JPWO2017110399A1 - 光学フィルム、偏光板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、クラックや切り粉の発生が生じず、また、位相差値の変動が少ないゼロ位相差性の光学フィルムを提供することである。さらに、当該光学フィルムを具備した偏光板及び提供することである。
当該光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂と、重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲内の固有複屈折率が負である化合物を含有する光学フィルムであって、前記シクロオレフィン系樹脂が５１〜９９質量％の範囲内で含有され、かつ前記固有複屈折率が負である化合物が１〜４９質量％の範囲内で含有されており、前記光学フィルムの膜の厚さが５〜２０μｍの範囲内であり、フィルム面内の位相差値Ｒｏ（ｎｍ）が０≦Ｒｏ≦５の範囲であり、フィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔ（ｎｍ）が−１０≦Ｒｔ≦１０の範囲であることを特徴とする。

Description

本発明は、光学フィルム、偏光板及び表示装置に関し、より詳しくは、偏光板用光学フィルムとして用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルム等に関する。

液晶表示装置（ＬＣＤ）は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式等種々の方式が開発されている。そのうちＩＰＳ方式はＴＮ方式やＶＡ方式に比べ視野角性能に優れており、諸用途に用いられている。なお、ＩＰＳ方式の液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ Ｄｉｓｐｌａｙ １９９５），５７７〜５８０頁及び同７０７〜７１０頁に記載されている。

ＩＰＳ方式に用いられる偏光板用光学フィルムには、ＩＰＳ方式の特性上光学的に等方性（以下「ゼロ位相差性」という。）の偏光板用光学フィルムが求められる。等方性（ゼロ位相差性）を示す偏光板用光学フィルムとしては、従来セルローストリアセテート（ＴＡＣ）フィルムがその取扱い性の良さから広く用いられている。しかし、セルローストリアセテートフィルムは耐湿性が劣っており湿度変動による性能変動が大きいという問題があった。また位相差値が完全にはゼロではないためその改良が求められていた。

近年、耐湿性の良いゼロ位相差性の偏光板用光学フィルムとして、シクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムも用いられている。

特許文献１には、ゼロ位相差性のシクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムが開示されている。

一方、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンス表示装置（ＯＬＥＤ）等の表示装置は、近年、薄膜化が進展している。それに伴い、前記表示装置に備えられる偏光板の薄膜化の要望も増している。

したがって、前記のゼロ位相差性のシクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムにも、薄膜化が求められている。

そこで、本発明者は特許文献１に記載のようなゼロ位相差性のシクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムで膜厚を５〜２０μｍと薄膜化する検討を行った。

ゼロ位相差性を示すシクロオレフィン系光学フィルムは主に溶融製膜法にて作製された光学フィルムが知られている。しかし、溶融製膜で薄膜化を行った場合には、光学フィルムや偏光板の打ち抜き加工時に光学フィルム面のクラックや切り粉が発生することがわかった。また溶液製膜においても同様の問題が生じていた。

このように発生したクラックは、偏光板や液晶表示装置を作製した場合に、保管環境中に存在する水分を浸透しやすくし、偏光板や液晶表示装置の劣化を促進する。したがって偏光板や液晶表示装置の湿熱耐久性が劣化する原因となっていた。

さらに、現在、種々の表示装置に用いられている光学フィルム用のシクロオレフィン系樹脂は、固有複屈折率が正である。したがって、溶融流延製膜法で光学フィルムを製造する際は、搬送方向への伸びや、熱延伸により正の配向複屈折性に由来する位相差を発現する。このような位相差の発現は、製造時のプロセス条件の調整だけでは完全に抑制することは難しい。
また、溶液流延製膜法で製造する際は、同様の理由に加え、加圧ダイスリットからドラムやベルト上に流延した後の乾燥過程で樹脂鎖が配向することで位相差が発現する。さらには、溶剤が残留している状態の光学フィルムをクリップで幅方向に保持しながら搬送する際に、乾燥により光学フィルムが収縮することで疑似的に延伸され、結果的に位相差が発現することもある。

そこで、シクロオレフィン系樹脂に、さらに固有複屈折率が負である化合物を添加して、シクロオレフィン系樹脂で発生した不要な位相差を補償することによりゼロ位相差性を保つ必要があった。

しかし、シクロオレフィン系樹脂に固有複屈折率が負である化合物を添加して、かつ薄膜のゼロ位相差性の光学フィルムを作製した場合には、打ち抜き時のクラックや切り粉の発生がさらに生じやすくなり、また光学フィルム面の場所により位相差の値が変動しやすくなるという新たな問題が見出された。

特開２０１１−１２８３５６号公報

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、打ち抜き時のクラックや切り粉の発生が生じず、また、光学フィルム面の場所による位相差値の変動が少ないゼロ位相差性の光学フィルムを提供することである。さらに、当該光学フィルムを具備した偏光板及び表示装置を提供することである。

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、シクロオレフィン系樹脂と固有複屈折率が負である化合物を含有する光学フィルムであって、前記固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が特定の範囲内であり、固有複屈折率が負である化合物が特定の質量比率で含有されていることにより、両者が良好な相溶性を示すため、光学フィルム表面の歪や、ミクロな相分離が緩和されると推測した。本発明の構成をとることにより打ち抜き時のクラックや切り粉の発生が生じないゼロ位相差性の光学フィルムを提供できることを見出し本発明に至った。

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．シクロオレフィン系樹脂と固有複屈折率が負である化合物を含有する光学フィルムであって、前記シクロオレフィン系樹脂が、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマー由来の重合体であり、前記固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲内であり、前記固有複屈折率が負である化合物が１〜４９質量％の範囲内で含有されており、前記光学フィルムの膜の厚さが５〜２０μｍの範囲内であり、前記光学フィルムの、下記式（ｉ）で定義されるフィルム面内の位相差値Ｒｏ（ｎｍ）及び下記式（ii）で定義されるフィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔ（ｎｍ）が、下記式（iii）及び（iv）で規定する条件を満たすことを特徴とする光学フィルム。
（ｉ）Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
（ii）Ｒｔ＝（（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ）×ｄ
（iii）０≦Ｒｏ≦５
（iv）−１０≦Ｒｔ≦１０
〔式中、Ｒｏ及びＲｔは温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で波長５９０ｎｍの光で測定した位相差値である。
ｎ_ｘは、フィルム平面内の遅相軸方向の屈折率である。
ｎ_ｙは、フィルム平面内の遅相軸方向に垂直な方向の屈折率である。
ｎ_ｚは、フィルム面に垂直な方向の屈折率である。
ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）である。〕

上記一般式（Ｉ）において、ｐは０又は１であり、ｍは０又は１以上の整数である。Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、又は水素結合受容性基を表す。また、Ｒ^１〜Ｒ^４は、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。

２．前記一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマーのｐが０であり、かつＲ^１及びＲ^２が水素原子、Ｒ^３がメチル基、Ｒ^４がメトキシカルボニル基であることを特徴とする特徴とする第１項に記載の光学フィルム。

３．前記光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、１３０〜２１０℃の範囲内であることを特徴とする第１又は第２項に記載の光学フィルム。

４．前記固有複屈折率が負である化合物が、芳香族ビニル系化合物由来のオリゴマー又はアクリル系オリゴマーであることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。

５．偏光子の少なくとも片面に前記第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学フィルムを具備したことを特徴とする偏光板。

６．第５項に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。

本発明の上記手段により、打ち抜き時のクラックや切り粉の発生が少ないゼロ位相差性の光学フィルムを提供することができる。また光学フィルム面の場所により位相差の値が変動しないゼロ位相差性の光学フィルムを提供することができる。

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

シクロオレフィン系樹脂の光学フィルムを溶液流延製膜法で製造した場合は、光学フィルム表面での溶媒の乾燥が早いため表面に残留応力が残ったまたフィルム化される。薄膜化した場合には、この残留応力が残る表面層の割合が多くなりよりクラックが発生しやすくなると推察している。

しかし、固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲であれば、当該化合物がシクロオレフィン系樹脂と良好な相溶状態を形成し、当該樹脂の高分子鎖と均一に混ざるようになる。これにより、残留応力が残る表面層のシクロオレフィン系樹脂鎖の歪みを緩和させる作用が生じ、クラックの発生の抑制（以下クラック耐性という。）に寄与していると推察している。

一方、固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が１４０００より大きいと、相溶性が不十分で、上記の緩和効果が不足し、クラック発生の抑制も十分でないと推察している。

また、一般的に、分子量の小さな化合物のみでは、フィルムを形成できないか、又は、出来たとしても非常に脆弱なものとなる。本発明の固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が５００より小さい場合には、クラック耐性の改善効果よりも、脆弱化の影響の方が強くなり、したがって、逆にフィルムのクラック耐性を改善しない、若しくは低下させると推察している。

また、固有複屈折率が負である化合物を添加して、かつ薄膜のゼロ位相差性の光学フィルムを作製した場合には、光学フィルム面の場所により位相差の値が変動しやすいというこの形態に特有の新たな問題が生じる。

この原因については以下のように推察している。シクロオレフィン系樹脂と固有複屈折率が負である化合物はミクロな相分離が生じやすい。さらに、薄膜光学フィルムの製造工程で加温、温度低下や延伸が行われる際に、このミクロな相分離が増大する。これにより光学フィルム面の場所による位相差値の変動が生じると推察している。

しかし、固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲内である場合は、シクロオレフィン系樹脂と固有複屈折率が負である化合物のミクロな相分離が生じにくくなる。したがって光学フィルム面のムラが改良されると推察している。

偏光板の概略断面図

本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂と固有複屈折率が負である化合物を含有する光学フィルムであって、前記シクロオレフィン系樹脂が、前記一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマー由来の重合体であり、前記固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲内であり、かつ前記固有複屈折率が負である化合物が１〜４９質量％の範囲内で含有されており、前記光学フィルムの膜の厚さが５〜２０μｍの範囲内であり、
前記光学フィルムの、前記式（ｉ）で定義されるフィルム面内の位相差値Ｒｏ（ｎｍ）及び前記式（ii）で定義されるフィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔ（ｎｍ）が、前記式（iii）及び（iv）で規定する条件を満たすことを特徴とする。

この特徴は、各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマーのｐが０であり、かつＲ^１及びＲ^２が水素原子、Ｒ^３がメチル基、Ｒ^４がメトキシカルボニル基であることが、溶液流延製膜法で製膜しやすいため薄膜化を行いやすくより好ましい。

さらに前記光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、１３０〜２１０℃の範囲内であることが光学フィルムの耐熱性に優れるため好ましい。

また、固有複屈折率が負である化合物が、芳香族ビニル系化合物由来のオリゴマー又はアクリル系オリゴマーのいずれかであることがゼロ位相差性を発現する効果が大きくより好ましい。

また、偏光子に本発明の光学フィルムを具備した偏光板や、前記偏光板を備える表示装置は、光学フィルムの耐湿性が良く、薄膜でかつゼロ位相差性であるため、ＩＰＳ用として視野角が広く耐湿性に優れた偏光板、表示装置が得られる点で好ましい。

なお、本発明においては、ゼロ位相差性とは、前記光学フィルム面内の位相差値Ｒｏが０〜５ｎｍの範囲内であり、かつ前記光学フィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔが−１０〜１０ｎｍの範囲内であることと定義する。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
≪本発明の光学フィルムの概要≫
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂と固有複屈折率が負である化合物を含有する光学フィルムであって、前記シクロオレフィン系樹脂が、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマー由来の重合体であり、前記固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲内であり、かつ前記固有複屈折率が負である化合物が１〜４９質量％の範囲内で含有されており、前記光学フィルムの膜の厚さが５〜２０μｍの範囲内であり、
前記光学フィルムの、下記式（ｉ）で定義されるフィルム面内の位相差値Ｒｏ（ｎｍ）及び下記式（ii）で定義されるフィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔ（ｎｍ）が、下記式（iii）及び（iv）で規定する条件を満たすことを特徴とする。

（ｉ）Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
（ii）Ｒｔ＝（（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ）×ｄ
（iii）０≦Ｒｏ≦５
（iv）−１０≦Ｒｔ≦１０
〔式中、Ｒｏ及びＲｔは温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で波長５９０ｎｍの光で測定した位相差値である。ｎ_ｘは、フィルム平面内の遅相軸方向の屈折率である。ｎ_ｙは、フィルム平面内の遅相軸方向に垂直な方向の屈折率である。ｎ_ｚは、フィルム面に垂直な方向の屈折率である。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）である。〕
なお面内位相差値Ｒｏ、及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから下記式を用いて算出する。

＜シクロオレフィン系樹脂＞
本発明の光学フィルムは、一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマー由来の重合体を含有することを特徴とする。

〔式中、ｐは０又は１であり、ｍは０又は１以上の整数である。Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、又は水素結合受容性基である。また、Ｒ^１〜Ｒ^４は、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。〕
本発明において、シクロオレフィン系樹脂の好ましい水素結合受容性基の保有比率は一般式（Ｉ）でＲ^１〜Ｒ^４のうち１〜２個が水素結合受容性基を有することが好ましい。

また、シクロオレフィン系樹脂の水素結合受容性基の保有比率は例えば、カーボン-１３核磁気共鳴（^１３ＣＮＭＲ）スペクトル法を用いて同定することができる。

また、一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^３が水素原子又は炭素数１〜１０、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基である。Ｒ^２及びＲ^４の少なくとも一つは極性を有する水素結合受容性基であることが、溶液流延製膜をしやすくなる観点から好ましい。ｐとｍは、ガラス転移温度が高くかつ機械的強度が優れるという観点から、ｍ＝１、ｐ＝０であるものが好ましい。

水素結合受容性基としては、例えば、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アシル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシシリル基、スルホニル含有基、及びカルボキシ基など挙げられる。これらの極性基についてさらに具体的に説明すると、上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ；アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ；アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ；アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ；トリオルガノシロキシ基としては、例えば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等が挙げられ；トリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等が挙げられ；アルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基；フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の芳香族基等が挙げられる。これらの炭化水素基は置換されていてもよく、置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニルスルホニル基等が挙げられる。

前記一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマーのｐが０であり、かつＲ^１及びＲ^２が水素原子、Ｒ^３がメチル基、Ｒ^４がメトキシカルボニル基であることが、溶液流延法で製膜しやすいため薄膜化を行いやすくより好ましい。

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂は、光学フィルム中に５１〜９９質量％の範囲内で含有されることが、耐熱性の観点から好ましい。

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂の好ましい分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が、８０００〜１０００００、さらに好ましくは１００００〜８００００、特に好ましくは１２０００〜５００００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は２００００〜３０００００、さらに好ましくは３００００〜２５００００、特に好ましくは４００００〜２０００００の範囲のものが好適である。

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂の好ましい固有粘度〔η〕ｉｎｈ（測定温度３０℃）は、０．２〜５ｃｍ^３／ｇ、さらに好ましくは０．３〜３ｃｍ^３／ｇ、特に好ましくは０．４〜１．５ｃｍ^３／ｇである。

固有粘度〔η〕ｉｎｈは、樹脂溶液を、ウベローデ型粘度計を用いて測定（測定温度３０℃）することができる。

固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることによって、シクロオレフィン樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本発明の光学フィルムとしての成形加工性が良好となる。

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂はガラス転移温度（Ｔｇ）が、通常、１１０℃以上であり、好ましくは１１０〜３５０℃である。さらに好ましくは１２０〜２５０℃、特に好ましくは１２０〜２２０℃である。

シクロオレフィン樹脂のＴｇが１１０℃以上の場合は、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷などの二次加工による変形が抑制されるため好ましい。また、Ｔｇが３５０℃以下であると、成形加工や成形加工時の熱による樹脂劣化が抑制されるため好ましい。

本発明の光学フィルムは、光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、１３０〜２１０℃の範囲内であることが好ましい。光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、２１０℃以下であれば、内部応力の上昇が少なく、クラック耐性がより大きいので好ましい。

Ｔｇが１３０℃以上であれば光学フィルムの耐熱性がより改良される。光学フィルムのＴｇは１５０〜１８０℃の範囲内であることが本発明の効果がより大きく好ましい。

なお、ここでいうガラス転移温度Ｔｇとは、市販の示差走査熱量測定器を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。具体的な光学フィルムのガラス転移温度Ｔｇの測定方法は、ＪＩＳＫ７１２１（１９８７）に従って、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて測定する。

以上説明したシクロオレフィン系樹脂は、市販品を好ましく用いることができ、市販品の例としては、ＪＳＲ（株）からアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ、アートンＦ、アートンＲ、及びアートンＲＸという商品名（アートンは登録商標）で発売されており、これらを使用することができる。

＜固有複屈折率が負である化合物＞
本発明に係る固有複屈折率が負である化合物は、シクロオレフィン系樹脂と併用されてゼロ位相差性を示す化合物であり、化合物の重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲内である。

本発明の効果（クラック耐性や、光学フィルム面の場所による位相差値変動の改良）が大きい点で、固有複屈折率が負である化合物は、芳香族ビニル系化合物由来のオリゴマー又は、アクリル系オリゴマーであることが好ましい。

＜芳香族ビニル系化合物由来のオリゴマー＞
固有複屈折率が負である化合物は、芳香族ビニル化合物由来のオリゴマーであることが本発明の効果が大きく好ましい。オリゴマーの重量平均分子量は５００〜１４０００の範囲内であり、より好ましくは１０００〜１００００の範囲内である。

オリゴマーの重量平均分子量は、オリゴマーの重合反応の際の単量体に対する重合開始剤の添加量の割合や、反応時間、反応温度などの調整により変化することができる。なお、本発明において、芳香族ビニル化合物由来のオリゴマーとは、芳香族ビニル化合物を成分とし重合して誘導されるオリゴマーであることを表す。

前記芳香族ビニル化合物由来のオリゴマーは、下記一般式（II）で表される構造を有するポリスチレン系オリゴマーであることがさらに好ましい。

（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。）
本発明に係る一般式（II）で表される構造を有する化合物のオリゴマーは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが５００〜１４０００の範囲内であり、より好ましくは、１０００〜１００００の範囲内であることである。

芳香族ビニル化合物由来のオリゴマーの重量平均分子量が５００以上であれば、シクロオレフィン系樹脂の表面層の歪みの緩和により、光学フィルムのクラック耐性が改善される。

芳香族ビニル化合物由来のオリゴマーの重量平均分子量が、１０００以上であることがより好ましい。重量平均分子量が１０００以上であれば、クラック耐性の改善に加え、光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）をより高く保つことができる。また芳香族ビニル化合物由来のオリゴマーの重量平均分子量が１４０００以下であれば、シクロオレフィン系樹脂の表面層の歪みの緩和によりクラック耐性が改善される。より好ましくは、重量平均分子量が１００００以下であり、クラック耐性の改善効果がより大きくなる。また光学フィルム面の場所により位相差の値が変動しやすいという問題が解決される。

さらに、一般式（II）で表される構造を有する化合物のオリゴマーの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常１．０〜１０、好ましくは１．２〜５．０、より好ましくは１．２〜４．０である。

ＧＰＣの測定条件は、以下のとおりである。

溶媒： ジクロロメタン
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜２８０００００の範囲の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

上記一般式（II）で表される構造を有する化合物のオリゴマーを誘導する単量体（以下、スチレン系単量体ともいう。）の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−トリフルオロメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ニトロスチレン、ｐ−アミノスチレン、ｐ−カルボキシスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブトキシスチレン、２，４，６−トリメチルスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノール等が挙げられる。これら単量体はいずれか１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。これらの単量体のうち、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−イソプロペニルフェノールを単独で又は併用して用いるのが好ましく、特に好ましくはスチレンである。

上記一般式（１）で表される構造を有する化合物は、上記各単量体を、適当な重合開始剤の存在下で重合反応させる方法により製造するのが好ましい。重合開始剤としては、詳細は後述するが、ラジカル重合開始剤、アニオン重合触媒、配位重合触媒、カチオン重合触媒等を用いるのが好ましく、ラジカル重合開始剤を用いるのが特に好ましい。

〈重合反応〉
重合反応に用いられるラジカル開始剤としては、フリーラジカルを発生する公知の有機過酸化物、又はアゾビス系のラジカル重合開始剤を用いることができる。

有機過酸化物としては、ジアセチルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジイソブチロイルパーオキサイド、ジ（２，４−ジクロロベンゾイル）パーオキサイド、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジオクタノイルパーオキサオド、ジラウロイルパーオキサイド、ジステアロイルパーオキサイド、ビス｛４−（ｍ−トルオイル）ベンゾイル｝パーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類；
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類；
過酸化水素、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、α−クメンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔ−ヘキシルハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類；
ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウリルパーオキサイド、α，α′−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３などのジアルキルパーオキサイド類；
ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシマレエート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｍ−トルオイルパーオキシ）ヘキサン、α，α′−ビス（ネオデカノイルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオドデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）イソフタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシｍ−トルオイルベンゾエート、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのパーオキシエステル類；
１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロドデカン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ピバレート、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパンなどのパーオキシケタール類；
ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシアリルモノカーボネートなどのパーオキシモノカーボネート類；
ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネートなどのパーオキシジカーボネート類；
その他、ｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイドなどが挙げられるが、本発明に用いられる有機過酸化物はこれらの例示化合物に限定されるものではない。

アゾビス系ラジカル重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、２，２′−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１′−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル、２，２′−アゾビス［２−メチル−Ｎ−｛１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル｝プロピオンアミド］、２，２′−アゾビス［２−メチル−Ｎ−｛２−（１−ヒドロキシブチル）｝プロピオンアミド］、２，２′−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−プロピオンアミド］、２，２′−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２′−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２′−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２′−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２′−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２′−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジサルフェート・ジハイドレート、２，２′−アゾビス［２−（３，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２′−アゾビス［２−｛１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル｝プロパン］ジハイドロクロライド、２，２′−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジハイドロクロライド、２，２′−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチル−プロピオンアミジン］、２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドキシム）、ジメチル２，２′−アゾビスブチレート、４，４′−アゾビス（４−シアノペンタノイックアシッド）、２，２′−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）などが挙げられるが、本発明に用いられるアゾビス系ラジカル重合開始剤はこれらの例示化合物に限定されるものではない。

これらラジカル開始剤の使用量は、前記単量体全量１００ｍｏｌ％に対して、通常０．０１〜５ｍｏｌ％、好ましくは０．０３〜３ｍｏｌ％、より好ましくは０．０５〜２ｍｏｌ％である。

さらに、前記重合反応には、触媒が用いられてもよい。この触媒は、特に限定されず、例えば、公知のアニオン重合触媒、配位重合触媒、カチオン重合触媒などが挙げられる。

前記重合反応は、上記重合開始剤や触媒の存在下で、上記単量体を、塊状重合法、溶液重合法、沈殿重合法、乳化重合法、懸濁重合法又は塊状−懸濁重合法などの従来公知の方法で共重合させることにより行われる。

本発明の芳香族ビニル系化合物由来のオリゴマーは、光学フィルム中に５〜２０質量％の範囲で含有されることが好ましい。５質量％以上であれば本発明のクラック耐性の改良が大きくなり、２０質量％以下であればガラス転移温度（Ｔｇ）が低くなく耐熱性が良い。

また５質量％以上であれば位相差値のバラツキの少ない光学フィルムが得られやすい。

従って、固有複屈折率が負である化合物を添加して、かつ薄膜のゼロ位相差性光学フィルムを作製した場合に生じる特有の課題が解決されやすくなる。
＜アクリル系オリゴマー＞
本発明に係る固有複屈折率が負である化合物としては、アクリル系オリゴマーも本発明の効果が大きく好ましい。なかでもポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）が好適に用いられる。

本発明に係るアクリル系オリゴマーは、樹脂としては特に制限されるものではない。１種類のアクリル系モノマーからなるものであってもよい。または、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、及びこれと共重合可能なほかの単量体単位１〜５０質量％からなるものでもよい。

共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独、又は２種以上を併用して用いることができる。

これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。さらに好ましくはメチルメタクリレート系オリゴマーである。

本発明に係るアクリル系オリゴマーは、重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲内のポリマーである。これにより、クラック耐性や、光学フィルム面の場所による位相差の値の変動が改良される。

アクリル系オリゴマーの重量平均分子量が５００以上であれば、シクロオレフィン系樹脂の表面層の歪みの緩和により、光学フィルムのクラック耐性が改善される。

より好ましくはアクリル系オリゴマーの重量平均分子量が、１０００以上であることである。重量平均分子量が１０００以上であれば、クラック耐性の改善に加え、光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）をより高く保つことができる。またアクリル系オリゴマーの重量平均分子量が１４０００以下であれば、シクロオレフィン系樹脂の表面層の歪みの緩和によりクラック耐性が改善される。より好ましくは、重量平均分子量が１００００以下であり、クラック耐性の改善効果がより大きくなる。また光学フィルム面の場所により位相差の値が変動しやすいという問題が解決される。

本発明に係るアクリル系オリゴマーは、光学フィルム中に５〜２０質量％の範囲で含有されることが好ましい。５質量％以上であれば本発明のクラック耐性の改良が大きくなり、２０質量％以下であればガラス転移温度（Ｔｇ）が低くなく耐熱性が良い。

また５質量％以上であれば位相差値のバラツキの少ない光学フィルムが得られやすい。

本発明におけるアクリル系オリゴマーの製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、又は溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系の重合開始剤を用いることができ、また、レドックス系重合開始剤とすることもできる。重合温度については、懸濁重合又は乳化重合では３０〜１００℃、塊状重合又は溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。さらに、生成共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。

オリゴマーの重量平均分子量は、オリゴマーの重合反応の際の単量体に対する重合開始剤の添加量の割合や、反応時間、反応温度などの調整により変化させることができる。

本発明の光学フィルムは下記式（ｉ）で定義されるフィルム面内の位相差値Ｒｏ（ｎｍ）及び下記式（ii）で定義されるフィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔ（ｎｍ）が、下記式（iii）及び（iv）で規定する条件を満たすことを特徴とする。

（ｉ）Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
（ii）Ｒｔ＝（（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ）×ｄ
（iii）０≦Ｒｏ≦５
（iv）−１０≦Ｒｔ≦１０
〔式中、Ｒｏ及びＲｔは温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で波長５９０ｎｍの光で測定した位相差値である。ｎ_ｘは、フィルム平面内の遅相軸方向の屈折率である。ｎ_ｙは、フィルム平面内の遅相軸方向に垂直な方向の屈折率である。ｎ_ｚは、フィルム面に垂直な方向の屈折率である。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）である。〕
上記の特性（ゼロ位相差性）を有することで、特にＩＰＳ型液晶表示装置用の偏光板として最適な位相差を付与できる。

光学フィルム面内の位相差値Ｒｏ（ｎｍ）は０〜＋３ｎｍであることが好ましい。光学フィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔは−５〜＋５ｎｍであることが好ましい。

本発明では薄膜のシクロオレフィン系樹脂の光学フィルムであっても、クラック耐性が良く、また光学フィルム面の場所による位相差の値の変動を少なくすることができる。光学フィルムの膜厚としては１０〜１５μｍの範囲が好ましく、薄膜化することにより、ＩＰＳ型液晶表示装置用の薄型化に寄与することができる。

面内位相差値Ｒｏ、及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚから算出することができる。

本発明の光学フィルムに含有することができるその他の添加剤としては、下記のものが挙げられる。

＜マット剤＞
本発明の光学フィルムは、製造された光学フィルムがハンドリングされる際の、傷つきや、搬送性が悪化することを防止するため、さらにマット剤を含有することが好ましい。マット剤としては特にシリカ粒子を含有することが好ましい。

シリカ粒子とは、二酸化ケイ素を主成分とする粒子である。主成分とは、粒子を構成する成分の５０％以上を含有することをいい、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上含まれることをいう。

また、二酸化ケイ素系の粒子で、かつ表面がアルキル化処理により疎水化処理された微粒子を添加すると、溶媒に対しての分散性がよく、異物の発生を抑制できることから、好ましい。

シリカ粒子に対する上記疎水化処理は、アルキル化処理であることが好ましい。アルキル化処理された微粒子の表面はアルキル基を有し、そのアルキル基の炭素数は１〜２０の範囲であることが好ましく、より好ましくは炭素数１〜１２の範囲であり、特に好ましくは、炭素数１〜８の範囲である。

前記シリカ粒子において、表面に炭素数１〜２０の範囲のアルキル基を有するものは、例えば、前記の二酸化ケイ素の粒子をオクチルシランで処理することにより得ることができる。また、表面にオクチル基を有するものの一例としては、アエロジルＲ８０５（日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、好ましく用いられる。

シリカ粒子の一次粒子の平均粒径は、５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。

シリカ粒子の二次粒子の平均粒径は、１００〜４００ｎｍの範囲内であることが、好ましく、一次粒子の平均粒径が１００〜４００ｎｍの範囲内であれば、凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。

シリカ粒子は、市販品を好ましく使用することができ、上記アエロジルＲ８０５以外に、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ９７６Ｓ、Ｒ８１２、Ｒ８１２Ｓ、ＲＹ３００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル株式会社製）の商品名（アエロジルは登録商標）で市販されており、使用することができる。

これらの中でもアエロジルＲ８０５、Ｒ８１２、Ｒ９７６Ｓが、ハンドリング時の取扱い性を向上しかつ光学フィルムのヘイズを低く保つことができ、好ましい。

＜可塑剤＞
可塑剤とは、可塑剤の例には、ポリエステル、多価アルコールエステル、多価カルボン酸エステル（フタル酸エステルを含む）、グリコレート、及びエステル（脂肪酸エステルやリン酸エステルなどを含む）が含まれる。これらは、単独で用いても、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

本発明の光学フィルムに好ましい可塑剤は、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含むポリエステルである。

ポリエステルを構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸又は脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。

ポリエステルを構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオール又は脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数１〜４のジオールである。ジオールは、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。

中でも、ポリエステルは、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数１〜４のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。

ポリエステルの分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよいが、光学フィルムの透湿性を低減する観点からは、封止されていることが好ましい。

また、多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル（アルコールエステル）であり、好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステルは、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。

脂肪族多価アルコールの好ましい例には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。中でも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。

モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸等でありうる。光学フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、１種類であってもよいし、２種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１〜２０であり、さらに好ましくは１〜１０である。脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。

脂環式モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。

芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸；安息香酸のベンゼン環にアルキル基又はアルコキシ基（例えば、メトキシ基やエトキシ基）を１〜３個を導入したもの（例えば、トルイル酸など）；ベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸（例えば、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸など）が含まれ、好ましくは安息香酸である。

多価アルコールエステルの具体例は、特開２００６−１１３２３９号公報段落〔００５８〕〜〔００６１〕記載の化合物が挙げられる。

多価カルボン酸エステルは、２価以上、好ましくは２〜２０価の多価カルボン酸と、アルコールとのエステルである。多価カルボン酸は、２〜２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３〜２０価の芳香族多価カルボン酸又は３〜２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。

多価カルボン酸エステルの例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。

グリコレートの例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。

エステルには、脂肪酸エステル、クエン酸エステルやリン酸エステルなどが含まれる。脂肪酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、及びセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステルの例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、及びクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、及びトリブチルホスフェート等が含まれ、好ましくはトリフェニルホスフェートである。

中でも、ポリエステル、グリコレート、リン酸エステルが好ましく、ポリエステルが特に好ましい。

可塑剤の含有量は、シクロオレフィン系樹脂１００質量部に対して、好ましくは１〜２０質量％の範囲であり、より好ましくは１．５〜１５質量％の範囲である。可塑剤の含有量が上記範囲内であると、可塑性の付与効果が発現でき、光学フィルムからの可塑剤の耐染みだし性にも優れる。

＜紫外線吸収剤＞
本発明の光学フィルムは、偏光板や液晶表示装置に照射される不要な紫外線を遮蔽するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤を含有することにより、液晶セル中の液晶分子の劣化を防止できるため偏光板や表示装置が太陽光等に長時間曝されても偏光機能を維持することができる。

紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。

本発明の光学フィルムを、光学補償フィルムのほかに、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶の表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。

紫外線吸収剤の添加量は、高分子組成物に対して０．１〜５．０質量％の範囲内であることが好ましく、０．５〜３．０質量％の範囲内であることがさらに好ましい。

本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

また、市販品として、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６」、「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８」「チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８」（以上、商品名、ＢＡＳＦジャパン社製）（ＴＩＮＵＶＩＮは登録商標）を好ましく使用できる。

＜光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法によって製造することがクラック耐性のある薄膜の光学フィルムを製造しやすいため好ましい。

シクロオレフィン系樹脂の薄膜の光学フィルムを、溶液流延製膜法で製造した場合、樹脂鎖のほぐれが、溶融流延製膜法よりも大きいため、樹脂鎖間の絡み合いが大きい。その結果、機械物性が強く、打ち抜きやカッティングなどの加工で端部にクラックが発生しにくくなると推測している。
また、溶液流延製膜法では、溶融流延製膜法より樹脂鎖のほぐれが大きいため、重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲の固有複屈折率が負である化合物が、一本一本の樹脂鎖と相互作用しやすく、ひいては良好な相溶性を示しやすくなるため、クラック耐性の改善効果が大きくなると推測している。

本発明の光学フィルムは、溶液流延製膜法によって製膜するに当たって、前記シクロオレフィン系樹脂、前記固有複屈折率が負である化合物を含む有機溶媒を含有するドープを、溶解温度１５〜５０℃の範囲内で調製することが好ましい。

本発明の光学フィルムは、少なくともシクロオレフィン系樹脂、及び固有複屈折率が負である化合物を含有するドープを調製する工程（ドープ調製工程）と、前記ドープを支持体上に流延してウェブ（流延膜ともいう。）を形成する工程（流延工程）と、支持体上でウェブから溶媒を蒸発させる工程（溶媒蒸発工程）、ウェブを支持体から剥離する工程（剥離工程）、得られた光学フィルムを乾燥させる工程（予備乾燥工程）、延伸後の光学フィルムを更に乾燥させる工程（乾燥工程）、得られた光学フィルムを巻取る工程（巻取り工程）によって製造されることが好ましい。また、製造された光学フィルムロールからの取り効率を考慮し、予備乾燥工程の後に光学フィルムを延伸する工程（延伸工程）を設け、延伸してもよい。

＜ドープ調整工程＞
溶液流延製膜法に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒；トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノールなどのアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル、ジエチルエーテル；などが挙げられる。これら溶剤は１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

本発明に係る溶媒が良溶媒と貧溶媒の混合溶媒である場合、当該良溶媒は、例えば、塩素系有機溶媒としては、ジクロロメタン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等が挙げられ、中でもジクロロメタンであることが好ましい。

貧溶媒としてはアルコール系溶媒が好ましく用いられる。メタノール、エタノール及びブタノールから選択されることが、本発明の効果とともに、剥離性を改善し、高速度流延を可能にする観点から好ましい。中でもエタノールが上記観点から好ましい。

本発明では、混合溶媒であれば、前記良溶媒を溶媒全体量に対して５５質量％以上を用いることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上、更に好ましくは８０質量％以上用いることである。

＜流延工程＞
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属支持体、例えば、ステンレスベルト、又は回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。

＜溶媒蒸発工程＞
ウェブを流延用金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程であり、後述する剥離時の残留溶媒量を制御する工程である。

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率が良く好ましい。

＜剥離工程＞
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは光学フィルムとして次工程に送られる。

金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは１０〜４０℃の範囲であり、さらに好ましくは１１〜３０℃の範囲である。

剥離する時点での金属支持体上でのウェブの残留溶媒量は、１５〜１００質量％の範囲内とすることが好ましい。残留溶媒量の制御は、前記溶媒蒸発工程における乾燥温度及び乾燥時間で行うことが好ましい。

前記残留溶媒量が１５質量％以上であると、支持体上での乾燥過程において、シリカ粒子が厚さ方向に分布を持たず光学フィルム中に均一に分散した状態になるため、好ましい。

また、前記残留溶媒量が１００質量％以内であれば、光学フィルムが自己支持性を有し、光学フィルムの剥離不良を回避でき、ウェブの機械的強度も保持できることから剥離時の平面性が向上し、剥離張力によるツレや縦スジの発生を抑制できる。

＜乾燥及び延伸工程＞
乾燥工程は予備乾燥工程、本乾燥工程に分けて行うこともできる。

金属支持体からウェブ剥離して得られた光学フィルムは、予備乾燥させる。光学フィルムの予備乾燥は、光学フィルムを、上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のように光学フィルムの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。

ウェブの予備乾燥工程における乾燥温度は好ましくは光学フィルムのガラス転移点−５℃以下であって、３０℃以上の温度で１分以上３０分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲内、更に好ましくは５０〜１００℃の範囲内で乾燥が行われる。

＜延伸工程＞
本発明の光学フィルムは、延伸装置にて残留溶媒量下で延伸処理を行うことで、薄膜の光学フィルムを製造したり、広幅の光学フィルムを製造したり、また光学フィルムの平面性を向上したり、光学フィルム内の分子の配向を制御することで、位相差値Ｒｏ及びＲｔを調整することができる。

本発明の光学フィルムの製造において、延伸工程にて延伸する場合、延伸開始時の残留溶媒量を５質量％以上３０質量％未満とすることが好ましい。より好ましくは１０〜２５質量％の範囲内である。延伸開始時の残留溶媒量が５％以上であれば、延伸時に光学フィルムに発生する応力を低くし、樹脂鎖の配向に伴う位相差の発現を抑制し、位相差値をゼロ位相差性の範囲に調整しやすい。また、延伸開始時の残留溶媒量が３０％以下であれば、残留溶媒を含んだ光学フィルムの安定性、例えば、搬送方向（長手方向、ＭＤ方向、流延方向ともいう）、又は幅手方向（ＴＤ方向ともいう）のタルミ抑制の観点で好ましい。

延伸操作は多段階に分割して実施してもよい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。

すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である：
・長手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→斜め方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。

＜乾燥工程＞
乾燥工程では、乾燥装置によって延伸後の光学フィルムを加熱して乾燥させる。

光学フィルム中に含有する有機溶媒量を調整するのに、乾燥工程の条件を適宜調整して行うことが好ましい。

熱風等により光学フィルムを加熱する場合、使用済みの熱風（溶媒を含んだエアーや濡れ込みエアー）を排気できるノズルを設置して、使用済み熱風の混入を防ぐ手段も好ましく用いられる。熱風温度は、４０〜３５０℃の範囲がより好ましい。また、乾燥時間は５秒〜６０分程度が好ましく、１０秒〜３０分がより好ましい。

乾燥工程においては、残留溶媒量が一般的には０．５質量％以下になるまで、光学フィルムを乾燥することが好ましい。

＜巻取り工程＞
光学フィルム中の残留溶媒量が２質量％以下となってから光学フィルムとして巻取る工程であり、残留溶媒量を好ましくは１質量％以下にすることにより寸法安定性の良好な光学フィルムを得ることができる。

巻取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。

＜光学フィルムの物性＞
＜ヘイズ＞
本発明の光学フィルムは、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。ヘイズを１％未満とすることにより、光学フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。
本発明の光学フィルムにおいて、マット剤を使用する場合には、上記ヘイズの観点から、均一な粒子径を有するシリカ粒子を分散させて用いることが好ましい。これにより、粒子による光散乱の程度が低くし、透明性に優れた光学フィルムを得ることができる。
ヘイズ値の測定は、２３℃・５０％ＲＨの環境下、ヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ２０００）により、光学フィルムの幅手方向に等間隔で１０点の測定を行い、その平均値を求めヘイズとする。

＜平衡含水率＞
本発明の光学フィルムは、２５℃、相対湿度６０％における平衡含水率が４％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。平衡含水率を４％以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。

平衡含水率は、試料フィルムを２３℃・２０％ＲＨに調湿された部屋に４時間以上放置した後、２３℃・８０％ＲＨに調湿された部屋に２４時間放置し、サンプルを微量水分計（例えば、三菱化学アナリテック（株）製、ＣＡ−２０型）を用いて、温度１５０℃で水分を乾燥・気化させた後、カールフィッシャー法により定量する。

＜フィルム長、幅、膜厚＞
本発明の光学フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜４００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明の光学フィルムの幅は１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．３ｍ以上であり、特に１．３〜４ｍであることが好ましい。

本発明の延伸後の光学フィルムの膜厚は、５〜２０μｍの範囲内である。より好ましくは１０〜１５μｍである。膜厚が５μｍ以上であれば、一定以上の光学フィルム強度を発現させることができ、クラック耐性の観点から好ましい。膜厚が２０μｍ以下であれば、偏光板及び表示装置の薄型化に適用できる。本発明の構成をとることにより、薄膜でもクラック耐性が良く、光学フィルム面の場所による位相差の変動も小さいシクロオレフィン系樹脂の光学フォルムが得られる。

＜光学フィルムの応用＞
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の各種表示装置やタッチパネルに用いられる機能フィルムであることが好ましい。具体的には、本発明の光学フィルムは、液晶表示装置又は有機ＥＬ表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルムなどでありうる。ここで、位相差フィルムとは、本発明のゼロ位相差性の位相差領域のフィルムも含む。

特に好ましい応用は、ＩＰＳ型液晶表示装置用の光学フィルムである。本発明の光学フィルムは、前記位相差フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムとして用いることもできる。

＜偏光板＞
＜偏光子＞
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。

ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。

偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素系化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。

偏光子の膜厚は、５〜３０μｍの範囲内が好ましく、５〜１５μｍの範囲内であることがより好ましい。

ポリビニルアルコールを支持体上に塗布した後、延伸することにより得られる塗布型偏光子であることがより薄膜化できる点で好ましい。

ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開２０１１−１００１６１号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４８０４５８９号公報に記載の方法で、偏光子を作製し本発明の光学と貼り合わせて偏光板を作製することが好ましい。

＜接着剤＞
＜水糊＞
本発明に用いられる偏光板は、本発明の光学フィルムを完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液（水糊）を用いて偏光子に貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。本発明の光学フィルムは液晶表示装置とされた際に、偏光子の液晶セル側に設けられることが好ましく、偏光子の液晶セルとは反対側の光学フィルムは、本発明の光学フィルム、及び従来の偏光板保護フィルムのどちらでも用いることができる。

例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタ（株）製）が好ましく用いられる。

＜活性エネルギー線硬化性接着剤＞
また、本発明に用いられる偏光板においては、本発明の光学フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化性接着剤により貼合されていることが好ましい。

活性エネルギー線硬化性接着剤は、紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましい。

本発明においては、光学フィルムと偏光子との貼合に紫外線硬化型接着剤を適用することにより、薄膜でも強度が高く、平面性に優れた偏光板を得ることができる。紫外線硬化型接着剤を用いた偏光板の製造方法に特に制限は無く、従来公知の方法で製造することができる。

＜保護フィルム＞
偏光子を挟んで本発明の光学フィルムとは反対側に配置されるフィルムは、偏光子の保護フィルムとして機能するフィルムであることが好ましい。

このような保護フィルムとしては、本発明の光学フィルムを用いてもよいが、例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡＫＣ、２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上コニカミノルタ（株）製、フジタックＴ４０ＵＺ、フジタックＴ６０ＵＺ、フジタックＴ８０ＵＺ、フジタックＴＤ８０ＵＬ、フジタックＴＤ６０ＵＬ、フジタックＴＤ４０ＵＬ、フジタックＲ０２、フジタックＲ０６、以上富士フイルム（株）製）も好ましく用いることができる。本発明の光学フィルムを保護フィルムとして使用し、偏光子の両側に本発明の光学フィルムを配置しても良い。

また、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルム、脂環式ポリオレフィン（例えば、日本ゼオン株式会社製、ゼオノア（登録商標）、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、シクロオレフィンコポリマー、ポリイミド（例えば、三菱ガス化学株式会社製、ネオプリム（登録商標））、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、アクリロイル系化合物等の樹脂フィルムが挙げられる。これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフィルムが保護フィルムとして好ましく用いられる。

上記保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、１０〜２００μｍ程度とすることができ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲内であり、より好ましくは１０〜７０μｍの範囲内である。

＜偏光板＞
図１は、本発明の好ましい実施形態による偏光板の概略断面図である。図１の実施形態においては、偏光板１０１は、偏光子１０と該偏光子１０の両方の面に配置された光学フィルム２０及び保護フィルム３０とを備える。該偏光子１０と該光学フィルム２０及び保護フィルム３０は、任意の接着層（図示せず）を介して、貼り合わせられている。

＜液晶表示装置＞
上記本発明の光学フィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明に用いられる液晶表示装置を作製することができる。

また、本発明の光学フィルムは、多角形や曲線を持つディスプレイ用途の偏光板に好ましく使用され、フリーフォームで打ち抜きを行った際に端面にササクレや割れ等のクラックが生じたり、切断による切粉が生じやすいという、従来の問題を解決することができる。

本発明に用いられる偏光板は、ＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはＩＰＳ型液晶表示装置である。

液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の２枚の偏光板が用いられるが、本発明に用いられる偏光板を両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。特に本発明に用いられる偏光板は外部環境に直接触れる視認側の偏光板として用いることが好ましく、本発明の光学フィルムが保護フィルムである場合は視認側表面、又は本発明の光学フィルムが光学補償フィルムである場合は、液晶セル側に配置されることが好ましい。ＩＰＳ型液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合には、液晶セルの両側に配置されることが好ましい。

また、バックライト側の偏光板は本発明以外の偏光板を用いることもでき、その場合は偏光子の両面を、例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上コニカミノルタ（株）製、フジタックＴ４０ＵＺ、フジタックＴ６０ＵＺ、フジタックＴ８０ＵＺ、フジタックＴＤ８０ＵＬ、フジタックＴＤ６０ＵＬ、フジタックＴＤ４０ＵＬ、フジタックＲ０２、フジタックＲ０６、以上富士フイルム（株）製等）を貼合した偏光板が好ましく用いられる。

また、バックライト側の偏光板として、偏光子の液晶セル側に本発明の光学フィルムを用い、反対側の面に上記市販の保護フィルムや位相差フィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、又は他のシクロオレフィンフィルムを貼合した偏光板も好ましく用いることができる。

本発明に用いられる偏光板を用いることで、特に画面が３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、表示ムラ、正面コントラスト、視野角など視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

＜有機エレクトロルミネッセンス表示装置＞
本発明のシクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムはフリーフォームでの打ち抜き加工適正が高いため、有機エレクトロルミネッセンス表示装置にも好適である。

本発明に用いられる有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用可能な有機ＥＬ素子の概要については、例えば、特開２０１３−１５７６３４号公報、特開２０１３−１６８５５２号公報、特開２０１３−１７７３６１号公報、特開２０１３−１８７２１１号公報、特開２０１３−１９１６４４号公報、特開２０１３−１９１８０４号公報、特開２０１３−２２５６７８号公報、特開２０１３−２３５９９４号公報、特開２０１３−２４３２３４号公報、特開２０１３−２４３２３６号公報、特開２０１３−２４２３６６号公報、特開２０１３−２４３３７１号公報、特開２０１３−２４５１７９号公報、特開２０１４−００３２４９号公報、特開２０１４−００３２９９号公報、特開２０１４−０１３９１０号公報、特開２０１４−０１７４９３号公報、特開２０１４−０１７４９４号公報等に記載されている構成を挙げることができる。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。

[実施例１]
実施例で用いるシクロオレフィン系樹脂への添加剤として固有複屈折率が負である化合物を合成した。

芳香族ビニル系化合物由来のオリゴマー及び比較の化合物を以下のように合成した。 （スチレン系オリゴマー（Ｓ−１）の合成（重量平均分子量７００））
スチレン１４６．５３ｇ（１．４０７ｍｏｌ）、溶媒としてトルエン７５ｇ、及びラジカル開始剤として１，１′−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）０．７０ｇ（２．８ｍｍｏｌ）を使用して、９０℃に加熱し３時間反応させ重合を行った。得られた重合反応溶液中にトルエン１５０ｇを添加して希釈した後、メタノール４３．６ｇ（１．３６ｍｏｌ）、濃硫酸１．３３８ｇ（０．０１３６ｍｏｌ）を添加して６０℃に加熱して２時間反応させた。得られた反応液をテトラヒドロフランで希釈し、大量のメタノール中に凝固させることにより重合体を回収・精製し、８０℃の真空乾燥機で２日間乾燥させて、スチレン系共重合体を得た。得られた重合体の重量平均分子量Ｍｗ＝７００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９６）であり、収率は８０％であった。

（スチレン系オリゴマー（Ｓ−２〜Ｓ−５及びＳ−１１〜Ｓ−１２）の合成）
前記スチレン系オリゴマー（Ｓ−１）の合成例と同様にして、重合反応の条件を調整して、重量平均分子量の異なるスチレン系オリゴマーを得た。得られた重合体の重量平均分子量Ｍｗは以下のとおりであり、それぞれ収率は８０％であった。

Ｓ−２：重量平均分子量Ｍｗ＝７５００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９５）
Ｓ−３：重量平均分子量Ｍｗ＝１２０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９７）
Ｓ−４：重量平均分子量Ｍｗ＝１４０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９５）
Ｓ−５：重量平均分子量Ｍｗ＝５００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９６）
Ｓ−１１：重量平均分子量Ｍｗ＝３５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９９）
Ｓ−１２：重量平均分子量Ｍｗ＝２００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９４）
（アクリル系オリゴマーの合成）
固有複屈折率が負である化合物として、アクリル系オリゴマー及び比較の化合物の合成について、以下に記載する。

（アクリル系オリゴマー（Ａ−１）の合成（重量平均分子量５００））
アクリル系オリゴマーの原料となるモノマーを以下に示す。

メチルメタクリレート（ＭＭＡ）：旭化成ケミカルズ（株）
前述のモノマー材料を用いて、アクリル系オリゴマーを合成した。

１０Ｌの触媒溶解槽（ＳＵＳ３０４、パドル翼撹拌機付、ジャケット付）に、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）と重合開始剤として２，２′−アゾビス(２−メチルプロピオニ
トリル)（ＡＩＢＮ）を、後述の触媒液と単量体混合液に含まれるモノマー成分に対して
０．９８２質量％となるように投入した。これらの成分を撹拌混合し、ＡＩＢＮを完全に溶解させて触媒液とした。触媒溶解槽内の温度が５℃となるように、ジャケットに冷媒を通して調整した。得られた触媒液を、ポンプで１．４７ｋｇ／Ｈｒの流量で、１０Ｌの重合反応器（ＳＵＳ３０４、ヘルカルリボン翼撹拌機付、ジャケット付）に連続的に送液した。

重合反応器の下部から、前述の触媒液と単量体混合液とを投入し、平均滞留時間９分、温度１７５℃±２℃にて、平均重合率４９質量％となるまで重合反応させて、液状の重合体組成物を得た。その後、得られた液状の重合体組成物を重合反応器上部から取り出して、加熱器（内径１６．７ｍｍ×長さ３ｍ、ジャケット付）に送液した。

加熱器において、液状の重合体組成物を２０ｋｇ／ｃｍ^２Ｇ、２００℃まで加熱ししながら、得られた重合体組成物を脱揮押出し機に送液した。脱揮押出し機は、（株）日本製鋼所製の二軸押し出し機（ＴＥＸ−３０）、異方向回転方式、スクリュー径３０ｍｍ、シリンダの長さ１２００ｍｍ、リアーベント１個、フォアベント３個のものを用いた。脱揮押出し機の各ベントは減圧とし、シリンダ温度は２５０℃程度として液状の重合体組成物を脱揮処理して、未反応モノマーを主成分とする揮発分をベントから取り出した。取り出した未反応モノマーは、単量体回収塔（内径１００ｍｍ、長さ３ｍ、ＳＵＳ３０４、３／８インチＳＵＳ製ラシヒリング充填塔、濃縮部長さ０．７ｍ、回収部長さ０．３ｍ）に回収した。

得られた溶融状態の重合体をストランド状に押し出し、水冷した。このようにして、アクリル系オリゴマーＡ−１を得た。

（アクリル系オリゴマー（Ａ−２〜Ａ−５及びＡ−１１、Ａ−１２）の合成）
前記アクリル系オリゴマー（Ａ−１）の合成例と同様にして、重合反応の条件を調整して、重量平均分子量の異なるアクリル系オリゴマーを得た。得られた重合体の重量平均分子量Ｍｗは以下のとおりであり、それぞれ収率は８０％であった。

Ａ−２：重量平均分子量Ｍｗ＝７００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９８）
Ａ−３：重量平均分子量Ｍｗ＝７０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９７）
Ａ−４：重量平均分子量Ｍｗ＝１３０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９８）
Ａ−５：重量平均分子量Ｍｗ＝１４０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９７）
Ａ−１１：重量平均分子量Ｍｗ＝２００００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９７）
Ａ−１２：重量平均分子量Ｍｗ＝３５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝２．００）
（オリゴマー（Ｆ−１）の合成（重量平均分子量７５００）
ポリカーボネートの重合を公知のホスゲンを用いた界面重縮合法によって行った。

撹拌機、温度計及び還流冷却器を備えた反応槽に水酸化ナトリウム水溶液及びイオン交換水を仕込み、これに下記構造を有するモノマー［Ａ］と［Ｂ］を８６対１４のモル比で溶解させ、少量のハイドロサルファイトを加えた。次にこれに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを加えて乳化させた後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約５０分間撹拌して反応を終了させた。

反応終了後有機相分取し、塩化メチレンを蒸発させてポリカーボネート共重合体を得た。得られた共重合体の組成比は仕込み量比とほぼ同様であった。また、ガラス転移温度は１６２℃だった。この共重合体の、ウベローデ粘度管を用いてメチレンクロライド中２０℃で求めた極限粘度は０．８であった。

（オリゴマー（Ｆ−２）の合成（重量平均分子量７５００）
固有複屈折値が負である材料として、フルオレン骨格を有するノルボルネン系開環共重合体を用いた。

特開２００５−３６２０１号公報の［０１６１］〜［０１６４］に記載の合成法に従って、下記式（Ａ）で表されるスピロ［フルオレン−９，８′−トリシクロ［４．３．０．１^2.5］［３］デセン］（ｅｘｏ体）を合成した。

上記モノマーを３．６７ｇ、下記式（Ｃ）で表される８−メトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］−３−ドデセン３．０ｇ、分子量調節剤の１−へキセン０．６３ｇ、及び、トルエン２０．０ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．０６８ｍＬ、メタノール変性ＷＣｌ_６のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．２１ｍＬを加え、８０℃で約２０分反応させることにより開環共重合体溶液を得た。得られた開環共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は７５００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は６．０８であった。

＜光学フィルムの作製＞
＜光学フィルムＦ−Ａ１の作製＞
＜微粒子分散液の調製＞
１１．３質量部の微粒子（アエロジル Ｒ８１２、日本アエロジル（株）製）と、８４質量部のエタノールとを、ディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散した。

溶解タンク中で十分撹拌されているジクロロメタン（１００質量部）に、５質量部の微粒子分散液を、ゆっくりと添加した。さらに、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液を調製した。

＜主ドープの調製＞
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにジクロロメタン及びエタノールを添加した。ジクロロメタンの入った加圧溶解タンクにシクロオレフィン系樹脂、添加剤Ａと微粒子添加液を撹拌しながら投入した。これを加熱し、撹拌しながら完全に溶解し、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用してろ過して、主ドープを調製した。

＜光学フィルムの作製＞
シクロオレフィン系樹脂（ＡＲＴＯＮ Ｇ７８１０、ＪＳＲ（株）製）
９０質量部
ジクロロメタン ２００質量部
エタノール １０質量部
固有複屈折率が負である化合物Ａ−１ １質量部
微粒子添加液 ７．６質量部
次いで、無端ベルト流延装置を用い、主ドープを温度３１℃、１８００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は２８℃に制御した。ステンレスベルトの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。

ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）した光学フィルム中の残留溶剤量が４０％になるまで溶剤を蒸発させた。次いで、剥離張力１２８Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。剥離した光学フィルムを、１７０℃の条件下で幅方向に１．１５倍延伸した。延伸開始時の残留溶剤は５質量％であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、テンタークリップで挟んだ端部をレーザーカッターでスリットし、その後、巻き取り、膜厚１０μｍの光学フィルムＦ−Ａ１を作製した。

[光学フィルムＦ−Ａ２〜Ｆ―Ａ２２及びＦ−Ｂ１〜Ｆ−Ｂ１８の作製]
光学フィルムＦＡ−１の作製において、添加剤の種類、添加量、及び膜厚をそれぞれ表１及び表２に記載のように変化させて、光学フィルムＦ−Ａ２〜Ｆ―Ａ２２及びＦ−Ｂ１〜Ｆ−Ｂ１８を作製した。なお、添加剤の量を変化させる場合は、シクロオレフィン系樹脂と添加剤の合計が１００質量部になるように調整した。

[光学フィルムＦ−Ｂ１９及びＦ−Ａ２３の作製]
比較試料として、下記のように光学フィルムＦ−Ｂ１９を作製した。

シクロオレフィン系樹脂（ＡＲＴＯＮ Ｇ７８１０、ＪＳＲ（株）製）、を二軸押出機で混錬し、ストランド状に押出し、ペレタイザーで裁断して、シクロオレフィン系樹脂を製造した。以下「樹脂Ａ１」という。

電気化学工業株式会社製シリカフィラーＦＳ−３ＤＣ（平均粒径２．９μｍ）をボールミルに投入して粉砕し、不定形形状をした粉砕シリカフィラーを作製した。作製した粉砕シリカフィラーの平均一次粒子粒径を測定したところ、０．８μｍであった。また、２５℃における屈折率は１．４３であった。

樹脂Ａ１を９９．７質量％と、球状のシリカ微粒子として株式会社アドマテックス製シリカビーズ アドマファインＳＯ−Ｅ２（平均一次粒子粒径０．５μｍ、縦横比１．１、２５℃における屈折率１．４３）を０．３質量％とを混合して、二軸押出機で溶融混練し樹脂Ａ′を用意した。

用意した樹脂Ａ′を単軸押出機に供給し、溶融押出成形することによって、厚さ１０μｍの光学フィルムＦＢ−１９を得た。

本発明の試料として、下記のように光学フィルムＦ−Ａ２３を作製した。

スチレンオリゴマーＳ−４が１０質量％、前記樹脂Ａ′が９０質量％となるように混合し、二軸押出機で溶融混練し樹脂Ｂを用意した。

樹脂Ｂを単軸押出機に供給し、溶融押出成形することによって、厚さ１０μｍの光学フィルムＦＡ−２３を得た。

上記のようにして作製した光学フィルムＦＡ−１〜ＦＡ―２３及びＦＢ−１〜ＦＢ−１９に対して、下記のガラス転移温度（Ｔｇ）、クラック発生率、位相差値、位相差変動度を測定した。

＜耐熱性（Ｔｇ）＞
セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度をＴｇとした。

＜クラック発生率＞
光学フィルム５枚を重ね合せて（同様な構成のもの）１０ｃｍ角のトムソン刃で１００枚打ち抜き、クラック、割れ、欠けなどの打ち抜き不良を検出した隅の数（ｎ）を観察した隅の数（ｍ）で割り、クラック発生率として、下記のように百分率で示した。
クラック発生率（％）＝１００×（ｎ／ｍ）
＜位相差値＞
光学フィルムの面内方向の位相差値Ｒｏ、及び厚さ方向の位相差値Ｒｔは自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚから下記式を用いて算出する。

式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎ_ｘは、フィルムの面内方向において遅相軸方向における屈折率を表す。ｎ_ｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎ_ｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
＜位相差変動度＞
幅手方向１８００ｍｍの光学フィルムを準備し、５ｃｍおきに３５点の箇所で面内位相差値Ｒｏを測定した。幅手方向１８００ｍｍの光学フィルム３枚について上記測定を行い計１０５点の測定を行った。Ｒｏの平均値を計算し、１０５点の測定点のうち位相差値が平均値から２ｎｍ以上離れている点の個数を位相差変動度とした。

光学フィルムの構成と、以上の結果をまとめて表１及び表２に示した。

なお表中のシクロオレフィン系樹脂Ｐ−１は、ＪＳＲ社製Ｇ７８１０（商品名）、Ｐ−２はＪＳＲ社製Ｒ５０００（商品名）、Ｐ−３はＪＳＲ社製ＲＸ４５００（商品名）を表す。

表１及び表２の結果から本発明の光学フィルムはクラック発生率が小さく、位相差変動度が小さいゼロ位相差性の光学フィルムが得られたことがわかる。

[実施例２]
光学フィルム中に紫外線吸収剤としてＴＩＮＵＶＩＮ９２８（ＢＡＳＦ社製）（登録商標）を１質量％添加した以外は、実施例１の光学フィルムＦ−Ａ１０と同様の試料を作製しＦ−Ａ２４とした。実施例１と同様にガラス転移温度（Ｔｇ）、クラック発生率、位相差値、位相差変動値を測定した。

光学フィルムＦ−Ａ２４の構成と、測定の結果をまとめて表３に示した。

光学フィルムＦ−Ａ２４は、Ｆ−Ａ１０と同様にガラス転移温度（Ｔｇ）、クラック発生率、位相差値、位相差変動度が良好であった。

[実施例３]
＜偏光板の作製＞
＜偏光子を有する延伸積層体１の作製＞
＜積層体１の作製＞
帯電防止処理が施された厚さ１２０μｍの非晶性ポリエチレンテレフタレートシートの表面をコロナ処理し、熱可塑性樹脂層Ａとした。
親水性高分子としてポリビニルアルコール粉末（日本酢ビポバール（株）製、平均重合度２５００、ケン化度９９．０モル％以上、商品名：ＪＣ−２５）を９５℃の熱水中に溶解させ濃度８質量％のポリビニルアルコール水溶液を調製した。得られたポリビニルアルコール水溶液を、積層用の熱可塑性樹脂層Ａ上に、リップコーターを用いて塗工し、８０℃で２０分間乾燥させ、熱可塑性樹脂層Ａとポリビニルアルコールから構成される親水性樹脂層（偏光子１）を積層した積層体１を作製した。なお、親水性樹脂層（偏光子１）の厚さは、１２．０μｍであった。

＜延伸工程＞
上記積層体１を、搬送方向（ＭＤ方向）に１６０℃で５．３倍の自由端一軸延伸処理を施し、延伸積層体１を作製した。なお、延伸積層体１における親水性樹脂層（偏光子１）の厚さは５．６μｍであった。

＜染色工程＞
次いで、延伸積層体１を６０℃の温浴に６０秒浸漬し、水１００質量部あたりヨウ素を０．０５質量部及びヨウ化カリウムを５質量部それぞれ含有する水溶液に、温度２８℃で６０秒間浸漬した。次いで、緊張状態に保ったまま、水１００質量部あたりホウ酸を７．５質量部及びヨウ化カリウムを６質量部それぞれ含有するホウ酸水溶液に、温度７３℃で３００秒間浸漬した。その後、１５℃の純水で１０秒間洗浄した。水洗したフィルムを緊張状態に保ったまま、７０℃で３００秒間乾燥し、熱可塑性樹脂層Ａと偏光子１からなる延伸積層体１を得た。

＜偏光板の作製１＞
下記工程１〜６に従って、上記作製した延伸積層体１と、本発明の光学フィルムＦ−Ａ１を貼合し、次いで熱可塑性樹脂層Ａを剥離して、偏光板ＰＬ−Ａ１′を作製した。工程１：Ｆ−Ａ１を６０℃の２モル／Ｌ水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗及び乾燥して、鹸化した。
工程２：前記延伸積層体１の偏光子１を有する面に、固形分が２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。
工程３：工程２でポリビニルアルコール接着剤を塗布した面（偏光子１形成面）と、工程１で処理した光学フィルムＦ−Ａ１とが相対するよう配置した。なお光学フィルムＦ−Ａ１は、偏光子１の吸収軸と光学フィルムＦ−Ａ１の遅相軸が垂直になるように貼合した。工程４：工程３で重ね合わせた試料を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した貼合試料を２分間乾燥し、Ｆ−Ａ１、偏光子１、熱可塑性樹脂層Ａからなる偏光板を得た。
工程６：得られた偏光板から熱可塑性樹脂層Ａを剥離し、偏光板ＰＬ−Ａ１′を得た。
＜偏光板の作製２＞
下記工程７〜１１に従って、上記作製したＰＬ−Ａ１′と、前記コニカミノルタタック２ＵＡＨ（商品名）（コニカミノルタ(株)製）（以下「ＫＣ２ＵＡＨ」という。）を貼合し、偏光板ＰＬ−Ａ１を作製した。
工程７：ＫＣ２ＵＡＨを６０℃の２モル／Ｌ水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗及び乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した。
工程８：前記ＰＬ−Ａ１′のＦ−Ａ１が貼合されていない側の偏光子１の面に、固形分が２質量％のポリビニルアルコール接着剤を塗布した。
工程９：工程８でポリビニルアルコール接着剤を塗布した面と、工程７で処理した２ＵＡＨのハードコート層が付与されていない面とが相対するよう配置した。
工程１０：工程９で重ね合わせた試料を、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
工程１１：８０℃の乾燥機中に工程１０で作製した貼合試料を２分間乾燥し、ＰＬ−Ａ１′、 ２ＵＡＨからなる偏光板、すなわち、光学フィルムＦ−Ａ１、偏光子１、偏光板保
護フィルムＫＣ２ＵＡＨからなる偏光板ＰＬ−Ａ１を得た。
次に、偏光板ＰＬ−Ａ１において、光学フィルムの種類を、表４に記載のように変化させた以外は偏光板ＰＬ−Ａ１と同一の偏光板ＰＬ−Ａ２〜ＰＬ−Ａ２４及びＰＬ−Ｂ１〜ＰＬ−Ｂ１９を作製した。

このようにして作製した偏光板について、下記のようにして偏光子の湿熱耐久性を測定した。

＜湿熱耐久性（偏光子）＞
液晶パネルに搭載された状態を再現するために、本発明の光学フィルムの偏光子とは反対側の面を、粘着層を介してガラスに貼り付けた後、４０℃、相対湿度９０％の環境下で１０００時間保管した際の保管前後での偏光子の退色を目視で観察し下記の評価基準で評価した。
◎：退色無し
○：わずかに退色が見られるが偏光性能に支障は無い
×：明らかに退色している
液晶パネルに搭載された状態を再現するために、本発明の光学フィルムの偏光子とは反対側の面を、粘着層を介してガラスに貼り付けた後、４０℃、相対湿度９０％の環境下で１０００時間保管（耐久処理）した際の保管前後での偏光子の退色を目視で観察し下記の評価基準で評価した。
◎：退色無し
○：ごくわずかに退色が見られる
×：明らかに退色している
＜湿熱耐久性（光漏れ）＞
加えて、偏光性能に関しての評価を以下の様にして行った。耐久処理を施していないＰＬ−Ａ１を、２ＵＡＨがシャーカステン側に、Ｆ−Ａ１が視認側にくるようにして、シャーカステン上に置いた。その上に、上記でガラスに貼り付けて耐久処理を施した偏光板を、ガラスがシャーカステン側、２ＵＡＨが視認側となるようにして置いた。すなわち、光源から順に、シャーカステン、２ＵＡＨ（耐久処理していない）、偏光子（耐久処理していない）、Ｆ−Ａ１（耐久処理していない）、ガラス、粘着層、Ｆ−Ａ１（耐久処理後）、偏光子（耐久処理後）、２ＵＡＨ（耐久処理後）となるようにした。この時、上記２つの偏光子は、吸収軸が互いに垂直（クロスニコル）になるように配置した。その状態で、光源を点灯し、正面から目視で観察し、下記の評価基準で評価した。
◎：光漏れが無い
○：ごくわずかに光漏れがある
×：明らかに光漏れがある
偏光板の構成と、以上の結果をまとめて表４に示した。

表４の結果から本発明の偏光板は湿熱耐久性が良いことがわかる。

[実施例４]
＜液晶表示装置の作製＞
上記作製した偏光板の特性を評価するため、ＩＰＳモードである（株）日立製作所製液晶テレビ（Ｗｏｏｏ Ｗ３２−Ｌ７０００）の液晶パネルの観察者側の前面及び背面に貼付している偏光板を剥がし、この剥がした箇所に、上記実施例３で作製した偏光板ＰＬ−Ａ１〜ＰＬ−Ａ２４及びＰＬ−Ｂ１〜ＰＬ−Ｂ１９を光源側（背面）と視認側（前面）に、それぞれ元々貼合されていた偏光板の透過軸と同一にして、アクリル系透明粘着剤を用いて貼合し、液晶表示装置ＣＬＤ−Ａ１〜ＣＬＤ−Ａ２４及びＣＬＤ−Ｂ１〜ＣＬＤ−Ｂ１９とした。

このようにして作製した液晶表示装置の湿熱耐久性を下記の測定法、評価基準で評価を行った。

＜液晶表示装置の湿熱耐久性＞
液晶表示装置を４０℃、相対湿度９０％の環境下で１０００時間保管し、試験前後での黒表示部を目視で観察した。
◎：耐久前と変化なく、良好な黒色を維持している。
○：耐久前より僅かに黒輝度の低下を感じるが、黒色を維持している。
×：明らかに黒色度が低下している。

液晶表示装置の構成と、以上の結果をまとめて表５に示した。

表５の結果から本発明の液晶表示装置は湿熱耐久性が良いことがわかる。

本発明は、打ち抜き時のクラックや切り粉の発生が生じず、また、光学フィルム面の場所による位相差値の変動が少ないゼロ位相差性の光学フィルムとして利用することができ、特に当該光学フィルムを具備した偏光板及び表示装置に利用することができる。

１０ 偏光子
２０ 光学フィルム
３０ 保護フィルム
１０１ 偏光板

Claims (6)

1. シクロオレフィン系樹脂と固有複屈折率が負である化合物を含有する光学フィルムであって、
   前記シクロオレフィン系樹脂が、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマー由来の重合体であり、
   前記固有複屈折率が負である化合物の重量平均分子量が５００〜１４０００の範囲内であり、
   前記固有複屈折率が負である化合物が１〜４９質量％の範囲内で含有されており、
   前記光学フィルムの膜の厚さが５〜２０μｍの範囲内であり、
   前記光学フィルムの、下記式（ｉ）で定義されるフィルム面内の位相差値Ｒｏ（ｎｍ）及び下記式（ii）で定義されるフィルム膜厚方向の位相差値Ｒｔ（ｎｍ）が、下記式（iii）及び（iv）で規定する条件を満たすことを特徴とする光学フィルム。
   （ｉ）Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
   （ii）Ｒｔ＝（（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ）×ｄ
   （iii）０≦Ｒｏ≦５
   （iv）−１０≦Ｒｔ≦１０
   〔式中、Ｒｏ及びＲｔは温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で波長５９０ｎｍの光で測定した位相差値である。
   ｎ_ｘは、フィルム平面内の遅相軸方向の屈折率である。
   ｎ_ｙは、フィルム平面内の遅相軸方向に垂直な方向の屈折率である。
   ｎ_ｚは、フィルム面に垂直な方向の屈折率である。
   ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）である。〕
   

   

   上記一般式（Ｉ）において、ｐは０又は１であり、ｍは０又は１以上の整数である。Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、又は水素結合受容性基である。また、Ｒ^１〜Ｒ^４は、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。
2. 前記一般式（Ｉ）で表される構造を有するシクロオレフィン系モノマーのｐが０であり、かつＲ^１及びＲ^２が水素原子、Ｒ^３がメチル基、Ｒ^４がメトキシカルボニル基であることを特徴とする特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記光学フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）が、１３０〜２１０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム。
4. 前記固有複屈折率が負である化合物が、芳香族ビニル系化合物由来のオリゴマー又はアクリル系オリゴマーのいずれかであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
5. 偏光子の少なくとも片面に前記請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学フィルムを具備したことを特徴とする偏光板。
6. 請求項５に記載の偏光板を用いたことを特徴とする表示装置。

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