JPWO2015186669A1 - 防眩膜付き基材、その製造方法、および物品 - Google Patents

Abstract

優れた防眩性能を有する防眩膜付き基材を短時間で製造できる製造方法、優れた防眩性能を有する防眩膜付き基材およびこれを備える物品の提供。基材（３）と、基材（３）上に形成された防眩膜（５）とを備える防眩膜付き基材（１）の製造方法であって、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含み、かつ前記液状媒体（Ｂ）が、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を、前記液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上含む塗料組成物を準備する工程と、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、塗料組成物を帯電させ噴霧することにより基材（３）上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜を焼成することにより防眩膜（５）を形成する工程と、を有する。

Description

本発明は、防眩膜付き基材およびその製造方法、ならびに防眩膜付き基材を備える物品に関する。

各種機器（たとえば、テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、携帯電話等）に備え付けられた画像表示装置（たとえば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等）においては、室内照明（蛍光灯等）、太陽光等の外光が表示面に映り込むと、反射像によって視認性が低下する。
外光の映り込みを抑制する方法として、凹凸を表面に有する防眩膜を、画像表示装置の表示面に配置し、外光を拡散反射させることで、反射像を不鮮明にする方法がある。

防眩膜の形成方法としては、アルコキシシランの加水分解縮合物等のシリカ前駆体を含む塗布液をスプレー法にて基材上に塗布し、焼成する方法が知られている（たとえば特許文献１参照）。スプレー法により防眩膜を形成する場合、二流体スプレーノズルが用いられることが多い。
しかし、二流体スプレーノズルを用いて塗布液を塗布する場合、スプレー幅が狭いため、スプレーヘッドを基材上で往復運動させるノズル走査が必要になる。また、高い防眩性を有する防眩膜を得るためには多くのコート回数が必要になる。そのため、塗布液の塗布に要する時間が長くなる。

一方、特許文献２では、静電塗装法を用いて特定の塗料組成物を基板上に塗布し、焼成または乾燥することによって低反射膜を形成する方法が提案されている。この方法によれば、従来のスプレーコート法の問題（たとえば、スプレーヘッドを基材の幅方向に往復させる必要があるため、幅の広い基材上に均一に低反射膜を形成するためには基材の搬送速度を遅くする必要があるという問題点や、基材上に付着せずに大気中に飛散する低反射膜形成用塗料組成物が多いため、必要とされる低反射膜形成用塗料組成物の量が多くなるという問題点等）を解決できるとされている。
しかし、特許文献２に、防眩膜に関する記載はない。特許文献２の実施例に記載の手順にしたがって基材上に膜を形成しても、低反射膜としては、優れた低反射性能を有するが、防眩膜に要求される防眩性能は有しない。

特開２００９−０５８６４０号公報 国際公開第２０１３／０６５８０１号

本発明は、優れた防眩性能を有する防眩膜付き基材を短時間で製造できる製造方法、優れた防眩性能を有する防眩膜付き基材およびこれを備える物品を提供することを目的とする。

本発明は、以下の態様を有する。
［１］基材と、前記基材上に形成された防眩膜とを備える防眩膜付き基材の製造方法であって、
シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含み、かつ前記液状媒体（Ｂ）が、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を、前記液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上含む塗料組成物を準備する工程と、
回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより前記基材上に塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を焼成することにより防眩膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする、防眩膜付き基材の製造方法。
［２］前記塗料組成物を塗布する際の前記回転霧化頭の回転速度が５０００〜８００００ｒｐｍである、［１］に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
［３］前記塗料組成物を塗布する際に、前記静電塗装ガンから０．０１〜０．３ＭＰａのエア圧でシェービングエアを吹き出させる、［１］または［２］に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
［４］前記塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量が、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３０〜１００質量％である、[１]〜[３]のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
［５］前記塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）の含有量が、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３５〜９５質量％である、[１]〜[４]のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
［６］前記塗料組成物中の粒子（Ｃ）の含有量が、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３〜４０質量％である、[１]〜[５]のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
［７］前記塗料組成物中の液状媒体（Ｂ）の含有量は、塗料組成物の固形分濃度が塗料組成物の全量（１００質量％）のうち、１〜８質量％に応じた量とされている、[１]〜[６]のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
［８］［１］〜［７］のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法により得られる防眩膜付き基材。
［９］［８］に記載の防眩膜付き基材を備える物品。
［１０］画像表示装置である、［９］に記載の物品。

本発明によれば、優れた防眩性能を有する防眩膜付き基材を短時間で製造できる製造方法、優れた防眩性能を有する防眩膜付き基材およびこれを備える物品を提供できる。

本発明における防眩膜付き基材の一例の断面模式図である。 静電塗装装置の一例を示す概略図である。 図２の静電塗装装置が備える静電塗装ガン１７の断面模式図である。 図３の静電塗装ガン１７を前方から見た正面模式図である。

以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「シリカ前駆体」とは、焼成することによってシリカを主成分とするマトリックスを形成し得る物質を意味する。
「シリカを主成分とする」とは、ＳｉＯ_２を９０質量％以上含むことを意味する。
「ケイ素原子に結合した加水分解性基」とは、加水分解によって、ケイ素原子に結合したＯＨ基に変換し得る基を意味する。
「鱗片状粒子」とは、扁平な形状を有する粒子を意味する。粒子の形状は、透過型電子顕微鏡（以下、ＴＥＭとも記す。）を用いて確認できる。
「６０゜鏡面光沢度」は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載された方法によって、裏面（防眩膜が形成された側とは反対側の面）反射を消さずに測定される。
「ヘイズ」は、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００（ＩＳＯ１４７８２：１９９９）に記載された方法によって測定される。
「算術平均粗さＲａ」は、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１（ＩＳＯ４２８７：１９９７）に記載された方法によって測定される。
「平均粒子径」は、体積基準で求めた粒度分布の全体積を１００％とした累積体積分布曲線において５０％となる点の粒子径、すなわち体積基準累積５０％径（Ｄ５０）を意味する。粒度分布は、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置で測定した頻度分布および累積体積分布曲線で求められる。
「アスペクト比」は、粒子の厚さに対する最長長さの比（最長長さ／厚さ）を意味し、「平均アスペクト比」は、無作為に選択された５０個の粒子のアスペクト比の平均値である。粒子の厚さは、原子間力顕微鏡（以下、ＡＦＭとも記す。）によって測定され、最長長さは、ＴＥＭによって測定される。

＜防眩膜付き基材＞
本発明の防眩膜付き基材の製造方法により得られる防眩膜付き基材は、基材と、基材上に形成された防眩膜とを備えるものである。

防眩膜付き基材のヘイズは、５％以上が好ましく、８〜５０％がより好ましく、１０〜３５％がさらに好ましい。ヘイズが５％以上であれば、防眩効果が充分に発揮される。ヘイズが５０％以下であれば、防眩膜付き基材を保護板や各種フィルタとして画像表示装置本体の視認側に設けた場合に、画像のコントラストの低下が充分に抑えられる。

図１は、本発明の製造方法により得られる防眩膜付き基材の一例を示す断面模式図である。
この例の防眩膜付き基材１は、基材３と、基材３上に形成された防眩膜５とを備える。

（基材）
基材３の材料としては、ガラス、金属、樹脂、シリコン、木材、紙等が挙げられる。
ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。厚みが薄くても強化処理によって大きな応力が入りやすく、画像表示装置の視認側に配置される物品として好適である点から、アルミノシリケートガラスが好ましい。また、同じ理由から、化学強化ガラスが好ましく、化学強化アルミノシリケートガラスが特に好ましい。
樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。

基材３の形態としては、板、フィルム等が挙げられる。
基材３の形状は、通常、平坦な形状である。最近では、各種機器（たとえば、テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、カーナビゲーション等）において、画像表示装置の表示面が曲面とされたものが登場しており、画像表示装置の形状に合わせて湾曲させた、曲面を有する形状であってもよい。

基材３は、基材本体の表面に機能層を有するものであってもよい。
機能層としては、アンダーコート層、密着改善層、保護層等が挙げられる。
アンダーコート層は、アルカリバリア層やワイドバンドの低屈折率層としての機能を有する。アンダーコート層としては、アルコキシシランの加水分解物（ゾルゲルシリカ）を含むアンダーコート用塗料組成物を基材本体に塗布することによって形成される層が好ましい。

（防眩膜）
防眩膜５は、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含有し、必要に応じて、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）以外の他の成分を含んでいてもよい塗料組成物の塗膜を焼成して得られたものである。塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含む場合、防眩膜５のマトリックスは、シリカ前駆体（Ａ）に由来する、シリカを主成分とするマトリックスを含む。防眩膜５は、粒子（Ｃ）から構成されてもよい。防眩膜５は、前記マトリックス中に粒子（Ｃ）が分散したものであってもよい。
塗料組成物は、液状媒体（Ｂ）として、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を含む。また、液状媒体（Ｂ１）の含有量は、前記液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上である。

防眩膜５の表面における６０゜鏡面光沢度は、１２０％以下が好ましく、１００％以下がより好ましく、８０％以下がさらに好ましい。防眩膜５の表面における６０゜鏡面光沢度は、防眩効果の指標であり、６０゜鏡面光沢度が１２０％以下であれば、防眩効果が充分に発揮される。

防眩膜５の表面の算術平均粗さＲａは、０．０５μｍ以上が好ましく、０．１０〜０．７０μｍがより好ましく、０．１５〜０．５０μｍがさらに好ましい。防眩膜５の表面の算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以上であれば、防眩効果が充分に発揮される。防眩膜５の表面の算術平均粗さＲａが前記範囲の上限値０．７０μｍ以下であれば、画像のコントラストの低下が充分に抑えられる。

防眩膜５の表面の最大高さ粗さＲｚは、０．２〜５．０μｍが好ましく、０．３〜４．５μｍがより好ましく、０．５〜４．０μｍがさらに好ましい。防眩膜５の表面の最大高さ粗さＲｚが前記範囲の下限値以上であれば、防眩効果が充分に発揮される。防眩膜５の表面の最大高さ粗さＲｚが前記範囲の上限値以下であれば、画像のコントラストの低下が充分に抑えられる。

＜防眩膜付き基材の製造方法＞
本発明の防眩膜付き基材の製造方法は、
シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含み、かつ前記液状媒体（Ｂ）が、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を、前記液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上含む塗料組成物を準備する工程（以下、塗料組成物調製工程ともいう。）と、
回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより前記基材上に塗布して塗膜を形成する工程（以下、塗布工程ともいう。）と、
前記塗膜を焼成することにより防眩膜を形成する工程（以下、焼成工程ともいう。）と、を有する。必要に応じて、防眩膜を形成する前に基材本体の表面に機能層を形成して基材を作製する工程を有していてもよく、防眩膜を形成した後に公知の後加工を施す工程を有していてもよい。

〔塗料組成物調製工程〕
塗料組成物は、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含む。
塗料組成物が、シリカ前駆体（Ａ）を含まず、粒子（Ｃ）を含む場合、粒子（Ｃ）の平均粒子径は、３０ｎｍ以下であることが好ましい。
塗料組成物は、必要に応じて、シリカ前駆体（Ａ）以外の他のバインダ（Ｄ）、その他の添加剤（Ｅ）等を含んでいてもよい。

（シリカ前駆体（Ａ））
シリカ前駆体（Ａ）としては、ケイ素原子に結合した炭化水素基および加水分解性基を有するシラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物、アルコキシシラン（ただしシラン化合物（Ａ１）を除く。）およびその加水分解縮合物（ゾルゲルシリカ）、シラザン等が挙げられる。

シラン化合物（Ａ１）において、ケイ素原子に結合した炭化水素基は、１つのケイ素原子に結合した１価の炭化水素基であってもよく、２つのケイ素原子に結合した２価の炭化水素基であってもよい。１価の炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基等が挙げられる。
炭化水素基は、炭素原子間に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−および−ＮＲ’−（ただしＲ’は水素原子または１価の炭化水素基である。）から選ばれる１つまたは２つ以上を組み合わせた基を有していてもよい。

ケイ素原子に結合した加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等が挙げられる。これらの中では、シラン化合物（Ａ１）の安定性と加水分解のしやすさとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基およびハロゲン原子（特に塩素原子）が好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１〜３のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がより好ましい。
シラン化合物（Ａ１）中に加水分解性基が複数存在する場合には、加水分解性基は、同じ基であっても異なる基であってもよく、同じ基であることが入手しやすさの点で好ましい。

シラン化合物（Ａ１）としては、後述する式（Ｉ）で表される化合物、アルキル基を有するアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等）、ビニル基を有するアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等）、エポキシ基を有するアルコキシシラン（２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等）、アクリロイルオキシ基を有するアルコキシシラン（３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等）等が挙げられる。

シラン化合物（Ａ１）としては、膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが生じにくい点から、下式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
Ｒ_３−ｐＬ_ｐＳｉ−Ｑ−ＳｉＬ_ｐＲ_３−ｐ ・・・（Ｉ）

式（Ｉ）中、Ｑは、２価の炭化水素基（炭素原子間に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−および−ＮＲ’−（ただし、Ｒ’は水素原子または１価の炭化水素基である。）から選ばれる１つまたは２つ以上を組み合わせた基を有していてもよい。）である。２価の炭化水素としては、上述したものが挙げられる。
Ｑとしては、入手が容易であり、かつ膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが生じにくい点から、炭素数２〜８のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜６のアルキレン基がさらに好ましい。

式（Ｉ）中、Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基としては、上述したものが挙げられ、好ましい態様も同様である。
Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素としては、上述したものが挙げられる。
ｐは、１〜３の整数である。ｐは、反応速度が遅くなりすぎない点から、２または３が好ましく、３が特に好ましい。

アルコキシシラン（ただし、前記シラン化合物（Ａ１）を除く。）としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等）、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン（パーフルオロポリエーテルトリエトキシシラン等）、パーフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン（パーフルオロエチルトリエトキシシラン等）等が挙げられる。

シラン化合物（Ａ１）およびアルコキシシラン（ただしシラン化合物（Ａ１）を除く。）の加水分解および縮合は、公知の方法により行うことができる。
たとえばテトラアルコキシシランの場合、テトラアルコキシシランの４倍モル以上の水、および触媒として酸またはアルカリを用いて行う。
酸としては、無機酸（ＨＮＯ_３、Ｈ_２ＳＯ_４、ＨＣｌ等。）、有機酸（ギ酸、シュウ酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸等。）が挙げられる。アルカリとしては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。触媒としては、シラン化合物（Ａ）の加水分解縮合物の長期保存性の点では、酸が好ましい。

シリカ前駆体（Ａ）としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
シリカ前駆体（Ａ）は、防眩膜のクラックや膜剥がれを防止する観点から、シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含むことが好ましい。
シリカ前駆体（Ａ）は、防眩膜の耐摩耗強度の観点から、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含むことが好ましい。
シリカ前駆体（Ａ）は、シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方と、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方と、を含むことが特に好ましい。

（液状媒体（Ｂ））
液状媒体（Ｂ）は、塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含む場合は、シリカ前駆体（Ａ）を溶解または分散するものであり、塗料組成物が粒子（Ｃ）を含む場合は、粒子（Ｃ）を分散するものである。塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の両方を含む場合、液状媒体（Ｂ）は、シリカ前駆体（Ａ）を溶解または分散する溶媒または分散媒としての機能と、粒子（Ｃ）を分散する分散媒としての機能の両方を有するものであってもよい。

液状媒体（Ｂ）は、少なくとも、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を含む。液状媒体（Ｂ１）の沸点は、５０〜１４５℃が好ましく、５５〜１４０℃がより好ましい。
液状媒体（Ｂ１）の沸点が１５０℃以下であれば、塗料組成物を、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて基材上に塗布し、焼成して得られる膜がより好ましい防眩性能を有する。液状媒体（Ｂ１）の沸点が前記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液滴が基材上に付着した後、液滴形状を十分に保ったまま凹凸構造を形成できる。

液状媒体（Ｂ１）としては、たとえば、水、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、１−ペンタノール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル等）、グリコールエーテル類（エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等）等が挙げられる。
液状媒体（Ｂ１）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

液状媒体（Ｂ）は、必要に応じて、液状媒体（Ｂ１）以外の他の液状媒体、すなわち沸点が１５０℃超の液状媒体をさらに含んでいてもよい。かかる沸点が１５０℃超の液状媒体の含有割合は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して１４質量％未満である。
他の液状媒体としては、たとえば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。
アルコール類としては、ジアセトンアルコール、１−ヘキサノール、エチレングリコール等が挙げられる。
含窒素化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。
グリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
含硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
他の液状媒体は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

シリカ前駆体（Ａ）におけるアルコキシシラン等の加水分解には水が必要となるため、加水分解後に液状媒体の置換を行わない限り、液状媒体（Ｂ）は、液状媒体（Ｂ１）として少なくとも水を含む。
この場合、液状媒体（Ｂ）は、水のみであってもよく、水と他の液体との混合液であってもよい。他の液体としては、水以外の液状媒体（Ｂ１）でもよく、他の液状媒体でもよく、たとえば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。これらのうち、シリカ前駆体（Ａ）の溶媒としては、アルコール類が好ましく、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールが特に好ましい。

（粒子（Ｃ））
粒子（Ｃ）は、単独で、またはシリカ前駆体（Ａ）に由来するマトリックスとともに、防眩膜を構成する。
塗料組成物が、シリカ前駆体（Ａ）を含まず、粒子（Ｃ）を含む場合、粒子（Ｃ）の平均粒子径は、３０ｎｍ以下であることが好ましい。
粒子（Ｃ）としては、鱗片状粒子（Ｃ１）、鱗片状粒子（Ｃ１）以外の他の粒子（Ｃ２）等が挙げられる。

鱗片状粒子（Ｃ１）：
鱗片状粒子（Ｃ１）の平均アスペクト比は、５０〜６５０が好ましく、１００〜３５０がより好ましく、１７０〜２４０がさらに好ましい。鱗片状粒子（Ｃ１）の平均アスペクト比が５０以上であれば、膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。鱗片状粒子（Ｃ１）の平均アスペクト比が６５０以下であれば、塗料組成物中における分散安定性が良好となる。

鱗片状粒子（Ｃ１）の平均粒子径は、０．０８〜０．４２μｍが好ましく、０．１７〜０．２１μｍがより好ましい。鱗片状粒子（Ｃ１）の平均粒子径が０．０８μｍ以上であれば、膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。鱗片状粒子（Ｃ１）の平均粒子径が０．４２μｍ以下であれば、塗料組成物中における分散安定性が良好となる。

鱗片状粒子（Ｃ１）としては、鱗片状シリカ粒子、鱗片状アルミナ粒子、鱗片状チタニア、鱗片状ジルコニア等が挙げられ、膜の屈折率上昇を抑え、反射率を下げることができる点から、鱗片状シリカ粒子が好ましい。

鱗片状シリカ粒子は、薄片状のシリカ１次粒子、または複数枚の薄片状のシリカ１次粒子が、互いに面間が平行的に配向し重なって形成されるシリカ２次粒子である。シリカ２次粒子は、通常、積層構造の粒子形態を有する。
鱗片状シリカ粒子は、シリカ１次粒子およびシリカ２次粒子のいずれか一方のみであってもよく、両方であってもよい。

シリカ１次粒子の厚さは、０．００１〜０．１μｍが好ましい。シリカ１次粒子の厚さが前記範囲内であれば、互いに面間が平行的に配向して１枚または複数枚重なった鱗片状のシリカ２次粒子を形成できる。
シリカ１次粒子の厚さに対する最小長さの比（最少長さ／厚さ）は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。

シリカ２次粒子の厚さは、０．００１〜３μｍが好ましく、０．００５〜２μｍがより好ましい。
シリカ２次粒子の厚さに対する最小長さの比は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。
シリカ２次粒子は、融着することなく互いに独立に存在していることが好ましい。

鱗片状シリカ粒子のＳｉＯ_２純度は、９５．０質量％以上が好ましく、９９．０質量％以上がより好ましい。
塗料組成物の調製には、複数の鱗片状シリカ粒子の集合体である粉体、または該粉体を液状媒体に分散させた分散体が用いられる。分散体中のシリカ濃度は、１〜８０質量％が好ましい。

粉体または分散体には、鱗片状シリカ粒子だけでなく、鱗片状シリカ粒子の製造時に発生する不定形シリカ粒子が含まれることがある。鱗片状シリカ粒子は、たとえば、鱗片状シリカ粒子が凝集して不規則に重なり合って形成される間隙を有する凝集体形状のシリカ３次粒子（以下、シリカ凝集体とも記す。）を解砕、分散化することによって得られる。不定形シリカ粒子は、シリカ凝集体がある程度微粒化された状態であるが、個々の鱗片状シリカ粒子まで微粒化されていない状態のものであり、複数の鱗片状シリカ粒子が塊を形成する形状である。不定形シリカ粒子を含むと、形成される防眩膜の緻密性が低下してクラックや膜剥がれが発生しやすくなるおそれがある。そのため、粉体または分散体における不定形シリカ粒子の含有量は、少ないほど好ましい。
不定形シリカ粒子およびシリカ凝集体は、いずれも、ＴＥＭ観察において黒色状に観察される。一方、薄片状のシリカ１次粒子またはシリカ２次粒子は、ＴＥＭ観察において透明または半透明状に観察される。

鱗片状シリカ粒子は、市販のものを用いてもよく、製造したものを用いてもよい。
鱗片状シリカ粒子は、後述する製造方法（Ｐ）によって製造されたものが好ましい。製造方法（Ｐ）によれば、公知の製造方法（たとえば、特許第４０６３４６４号公報に記載の方法）に比べて、製造工程での不定形シリカ粒子の発生が抑えられ、不定形シリカ粒子の含有量の少ない粉体または分散体を得ることができる。

粒子（Ｃ２）：
鱗片状粒子（Ｃ１）以外の他の粒子（Ｃ２）としては、金属酸化物粒子、金属粒子、顔料系粒子、樹脂粒子等が挙げられる。

金属酸化物粒子の材料としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ _２、ＺｎＯ、ＣｅＯ_２、Ｓｂ含有ＳｎＯ_Ｘ（ＡＴＯ）、Ｓｎ含有Ｉｎ_２Ｏ_３（ＩＴＯ）、ＲｕＯ_２等が挙げられる。金属酸化物粒子の材料としては、本発明の防眩膜におけるマトリックスがシリカであるため、屈折率がマトリックスと同じＳｉＯ_２が好ましい。
金属粒子の材料としては、金属（Ａｇ、Ｒｕ等）、合金（ＡｇＰｄ、ＲｕＡｕ等）等が挙げられる。
顔料系粒子としては、無機顔料（チタンブラック、カーボンブラック等）、有機顔料が挙げられる。
樹脂粒子の材料としては、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラニン樹脂等が挙げられる。

粒子（Ｃ２）の形状としては、球状、楕円状、針状、板状、棒状、円すい状、円柱状、立方体状、長方体状、ダイヤモンド状、星状、不定形状等が挙げられる。他の粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。
粒子（Ｃ２）は、中実粒子でもよく、中空粒子でもよく、多孔質粒子等の穴あき粒子でもよい。

粒子（Ｃ２）としては、球状シリカ粒子、棒状シリカ粒子、針状シリカ粒子等のシリカ粒子（ただし鱗片状シリカ粒子を除く。）が好ましい。中でも、防眩膜付き基材のヘーズが充分に高くなり、かつ防眩膜の表面における６０゜鏡面光沢度が充分に低くなり、その結果、防眩効果が充分に発揮される点から、球状シリカ粒子が好ましく、多孔質球状シリカ粒子がより好ましい。

粒子（Ｃ２）の平均粒子径は、０．３〜２μｍが好ましく、０．５〜１．５μｍがより好ましい。粒子（Ｃ２）の平均粒子径が０．３μｍ以上であれば、防眩効果が充分に発揮される。粒子（Ｃ２）の平均粒子径が２μｍ以下であれば、塗料組成物中における分散安定性が良好となる。

多孔質球状シリカ粒子のＢＥＴ比表面積は、２００〜３００ｍ^２／ｇが好ましい。
多孔質球状シリカ粒子の細孔容積は、０．５〜１．５ｃｍ^３／ｇが好ましい。
多孔質球状シリカ粒子の市販品としては、日産化学工業社製のライトスター（登録商標）シリーズが挙げられる。

粒子（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
粒子（Ｃ）は、鱗片状粒子（Ｃ１）を含むことが好ましく、さらに粒子（Ｃ２）を含んでもよい。鱗片状粒子（Ｃ１）を含むことで、防眩膜のヘイズが高まり、より優れた防眩性能が得られる。また、粒子（Ｃ２）に比べて、鱗片状粒子（Ｃ１）を含ませた場合、防眩膜の膜厚を厚くしたときにクラックや膜剥がれが生じにくい。

（バインダ（Ｄ））
バインダ（Ｄ）（ただしシリカ前駆体（Ａ）を除く。）としては、液体媒体（Ｂ）に溶解または分散する無機物や樹脂等が挙げられる。
無機物としては、たとえばシリカ以外の金属酸化物前駆体（金属：チタン、ジルコニウム、等）が挙げられる。
樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等が挙げられる。

（添加剤（Ｅ））
塗料組成物は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で添加剤（Ｅ）をさらに含んでいてもよい。
添加剤（Ｅ）としては、たとえば、極性基を有する有機化合物（Ｅ１）、紫外線吸収剤、赤外線反射剤、赤外線吸収剤、反射防止剤、レベリング性向上のための界面活性剤、耐久性向上のための金属化合物等が挙げられる。

塗料組成物が粒子（Ｃ）を含有する場合、塗料組成物に極性基を有する有機化合物（Ｅ１）を含ませることによって、塗料組成物中における静電気力による粒子（Ｃ）の凝集を抑制できる。
極性基を有する有機化合物（Ｅ１）としては、粒子（Ｃ）の凝集抑制効果の点から、分子中に水酸基および／またはカルボニル基を有するものが好ましく、分子中に水酸基、アルデヒド基（−ＣＨＯ）、ケト基（−Ｃ（＝Ｏ）−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−）、カルボキシ基（−ＣＯＯＨ）からなる群から選ばれる１種以上を有するものがより好ましく、分子中にカルボキシ基、水酸基、アルデヒド基およびケト基からなる群から選ばれる１種以上を有するものがさらに好ましい。

極性基を有する有機化合物（Ｅ１）としては、不飽和カルボン酸重合体、セルロース誘導体、有機酸（ただし、不飽和カルボン酸重合体を除く。）、テルペン化合物等が挙げられる。有機化合物（Ｅ１）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

不飽和カルボン酸重合体としては、ポリアクリル酸が挙げられる。
セルロース誘導体としては、ポリヒドロキシアルキルセルロースが挙げられる。
有機酸（ただし、不飽和カルボン酸重合体を除く。）としては、ギ酸、しゅう酸、モノクロル酢酸、ジクロルム酢酸、トリクロル酢酸、クエン酸、酒石酸、マレイン酸等が挙げられる。
なお、アルコキシシラン等の加水分解に触媒として有機酸を用いた場合、該有機酸も有機化合物（Ｅ１）としての有機酸に含まれる。

テルペンとは、イソプレン（Ｃ_５Ｈ_８）を構成単位とする（Ｃ_５Ｈ_８）_ｎ（ただし、ｎは１以上の整数である。）の組成の炭化水素を意味する。テルペン化合物とは、テルペンから誘導される官能基を有するテルペン類を意味する。テルペン化合物は、不飽和度を異にするものも包含する。
なお、テルペン化合物には液状媒体として機能するものもあるが、「イソプレンを構成単位とする（Ｃ_５Ｈ_８）_ｎの組成の炭化水素」であるものは、テルペン誘導体に該当し、液状媒体には該当しないものとする。
テルペン誘導体としては、テルペンアルコール（α−テルピネオール、テルピネン４−オール、Ｌ−メントール、（±）シトロネロール、ミルテノール、ボルネオール、ネロール、ファルネソール、フィトール等）、テルペンアルデヒド（シトラール、β−シクロシトラール、ペリラアルデヒド等）、テルペンケトン（（±）しょうのう、β−ヨノン等）、テルペンカルボン酸（シトロネル酸、アビエチン酸等）、テルペンエステル（酢酸テルピニル、酢酸メンチル等）等が挙げられる。

レベリング性向上のための界面活性剤としては、シリコーンオイル系、アクリル系等が挙げられる。
耐久性向上のための金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、アルミニウムキレート化合物等が好ましい。ジルコニウムキレート化合物としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシステアレート等が挙げられる。

（組成）
塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量は、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３０〜１００質量％が好ましく、４０〜１００質量％がより好ましい。シリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、防眩膜の基材との密着性に優れる。シリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、防眩膜のクラックや膜剥がれが抑えられる。

塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含む場合、塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）（ＳｉＯ_２換算）の含有量は、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３５〜９５質量％が好ましく、５０〜９０質量％がより好ましい。シリカ前駆体（Ａ）の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、防眩膜の基材との充分な密着強度が得られる。シリカ前駆体（Ａ）の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。

塗料組成物がシリカ前駆体（Ａ）を含み、かつシリカ前駆体（Ａ）がシラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含む場合、シリカ前駆体（Ａ）中のシラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物の割合は、シリカ前駆体（Ａ）のＳｉＯ_２換算固形分（１００質量％）に対し、５〜１００質量％が好ましい。シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物の割合が前記範囲の下限値以上であれば、膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。

塗料組成物中の液状媒体（Ｂ）の含有量は、塗料組成物の固形分濃度に応じた量とされる。
塗料組成物の固形分濃度は、塗料組成物の全量（１００質量％）のうち、１〜８質量％が好ましく、２〜６質量％がより好ましい。固形分濃度が前記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液量を少なくできる。固形分濃度が前記範囲の上限値以下であれば、防眩膜の膜厚の均一性が向上する。
塗料組成物の固形分濃度は、塗料組成物中の、液状媒体（Ｂ）以外の全成分の含有量の合計である。ただし、シリカ前駆体（Ａ）の含有量は、ＳｉＯ_２換算である。

塗料組成物中の沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）の含有量は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上である。液状媒体（Ｂ１）を８６質量％以上の割合で含むことにより、塗料組成物を、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて基材上に塗布し、焼成したときに、より好ましい性能を有する防眩膜が形成される。液状媒体（Ｂ１）の割合が８６質量％未満であると、溶媒揮発乾燥前に平滑化するため凹凸構造が形成できず、焼成後の膜が防眩膜とはならないおそれがある。
液状媒体（Ｂ１）の含有量は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して９０質量％以上が好ましい。液状媒体（Ｂ１）の含有量は、液状媒体（Ｂ）の全量に対して１００質量％であっても構わない。

塗料組成物が粒子（Ｃ）を含む場合、粒子（Ｃ）の含有量は、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３〜４０質量％が好ましく、５〜３０質量％がより好ましい。粒子（Ｃ）の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、防眩膜付き基材のヘイズが充分に高くなり、かつ防眩膜の表面における６０°鏡面光沢度が充分に低くなることから、防眩効果が充分に発揮される。粒子（Ｃ）の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、充分な耐摩耗強度が得られる。

塗料組成物が粒子（Ｃ）を含み、かつ粒子（Ｃ）が鱗片状粒子（Ｃ１）を含む場合、鱗片状粒子（Ｃ１）の含有量は、粒子（Ｃ）の全量（１００質量％）のうち、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましい。上限は特に限定されず、１００質量％であってもよい。鱗片状粒子（Ｃ１）の割合が前記の下限値以上であれば、防眩効果がより優れたものとなる。また、膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。

塗料組成物は、たとえば、シラン前駆体（Ａ）が液体媒体（Ｂ）に溶解した溶液を調製し、必要に応じて追加の液状媒体（Ｂ）、粒子（Ｃ）の分散液等を混合することによって調製できる。
粒子（Ｃ）が鱗片状粒子（Ｃ１）を含み、シリカ前駆体（Ａ）がテトラアルコキシシランの加水分解縮合物を含む場合は、所望の性能を有する防眩膜を高いレベルで再現性よく製造できる点から、テトラアルコキシシランの溶液、またはテトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物の混合物の溶液と、鱗片状粒子（Ｃ１）の分散液とを混合した後、鱗片状粒子（Ｃ１）の存在下でテトラアルコキシシランを加水分解し、縮合させることが好ましい。

〔塗布工程〕
基材上への前記塗料組成物の塗布は、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより行われる。これにより、基材上に、前記塗料組成物の塗膜が形成される。

（静電塗装装置）
図２は、静電塗装装置の一例を示す概略図である。
静電塗装装置１０は、コーティングブース１１と、チェーンコンベア１２と、複数の静電塗装ガン１７と、高電圧発生装置１８と、排気ボックス２０とを具備する。
チェーンコンベア１２は、コーティングブース１１を貫通し、導電性基板２１およびこの上に載せられた基材３を所定方向に搬送するようになっている。
複数の静電塗装ガン１７は、チェーンコンベア１２の上方のコーティングブース１１内に、基材３の搬送方向に交差する方向に並んで配置され、それぞれに高電圧ケーブル１３、塗料組成物の供給ライン１４、塗料組成物の回収ライン１５、および２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂが接続されている。
高電圧発生装置１８は、高電圧ケーブル１３を介して静電塗装ガン１７に接続され、かつ接地されている。
排気ボックス２０は、静電塗装ガン１７およびチェーンコンベア１２の下方に配置され、排気ダクト１９が接続されている。

静電塗装ガン１７は、ノズルセットフレーム（図示略）に固定されている。ノズルセットフレームによって、静電塗装ガン１７のノズル先端から基材３までの距離、基材３に対する静電塗装ガン１７の角度、基材３の搬送方向に対する複数の静電塗装ガン１７が並ぶ方向等を調整できるようになっている。
静電塗装ガン１７のノズル先端部および塗料組成物の供給ライン１４、および回収ライン１５には高電圧が印加されるため、静電塗装ガン１７、供給ライン１４、および回収ライン１５と、金属からなる部分（たとえば、ノズルセットフレーム、コーティングブース１１の側壁貫通部分等の金属部分）との接続部分は、樹脂等で絶縁処理されている。

チェーンコンベア１２は、複数のプラスチックチェーンからなる、複数のプラスチックチェーンの一部は導電性プラスチックチェーンである。導電性プラスチックチェーンは、プラスチックチェーンを嵌め込む金属チェーン（図示略）およびその駆動モータ（図示略）の接地ケーブル（図示略）を介して、接地されている。

導電性基板２１は、その上に載せられる基材３を、チェーンコンベア１２の導電性プラスチックチェーン、金属チェーンおよび駆動モータの接地ケーブルを介して充分に接地するために用いられる。基材３が充分に接地されることで、塗料組成物が均一に基材３上に付着する。
導電性基板２１としては、基材３の温度降下を抑制し、かつ温度分布を均一化できることから、金属メッシュトレイが好ましい。

（静電塗装ガン）
図３は、静電塗装ガン１７の断面模式図である。図４は、静電塗装ガン１７を前方から見た正面模式図である。
静電塗装ガン１７は、ガン本体３０と、回転霧化頭４０とを備える。回転霧化頭４０は、ガン本体３０の前端部に、軸線を前後方向に向けて配置されている。
静電塗装ガン１７においては、回転霧化頭４０を回転駆動することにより、回転霧化頭４０に供給された塗料組成物を遠心力により霧化して放出（すなわち、噴霧）するようになっている。
なお、静電塗装ガン１７の説明において、前方、前端等における「前」は、塗料組成物の噴霧方向を示し、その反対方向が後方である。図２、３中の下方が、静電塗装ガン１７中の前方である。

ガン本体３０内には、回転霧化頭４０と同軸上に、塗料供給管３１が固定して収容されている。
ガン本体３０内には、図示しないエアタービンモータが設けられ、このエアタービンモータには回転軸３２が設けられている。また、エアタービンモータには、２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂのうちの１系統（たとえば、供給ライン１６ａ）が接続され、供給ライン１６ａからのエア圧によって回転軸３２の回転数を制御できるようになっている。回転軸３２は、回転霧化頭４０と同軸上に、塗料供給管３１を包囲するように配置されている。
なお、ここでは回転軸３２の回転駆動手段としてエアタービンモータを用いる例を示したが、エアタービンモータ以外の回転駆動手段を用いてもよい。

ガン本体３０には、シェービングエア（シェーピングエアともいう。）の吹出口３３が複数形成され、複数の吹出口３３それぞれにシェービングエアを供給するためのエア供給路３５が形成されている。また、エア供給路３５には、２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂのうちの１系統（たとえば、供給ライン１６ｂ）が接続され、エア（シェービングエア）を、エア供給路３５を介して吹出口３３に供給できるようになっている。
複数の吹出口３３は、静電塗装ガン１７の正面視において、軸心を中心とする同心円上に等間隔で開口するように形成されている。また、複数の吹出口３３は、静電塗装ガン１７の側面視において、静電塗装ガン１７の前方に向かって次第に軸心から離れるように形成されている。

回転霧化頭４０は、第１部品４１と、第２部品４２とを備える。第１部品４１および第２部品４２はそれぞれ筒状である。
第１部品４１は、軸取付部４３と、軸取付部４３から前方に延出した形態の保持部４４と、保持部４４から前方に延出した形態の周壁４５と、周壁４５から前方へ延出した形態の拡径部４７と、周壁４５と拡径部４７の境界位置において第１部品４１の中心孔を前後に区画する形態の前面壁４９とが一体に形成されたものである。

保持部４４は、第２部品４２を第１部品４１に対して同軸状に保持するものである。
周壁４５の内周面は、回転霧化頭４０の軸線方向における全領域に亘り、前方に向かって次第に拡径するテーパ状の誘導面４６となっている。
拡径部４７は、前方に向かってカップ状に拡径した形態であり、拡径部４７の前面は、前方に向かって次第に拡径した形態の拡散面４８となっている。
拡径部４７の拡散面４８の外周縁４８ａには、全周にわたって、塗料組成物の微粒化のための微細な切り込みが多数、略等間隔に設けられている。
前面壁４９には、前面壁４９の外周縁を前後に貫通した形態の流出孔５０が形成されている。流出孔５０は、円形をなし、周方向において等角度ピッチで複数形成されている。また、流出孔５０の貫通方向は、周壁４５の誘導面４６の傾斜方向と平行である。
前面壁４９の後面のうち中央部分は、後方に向かって突出した円錐状となっている。また、この中央部分には、前面壁４９の前面の中心部から後方に延び、途中で３つに分岐して円錐状の部分の周面上に開口する貫通孔５３が形成されている。

第２部品４２は、筒状部５１と後面壁５２とを一体に形成したものである。後面壁５２は、筒状部５１の前端部に配置されている。後面壁５２の中央には、円形の貫通孔が形成されており、塗料供給管３１の前端部を挿入できるようになっている。
回転霧化頭４０においては、前面壁４９、周壁４５及び後面壁５２によって囲まれた空間が貯留室Ｓとされている。この貯留室Ｓは、複数の流出孔５０を介して拡散面４８に連通している。
静電塗装ガン１７においては、塗料供給管３１の前端の吐出口３１ａが貯留室Ｓ内に開口するように、塗料供給管３１の前端部が後面壁５２の中央の貫通孔に挿入されている。これにより、塗料供給管３１を介して塗料組成物を貯留室Ｓ内に供給できるようになっている。

なお、静電塗装装置および静電塗装ガンは、図示例のものに限定はされない。静電塗装装置は、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備えるものであれば、公知の静電塗装装置を採用できる。静電塗装ガンは、回転霧化頭を備えるものであれば、公知の静電塗装ガンを採用できる。

（塗布方法）
静電塗装装置１０においては、下記のようにして基材３上に塗料組成物が塗布される。
基材３を、導電性基板２１上に設置する。また、高電圧発生装置１８によって、静電塗装ガン１７に高電圧を印加する。同時に、塗料組成物の供給ライン１４から塗料組成物を静電塗装ガン１７に供給するとともに、２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂそれぞれからエアを静電塗装ガン１７に供給する。
エアの供給ライン１６ｂから供給されるエアは、ガン本体３０内のエア供給路３５にエアが供給され、シェービングエアとして吹出口３３の開口から吹き出される。
エアの供給ライン１６ａから供給されるエアは、ガン本体３０内のエアタービンモータを駆動させ、回転軸３２を回転させる。これにより、塗料組成物の供給ライン１４から塗料供給管３１を通して貯留室Ｓ内に供給された塗料組成物が、遠心力により周壁４５の誘導面４６に沿って前方へ移動し、流出孔５０を通過して拡散面４８へ供給される。塗料組成物の一部は、中央部分の貫通孔５３を通過して拡散面４８へ供給され得る。ここで、周壁４５の誘導面４６は、流出孔５０に向かって拡径したテーパ状をなすので、貯留室Ｓ内の塗料組成物は、遠心力により、貯留室Ｓ内に残留することなく確実に流出孔５０に到達する。
そして、拡散面４８に供給された塗料組成物は、遠心力により拡散面４８に沿って拡散されながら外周縁４８ａ側へ移動し、拡散面４８に塗料組成物の液膜を形成し、拡径部４７の拡散面４８の外周縁４８ａにおいて微粒化され、液滴となって放射状に飛散する。
回転霧化頭４０から飛散した塗料組成物の液滴は、シェービングエアの流れによって基材３方向に導かれる。また、前記液滴は、マイナス電荷を帯びており、接地された基材３に向かって静電引力によって引き寄せられる。そのため、基材３の表面に効率よく付着する。

静電塗装ガン１７から噴霧されなかった一部の塗料組成物は、塗料組成物の回収ライン１５を通って塗料組成物タンク（図示略）に回収される。また、静電塗装ガン１７から噴霧され、基材３に付着しなかった一部の塗料組成物は、排気ボックス２０に吸引され、排気ダクト１９を通って回収される。

基材３の表面温度は、１５〜５０℃が好ましく、２０〜４０℃がより好ましい。基材３の表面温度が前記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液状媒体（Ｂ）がすばやく蒸発するため、充分な凸凹を形成しやすい。基材３の表面温度が前記範囲の上限値以下であれば、基材３と防眩膜５との密着性が良好となる。

基材３の搬送速度は、０．６〜２０．０ｍ／分が好ましく、１．５〜１５．０ｍ／分がより好ましい。基材３の搬送速度が０．６ｍ／分以上であれば、生産性が向上する。基材３の搬送速度が２０．０ｍ／分以下であれば、基材３上に塗布される塗料組成物の膜厚を制御しやすい。

基材３の搬送回数、すなわち基材３に静電塗装ガン１７の下を通過させて塗料組成物を塗布する回数は、所望のヘイズ、光沢度等に応じて適宜設定できる。防眩性の点では、１回以上が好ましく、２回以上がより好ましい。生産性の点では、６回以下が好ましく、５回以下がより好ましい。

静電塗装ガン１７のノズル先端（すなわち、塗料組成物の噴霧方向における回転霧化頭４０の前端）から基材３までの距離は、基材３の幅、基材３上に塗布される塗料組成物の膜厚等に応じて適宜調整され、通常は、１５０〜４５０ｍｍである。基材３までの距離を近づけると塗布効率は高まるが、近づけ過ぎると放電を起こす可能性が高くなり安全上の問題が発生する。一方、基材３までの距離が離れるにしたがって塗布領域は拡大するが、離れ過ぎると塗布効率の低下が問題となる。

静電塗装ガン１７に印加される電圧は、基材３上に塗布される塗料組成物の塗布量等に応じて適宜調整され、通常は、−３０ｋＶ〜−９０ｋＶの範囲である。電圧の絶対値が大きい方が塗着効率が高まる傾向にある。なお、液特性、塗布環境および塗布条件にもよるが、印加電圧がある程度の高さになると、塗布効率は飽和に達する。

静電塗装ガン１７への塗料組成物の供給量（以下、コート液量ともいう。）は、基材３上に塗布される塗料組成物の塗布量等に応じて適宜調整され、通常は、３０〜２００ｍＬ／分である。コート液量が少な過ぎると膜切れが発生するおそれがある。最大のコート液量は、塗布膜厚、塗布スピード、液特性等によって最適な値を選択できる。

２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂそれぞれから静電塗装ガン１７に供給されるエアの圧力は、基材３上に塗布される塗料組成物の塗布量等に応じて適宜調整され、通常は、０．０１ＭＰａ〜０．５ＭＰａである。
２系統のエアの供給ライン１６ａ、１６ｂそれぞれから静電塗装ガン１７に供給するエア圧によって、塗料組成物の塗布パターンを制御することができる。
塗料組成物の塗布パターンとは、静電塗装ガン１７から噴霧された塗料組成物の液滴によって基材上に形成されるパターンを示す。
静電塗装ガン１７内のエアタービンモータに供給されるエアのエア圧を高くすると、回転軸３２の回転速度が上昇し、回転霧化頭４０の回転速度が上昇することにより、回転霧化頭４０から飛散する液滴の大きさが小さくなり、塗布パターンが大きくなる傾向を示す。
静電塗装ガン１７内のエア供給路３５に供給されるエアのエア圧を高くし、吹出口３３から吹き出されるエア（シェービングエア）のエア圧を高くすると、回転霧化頭４０から飛散する液滴の広がりが抑制され、塗布パターンが小さくなる傾向を示す。

エアタービンモータに供給するエアのエア圧は、回転霧化頭４０の回転速度（以下、カップ回転数ともいう。）が５０００〜８００００ｒｐｍの範囲内となる圧力とすることが好ましい。カップ回転数は、７０００〜７００００ｒｐｍがより好ましく、１００００〜５００００ｒｐｍが特に好ましい。カップ回転数が前記範囲の下限値以上であれば、表面凹凸形成能に優れる。カップ回転数が前記範囲の上限値以下であれば、塗着効率に優れる。
カップ回転数は、静電塗装装置１０に付属の計測器（図示略）により測定できる。

エア供給路３５に供給するエアのエア圧は、シェービングエアのエア圧（以下、シェーブ圧ともいう。）が０．０１〜０．３ＭＰａの範囲内となる圧力とすることが好ましい。シェーブ圧は、０．０１〜０．２５ＭＰａがより好ましく、０．０１〜０．２ＭＰａが特に好ましい。シェーブ圧が前記範囲の下限値以上であれば、液滴の飛散防止効果向上による塗着効率向上に優れる。シェーブ圧が前記範囲の上限値以下であれば、塗布幅を確保できる。

〔焼成工程〕
焼成工程では、塗布工程で基材上に形成された、塗料組成物の塗膜を焼成して防眩膜とする。
焼成は、塗料組成物を基材に塗布する際に基材を加熱することによって塗布と同時に行ってもよく、塗料組成物を基材に塗布した後、塗膜を加熱することによって行ってもよい。
焼成温度は、３０℃以上が好ましく、たとえば基材がガラスである場合は１００〜７５０℃がより好ましく、１５０〜５５０℃がさらに好ましい。

〔作用効果〕
以上説明した本発明の防眩膜付き基材の製造方法にあっては、回転霧化頭を備える静電塗装ガンで噴霧する塗料組成物として、シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含み、かつ液状媒体（Ｂ）が、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を、液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上含む塗料組成物を用いることにより、防眩膜を形成できる。これは、塗料組成物の液滴が基材上に付着した後、迅速に液状媒体（Ｂ１）が揮発することで、液滴が基板上で広がりにくく、付着した時点の形状を充分に保った状態で成膜される（すなわち、液状媒体（Ｂ）の全体が除去される。また、シリカ前駆体（Ａ）を含む場合にはシリカ前駆体（Ａ）がマトリックスになる。）ためと考えられる。

また、本発明の防眩膜付き基材の製造方法にあっては、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを用いるため、塗布パターンの大きさ（たとえば、幅）が大きい。例えば、防眩膜の形成に従来汎用されている２流体スプレーノズルを用いたスプレー法では、塗布パターンの幅が最大で７ｍｍ程度である。これに対し、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを用いた場合は、塗布パターンの幅を例えば３５０ｍｍにすることができる。
また、前記静電塗装ガンから噴霧された塗料組成物の液滴は、マイナス電荷を帯びているため、接地された基材に向かって静電引力によって引き寄せられる。そのため、帯電させずに噴霧する場合に比べて、基材上に効率よく付着する。
そのため、本発明の防眩膜付き基材の製造方法にあっては、任意のヘイズや６０°鏡面光沢度の防眩膜を形成するに際して必要な塗布回数や塗料組成物の塗布量を低減できる。

また、本発明の防眩膜付き基材の製造方法により得られる防眩膜付き基材の防眩性能と、２流体スプレーノズルを用いて形成される防眩膜付き基材の防眩性能とを比較すると、ヘイズや６０°鏡面光沢度が同等であっても、本発明の防眩膜付き基材の製造方法により得られるものの方が、外光や屋内照明等が表示面に映り込んで、反射像によって視認性が低下するのをより防止することができ、防眩性能が高い傾向がある。
これは、防眩膜の凹凸形状の違いによるものと考えられる。すなわち、本発明者らの検討によれば、２流体スプレーノズルを用いたスプレー法では、液滴が基材上にたたきつけられるため、塗料組成物の基材への着弾時に液滴が王冠状になる。これとともに液状媒体が揮発して王冠状の凹凸が形成される。他方、回転霧化頭を備える静電塗装ガンを用いる場合、液滴は、比較的緩やかに基板上に落下するため、基材への着弾時に液滴がドーム状になる。これとともに液状媒体が揮発してドーム状の凹凸が形成される。このような形状の違いが生じることが、防眩性能に影響していると考えられる。

〔用途〕
本発明の防眩膜付き基材の用途としては、特に限定されない。具体例としては、車両用透明部品（ヘッドライトカバー、サイドミラー、フロント透明基板、サイド透明基板、リア透明基板、インスツルメントパネル表面等。） 、メータ、建築窓、ショーウインドウ、ディスプレイ（ノート型パソコン、モニタ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＡ等）、ＬＣＤカラーフィルタ、タッチパネル用基板、ピックアップレンズ、光学レンズ、眼鏡レンズ、カメラ部品、ビデオ部品、ＣＣＤ用カバー基板、光ファイバ端面、プロジェクタ部品、複写機部品、太陽電池用透明基板（カバーガラス等。）、携帯電話窓、バックライトユニット部品（導光板、冷陰極管等。）、バックライトユニット部品液晶輝度向上フィルム（プリズム、半透過フィルム等。）、液晶輝度向上フィルム、有機ＥＬ発光素子部品、無機ＥＬ発光素子部品、蛍光体発光素子部品、光学フィルタ、光学部品の端面、照明ランプ、照明器具のカバー、増幅レーザー光源、反射防止フィルム、偏光フィルム、農業用フィルム等が挙げられる。

＜物品＞
本発明の物品は、前記防眩膜付き基材を備える。
本発明の物品は、前記防眩膜付き基材からなるものでもよく、前記防眩膜付き基材以外の他の部材をさらに備えるものでもよい。
本発明の物品の例としては、前記で防眩膜付き基材の用途として挙げたもの、それらのいずれか１種以上を備える装置、等が挙げられる。
装置としては、例えば画像表示装置、照明装置、太陽電池モジュール等が挙げられる。
本発明の物品は、ヘイズ、光沢度、防眩性等の光学特性の点で、画像表示装置であることが好ましい。

本発明の物品が画像表示装置である場合、該画像表示装置は、画像を表示する画像表示装置本体と、画像表示装置本体の視認側に設けられた本発明の防眩膜付き基材とを具備する。

画像表示装置本体としては、液晶パネル、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
防眩膜付き基材は、画像表示装置本体の保護板として、画像表示装置本体に一体に設けられてもよく、各種フィルタとして、画像表示装置本体の視認側に配置されてもよい。

以上説明した画像表示装置にあっては、優れた防眩性能を有する本発明の防眩膜付き基材が画像表示装置本体の視認側に設けられているため、視認性が良好である。

＜鱗片状シリカ粒子の製造方法（Ｐ）＞
製造方法（Ｐ）は、鱗片状シリカ粒子が凝集したシリカ凝集体を含むシリカ粉体をｐＨ２以下で酸処理する工程と、酸処理したシリカ粉体をｐＨ８以上でアルカリ処理し、シリカ凝集体を解膠する工程と、アルカリ処理したシリカ粉体を湿式解砕し、鱗片状シリカ粒子を得る工程とを有する。

シリカ凝集体としては、いわゆる層状ポリケイ酸および／またはその塩を用いることができる。層状ポリケイ酸は、基本構成単位がＳｉＯ_４四面体からなるシリケート層構造のポリケイ酸である。層状ポリケイ酸および／またはその塩としては、たとえば、シリカ−Ｘ（ＳｉＯ_２−Ｘ）、シリカ−Ｙ（ＳｉＯ_２−Ｙ）、ケニアアイト、マガディアイト、マカタイト、アイラアイト、カネマイト、オクトシリケート等が挙げられ、シリカ−Ｘまたはシリカ−Ｙが好ましい。

シリカ−Ｘおよびシリカ−Ｙは、シリカ原料を水熱処理して、クリストバライトや石英（クオーツ）を形成させる過程で生じる、中間的な相または準安定な相であり、シリカの準結晶質ともいうべき微弱な結晶相を有する。
シリカ−Ｘおよびシリカ−Ｙは、Ｘ線回折パタ−ンは異なるが、電子顕微鏡で観察される粒子外観は極似しており、いずれも鱗片状シリカ粒子を得るために好ましく用いることができる。

シリカ−ＸのＸ線回折のスペクトルは、米国のＡＳＴＭ（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅｓｔｉｎｇ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）に登録されているカード（以下、単にＡＳＴＭカードと称する。）番号１６−０３８０に該当する２θ＝４．９°、２６．０°、および２８．３°の主ピークを特徴とする。
シリカ−ＹのＸ線回折のスペクトルは、ＡＳＴＭカード番号３１−１２３３に該当する２θ＝５．６°、２５．８°および２８．３°の主ピークを特徴とする。
シリカ凝集体のＸ線回折のスペクトルとしては、シリカ−Ｘおよび／またはシリカ−Ｙの主ピークを特徴とするものが好ましい。

「シリカ粉体の形成」
シリカ凝集体を含むシリカ粉体の形成方法としては、出発原料としてのシリカヒドロゲル、シリカゾルおよび含水ケイ酸のうち１種以上をアルカリ金属塩の存在下に水熱処理する方法が挙げられる。なお、シリカ粉体は、この方法で形成されたものに限定されず、任意の方法で形成されたものも包含する。

出発原料がシリカヒドロゲルの場合：
出発原料としてシリカヒドロゲルを用いることによって、シリカ凝集体としてシリカ−Ｘ、シリカ−Ｙ等を、より低温度、短時間の反応で、クオーツ等の結晶を生成させることなく、しかも収率高く形成できる。
シリカヒドロゲルとしては、粒子状シリカヒドロゲルが好ましい。シリカヒドロゲルの粒子形状は、球状であっても不定形粒状であってもよい。シリカヒドロゲルの造粒方法は、適宜選択できる。

球状のシリカヒドロゲルの造粒方法としては、たとえば、（ｉ）シリカヒドロゾルを石油類等の液状媒体中で、球形状に固化させる方法、（ｉｉ）ケイ酸アルカリ金属水溶液と鉱酸水溶液とを混合して、シリカゾルを短時間で生成させるとともに、気体媒体中に放出し、気体中でゲル化させる方法が挙げられ、（ｉｉ）の方法が好ましい。鉱酸水溶液としては、硫酸水溶液、塩酸、硝酸水溶液等が挙げられる。

（ｉｉ）の方法の具体例は、下記のとおりである。
ケイ酸アルカリ金属水溶液と鉱酸水溶液とを、放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合し、ＳｉＯ_２濃度換算で１３０ｇ／Ｌ以上、ｐＨ７〜９であるシリカゾルを生成させる。このシリカゾルを、放出口から空気等の気体媒体中に放出し、空中でゲル化させる。ゲル化させたものを、水を張った熟成槽に落下させて数分〜数十分間熟成させ、酸を添加し、水洗して球状のシリカヒドロゲルを得る。

得られるシリカヒドロゲルは、粒径がよく揃った平均粒子径２〜１０ｍｍ程度の透明で弾力性を有する球状粒子であり、ＳｉＯ_２に対して質量比で約４倍の水を含む場合もある。シリカヒドロゲル中のＳｉＯ_２濃度は、１５〜７５質量％が好ましい。

出発原料がシリカゾルの場合：
シリカゾルとしては、シリカおよびアルカリ金属を特定量含むシリカゾルを用いることが好ましい。
シリカゾルとしては、シリカ（ＳｉＯ_２換算）とアルカリ金属（Ｍｅ_２Ｏ換算。ただし、Ｍｅは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金属である。以下同じ。）とのモル比（ＳｉＯ_２／Ｍｅ_２Ｏ）が１．０〜３．４であるケイ酸アルカリ金属水溶液を、イオン交換樹脂法、電気透析法等によって脱アルカリしたシリカゾルが好適に用いられる。このシリカゾルのＳｉＯ_２／Ｍｅ_２Ｏは、３．５〜２０が好ましく、４．５〜１８がより好ましい。
ケイ酸アルカリ金属水溶液としては、水ガラス（すなわち、ケイ酸ナトリウム水溶液）を適宜水で希釈したもの等が好ましい。

シリカゾル中のＳｉＯ_２濃度は、２〜２０質量％が好ましく、３〜１５質量％がより好ましい。
シリカゾル中のシリカの平均粒子径は、１〜１００ｎｍが好ましい。平均粒子径が１００ｎｍ以下であれば、シリカゾルの安定性が良好となる。
シリカゾルとしては、活性ケイ酸と称される平均粒子径１〜２０ｎｍ以下のものが特に好ましい。

出発原料が含水ケイ酸の場合：
含水ケイ酸を出発原料として用いる場合、シリカゾルと同様の方法でシリカ凝集体を含むシリカ粉体を形成できる。

水熱処理：
シリカヒドロゲル、シリカゾルおよび含水ケイ酸のシリカ源のうち１種以上をアルカリ金属塩の存在下に、オートクレーブ等の加熱圧力容器中で加熱して水熱処理を行うことによって、シリカ凝集体を含むシリカ粉体を形成できる。
シリカ源を水熱処理するため、オートクレーブに仕込むに先立って、蒸留水、イオン交換水等の精製水をさらに加えて、シリカ濃度を所望の範囲に調整してもよい。
球状のシリカヒドロゲルを用いる場合、そのまま使用してもよく、粉砕または粗粉砕して、平均粒子径を０．１〜６ｍｍ程度としてもよい。

オートクレーブの形式は、特に限定されない。オートクレーブは、少なくとも加熱手段、撹拌手段、および好ましくは温度測定手段を備えたものであればよい。
オートクレーブ内の処理液中の総ＳｉＯ_２濃度は、撹拌効率、結晶成長速度、収率等を考慮して選択され、通常、全仕込み原料基準で１〜３０質量％が好ましく、１０〜２０質量％がより好ましい。処理液中の総ＳｉＯ_２濃度は、系内の総ＳｉＯ_２濃度のことであり、シリカ源中のＳｉＯ_２のみでなく、アルカリ金属塩としてケイ酸ナトリウム等を用いた場合は、ケイ酸ナトリウム等により系に持ち込まれるＳｉＯ_２を加えた値である。

水熱処理においては、シリカ源にアルカリ金属塩を共存させることで、処理液のｐＨをアルカリ側に調節し、シリカ溶解度を適度に大きくし、いわゆるＯｓｔｗａｌｄの熟成に基づく晶析速度を高め、シリカヒドロゲルのシリカ−Ｘおよび／またはシリカ−Ｙへの変換を促進させることできる。

アルカリ金属塩としては、水酸化アルカリ金属、ケイ酸アルカリ金属、炭酸アルカリ金属等、またはこれらの組み合わせが挙げられる。アルカリ金属としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等、またはこれらの組み合わせが挙げられる。水熱処理を施す処理液の系のｐＨは、７以上が好ましく、８〜１３がより好ましく、９〜１２．５がさらに好ましい。系内の総ＳｉＯ_２とアルカリ金属（Ｍｅ_２Ｏ換算）とのモル比（ＳｉＯ_２／Ｍｅ_２Ｏ）は、４〜１５が好ましく、７〜１３がより好ましい。

シリカゾルまたは含水ケイ酸の水熱処理は、反応速度を大きく、かつ結晶化の進行を小さくする点から、１５０〜２５０℃で行われることが好ましく、１７０〜２２０℃で行われることがより好ましい。シリカゾルまたは含水ケイ酸の水熱処理の時間は、水熱処理の温度や種晶の添加の有無等によって変わり得るが、３〜５０時間が好ましく、３〜４０時間がより好ましく、５〜２５時間がさらに好ましい。

シリカヒドロゲルの水熱処理は、１５０〜２２０℃で行われることが好ましく、１６０〜２００℃で行われることがより好ましく、１７０〜１９５℃で行われることがさらに好ましい。シリカヒドロゲルの水熱処理の時間は、水熱処理の温度や種晶の添加の有無等によって変わり得るが、３〜５０時間が好ましく、５〜４０時間がより好ましく、５〜２５時間がさらに好ましく、５〜１２時間が特に好ましい。

水熱処理を効率よく進め、処理時間を短くするためには、シリカ源の仕込み量（ＳｉＯ _２換算）に対して０．００１〜１質量％程度の種晶（ＳｉＯ_２換算）を添加することが好ましい。種晶としては、シリカ−Ｘ、シリカ−Ｙ等をそのまま、または適宜粉砕して用いることができる。

水熱処理終了後、生成物をオートクレーブから取り出し、濾過、水洗する。水洗処理後の粒子は、１０質量％の水スラリーとした際のｐＨが、５〜９であることが好ましく、６〜８であることがより好ましい。

「シリカ粉体」
得られるシリカ粉体の平均粒子径は、７〜２５μｍが好ましく、７〜１１μｍがより好ましい。
シリカ粉体には、鱗片状シリカ粒子が凝集したシリカ凝集体が含まれる。シリカ凝集体は、鱗片状シリカ粒子が凝集して不規則に重なり合って形成される間隙を有する凝集体形状のシリカ３次粒子である。シリカ凝集体は、シリカ粉体を走査型電子顕微鏡（以下、ＳＥＭとも記す。）を用いて確認できる。

ＳＥＭでは、薄片状のシリカ１次粒子は識別できず、シリカ１次粒子が互いに面間が平行的に配向し複数枚重なって形成される鱗片状のシリカ２次粒子を識別できる。一方、ＴＥＭでは、電子線が一部透過するような極薄片粒子であるシリカ１次粒子を識別できる。また、シリカ１次粒子が互いに面間が平行的に配向し複数枚重なって形成されたシリカ２次粒子を識別できる。シリカ１次粒子およびシリカ２次粒子が鱗片状シリカ粒子である。

鱗片状のシリカ２次粒子から、その構成単位である薄片状のシリカ１次粒子を１枚ずつ剥離し、単離することは難しいとされている。すなわち、薄片状のシリカ１次粒子の層状の重なりにおいて、各層間の結合は強固であって融合一体化している。したがって、鱗片状のシリカ２次粒子は、それ以上シリカ１次粒子に解砕することは難しいとされている。
製造方法（Ｐ）によれば、シリカ凝集体から、鱗片状のシリカ２次粒子まで微細化することができ、さらに薄片状のシリカ１次粒子まで微細化することも可能である。

「酸処理」
酸処理の方法としては、シリカ粉体を含む分散体（スラリー状の分散体も含む。）（以下、シリカ分散体とも記す。）に、系のｐＨが２以下になるように酸性液を添加して、任意で撹拌しながら処理する方法が挙げられる。
シリカ凝集体を含むシリカ粉体をｐＨ２以下で酸処理することによって、後工程のアルカリ処理においてシリカ凝集体の解膠を促進でき、湿式解砕工程後に不定形シリカ粒子の発生を抑えることができる。
また、酸処理を行うことによって、シリカ粉体に含まれるアルカリ金属塩を除去できる。シリカ粉体が水熱処理によって形成されたものである場合、水熱処理においてアルカリ金属塩が添加されている。

酸処理のｐＨは、２以下であればよく、１．９以下が好ましい。あらかじめ低いｐＨで酸処理しておくことによって、後工程のアルカリ処理および湿式解砕工程においてシリカ凝集体をより解膠および解砕しやすくなる。
酸処理は、処理を充分に行うために、室温下で８時間以上行うことが好ましい。

酸性液としては、硫酸水溶液、塩酸、硝酸水溶液等の鉱酸水溶液を用いることができる。鉱酸の濃度は、１〜３７質量％が好ましい。
シリカ分散体中のＳｉＯ_２濃度は、５〜１５質量％が好ましい。シリカ分散体のｐＨは、１０〜１２が好ましい。
シリカ分散体と酸性液との配合割合は、ｐＨが２以下となるように調整すればよく、特に制限されない。

シリカ分散体を酸処理した後、シリカ粉体を洗浄することが好ましい。洗浄することによって、水熱処理で混入したアルカリ金属塩またはそれに由来する生成物を除去できる。
洗浄方法としては、シリカ分散体を濾過または遠心分離する際に水洗する方法が挙げられる。
洗浄後のシリカ分散体は、水を添加する、または濃縮して、固形分濃度を調整してもよい。洗浄後にシリカケーキとして回収される場合は、水を添加してシリカ分散体とすることができる。洗浄後のシリカ分散体のｐＨは、４〜６が好ましい。

「アルミン酸処理」
酸処理後のシリカ粉体に対し、任意に、アルミン酸処理を施してもよい。
アルミン酸処理によって、シリカ粉体中のシリカ粒子の表面にアルミニウム（Ａｌ）を導入させて、負に帯電させるように表面改質することができる。負に帯電したシリカ粉体は、酸性媒体に対する分散性を高めることができる。

アルミン酸処理の方法としては、シリカ分散体にアルミン酸塩の水溶液を添加して、任意で撹拌して混合し、その後、加熱処理してシリカ粒子の表面にＡｌを導入する方法が挙げられる。
混合は、１０〜３０℃で０．５〜２時間行うことが好ましい。
加熱処理は、加熱還流条件で行うことが好ましく、８０〜１１０℃で４時間以上行うことが好ましい。

アルミン酸塩としては、アルミン酸ナトリウム、アルミン酸カリウム等、これらの組み合わせが挙げられ、アルミン酸ナトリウムが好ましい。
アルミン酸塩（Ａｌ_２Ｏ_３換算）とシリカ粉体（ＳｉＯ_２換算）とのモル比（Ａｌ_２Ｏ _３／ＳｉＯ_２）は、０．０００４０〜０．００１６０が好ましい。
アルミン酸塩の水溶液の濃度は、１〜３質量％が好ましい。
アルミン酸塩の水溶液の添加量は、シリカ分散体中のＳｉＯ_２の１００質量部に対し、５．８〜８０．０質量部が好ましい。
シリカ分散体中のＳｉＯ_２濃度は、５〜２０質量％が好ましい。シリカ分散体のｐＨは、６〜８が好ましい。

アルミン酸処理後のシリカ分散体は、水を添加する、または濃縮して、固形分量を調整してもよい。アルミン酸処理後のシリカ分散体のｐＨは、６〜８が好ましい。

「アルカリ処理」
酸処理し、必要に応じてアルミン酸処理した後のシリカ粉体を、ｐＨ８以上でアルカリ処理し、シリカ凝集体を解膠する。
アルカリ処理によって、シリカ凝集体の強固な結合を解膠して、個々の鱗片状シリカ粒子の形態に近づけることができる。

シリカ凝集体を解膠することは、シリカ凝集体に電荷を与え、個々のシリカ粒子を媒体中に分散させることを意味する。
アルカリ処理によって、シリカ粉体に含まれるシリカ粒子のほぼ全量が個々の鱗片状シリカ粒子に解膠されてもよく、その一部のみが解膠されて凝集体が残っていてもよい。また、シリカ分散体に含まれるシリカ凝集体は、すべての部分が個々の鱗片状シリカ粒子に解膠されてもよく、その一部分のみが解膠されて凝集体部分が残っていてもよい。残った凝集体は、後工程の湿式解砕工程で個々の鱗片状シリカ粒子に解砕できる。

アルカリ処理のｐＨは、８以上であればよく、８．５以上が好ましく、９以上がより好ましい。アルカリ処理のｐＨが８以上であれば、シリカ粉体に含まれるシリカ凝集体の解膠を促進できる。また、アルカリ処理後にシリカ凝集体が残ったとしても、シリカ凝集体の鱗片状シリカ粒子の結合を弱めることができ、後工程の湿式解砕工程において個々の鱗片状シリカ粒子に解砕しやすい。

アルカリ処理の方法としては、シリカ分散体に、ｐＨが８以上になるようにアルカリ性液を添加して、任意で撹拌しながら処理する方法が挙げられる。アルカリ性液の代わりにアルカリ金属塩および水を別々に添加してもよい。
アルカリ処理は、１０〜５０℃で１〜４８時間行うことが好ましく、２〜２４時間行うことがより好ましい。

アルカリ金属塩としては、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩等、これらの組み合わせが挙げられる。
アルカリ性液としては、アルカリ金属塩を含む水溶液を用いることができる。また、アルカリ性液として、アンモニア水（ＮＨ_４ ^＋ＯＨ⁻）を用いてもよい。

シリカ分散体中のアルカリ金属塩の濃度（アルカリ金属塩の質量／シリカ分散体中の水とアルカリ金属塩との合計質量×１００）は、０．０１〜２８質量％が好ましく、０．０４〜５質量％がより好ましく、０．１〜２．５質量％がさらに好ましい。
アルカリ金属塩の量は、シリカ分散体中のＳｉＯ_２の１ｇに対して、０．４〜２．５ミリモルが好ましく、０．５〜２ミリモルがより好ましい。
シリカ分散体中のＳｉＯ_２濃度は、３〜７質量％が好ましい。シリカ分散体のｐＨは、８〜１１が好ましい。
シリカ分散体とアルカリ性液との配合割合については、ｐＨが８以上となるように調整すればよく、特に制限されない。

アルカリ処理後のシリカ分散体に含まれるシリカ粉体の平均粒子径は、３〜１０μｍが好ましく、４〜８．５μｍがより好ましい。
アルカリ処理後のシリカ分散体には、水を添加する、または濃縮して、固形分量を調整してもよい。アルカリ処理後のシリカ分散体のｐＨは、８．０〜１２．５が好ましい。

「湿式解砕」
アルカリ処理したシリカ粉体を湿式解砕し、鱗片状シリカ粒子を得る。
アルカリ処理したシリカ粉体には、シリカ凝集体が解膠されて、一部残存したシリカ凝集体とともに、シリカ凝集体がある程度微粒化された状態の不定形シリカ粒子が含まれる。これを湿式解砕することで、不定形シリカ粒子をさらに解砕して、個々の鱗片状シリカ粒子を得ることができる。あらかじめ、アルカリ処理しておくことで、湿式解砕において不定形シリカ粒子の解砕を促進することができる。そのため、充分に解砕されずに残る不定形シリカ粒子の量を抑えることができる。

湿式解砕するための装置としては、粉砕媒体を用いて機械的に高速撹拌する方式の湿式ビーズミル、湿式ボールミル、薄膜旋回型高速ミキサ、衝撃粉砕装置（ナノマイザ等）等の湿式粉砕装置（解砕装置）等が挙げられる。特に、湿式ビーズミルにおいて、直径０．２〜１ｍｍのアルミナ、ジルコニア等の媒体ビーズを用いると、鱗片状シリカ粒子の基本的な積層構造を極力粉砕、破壊しないように、解砕、分散化することができるため好ましい。衝撃粉砕装置は、８０〜１０００μｍの細い管に、粉体を含む分散体を圧力をかけて投入して、分散体中の粒子同士を衝突させて分散させるものであり、衝撃粉砕装置を用いることによって、粒子をより微細に解砕できる。

湿式粉砕するシリカ粉体は、蒸留水、イオン交換水等の精製水等で分散体として、適当な濃度にして湿式粉砕装置に供給することが好ましい。
分散体中のＳｉＯ_２濃度は、０．１〜２０質量％が好ましく、解砕効率や粘度上昇による作業効率を考慮すると、０．１〜１５質量％がより好ましい。

「カチオン交換処理」
湿式解砕後のシリカ粉体は、任意にカチオン交換処理してもよい。
カチオン交換処理することによって、シリカ粉体に含まれるカチオン、特に金属イオンを除去できる。

カチオン交換処理の方法としては、シリカ粉体を含むシリカ分散体にカチオン交換樹脂を添加して、任意で撹拌しながら処理する方法が挙げられる。カチオン交換処理は、１０〜５０℃で０．５〜２４時間行うことが好ましい。

カチオン交換樹脂の樹脂母体としては、スチレン−ジビニルベンゼン等のスチレン系樹脂、（メタ）アクリル酸系樹脂等が挙げられる。
カチオン交換樹脂としては、水素型（Ｈ型）カチオン交換樹脂が好ましく、たとえば、スルホン酸基、カルボキシル基またはリン酸基等を有するカチオン交換樹脂が挙げられる。カチオン交換樹脂の量は、シリカ分散体中のＳｉＯ_２の１００質量部に対し、３〜２０質量部が好ましい。
シリカ分散体中のＳｉＯ_２濃度は、３〜２０質量％が好ましい。シリカ分散体のｐＨは、４以下が好ましい。

以下、実施例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の記載によっては限定されない。
後述する例１〜１４のうち、例１〜８、１０は実施例であり、例９、１１〜１４は比較例である。
各例で使用した評価方法および材料を以下に示す。

＜評価方法＞
（算術平均粗さＲａ、最大高さ粗さＲｚ）
防眩膜の表面の算術平均粗さＲａおよび最大高さ粗さＲｚは、それぞれ、表面粗さ計（東京精密社製、サーフコム（登録商標）１５００ＤＸ）を用い、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１に記載された方法によって測定した。粗さ曲線用の基準長さｌｒ（カットオフ値λｃ）は、０．０８ｍｍとした。

（ヘイズ）
防眩層付き基材のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に規定されている方法で、ヘイズメーター（村上色彩研究所社製、ＨＲ−１００型）を用いて、防眩層のほぼ中央部で測定した。

（光沢度）
防眩層の表面の光沢度として６０゜鏡面光沢度を測定した。６０゜鏡面光沢度は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７の６０゜鏡面光沢度に規定されている方法で、光沢度計（コニカミノルタ社製、ＭＵＬＴＩ ＧＬＯＳＳ ２６８Ｐｌｕｓ）を用い、防眩層付き基材の裏面反射は消さず、防眩層のほぼ中央部で測定した。

（防眩性）
蛍光灯下に設置された台の上に、防眩層付き基材を、防眩層側を上にして置き、防眩層付き基材への蛍光灯の映り込みを目視により観察し、下記の基準で防眩性を判定した。
◎：蛍光灯の輪郭が認められない。
○：蛍光灯の輪郭がごくわずかに認められる。
△：蛍光灯の輪郭が認められるが許容範囲内である。
×：蛍光灯の輪郭が強く認められる。
××：蛍光灯の輪郭が非常に強く認められる。

＜使用材料＞
（鱗片状シリカ粒子分散液（ａ）の製造）
「シリカ粉体の形成」
ケイ酸ナトリウム水溶液（ＳｉＯ_２／Ｎａ_２Ｏ＝３．０（モル比）、ＳｉＯ_２濃度：２１．０質量％）の２０００ｍＬ／分と、硫酸水溶液（硫酸濃度：２０．０質量％）とを、放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入して瞬間的に均一混合し、シリカゾルを生成させた。２液の流量比は、放出口から空中に放出されるシリカゾルのｐＨが７．５〜８．０になるように調整した。シリカゾルを、放出口から連続的に空気中に放出した。シリカゾルは、空気中で球形液滴となり、放物線を描いて約１秒間滞空する間に空中でゲル化した。ゲル化したものを、水を張った熟成槽に落下させて熟成させた。熟成後、ｐＨを６に調整し、さらに充分に水洗して、シリカヒドロゲルを得た。得られたシリカヒドロゲルは、球状粒子であり、平均粒子径は６ｍｍであった。シリカヒドロゲル中のＳｉＯ_２に対する水の質量比は、４．５５倍であった。

シリカヒドロゲルを、ダブルロールクラッシャを用いて平均粒子径２．５ｍｍに粗粉砕した。容量１７ｍ^３のオートクレーブ（アンカー型撹拌羽根付き）に、系内の総ＳｉＯ_２／Ｎａ_２Ｏが１２．０（モル比）なるように、シリカヒドロゲル（ＳｉＯ_２濃度：１８質量％）の７２４９ｋｇおよびケイ酸ナトリウム水溶液（ＳｉＯ_２濃度：２９．００質量％、Ｎａ_２Ｏ濃度：９．４２質量％、ＳｉＯ_２／Ｎａ_２Ｏ＝３．１８（モル比））の１５００ｋｇを仕込み、これに水の１５６０ｋｇを加え、１０ｒｐｍで撹拌しながら飽和圧力１．６７ＭＰａの高圧水蒸気の４６８２ｋｇを加え、１８５℃まで昇温し、５時間水熱処理を行った。系内の総ＳｉＯ_２濃度は、１２．５質量％であった。
得られたシリカ分散体を濾過、洗浄してシリカ粉体を取り出し、ＴＥＭを用いて観察した。シリカ粉体にシリカ凝集体が含まれることが確認された。レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置（堀場製作所社製、ＬＡ−９５０、以下同じ。）によるシリカ粉体の平均粒子径は、８．３３μｍであった。

「酸処理」
シリカ粉体を含むシリカ分散体（赤外線水分計によって計測された固形分濃度：１３．３質量％、ｐＨ：１１．４）の１０１００ｇをスターラで撹拌しながら、硫酸水溶液（硫酸濃度：２０質量％）の１０８３ｇを加えた。添加後のｐＨは１．５であった。そのまま室温下で１８時間撹拌を継続し、処理を行った。
酸処理後のシリカ分散体を濾過し、ＳｉＯ_２の１ｇ当たり５０ｍＬの水で洗浄した。洗浄後のシリカケーキを回収し、水を加えスラリー状のシリカ分散体を調製した。赤外線水分計で計測したシリカ分散体の固形分濃度は、１４．７質量％であり、ｐＨは４．８であった。

「アルミン酸処理」
酸処理後のシリカ分散体の７０００ｇを１０Ｌのフラスコへ入れ、オーバーヘッドスターラで撹拌しながら、アルミン酸ナトリウム水溶液（濃度：２．０２質量％）の１９７ｇ（Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２＝０．０００８７（モル比））を少量ずつ加えた。添加後のｐＨは、７．２であった。添加後、室温下で１時間撹拌を継続した。その後、昇温し加熱還流条件で４時間処理を行った。

「アルカリ処理」
アルミン酸処理後のシリカ分散体の７７５ｇをスターラで撹拌しながら、水酸化カリウムの４３．５ｇ（１ミリモル／ｇ−シリカ）および水の１３８１ｇを加えた。添加後のｐＨは９．９であった。そのまま室温下で２４時間撹拌を継続し、処理を行った。アルカリ処理後のシリカ粉体の平均粒子径は、７．９８μｍであった。

「湿式解砕」
アルカリ処理後のシリカ分散体を、超高圧湿式微粒化装置（吉田機械興業社製、ナノマイザー（登録商標）ＮＭ２−２０００ＡＲ、孔径１２０μｍ衝突型ジェネレータ）を用い、吐出圧力１３０〜１４０ＭＰａで３０パスで処理を行い、シリカ粉体を解砕、分散化した。解砕後のシリカ分散体のｐＨは、９．３であり、レーザ回折／散乱式粒子径分布測定装置による平均粒子径は、０．１８２μｍであった。

「カチオン交換」
解砕後のシリカ分散体の１５５０ｇにカチオン交換樹脂の１６１ｍＬを添加し、オーバーヘッドスターラで撹拌しながら、室温下で１７時間処理した。その後、カチオン交換樹脂を分離した。カチオン交換後のシリカ分散体のｐＨは、３．７であった。

「濃度調整」
カチオン交換後のシリカ分散体を限外濾過膜（ダイセンメンブレンシステム製、ＭＯＬＳＥＰ（登録商標）、分画分子量：１５００００）にて処理し、濃度調整した。
得られたシリカ分散体（鱗片状シリカ粒子分散液（ａ））からシリカ粒子を取り出し、ＴＥＭにて観察したところ、不定形シリカ粒子を実質的に含まない鱗片状シリカ粒子のみであることが確認された。
鱗片状シリカ粒子分散液（ａ）に含まれる鱗片状シリカ粒子の平均粒子径は、湿式解砕後と同じであり、０．１８２μｍであった。平均アスペクト比は、１８８であった。
赤外線水分計で計測した鱗片状シリカ粒子分散液（ａ）の固形分濃度は、５．０質量％であった。

（ベース液（ｂ）の調製）
変性エタノール（日本アルコール販売社製、ソルミックス（登録商標）ＡＰ−１１、エタノールを主剤とした混合溶媒、沸点７８℃。以下同じ。）の３４．３３ｇを撹拌しながら、シリケート４０（多摩化学工業社製、テトラエトキシシランおよびその加水分解縮合物の混合物、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）：４０質量％、溶媒：エタノール（１０％以下）。以下同じ。）の４．２０ｇおよび鱗片状シリカ粒子分散液（ａ）の２．００ｇを加え、３０分間撹拌した。これに、イオン交換水の３．５５ｇおよび硝酸水溶液（硝酸濃度：６１質量％）の０．０６ｇの混合液を加え、６０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が４．０質量％のベース液（ｂ）を調製した。なお、ＳｉＯ_２換算固形分濃度は、シリケート４０のすべてのＳｉがＳｉＯ_２に転化したときの固形分濃度である。

（シラン化合物溶液（ｃ）の調製）
変性エタノールの３．８５ｇを撹拌しながら、イオン交換水の０．３７ｇおよび硝酸水溶液（硝酸濃度：６１質量％）の０．０１ｇの混合液を加え、５分間撹拌した。次いで、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン（信越化学工業社製、ＫＢＭ−３０６６、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）：３７質量％）の０．５４ｇを加え、ウォーターバス中６０℃で１５分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が４．３質量％のシラン化合物溶液（ｃ）を調製した。

（塗布液（ｄ）の調製）
ベース液（ｂ）の４４．１４ｇを撹拌しながら、シラン化合物溶液（ｃ）の４．７７ｇを加え、６０分間撹拌した。これに、変性エタノールの４．０９ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が４．０質量％の塗布液（ｄ）を得た。

（塗布液（ｅ）の調製）
ベース液（ｂ）の４４．１４ｇを撹拌しながら、シラン化合物溶液（ｃ）の４．７７ｇを加え、６０分間撹拌した。これに、変性エタノールの５４．０９ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が２．０質量％の塗布液（ｅ）を得た。

（ベース液（ｆ）の調製）
変性エタノールの３４．３３ｇを撹拌しながら、シリケート４０の４．７６ｇおよび鱗片状シリカ粒子分散液（ａ）の２．００ｇを加え、３０分間撹拌した。これに、イオン交換水の３．５５ｇおよび硝酸水溶液（硝酸濃度：６１質量％）の０．０６ｇの混合液を加え、室温で６０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が４．０質量％のベース液（ｆ）を得た。なお、ＳｉＯ_２換算固形分濃度は、シリケート４０のすべてのＳｉがＳｉＯ_２に転化したときの固形分濃度である。

（塗布液（ｇ）の調製）
ベース液（ｆ）に、変性エタノールの５１．０９ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が２．０質量％の塗布液（ｇ）を得た。

（ベース液（ｈ）の調製）
変性エタノールの３４．３３ｇを撹拌しながら、シリケート４０の４．４５ｇを加え、３０分間撹拌した。これに、イオン交換水の３．５５ｇおよび硝酸水溶液（硝酸濃度：６１質量％）の０．０６ｇの混合液を加え、室温で６０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が４．０質量％のベース液（ｈ）を得た。なお、ＳｉＯ_２換算固形分濃度は、シリケート４０のすべてのＳｉがＳｉＯ_２に転化したときの固形分濃度である。

（塗布液（ｉ）の調製）
ベース液（ｈ）に、変性エタノールの１５１．０９ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が１．０質量％の塗布液（ｉ）を得た。

（塗布液（ｊ）の調製）
ベース液（ｆ）に、変性エタノールの９６．０９ｇおよびイソブチルアルコール（沸点１０８℃）５ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が２．０質量％の塗布液（ｊ）を得た。

（塗布液（ｋ）の調製）
ベース液（ｆ）に、変性エタノールの９６．０９ｇおよびジアセトンアルコール（沸点１６６℃）５ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が２．０質量％の塗布液（ｋ）を得た。

（塗布液（ｌ）の調製）
ベース液（ｆ）に、変性エタノールの９６．０９ｇおよび１−ペンタノール（沸点１３８℃）５ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が２．０質量％の塗布液（ｌ）を得た。

（塗布液（ｍ）の調製）
ベース液（ｆ）に、変性エタノールの９６．０９ｇおよび１−ヘキサノール（１５７℃）５ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が２．０質量％の塗布液（ｍ）を得た。

（塗布液（ｎ）の調製）
変性エタノールの７２．１ｇを撹拌しながら、これにイオン交換水の６．０ｇと６１質量％硝酸の１．２３ｇとの混合液を加え、５分間撹拌した。これに、シリケート４０（ＳｉＯ_２換算固形分濃度：４０質量％）の９．０ｇを加え、室温で３０分間撹拌した。これに、変性エタノールの７．２ｇを撹拌しながら、これにイオン交換水の０．７ｇと６１質量％硝酸の０．１５ｇと、１，６−ビストリメトキシシリルヘキサンを１．０４ｇ加え、５分間撹拌後、６０度で１５分撹拌した液を加えた。これに、エチレングリコール（沸点１９７℃）の２．８ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、ＳｉＯ_２換算固形分濃度が３．７８質量％の塗布液（ｎ）を得た。なお、ＳｉＯ_２換算固形分濃度は、シリケート４０のすべてのＳｉがＳｉＯ_２に転化したときの固形分濃度である。

（ベース液（о）の調製）
変性エタノールの３４．３３ｇを撹拌しながら、シリケート４０の４．２０ｇおよび鱗片状シリカ粒子分散液（ａ）の２．００ｇを加え、３０分間撹拌した。これに、イオン交換水の３．５５ｇおよび硝酸水溶液（硝酸濃度：６１質量％）の０．０６ｇの混合液を加え、６０分間撹拌した。これに、多孔質球状シリカ粒子（日産化学工業社製、ライトスター（登録商標）ＬＡ−Ｓ２３Ａ、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）：２３質量％、分散媒：水）の０．０９ｇを加え、１５分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が４．１質量％のベース液（ｏ）を調製した。なお、ＳｉＯ_２換算固形分濃度は、シリケート４０のすべてのＳｉがＳｉＯ_２に転化したときの固形分濃度である。

（塗布液（ｐ）の調製）
ベース液（ｏ）を撹拌しながら、シラン化合物溶液（ｃ）を加え、６０分間撹拌した。これに、変性エタノールの５１．０９ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、固形分濃度（ＳｉＯ_２換算）が２．０質量％の塗布液（ｐ）を得た。

〔例１〕
（基材の洗浄）
基材として、ソーダライムガラス（旭硝子社製。ＦＬ１．１。サイズ：１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ：１．１ｍｍのガラス基板。）を用意した。該ガラスの表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。

（静電塗装装置）
図１に示した静電塗布装置１０と同様の構成の静電塗装装置（液体静電コーター、旭サナック社製）を用意した。静電塗装ガンとしては、回転霧化式自動静電ガン（旭サナック社製、サンベル、ＥＳＡ１２０、７０φカップ）を用意した。
基材の接地をより取りやすくするために、導電性基板として金属メッシュトレイを用意した。

（静電塗装）
静電塗装装置のコーティングブース内の温度を２５±１℃、湿度を５０％±１０％に調節した。
静電塗装装置のチェーンコンベア上に、あらかじめ３０℃±３℃に加熱しておいた洗浄済みの基材を、導電性基板を介して置いた。チェーンコンベアで等速搬送しながら、基材のトップ面（フロート法による製造時に溶融スズに接した面の反対側の面）に、表１に示す塗布条件による静電塗装法によって塗布液（ｄ）を塗布した後、大気中、４５０℃で３０分間焼成し、防眩膜付き基材を得た。
得られた防眩膜付き基材について、前記の評価を行った。結果を表１に示す。

〔例２〜例１１〕
塗布条件を表１に示すとおりに変更した以外は例１と同様にして例２〜例１１の防眩膜付き基材を作製した。得られた防眩膜付き基材について前記の評価を行った。結果を表１に示す。

〔例１２〕
スプレーロボットとして、６軸塗装用ロボット（川崎ロボティックス社製、ＪＦ−５）を用いた。ノズルとしては、ＶＡＵノズル（二流体スプレーノズル、スプレーイングシステムジャパン社製）を用いた。

塗布液（ｉ）を、特開２００９−０５８６４０号公報の図２に記載のスプレーピッチおよびスプレーパターンで塗布した。
すなわち、ＶＡＵノズルのエアー吐出圧を０．４ＭＰａに設定し、洗浄済みの基材（ガラス基板２２）上を７５０ｍｍ／分の速度で横方向に移動し、ついで、前方へ２２ｍｍ移動し、そこから基材（ガラス基板２２）上を７５０ｎｍ／分のスピードで横方向に移動する。ＶＡＵノズルの移動は、あらかじめ３０℃±３℃に加熱しておいた洗浄済みの基材の全面をＶＡＵノズルがスキャニングするまで実施する。該方法で基材の全面に塗布液を塗布したものを１面コート品と呼ぶ。該１面コート品の上に、同様の方法で塗布液を塗布したものを２面コート品と呼ぶ。同様に２面コート品の上に、塗り重ねしていくことで、３面以上のコート品が得られる。
表２に示す塗布条件によって塗布液（ｌ）を塗布した後、大気中、４５０℃で３０分間焼成し、防眩膜付き基材を得た。
得られた防眩膜付き基材について、前記の評価を行った。結果を表２に示す。

〔例１３〜例１４〕
塗布条件を表２に示すとおりに変更した以外は、例１２と同様にして例１３〜例１４の防眩膜付き基材を作製した。得られた防眩膜付き基材について前記の評価を行った。結果を表２に示す。

表１〜２中のコート所要時間は、例１のコート時間に対する相対値（例１でコートに要した時間を１としたときの比較値）である。
上記結果に示すとおり、沸点１５０℃以下の液状媒体の割合が、液状媒体の全量に対して８６質量％以上である塗料組成物（塗布液ｄ、ｅ、ｇ、ｉ、ｊ、ｌ）を、回転霧化式自動静電ガンで塗布した例１〜８、例１０では、相対値０．６〜４の短いコート時間で、充分な防眩性を有する防眩膜付き基材が得られた。
一方、沸点１５０℃以下の液状媒体の割合がシリカ前駆体と液状媒体の合計量に対して８６質量％未満である塗料組成物（塗布液ｋ、ｍ）を、回転霧化式自動静電ガンで塗布した例９、例１１では、得られた防眩膜付き基材の防眩性が不充分であった。
スプレーコート法により塗料組成物（塗布液ｌ、ｎ）を塗布した例１２〜１４では、防眩性判定結果が○または◎の防眩膜付き基材を得るために、相対値９〜３５のコート時間を要した。

本発明によれば、優れた防眩性能を有する防眩膜付き基材を短時間で製造できる製造方法、優れた防眩性能を有する防眩膜付き基材およびこれを備える物品を提供できる。
なお、２０１４年６月２日に出願された日本特許出願２０１４−１１４３９９号の明細書、特許請求の範囲、図面および要約書の全内容をここに引用し、本発明の開示として取り入れるものである。

１ 防眩膜付き基材 ３ 基材
５ 防眩膜 １０ 静電塗装装置
１１ コーティングブース １２ チェーンコンベア
１３ 高電圧ケーブル １４ 塗料組成物の供給ライン
１５ 塗料組成物の回収ライン １６ エアの供給ライン
１７ 静電塗装ガン １８ 高電圧発生装置
１９ 排気ダクト ２０ 排気ボックス
２１ 導電性基板 ３０ ガン本体
３１ 塗料供給管 ３２ 回転軸
３３ 吹出口 ３５ エア供給路
４０ 回転霧化頭 ４１ 第１部品
４２ 第２部品 ４３ 軸取付部
４４ 保持部 ４５ 周壁
４６ 誘導面 ４７ 拡径部
４８ 拡散面 ４９ 前面壁
５０ 流出孔 ５１ 筒状部
５２ 後面壁 ５３ 貫通孔
Ｓ 貯留室

Claims (10)

1. 基材と、前記基材上に形成された防眩膜とを備える防眩膜付き基材の製造方法であって、
   シリカ前駆体（Ａ）および粒子（Ｃ）の少なくとも一方と、液状媒体（Ｂ）とを含み、かつ前記液状媒体（Ｂ）が、沸点１５０℃以下の液状媒体（Ｂ１）を、前記液状媒体（Ｂ）の全量に対して８６質量％以上含む塗料組成物を準備する工程と、
   回転霧化頭を備える静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、前記塗料組成物を帯電させ噴霧することにより前記基材上に塗布して塗膜を形成する工程と、
   前記塗膜を焼成することにより防眩膜を形成する工程と、
   を有することを特徴とする、防眩膜付き基材の製造方法。
2. 前記塗料組成物を塗布する際の前記回転霧化頭の回転速度が、５０００〜８００００ｒｐｍである、請求項１に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
3. 前記塗料組成物を塗布する際に、前記静電塗装ガンから０．０１〜０．３ＭＰａのエア圧でシェービングエアを吹き出させる、請求項１または２に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
4. 前記塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）と粒子（Ｃ）との合計の含有量が、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３０〜１００質量％である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
5. 塗料組成物中のシリカ前駆体（Ａ）の含有量が、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３５〜９５質量％である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
6. 前記塗料組成物中の粒子（Ｃ）の含有量が、塗料組成物中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体（Ａ）はＳｉＯ_２換算とする。）のうち、３〜４０質量％である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
7. 前記塗料組成物中の液状媒体（Ｂ）の含有量は、塗料組成物の固形分濃度が塗料組成物の全量（１００質量％）のうち、１〜８質量％に応じた量とされている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の防眩膜付き基材の製造方法により得られる防眩膜付き基材。
9. 請求項８に記載の防眩膜付き基材を備える物品。
10. 画像表示装置である、請求項９に記載の物品。

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