を予め造形しておき、第3樹脂部51の溝部51b内に空洞部56が形成されるように溝部51b中に未硬化粉末52を残し、その上にグランド層(導体層)57と、リード線埋込み造形物40を挿入する。
その後、図13に示すように、リード線埋込み造形物40をZ軸の−方向(下方)に加圧しながら、表面から見えている未硬化粉末52を上述の図8に示すランプヒータ3で加熱し、また、表面から見えない未硬化粉末52はグランド層57を伝熱ヒータ等で加熱することで、グランド層57およびリード線埋込み造形物40の周囲の未硬化粉末52を溶融硬化する。
さらに、図14に示すように、第1樹脂部41の上層に配置されたリード線(導体層)47と、第1樹脂部41の下層に配置されたグランド層(導体層)57とを、スルーホール48に埋め込んだ導体部材49によって電気的に接続する。
以上のように本実施の形態4によれば、グランド層57のZ軸の+方向(上方)に複数のリード線47を備えたリード線埋込み造形物40が配置された2層リード線埋込み造形物50を構成することができる。これにより、上下の配線層(導体層)を導体部材49によって電気的に接続した多層リード回路基板やスルーホール基板等への活用を可能にすることができる。
また、図14に示す構造では、上述のように上層のリード線47と下層のグランド層57とをスルーホール48で接続し、その中を導電性ペースト等の導体部材49で充填することにより、上下層の電気的な接続も可能となる。
また、図15に示す他の構造では、スルーホール68a,68bの左右に配置された上層のリード線67a、67bと下層のリード線77a、77bとを、それぞれスルーホール(貫通孔)78a、78b、68a、68bで空間的に接続し、その中に導電性ペースト等の導体部材79a、79bを充填している。これにより、左右個別の上下層であっても電気接続を可能にすることができる。
したがって、本実施の形態4を実施することによって、積層造形物の品質を向上させることができる。
なお、スルーホール68a、68bが形成された引き抜き体64は、第2樹脂部63によって第1樹脂部61に固定されている。
(実施の形態5)
図16は本発明の実施の形態5に係る、センサ内蔵の非接触ICカードモジュールの造形方法の手順の一例を示す斜視図、図17は図16に示すセンサ内蔵の非接触ICカードモジュールをD−D線に沿って切断して示す断面図である。以下、センサ内蔵の非接触ICカードモジュール70の構造および造形方法について説明する。
図16に示す本実施の形態5のセンサ内蔵の非接触ICカードモジュール(機器)70は、第1樹脂部61や第3樹脂部71と異なる材質からなる埋設部材である密着部材が、アンテナ線80が形成されたアンテナ用基板(第1基板、密着部材)84、および図17に示すリード部(リードフレーム、導体層、密着部材)81の場合である。
図16に示す非接触ICカードモジュール70の構造を説明すると、図17に示すように、アンテナ用基板84とリード部81とが、図14に示す第1樹脂部41と同じ材質からなる第1樹脂部61を介在して配置されている。
図16に示すように第1樹脂部61の溝部61bには、IC(Integrated Circuit)82とセンサ83とが配置されており、第1樹脂部61にセンサ83が内蔵されたセンサモジュール60となっている。
そして、第3樹脂部71の溝部71bには、未硬化粉末72を介してアンテナ用基板84が配置され、さらにアンテナ用基板84上にセンサモジュール60が配置されている。すなわち、センサ内蔵の非接触ICカードモジュール70は、第3樹脂部71の溝部71bにアンテナ用基板84とセンサモジュール60とが配置された構造である。
さらに、図17に示すように、非接触ICカードモジュール70において、第1樹脂部61の上層側に配置されたリード部(導体層)81と、第1樹脂部61の下層側に配置されたアンテナ用基板84のアンテナ線80と、がスルーホール(貫通孔)68,78に埋め込まれた導体部材79によって電気的に接続されている。
つまり、センサ内蔵の非接触ICカードモジュール(機器)70では、IC82がリード部81に電気的に接続されているため、IC82とアンテナ用基板84のアンテナ線80とが電気的に接続された構造となっている。
なお、非接触ICカードモジュール70の組立てでは、図16に示すように、センサ83とIC82とが搭載されたセンサモジュール60、およびアンテナ線80を備えたアンテナ用基板84を第3樹脂部71の溝部71bに未硬化粉末72を介して配置する。
その後、未硬化粉末72を溶融硬化させることで図17に示す第4樹脂部73を形成する。すなわち、第4樹脂部73によってアンテナ用基板84とセンサモジュール60を第3樹脂部71に固定する。
また、アンテナ線80とIC82は、スルーホール68およびスルーホール78に導体部材79を充填することで、電気的に接続する。
これにより、積層構造体内を電気的に接続することができる。また、電気的に接続した部材を同一の樹脂部材によって封止することができる。
以上により、アンテナ線80とIC82とを有した非接触ICカードを実現することができ、温度や歪等のセンサ83を備えたことにより、センサ内蔵の非接触ICカードモジュール70を実現することができる。
したがって、本実施の形態5を実施することによって、積層造形物の品質を向上させることができる。
(実施の形態6)
図18は本発明の実施の形態6に係る、光コネクタの造形方法の手順を示す斜視図、図19は図18に示す光コネクタをE−E線に沿って切断してその造形方法の手順を示す断面図である。以下、本実施の形態6の光コネクタ(機器)110の構造および造形方法について説明する。
図18に示す本実施の形態6の光コネクタ(機器)110は、第1樹脂部91と異なる材質からなる密着部材が、複数の光ファイバケーブル104aを束ねた光ファイバアレイ104を保持するV溝基板(第2基板)101の場合である。
光コネクタ勘合部100は、光ファイバアレイ104が束ねる複数の光ファイバケーブル104aそれぞれを、接着剤105を介して接合されたV溝基板101と押え板102とによって保持する構成となっている。
そして、光コネクタ110は、光コネクタ勘合部100と、この光コネクタ勘合部100のハンドリング性を向上させるためのハウジングである第1樹脂部91とが接合された構造となっている。
すなわち、光コネクタ勘合部100のV溝基板101と、第1樹脂部91内に充填された第2樹脂部93とが密着しており、接着剤等を使用することなくV溝基板101と第1樹脂部91とが図19に示す第2樹脂部93を介して接合されている。
次に、光コネクタ110の製造方法について説明する。
まず、図18に示す平面を有する板状の第1樹脂部91を積層造形する。その際、中央付近に、複数の未硬化粉末92が残るように造形する。一方、光ファイバアレイ(図18では光ファイバケーブル104aは4本)104は、マイクロメータレベルのピッチ精度を有する、石英やガラス等で形成されたV溝基板101に、勘合用ピン103と共に整列されている。
そして、押え板102を接着剤105等で固定して成る光コネクタ勘合部100を準備する。一般に光コネクタ110の勘合には0.1mm未満の高い位置精度が必要である。
例えば、勘合用ピン103の勘合前の挿入ガイドとなる、コネクタの外装スリーブ(図示せず)の一部である第1樹脂部91の組立寸法基準点Pに対し、勘合用ピン103には、高い位置精度が必要である。
このため、組立寸法基準点Pに対し、光コネクタ勘合部100のXY方向の位置をX1、Y1として微調整して位置決めする。
その後、図19に示すように、第1樹脂部91の内部に残された未硬化粉末92をその下方から、ランプヒータ3で溶融硬化し、V溝基板101と第1樹脂部91との間を接着剤レスで組み立てる。
すなわち、硬化した第2樹脂部93によってV溝基板101と第1樹脂部91とが接合される。その際、組立寸法基準点Pに対し、高さZ1+Z2のそれぞれの加工精度の和だけで接合する。
つまり、接着剤レスで接合しているため、高さZ1+Z2は、V溝基板101と第1樹脂部91のそれぞれの厚さだけで決まる。
これにより、光コネクタ勘合部100を高い精度で第1樹脂部91に固定することができる。V溝基板101は、石英やガラス等で形成するため、熱伝導性が金属に比べて低く、未硬化粉末92を局所的に溶融硬化する本構成により、高精度な固定を可能にすることができる。
上記説明したように、積層造形物の品質を向上させることができる。
なお、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施の形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。
また、ある実施の形態の構成の一部を他の実施の形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施の形態の構成に他の実施の形態の構成を加えることも可能である。また、各実施の形態の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることも可能である。なお、図面に記載した各部材や相対的なサイズは、本発明を分かりやすく説明するため簡素化・理想化しており、実装上はより複雑な形状となる。
1 レーザ
2 走査ミラー
3 ランプヒータ
10 積層造形物
11、21、31、41、61、91 第1樹脂部
11a、21a 樹脂層
11b、21b、31b、41b、51b、61b、71b 溝部
12、22、32、52、72、92 未硬化粉末
13、23、33、43、63、93 第2樹脂部
20 金属部品埋込み造形物(機器)
24、34、44、64 引き抜き体
27 金属ナット(密着部材)
30 リード線埋込み造形物(機器)
37、47、67a、67b、77a、77b リード線(密着部材、導体線、導体層)
40 リード線埋込み造形物(機器)
50 2層リード線埋込み造形物(機器)
57 グランド層(導体層)
48、68、68a、68b、78、78a、78b スルーホール(貫通孔)
70 非接触ICカードモジュール(機器)
49、79、79a、79b 導体部材
80 アンテナ線
81 リード部(導体層、密着部材)
84 アンテナ用基板(第1基板、密着部材)
101 V溝基板(第2基板、密着部材)
110 光コネクタ(機器)

Claims (15)

  1. 複数の樹脂層を備えた積層造形物であって、
    前記複数の樹脂層が積層された第1樹脂部と、
    前記第1樹脂部と同じ材質からなり、積層構造を有していない第2樹脂部と、
    を有し、
    前記第2樹脂部は、前記第1樹脂部内に配置され、
    前記第1樹脂部と前記第2樹脂部と、が密着している、積層造形物。
  2. 請求項1に記載の積層造形物において、
    前記第2樹脂部は、前記第1樹脂部の前記樹脂層によって覆われている、
    積層造形物。
  3. 複数の樹脂層を備えた積層造形物を有する機器であって、
    前記複数の樹脂層が積層された第1樹脂部と、
    前記第1樹脂部と同じ材質からなり、積層構造を有していない第2樹脂部と、
    前記第1樹脂部と異なる材質からなり、前記第2樹脂部と密着する密着部材と、
    を有し、
    前記第1樹脂部内において、前記第1樹脂部と前記第2樹脂部と、が密着している、機器。
  4. 請求項3に記載の機器において、
    前記密着部材は、金属ナットであり、
    前記金属ナットは、一部が露出した状態で前記第2樹脂部と密着している、機器。
  5. 請求項3に記載の機器において、
    前記密着部材は、導体線である、機器。
  6. 請求項5に記載の機器において、
    前記導体線は、前記第1樹脂部と同じ材質からなる引き抜き体によって固定されている、機器。
  7. 請求項3に記載の機器において、
    前記密着部材は、前記第1樹脂部を介在して配置された複数の導体層である、機器。
  8. 請求項7に記載の機器において、
    前記複数の導体層のうち、上層側に配置された前記導体層と、下層側に配置された前記導体層と、が貫通孔に埋め込まれた導体部材によって電気的に接続されている、機器。
  9. 請求項3に記載の機器において、
    前記密着部材は、アンテナ線が形成された第1基板、および導体層であり、前記第1基板と前記導体層とが前記第1樹脂部を介在して配置されている、機器。
  10. 請求項9に記載の機器において、
    上層側に配置された前記導体層と、下層側に配置された前記第1基板の前記アンテナ線と、が貫通孔に埋め込まれた導体部材によって電気的に接続されている、機器。
  11. 請求項3に記載の機器において、
    前記密着部材は、複数の光ファイバケーブルを保持する第2基板である、機器。
  12. 請求項11に記載の機器において、
    前記第2基板と前記第2樹脂部と、が密着している、機器。
  13. (a)樹脂の粉末を数値データに基づいて位置制御されたレーザで焼結して複数の薄層を形成し、前記複数の薄層を積層することにより、凹部を有する第1樹脂部を造形し、かつ前記凹部内に前記第1樹脂部と同じ材質からなる引き抜き体を造形する工程、
    (b)前記(a)工程の後、前記第1樹脂部から前記引き抜き体を引き抜く工程、
    (c)前記(b)工程の後、前記凹部内に、前記第1樹脂部と同じ材質からなる第2樹脂部を介して、前記第1樹脂部と異なる材質からなる密着部材を配置する工程、
    (d)前記(c)工程の後、前記第2樹脂部を溶融硬化して前記密着部材を前記第2樹脂部によって固定する工程、
    を有する、造形方法。
  14. 請求項13に記載の造形方法において、
    前記(c)工程で引き抜いた前記引き抜き体を、前記密着部材の上に配置して前記引き抜き体によって前記密着部材を固定する、造形方法。
  15. 請求項13に記載の造形方法において、
    前記密着部材は、前記第1樹脂部を介在して配置された複数の導体線であり、
    前記(d)工程の後、前記複数の導体線のうち、前記第1樹脂部の上層に配置された前記導体線と、前記第1樹脂部の下層に配置された前記導体線と、を貫通孔に埋め込んだ導体部材によって電気的に接続する、造形方法。
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