JPWO2016067885A1 - 層状複水酸化物含有複合材料 - Google Patents
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Abstract
Description
前記多孔質基材上及び/又は前記多孔質基材中に形成され、一般式:M2+ 1−xM3+ x(OH)2An− x/n・mH2O(式中、M2+は2価の陽イオン、M3+は3価の陽イオンであり、An−はn価の陰イオン、nは1以上の整数、xは0.1〜0.4であり、mは任意の実数である)で表される層状複水酸化物を含んでなる機能層と、
を備えてなり、前記機能層が前記多孔質基材との界面及びその近傍に硫黄(S)をさらに含有する、層状複水酸化物含有複合材料が提供される。
本発明の層状複水酸化物含有複合材料(LDH含有複合材料)は、多孔質基材と、この多孔質基材上及び/又は多孔質基材中に形成される機能層とを備えてなる。機能層は、一般式:M2+ 1−xM3+ x(OH)2An− x/n・mH2O(式中、M2+は2価の陽イオン、M3+は3価の陽イオンであり、An−はn価の陰イオン、nは1以上の整数、xは0.1〜0.4である)で表される層状複水酸化物(LDH)を含んでなり、好ましくはそのようなLDHから主としてなる。そして、機能層は、多孔質基材との界面及びその近傍に硫黄(S)をさらに含有する。硫黄の存在形態は特に限定されず、元素分析によりSの存在が確認できればよい。このように、LDH含有機能層において、多孔質基材との界面及びその近傍に硫黄(S)を存在させることで、LDH含有機能層の伝導率を有意に向上させることができる。前述のとおり、LDHの実用化のためには薄膜化による低抵抗化が望まれるが、本発明によれば望ましく低抵抗なLDH含有機能層を備えたLDH含有複合材料を提供できるので、亜鉛空気電池やニッケル亜鉛電池等のアルカリ二次電池へ固体電解質セパレータとしてLDHの適用において有利となる。
層状複水酸化物含有複合材料(LDH含有複合材料)は、(1)多孔質基材を用意し、(2)多孔質基材に硫黄(S)を付着させ、(3)マグネシウムイオン(Mg2+)及びアルミニウムイオン(Al3+)を0.20〜0.40mol/Lの合計濃度で含み、かつ、尿素を含んでなる原料水溶液に、多孔質基材を浸漬させ、(4)原料水溶液中で多孔質基材を水熱処理して、層状複水酸化物を含んでなる機能層を多孔質基材上及び/又は多孔質基材中に形成させることにより製造することができる。
多孔質基材は、前述したとおりであり、セラミックス材料、金属材料、及び高分子材料からなる群から選択される少なくとも1種で構成されるのが好ましい。多孔質基材は、セラミックス材料で構成されるのがより好ましい。この場合、セラミックス材料の好ましい例としては、アルミナ、ジルコニア、チタニア、マグネシア、スピネル、カルシア、コージライト、ゼオライト、ムライト、フェライト、酸化亜鉛、炭化ケイ素、及びそれらの任意の組合せが挙げられ、より好ましくは、アルミナ、ジルコニア、チタニア、及びそれらの任意の組合せであり、特に好ましくはアルミナ及びジルコニアであり、最も好ましくはアルミナである。これらの多孔質セラミックスを用いるとLDH含有機能層の緻密性を向上しやすい傾向がある。セラミックス材料製の多孔質基材を用いる場合、超音波洗浄、イオン交換水での洗浄等を多孔質基材に施すのが好ましい。
多孔質基材への硫黄(S)の付着はいかなる方法によって行ってもよく特に限定されないが、スルホン化処理により行われるのが好ましい。スルホン化処理は、スルホン化可能な基材又はスルホン化可能に表面処理された基材を、硫酸(例えば濃硫酸)、発煙硫酸、クロロスルホン酸、無水硫酸等のスルホン化可能な酸に浸漬すればよく、他のスルホン化技術を用いてもよい。スルホン化可能な酸への浸漬は室温又は高温(例えば50〜150℃)で行えばよく、浸漬時間は特に限定されないが、例えば1〜14日間である。スルホン化可能な基材の好ましい例としては高分子基材が挙げられる。スルホン化可能な高分子基材は前述したとおりである。あるいは、スルホン化可能でない又はスルホン化に適さない基材(例えばセラミックス基材)であってもスルホン化が可能となるように表面処理すれば、上記スルホン化可能な基材と同様にしてスルホン化を行うことができる。そのような表面処理は基材へのポリマーの付着により行われるのが好ましく、そのようなポリマーとしては上述したスルホン化可能な高分子基材と同様の高分子材料を用いるのが好ましい。また、基材へのポリマーの付着は、ポリマーを溶解させた溶液(以下、ポリマー溶液という)を基材の表面に塗布することにより行われるのが好ましい。ポリマー溶液は、例えば、ポリマー固形物(例えばポリスチレン基板)を有機溶媒(例えばキシレン溶液)に溶解することにより容易に作製することができる。ポリマー溶液は多孔質基材の内部にまで浸透させないようにするのが、均一な塗布を実現しやすい点で好ましい。この点、ポリマー溶液の付着ないし塗布はスピンコートにより行うのが極めて均一に塗布できる点で好ましい。スピンコートの条件は特に限定されないが、例えば1000〜10000rpmの回転数で、滴下と乾燥を含めて60〜300秒間程度行えばよい。
次に、多孔質基材を原料水溶液に所望の向きで(例えば水平又は垂直に)浸漬させる。多孔質基材を水平に保持する場合は、吊るす、浮かせる、容器の底に接するように多孔質基材を配置すればよく、例えば、容器の底から原料水溶液中に浮かせた状態で多孔質基材を固定としてもよい。多孔質基材を垂直に保持する場合は、容器の底に多孔質基材を垂直に設置できるような冶具を置けばよい。いずれにしても、多孔質基材にLDHを略垂直方向又はそれに近い方向(すなわちLDH板状粒子がそれらの板面が多孔質基材の表面(基材面)と略垂直に又は斜めに交差するような向きに)に成長させる構成ないし配置とするのが好ましい。原料水溶液は、マグネシウムイオン(Mg2+)及びアルミニウムイオン(Al3+)を所定の合計濃度で含み、かつ、尿素を含んでなる。尿素が存在することで尿素の加水分解を利用してアンモニアが溶液中に発生することによりpH値が上昇し、共存する金属イオンが水酸化物を形成することによりLDHを得ることができる。また、加水分解に二酸化炭素の発生を伴うため、陰イオンが炭酸イオン型のLDHを得ることができる。原料水溶液に含まれるマグネシウムイオン及びアルミニウムイオンの合計濃度(Mg2++Al3+)は0.20〜0.40mol/Lが好ましく、より好ましくは0.22〜0.38mol/Lであり、さらに好ましくは0.24〜0.36mol/L、特に好ましくは0.26〜0.34mol/Lである。このような範囲内の濃度であると核生成と結晶成長をバランスよく進行させることができ、配向性のみならず緻密性にも優れたLDH含有機能層を得ることが可能となる。すなわち、マグネシウムイオン及びアルミニウムイオンの合計濃度が低いと核生成に比べて結晶成長が支配的となり、粒子数が減少して粒子サイズが増大する一方、この合計濃度が高いと結晶成長に比べて核生成が支配的となり、粒子数が増大して粒子サイズが減少するものと考えられる。
そして、原料水溶液中で多孔質基材を水熱処理して、LDHを含んでなる機能層を多孔質基材上及び/又は多孔質基材中に形成させる。この水熱処理は密閉容器中、60〜150℃で行われるのが好ましく、より好ましくは65〜120℃であり、さらに好ましくは65〜100℃であり、特に好ましくは70〜90℃である。水熱処理の上限温度は多孔質基材(例えば高分子基材)が熱で変形しない程度の温度を選択すればよい。水熱処理時の昇温速度は特に限定されず、例えば10〜200℃/hであってよいが、好ましくは100〜200℃/hである、より好ましくは100〜150℃/hである。水熱処理の時間はLDH含有機能層の目的とする密度と厚さに応じて適宜決定すればよい。
X線回折装置(リガク社製 RINT TTR III)にて、電圧:50kV、電流値:300mA、測定範囲:10〜70°の測定条件で、膜試料の結晶相を測定してXRDプロファイルを得る。得られたXRDプロファイルについて、JCPDSカードNO.35−0964に記載される層状複水酸化物(ハイドロタルサイト類化合物)の回折ピークを用いて同定を行った。
膜試料の表面微構造を走査型電子顕微鏡(SEM、JSM−6610LV、JEOL社製)を用いて10〜20kVの加速電圧で観察した。
膜試料が透水性を有しない程の緻密性を有することを確認すべく、緻密性判定試験を以下のとおり行った。まず、図4Aに示されるように、LDH含有複合材料試料120(1cm×1cm平方に切り出されたもの)の膜試料側に、中央に0.5cm×0.5cm平方の開口部122aを備えたシリコンゴム122を接着し、得られた積層物を2つのアクリル製容器124,126で挟んで接着した。シリコンゴム122側に配置されるアクリル製容器124は底が抜けており、それによりシリコンゴム122はその開口部122aが開放された状態でアクリル製容器124と接着される。一方、複合材料試料120の多孔質基材側に配置されるアクリル製容器126は底を有しており、その容器126内にはイオン交換水128が入っている。この時、イオン交換水にAl及び/又はMgを溶解させておいてもよい。すなわち、組み立て後に上下逆さにすることで、複合材料試料120の多孔質基材側にイオン交換水128が接するように各構成部材が配置されてなる。これらの構成部材等を組み立て後、総重量を測定した。なお、容器126には閉栓された通気穴(図示せず)が形成されており、上下逆さにした後に開栓されることはいうまでもない。図4Bに示されるように組み立て体を上下逆さに配置して25℃で1週間保持した後、総重量を再度測定した。このとき、アクリル製容器124の内側側面に水滴が付着している場合には、その水滴を拭き取った。そして、試験前後の総重量の差を算出することにより緻密度を判定した。25℃で1週間保持した後においても、イオン交換水の重量に変化は見られなかった場合に、膜試料(すなわち機能膜)は透水性を有しない程に高い緻密性を有するものと判定した。
膜試料が通気性を有しない程の緻密性を有することを確認すべく、緻密性判定試験を以下のとおり行った。まず、図5A及び5Bに示されるように、蓋の無いアクリル容器130と、このアクリル容器130の蓋として機能しうる形状及びサイズのアルミナ治具132とを用意した。アクリル容器130にはその中にガスを供給するためのガス供給口130aが形成されている。また、アルミナ治具132には直径5mmの開口部132aが形成されており、この開口部132aの外周に沿って膜試料載置用の窪み132bが形成されてなる。アルミナ治具132の窪み132bにエポキシ接着剤134を塗布し、この窪み132bに複合材料試料136の膜試料136b側を載置してアルミナ治具132に気密かつ液密に接着させた。そして、複合材料試料136が接合されたアルミナ治具132を、アクリル容器130の開放部を完全に塞ぐようにシリコーン接着剤138を用いて気密かつ液密にアクリル容器130の上端に接着させて、測定用密閉容器140を得た。この測定用密閉容器140を水槽142に入れ、アクリル容器130のガス供給口130aを圧力計144及び流量計146に接続して、ヘリウムガスをアクリル容器130内に供給可能に構成した。水槽142に水143を入れて測定用密閉容器140を完全に水没させた。このとき、測定用密閉容器140の内部は気密性及び液密性が十分に確保されており、複合材料試料136の膜試料136b側が測定用密閉容器140の内部空間に露出する一方、複合材料試料136の多孔質基材136a側が水槽142内の水に接触している。この状態で、アクリル容器130内にガス供給口130aを介してヘリウムガスを測定用密閉容器140内に導入した。圧力計144及び流量計146を制御して膜試料136a内外の差圧が0.5atmとなる(すなわちヘリウムガスに接する側に加わる圧力が反対側に加わる水圧よりも0.5atm高くなる)ようにして、複合材料試料136から水中にヘリウムガスの泡が発生するか否かを観察した。その結果、ヘリウムガスに起因する泡の発生は観察されなかった場合に、膜試料136bは通気性を有しない程に高い緻密性を有するものと判定した。
クロスセクションポリッシャ(CP)により、複合材料試料(LDH膜及び多孔質基材)の断面研磨面が観察できるように研磨した。FE−SEM(ULTRA55、カールツァイス製)により、複合材料試料(LDH膜及び多孔質基材)の断面イメージを15000倍以上の倍率で3視野取得した。この3視野のイメージの各々におけるLDH膜と多孔質基材の界面部分の任意の3点(すなわち計9点)について、EDS分析装置(NORAN System SIX、サーモフィッシャーサイエンティフィック製)により、加速電圧10kV、収集時間100secの条件にて、組成分析(点分析)を行った。各点の組成分析結果からSの濃度(原子%)を求め、全9点のSの濃度の平均値を界面部分のS含有量とした。
電解液中での膜試料の伝導率を図6に示される電気化学測定系を用いて以下のようにして測定した。複合材料試料S(LDH膜付き多孔質基材)を両側から厚み1mmシリコーンパッキン40で挟み、内径6mmのPTFE製フランジ型セル42に組み込んだ。電極46として、#100メッシュのニッケル金網をセル42内に直径6mmの円筒状にして組み込み、電極間距離が2.2mmになるようにした。電解液44として、6MのKOH水溶液をセル42内に充填した。電気化学測定システム(ポテンショ/ガルバノスタッド−周波数応答アナライザ、ソーラトロン社製1287A型及び1255B型)を用い、周波数範囲は1MHz〜0.1Hz、印加電圧は10mVの条件で測定を行い、実数軸の切片を膜試料(LDH膜付き多孔基材)の抵抗とした。上記同様の測定をLDH膜の付いていない多孔質基材のみに対しても行い、多孔質基材のみの抵抗も求めた。複合材料試料S(LDH膜付き多孔基材)の抵抗と基材のみの抵抗の差をLDH膜の抵抗とした。LDH膜の抵抗と、LDHの膜厚及び面積を用いて伝導率を求めた。
クロスセクションポリッシャ(CP)により、複合材料試料(LDH膜及び多孔質基材)の断面研磨面が観察できるように研磨した。FE−SEM(ULTRA55、カールツァイス製)により、複合材料試料(LDH膜及び多孔質基材)の断面画像を10000倍の倍率で取得した(例えば図12に示される画像を参照)。この画像について、EDS分析装置(NORAN System SIX、サーモフィッシャーサイエンティフィック製)により、加速電圧5kVの条件にて、図12に点線の矢印で示されるように、炭素濃度(すなわち炭素(C)原子の濃度(原子%))のラインプロファイルをLDH膜と多孔質基材の界面部分を跨ぐように(交差するよう)、LDH膜側から多孔質基材側に向かって3μmの長さにわたって0.06μmピッチで収集した。こうして得られた炭素濃度のラインプロファイルについて、界面及びその近傍における炭素濃度の極大値の有無を確認した。界面及びその近傍における炭素濃度の極大値の存在は、測定時の外気等による汚染により不可避的に混入した炭素に起因するものでないことは明らかなため、界面及びその近傍における炭素(C)の存在を客観的に裏付ける根拠となる。
(1)多孔質基材の作製
ジルコニアとして8YSZ粉末(東ソー社製、TZ−8YS、Y2O3:8mol%)、メチルセルロース、及びイオン交換水を、(ジルコニア):(メチルセルロース):(イオン交換水)の質量比が10:1:5となるように秤量した後、混練した。得られた混練物を、ハンドプレスを用いた押出成形に付し、2.5cm×10cm×厚さ0.5cmの大きさに成形した。得られた成形体を80℃で12時間乾燥した後、1100℃で3時間焼成した。得られた焼成体を、2.0cm×2.0cm×厚さ0.3cmの大きさに加工して、ジルコニア(8YSZ)製多孔質基材を得た。
ポリスチレン基板0.6gをキシレン溶液10mlに溶かして、ポリスチレン濃度0.06g/mlのスピンコート液を作製した。得られたスピンコート液0.1mlを8YSZ多孔質基材上に滴下し、回転数8000rpmでスピンコートにより塗布した。このスピンコートは、滴下と乾燥を含めて200秒間行った。スピンコート液を塗布した多孔質基材を95%硫酸に25℃で4日間浸漬してスルホン化した。
原料として、硝酸マグネシウム六水和物(Mg(NO3)2・6H2O、関東化学株式会社製)、硝酸アルミニウム九水和物(Al(NO3)3・9H2O、関東化学株式会社製)、及び尿素((NH2)2CO、シグマアルドリッチ製)を用意した。カチオン比(Mg2+/Al3+)が2となり且つ全金属イオンモル濃度(Mg2++Al3+)が0.320mol/Lとなるように、硝酸マグネシウム六水和物と硝酸アルミニウム九水和物を秤量してビーカーに入れ、そこにイオン交換水を加えて全量を75mlとした。得られた溶液を攪拌した後、溶液中に尿素/NO3 −=4の割合で秤量した尿素を加え、更に攪拌して原料水溶液を得た。
テフロン(登録商標)製密閉容器(内容量100ml、外側がステンレス製ジャケット)に上記(3)で作製した原料水溶液と上記(2)でスルホン化した多孔質基材を共に封入した。このとき、基材はテフロン(登録商標)製密閉容器の底から浮かせて固定し、基材両面に溶液が接するように水平に設置した。その後、水熱温度70℃で168時間(7日間)水熱処理を施すことにより基材表面に層状複水酸化物配向膜(機能層)の形成を行った。所定時間の経過後、基材を密閉容器から取り出し、イオン交換水で洗浄し、70℃で10時間乾燥させて、層状複水酸化物(以下、LDHという)の緻密膜(以下、膜試料という)を基材上に得た。得られた膜試料の厚さは約1.5μmであった。こうして、層状複水酸化物含有複合材料試料(以下、複合材料試料という)を得た。なお、LDH膜は多孔質基材の両面に形成されていたが、セパレータとしての形態を複合材料に付与するため、多孔質基材の片面のLDH膜を機械的に削り取った。
得られたLDH膜試料に対して評価1〜7を行った。結果は以下のとおりであった。
‐評価1:XRDプロファイルから、膜試料はLDH(ハイドロタルサイト類化合物)であることが同定された。
‐評価2:膜試料の表面微構造のSEM画像は図7に示されるとおりであった。この図から、多孔質基材の露出している部分がなく、多孔質基材の表面の全体にわたってLDH膜がムラなく均一に形成されることが分かる。
‐評価3:膜試料は透水性を有しない程に高い緻密性を有することが確認された。
‐評価4:膜試料は通気性を有しない程に高い緻密性を有することが確認された。
‐評価5:膜試料の多孔質基材との界面におけるS含有量は0.6%であった。S含有量の測定の際に観察した1視野におけるLDH膜/多孔質基材の界面近傍のFE−SEM画像を図8に示す(同図には組成分析を行った3点が示される)。また、測定の際に図8に示される点1において取得されたEDSスペクトルが図9に示される。
‐評価6:膜試料の伝導率は2mS/cmであった。
‐評価7:界面及びその近傍に炭素濃度の極大値が確認されなかった。
例1(1)と同様にして、8YSZ多孔質基材の作製及び洗浄を行った。8YSZ多孔質基材をオートクレーブ容器に入れた。i)ポリスチレンスピンコート及びスルホン化(上記(2))を行わなかったこと、及びii)70℃で7日間の水熱処理を施す前に同じ原料水溶液を用いて60℃で4日間の水熱処理を施して基材表面にAl(OH)3を核形成させたこと以外は、例1(3)及び(4)と同様にしてLDH膜の形成及び評価を行った。すなわち、原料水溶液と多孔質基材が封入されたオートクレーブ容器中で、60℃で4日間水熱処理して基材表面にAl(OH)3を形成させた後、そのまま(すなわち原料水溶液を入れ替えずに)温度を70℃に上げて7日間水熱処理してLDH膜を形成させた。
‐評価1:XRDプロファイルから、膜試料はLDH(ハイドロタルサイト類化合物)であることが同定された。
‐評価2:膜試料の表面微構造のSEM画像は図10に示されるとおりであった。この図から、多孔質基材の露出している部分がなく、多孔質基材の表面の全体にわたってLDH膜がムラなく均一に形成されることが分かる。
‐評価3:膜試料は透水性を有しない程に高い緻密性を有することが確認された。
‐評価4:膜試料は通気性を有しない程に高い緻密性を有することが確認された。
‐評価5:膜試料の多孔質基材との界面におけるS含有量は0%であった。
‐評価6:膜試料の伝導率は0.3mS/cmであった。
‐評価7:界面及びその近傍に炭素濃度の極大値が確認されなかった。
例A1の(1)と同様にして、8YSZ多孔質基材の作製及び洗浄を行った。なお、多孔質基材表面の気孔率は42.5%、多孔質基材の平均気孔径は約0.22μmであった。8YSZ多孔質基材上へ基材を回転させながら炭素を均一にコート(蒸着)した。この炭素コートは、真空蒸着装置(SVC−700TMSG、サンユー電子株式会社製、但しオプションとして炭素蒸着用フラッシュ電源を備える)を用いて、フラッシュ式蒸着法により、フラッシュ回数:5回の条件で行った。こうして炭素を塗布した基材を95%硫酸に80℃で7日間浸漬して炭素にスルホン基を結合させた。スルホン化した多孔質基材をオートクレーブ容器に入れ、例1の(3)及び(4)と同様にしてLDH膜の形成を行った。
‐評価1:XRDプロファイルから、膜試料はLDH(ハイドロタルサイト類化合物)であることが同定された。
‐評価2:膜試料の表面微構造のSEM画像は図11に示されるとおりであった。この図から、多孔質基材の露出している部分がなく、多孔質基材の表面の全体にわたってLDH膜がムラなく均一に形成されることが分かる。
‐評価3:膜試料は透水性を有しない程に高い緻密性を有することが確認された。
‐評価4:膜試料は通気性を有しない程に高い緻密性を有することが確認された。
‐評価5:膜試料の多孔質基材との界面におけるS含有量は0.5%であった。
‐評価6:膜試料の伝導率は3.2mS/cmであり、例1よりもさらに高い伝導度が達成された。
‐評価7:図12にLDH膜/多孔質基材の界面近傍のFE−SEM画像を、図13に例3において図12に点線の矢印で示される3μmの長さにわたって測定されたLDH膜/多孔質基材の界面及びその近傍における炭素濃度のラインプロファイルを示す。図12及び13に示されるように、界面及びその近傍(特に界面)に炭素濃度の極大値が確認され、炭素(C)を含むことが確認されるとともに、界面における炭素膜又は炭素層の存在が示唆された。
Claims (14)
- 多孔質基材と、
前記多孔質基材上及び/又は前記多孔質基材中に形成され、一般式:M2+ 1−xM3+ x(OH)2An− x/n・mH2O(式中、M2+は2価の陽イオン、M3+は3価の陽イオンであり、An−はn価の陰イオン、nは1以上の整数、xは0.1〜0.4であり、mは任意の実数である)で表される層状複水酸化物を含んでなる機能層と、
を備えてなり、前記機能層が前記多孔質基材との界面及びその近傍に硫黄(S)をさらに含有する、層状複水酸化物含有複合材料。 - 前記機能層の前記多孔質基材との界面及びその近傍における硫黄含有量が0.01原子%以上である、請求項1に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記硫黄含有量が0.05〜5.0原子%である、請求項2に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記前記機能層が前記多孔質基材との界面及びその近傍に炭素(C)を更に含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記機能層が透水性を有しない、請求項1〜4のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記層状複水酸化物が複数の板状粒子の集合体で構成され、該複数の板状粒子がそれらの板面が前記多孔質基材の表面と略垂直に又は斜めに交差するような向きに配向してなる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記一般式において、少なくともM2+にMg2+を、M3+にAl3+を含み、An−にOH−及び/又はCO3 2−を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記機能層が前記多孔質基材上に形成される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記機能層が100μm以下の厚さを有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記多孔質基材が、セラミックス材料、金属材料、及び高分子材料からなる群から選択される少なくとも1種で構成される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記多孔質基材が、セラミックス材料で構成され、該セラミックス材料が、アルミナ、ジルコニア、チタニア、マグネシア、スピネル、カルシア、コージライト、ゼオライト、ムライト、フェライト、酸化亜鉛、及び炭化ケイ素からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項10に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記多孔質基材が、0.001〜1.5μmの平均気孔径を有する、請求項1〜11のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 前記多孔質基材の表面が、10〜60%の気孔率を有する、請求項1〜12のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料。
- 請求項1〜13のいずれか一項に記載の層状複水酸化物含有複合材料をセパレータとして備えた、電池。
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