JPWO2016136825A1 - カーボンナノチューブ高密度集合体およびカーボンナノチューブ高密度集合体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
カーボンナノチューブ高密度集合体1は、図3Cに示すように、可撓性を有するシート状(フィルム状)を有しており、具体的には、所定方向に厚みを有し、所定方向(厚み方向)と直交する面方向(縦方向および横方向)に延び、平坦な表面および平坦な裏面を有している。
2.カーボンナノチューブ高密度集合体の製造方法
次に、カーボンナノチューブ高密度集合体1の製造方法について説明する。
ステンレス製の基板上全体に、二酸化ケイ素膜を積層した後、二酸化ケイ素膜上に、触媒層として鉄を蒸着した。なお、基板は、平面視略長方形形状を有する。
実施例1と同様にして、複数のカーボンナノチューブの平均長さが約100μmであるカーボンナノチューブ集合体を形成した。
実施例1と同様にして、複数のカーボンナノチューブの平均長さが約300μmであるカーボンナノチューブ集合体を形成した。
カーボンナノチューブ集合体の加熱処理温度を、2800℃から2600℃に変更した点以外は、実施例1と同様にして、カーボンナノチューブ高密度集合体を得た。
カーボンナノチューブ集合体の加熱処理温度を、2800℃から2900℃に変更した点以外は、実施例1と同様にして、カーボンナノチューブ高密度集合体を調製した。
カーボンナノチューブ集合体の加熱処理温度を、2800℃から3000℃に変更した点以外は、実施例1と同様にして、カーボンナノチューブ高密度集合体を調製した。
カーボンナノチューブ集合体の加熱処理時において、カーボンナノチューブ集合体上に、約2gの炭素板を配置した点以外は、実施例5と同様にして、カーボンナノチューブ高密度集合体を調製した。
カーボンナノチューブの平均長さが約300μmであること以外は、実施例1と同様にして、基板から剥離されたカーボンナノチューブ集合体を調製した。
一次加熱処理の加熱温度を2600℃に変更したこと、および、二次加熱処理の加熱温度を2600℃に変更したこと以外は、実施例8と同様にして、二次カーボンナノチューブ高密度集合体を調製した。
実施例8と同様にして、一次カーボンナノチューブ高密度集合体を調製した。なお、二次加熱処理工程は実施しなかった。
昇温速度を1℃/分に変更したこと以外は、実施例8と同様にして、一次カーボンナノチューブ高密度集合体を調製した。なお、二次加熱処理工程は実施しなかった。
実施例8と同様にして、カーボンナノチューブ集合体を一次加熱処理した後、2800℃から2000℃まで5℃/分で降温させ、次いで、自然冷却(降温速度:−100℃/分)により室温まで冷却して、一次カーボンナノチューブ高密度集合体を調製した。なお、二次加熱処理工程は実施しなかった。
一次加熱処理における加熱時間を4時間に変更したこと以外は、実施例8と同様にして、一次カーボンナノチューブ高密度集合体を調製した。なお、二次加熱処理工程は実施しなかった。
カーボンナノチューブの平均長さが約100μmであること以外は、実施例1と同様にして、基板から剥離されたカーボンナノチューブ集合体を調製した。
カーボンナノチューブ集合体の加熱処理温度を、2800℃から2200℃に変更した点以外は、実施例1と同様にして、加熱処理されたカーボンナノチューブ集合体(以下、低温加熱カーボンナノチューブ集合体とする。)を調製した。
実施例1と同様にして、基板から剥離されたカーボンナノチューブ集合体を準備した。
実施例1と同様にして、複数のカーボンナノチューブの平均長さが約200μmであるカーボンナノチューブ集合体を調製した。なお、カーボンナノチューブ集合体は、加熱処理しなかった。
実施例1と同様にして、複数のカーボンナノチューブの平均長さが約100μmであるカーボンナノチューブ集合体を調製した。なお、カーボンナノチューブ集合体は、加熱処理しなかった。
実施例1と同様にして、複数のカーボンナノチューブの平均長さが約300μmであるカーボンナノチューブ集合体を調製した。なお、カーボンナノチューブ集合体は、加熱処理しなかった。
実施例14と同様にして、カーボンナノチューブ集合体を調製した。そして、カーボンナノチューブ集合体を、加熱処理せずに、実施例14と同様に液体処理した。
(1)G/D比測定
各実施例において得られたカーボンナノチューブ高密度集合体、各比較例において得られたカーボンナノチューブ集合体(低温加熱カーボンナノチューブ集合体、機械圧縮カーボンナノチューブ集合体、および、カーボンナノチューブ集合体)を、ラマン分光装置(日本分光社製)により分析し、得られたラマンスペクトルから、G/D比を算出した。その結果を表1および表2に示す。
各実施例のカーボンナノチューブ高密度集合体、比較例1の低温加熱カーボンナノチューブ集合体、および、比較例2の機械圧縮カーボンナノチューブ集合体の平均嵩密度を測定した。
各実施例において得られたカーボンナノチューブ高密度集合体、各比較例において得られたカーボンナノチューブ集合体の各部の嵩密度を、下記の方法により測定した。
各実施例において得られたカーボンナノチューブ高密度集合体、および、各比較例において得られたカーボンナノチューブ集合体について、厚み方向(カーボンナノチューブの配向方向)の電気伝導率を、電気伝導率測定装置(KEITHLEY社製)により測定した。その結果を、表1に示す。なお、実施例7において得られたカーボンナノチューブ高密度集合体は、一部が破断していたため、電気伝導率の測定ができなかった。
各実施例において得られたカーボンナノチューブ高密度集合体、および、各比較例において得られたカーボンナノチューブ集合体について、厚み方向(カーボンナノチューブの配向方向)の熱抵抗を、熱抵抗定装置(商品名:T3Ster DynTIM Tester、Mentor Graphics社製)により測定した。
2 カーボンナノチューブ
8 基板
13 カーボンナノチューブ集合体
Claims (7)
- 基板上に配置され、前記基板に対して垂直に配向される複数のカーボンナノチューブからなるカーボンナノチューブ集合体を準備する工程と、
前記カーボンナノチューブ集合体を、2600℃以上に加熱処理する工程とを含んでいることを特徴とする、カーボンナノチューブ高密度集合体の製造方法。 - 前記カーボンナノチューブ集合体を加熱処理する工程において、前記カーボンナノチューブ集合体を前記基板から剥離した後、前記カーボンナノチューブ集合体を加熱処理することを特徴とする、請求項1に記載のカーボンナノチューブ高密度集合体の製造方法。
- 前記カーボンナノチューブ集合体を加熱処理する工程において、無負荷の状態で、前記カーボンナノチューブ集合体を加熱することを特徴とする、請求項1に記載のカーボンナノチューブ高密度集合体の製造方法。
- 前記カーボンナノチューブ集合体を加熱処理する工程の後において、前記カーボンナノチューブ集合体を2000℃以下に冷却する工程をさらに含み、
前記カーボンナノチューブ集合体を加熱処理する工程と、前記カーボンナノチューブ集合体を冷却する工程とを、順次繰り返すことを特徴とする、請求項1に記載のカーボンナノチューブ高密度集合体の製造方法。 - 前記カーボンナノチューブ集合体を加熱処理する工程の後において、前記カーボンナノチューブ集合体に液体を供給する工程をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載のカーボンナノチューブ高密度集合体の製造方法。
- 請求項1に記載のカーボンナノチューブ高密度集合体の製造方法により製造されることを特徴とする、カーボンナノチューブ高密度集合体。
- 所定方向に配向される複数のカーボンナノチューブが、前記所定方向に互いに連続することなく、前記所定方向と直交する方向に互いに連続してシート形状となるように配列され、
シート形状に配列される前記複数のカーボンナノチューブの平均嵩密度が、50mg/cm3を超過し、200mg/cm3以下であり、
シート形状に配列される前記複数のカーボンナノチューブにおいて、前記平均嵩密度に対する、各部の嵩密度の割合は、80%以上120%以下であり、
前記複数のカーボンナノチューブが互いに接触するように、形状を保持していることを特徴とする、カーボンナノチューブ高密度集合体。
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