JPWO2015166858A1 - 液状組成物および抗菌性物品 - Google Patents
液状組成物および抗菌性物品 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2015166858A1 JPWO2015166858A1 JP2016516338A JP2016516338A JPWO2015166858A1 JP WO2015166858 A1 JPWO2015166858 A1 JP WO2015166858A1 JP 2016516338 A JP2016516338 A JP 2016516338A JP 2016516338 A JP2016516338 A JP 2016516338A JP WO2015166858 A1 JPWO2015166858 A1 JP WO2015166858A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antibacterial
- group
- liquid composition
- ultraviolet
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 title claims abstract description 315
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 233
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 173
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 86
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 52
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 47
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 45
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 42
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims abstract description 41
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 17
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- -1 silver ions Chemical class 0.000 claims description 97
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 58
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 claims description 57
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 53
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 46
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 43
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 27
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 27
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 26
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 21
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 11
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 11
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 11
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 11
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 5
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000306 component Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 96
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 94
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 86
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 54
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 37
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 37
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 25
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 24
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 24
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 23
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 21
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 19
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 18
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 17
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 16
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 12
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 12
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 12
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 8
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 8
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M silver acetate Chemical compound [Ag+].CC([O-])=O CQLFBEKRDQMJLZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229940071536 silver acetate Drugs 0.000 description 8
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N hydrochloric acid Substances Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 7
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 5
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004697 chelate complex Chemical class 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 4
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 4
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 3
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 3
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUQWVFQZCIDWOT-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[4,6-bis(4-phenylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hydroxyphenoxy]undecan-3-one Chemical compound CCCCCCCCC(=O)C(C)Oc1ccc(c(O)c1)-c1nc(nc(n1)-c1ccc(cc1)-c1ccccc1)-c1ccc(cc1)-c1ccccc1 SUQWVFQZCIDWOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- 241000191967 Staphylococcus aureus Species 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLQTWNAJXFHMHM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](C)(OC)OC)CCC2OC21 SLQTWNAJXFHMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920001444 polymaleic acid Polymers 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 2
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 2
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 2
- DAKMIOHQGVNNRY-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2,4-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O DAKMIOHQGVNNRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXBXTZPKNFGKOL-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-[2-hydroxy-4-[2-hydroxy-3-(3-trimethoxysilylpropoxy)propoxy]phenyl]methanone Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCC[Si](OC)(OC)OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O SXBXTZPKNFGKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- PNYTUWFPIYSAIM-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1,3-benzothiazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C2SC3=CC=CC=C3N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 PNYTUWFPIYSAIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONTODYXHFBKCDK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC=NC=N1 ONTODYXHFBKCDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-(2-phenylpropan-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UZUNCLSDTUBVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRXGKQPTFWTTJW-UHFFFAOYSA-N 5-butoxy-2-[4-(4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(OCCCC)=CC=2)O)=NC(C=2C(=CC(OCCCC)=CC=2)OCCCC)=N1 DRXGKQPTFWTTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNCOSPRUTUOJCJ-UHFFFAOYSA-N Biguanide Chemical group NC(N)=NC(N)=N XNCOSPRUTUOJCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000005328 architectural glass Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- WRSUMHYBOYWMTD-UHFFFAOYSA-N diazanium;2-[2-[carboxylatomethyl(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetate;hydrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].O.OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O WRSUMHYBOYWMTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWXYOPPJTRVTST-UHFFFAOYSA-N methyl-tris(prop-1-en-2-yloxy)silane Chemical compound CC(=C)O[Si](C)(OC(C)=C)OC(C)=C ZWXYOPPJTRVTST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N tetratert-butyl silicate Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLTVTFUBQOLTND-UHFFFAOYSA-N tris(2-methoxyethoxy)-methylsilane Chemical compound COCCO[Si](C)(OCCOC)OCCOC OLTVTFUBQOLTND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/14—Paints containing biocides, e.g. fungicides, insecticides or pesticides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/445—Organic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/476—Tin oxide or doped tin oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/478—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/48—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific function
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/74—UV-absorbing coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Plant Pathology (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
[1]ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される1種以上を含む紫外線吸収剤(a)と、酸化ケイ素系マトリクス原料成分を主体とするバインダー成分(b)と、銀、銅、亜鉛および抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物から選ばれる少ないとも1種の抗菌活性物質(c)と、液状媒体(d)と、を含有することを特徴とする液状組成物。
[2]抗菌活性物質(c)が銀であり、銀単体または銀イオンの状態で存在し、その前記液状媒体中の固形分における含有量が0.00001〜1質量%である[1]に記載の液状組成物。
[3]抗菌活性物質(c)が銅であり、銅単体または銅イオンの状態で存在し、その前記液状媒体中の固形分における含有量が0.00001〜1質量%である[1]に記載の液状組成物。
[4]抗菌活性物質(c)が亜鉛であり、銅単体または銅イオンの状態で存在し、その前記液状媒体中の固形分における含有量が0.00001〜1質量%である[1]に記載の液状組成物。
[5]抗菌活性物質(c)が抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物であり、該抗菌活性基が4級アンモニウム基であり、その前記液状媒体中の固形分における含有量が1〜25質量%である[1]に記載の液状組成物。
[7]前記キレート剤が、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸(HEDP)およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種のキレート剤である[6]に記載の液状組成物。
[8]液状組成物のpHが2〜5である[1]〜[7]のいずれかに記載の液状組成物。
[9]紫外線吸収剤(a)として水酸基含有ベンゾフェノン系化合物を含有する[1]〜[8]のいずれかに記載の液状組成物。
[10]紫外線吸収剤(a)として、加水分解性基を有するシリル基を含有するベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される1種以上を含有する[9]に記載の液状組成物。
[11]バインダー成分(b)として、4官能性アルコキシシラン化合物を含む[1]〜[10]のいずれかに記載の液状組成物。
[13]表面張力が17.5〜30mN/mのケイ素化合物を含む表面撥油剤(i)をさらに含む[1]〜[12]のいずれかに記載の液状組成物。
[14]基体と、前記基体の表面に[1]〜[13]のいずれかに記載の液状組成物を用いて形成された紫外線吸収・抗菌性膜と、を有することを特徴とする紫外線吸収能を有する抗菌性物品。
[15]前記基体が、ガラス基材である[14]記載の抗菌性物品。
[16]前記抗菌性物品のJIS R3212(1998年)にしたがい測定される可視光透過率が70%以上であり、ISO−9050(1990年)にしたがい測定される紫外線透過率が3%以下である[14]または[15]に記載の抗菌性物品。
[17]前記紫外線吸収・抗菌性膜の厚みが1.0〜7.0μmである、[14]〜[16]のいずれかに記載の抗菌性物品。
本実施形態の液状組成物は、紫外線吸収能を有する抗菌性膜の形成に好適であり、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される1種以上を含む紫外線吸収剤(a)と、酸化ケイ素系マトリクス原料成分を主体とするバインダー成分(b)と、銀、銅、亜鉛および抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物から選ばれる少なくとも1種の抗菌活性物質(c)と、液状媒体(d)と、を必須成分として含有してなる。なお、本明細書において、上記各成分を符号のみで、例えば、紫外線吸収剤(a)を(a)成分と示すこともある。
紫外線吸収剤(a)は、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される1種以上を含有する紫外線吸収能を有する材料である。
上記シリル化ベンゾフェノン系化合物の原料の1つであるベンゾフェノン系化合物としては、下記一般式(A)で示される、水酸基を2〜4個有するベンゾフェノン系化合物が挙げられる。このベンゾフェノン系化合物は、シリル化した後も優れた紫外線吸収能を有する点から好ましく用いられる。特に380nmまでの長波長の紫外線吸収能の点からいえば、このベンゾフェノン系化合物が有する水酸基数は、より好ましくは3個または4個である。
紫外線吸収・抗菌性膜形成用の液状組成物が含有するバインダー成分(b)は、酸化ケイ素系マトリクス原料成分を主体とする膜形成のための原料成分である。なお、バインダー成分(b)が、酸化ケイ素系マトリクス原料成分を主体とするとは、バインダー成分(b)の全量に対する酸化ケイ素系マトリクス原料成分の割合が50質量%以上であることをいう。このように、本明細書においては、ある成分(x)を主体とする成分(Y)または材料(Y)とは、成分(Y)または材料(Y)全体に対する成分(x)の含有割合が50質量%以上であることをいう。
これらは、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
抗菌活性物質(c)は、銀、銅、亜鉛および抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物から選ばれる少なくとも1種の抗菌活性を有する物質である。以下、この抗菌活性物質を、金属系の抗菌活性物質と有機化合物系の抗菌活性物質とに分けてそれぞれ説明する。
本実施形態における金属系の抗菌活性物質としては、銀、銅および亜鉛が挙げられる。これら金属系抗菌活性物質は、抗菌活性を有していることが既に知られているものである。本実施形態において、これら金属を用いる場合には、本実施形態の液状組成物中に、上記金属を含有させればよい。
本実施形態における有機化合物系の抗菌活性物質は、抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物である。本実施形態において、抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物を用いる場合には、紫外線吸収・抗菌性膜の形成に用いる液状組成物中に、上記抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物を含有させればよい。
紫外線吸収・抗菌性膜形成用の液状組成物は、必須成分である紫外線吸収剤(a)、バインダー成分(b)および抗菌活性物質(c)を所定の量で配合し、さらに後述する任意成分等を任意の量で配合し、これらを液状媒体(d)中に溶解、分散して調製される。上記紫外線吸収・抗菌性膜形成用の液状組成物中の全固形分が液状媒体(d)に安定に溶解、分散することが必要である。
第1のキレート剤(e)は、抗菌活性物質(c)のうち金属系抗菌活性物質と錯体を形成しうる化合物である。この第1のキレート剤(e)としては、上記した銀、銅および亜鉛の抗菌活性物質(c)とキレート錯体を形成するものであり、例えば、エチレンジアミン4酢酸、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、クエン酸、ヘキサメタリン酸、リンゴ酸、グルコン酸、シュウ酸、有機スルホン酸、有機ホスホン酸等やそれらの塩が挙げられる。
赤外線吸収剤(f)は、複合タングステン酸化物、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、および錫ドープ酸化インジウム(ITO)から選択される1種以上を含有する。なお、これら赤外線吸収剤(f)は、微粒子の形状で用いられる。
本実施形態の液状組成物に配合する分散剤(g)は、分子量1,000〜100,000の分散剤(g)が好ましい。配合量は、上記赤外線吸収剤(f)100質量部に対して5〜15質量部の割合となる量が好ましい。
本実施形態の液状組成物において、第2のキレート剤(h)は、赤外線吸収剤(f)と錯体を形成しうるキレート剤である。したがって、赤外線吸収剤(f)を含有させない場合には、第2のキレート剤(h)も使用しなくてよい。なお、この第2のキレート剤(f)がバインダー(b)のマトリックス形成におけるゾル・ゲル反応の酸触媒として寄与する場合には、キレート剤としてではなく、酸触媒として含有させる場合もある。この第2のキレート剤(h)としては、分子量が1,000〜100,000のキレート剤であって、上記形成される錯体が可視光波長の光に対して実質的に吸収を示さないキレート剤が好ましい。
(A−Rf)a−Si(R2)bX2 (4−a−b) …(i1)
(式(i1)中、Rfは、少なくとも1つのフルオロアルキレン基を含むエーテル性酸素原子を有してもよい炭素数1〜20の2価有機基、Aはフッ素原子または−Si(R2)bX2 (3−b)であり、R2はフッ素原子を有しない、置換または非置換の炭素数1〜10の炭化水素基であり、X2は加水分解性基を示す。aは1または2、bは0または1、a+bは1または2である。A−RfおよびX2が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。)
F(CF2)CH2CH2Si(OCH3)3(表面張力;23.4mN/m)、
F(CF2)2CH2CH2Si(OCH3)3、
F(CF2)3CH2CH2Si(OCH3)3、
F(CF2)4CH2CH2Si(OCH3)3、
F(CF2)6CH2CH2Si(OCH3)3、
F(CF2)6CH2CH2CH2Si(OCH3)3、
(CH3O)3SiCH2CH2(CF2)6CH2CH2Si(OCH3)3、
(CH3O)3SiCH2CH2(CF2)6CH2CH2CH2Si(OCH3)3。
R3−(SiR4 2O)k−SiR4 2−Y1−Si(R5)n2(X3)3−n2 …(i2)
(式(i2)中、R3は炭素数10以下のアルキル基または−Y1−Si(R5)n2(X3)3−n2基を、R4はそれぞれ独立して炭素原子数3以下のアルキル基を、Y1はそれぞれ独立して炭素原子数2〜4のアルキレン基を、R5はフッ素原子を有しない、置換または非置換の炭素数1〜20の炭化水素基を、X3は加水分解性基を示す。kは10〜200の整数であり、n2は0、1または2である。R5およびX3が複数個存在する場合、これらは互いに異なっていても同一であってもよい。)
CH3(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4SiCl3、
CH3(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4Si(OCH3)3、
CH3(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4Si(OC2H5)3、
C4H9(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4SiCl3、
C4H9(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4Si(OCH3)3、
C4H9(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4Si(OC2H5)3、
Cl3SiC2H4(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4SiCl3、
(CH3O)3SiC2H4(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4Si(OCH3)3、
(C2H5O)3SiC2H4(Si(CH3)2O)kSi(CH3)2C2H4Si(OC2H5)3。
ジオルガノシリコーンオイル(i3)として、具体的には、下記式(i3)に示される化合物(i3)(ただし、表面張力が17.5〜30mN/mである。)が挙げられる。
R6 3Si−O−(SiR7 2O)m1−(SiR7R8O)m2−SiR6 3 …(i3)
(式(i3)中、R6はそれぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基を、R7はそれぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基またはアリール基、アラルキル基を、R8はポリオキシアルキレン基、アミド基、またはエステル基を有する炭素数1〜20の1価有機基を示す。m1は0〜200、m2は0〜200、m1+m2は10〜200の整数である。)
液状組成物のpHは、2〜5の範囲であることが好ましい。液状組成物のpHが2より小さいと紫外線吸収・抗菌性膜の着色が大きくなったり、硬化が充分進まなくなったり等の問題が発生するおそれがある。一方、液状組成物のpHが5を超えると液の安定性が低下し保存性が悪化するおそれがある。
また、液状組成物のpHを高くすると、可視光透過率や黄色度が改善される傾向にあるため、透明基体を用いる場合には、上記範囲内でpHを高めることが好ましい。このときのpHは、3.4以上が好ましく、3.7以上がより好ましく、3.9以上が特に好ましい。
本実施形態の液状組成物は、上記の必須成分である(a)成分〜(d)成分、任意成分である(e)成分〜(i)成分、さらには必要に応じてその他の添加成分を、液状媒体(d)中に、均一に混合して得られる。このとき液状媒体(d)は、単一のものでも複数種からなるものでもよく、複数種の液状媒体(d)を用いる場合には、それら液状媒体同士の相溶性が高いものを選択し、均一に混合できるようにする。
本実施形態の抗菌性物品は、基体の表面に、紫外線吸収能および抗菌性を有する紫外線吸収・抗菌性膜を有してなるものである。図1に、本発明の一実施形態である抗菌性物品を示した。この抗菌性物品1は、基体2の一方の主面上に、以下で説明する紫外線吸収・抗菌性膜3を有してなる。ここで、紫外線吸収・抗菌性膜3は、本実施形態の紫外線吸収・抗菌性膜形成用の液状組成物を用いて形成されたものである。以下、本実施形態の抗菌性物品の構成について、詳細に説明する。
本実施形態の抗菌性物品に用いられる基体としては、一般に抗菌性の付与が求められている材質からなる基体であれば特に制限されない。ここで、基体としては、ガラス、プラスチック、金属、セラミック、木材、金属酸化物等の基体が挙げられ、中でも、ガラス、プラスチック等の透明基体が好ましく、ガラスからなる透明基体が特に好ましい。
本実施形態の抗菌性物品1が有する紫外線吸収・抗菌性膜3は、上記基体の表面に設けられる膜である。紫外線吸収・抗菌性膜は、通常、基体のいずれか一方の表面に設ければよいが、両面に設けてもよい。
本実施形態の抗菌性物品の製造方法を以下に説明する。抗菌性物品1は、基体2の一方の主面上に、紫外線吸収能および抗菌性を有する紫外線吸収・抗菌性膜3を有して構成され、その製造については上記したように、基体2の表面に本実施形態の液状組成物を塗布し、これを乾燥することで得られる。このとき、乾燥により液状媒体(d)が除去されるとともにバインダー成分(b)が硬化する際に、紫外線吸収剤(a)および抗菌活性物質(c)が膜全体に分散された形で形成される。
・シリル化紫外線吸収剤溶液: 2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン(BASF社製) 49.2g、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学社製) 123.2g、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム(純正化学社製) 0.8g、酢酸ブチル(純正化学社製) 100gを仕込み、撹拌しながら60℃に昇温して溶解させ、さらに120℃まで加熱して4時間反応させることにより、紫外線吸収剤である4−[2−ヒドロキシ−3−[3−(トリメトキシシリル)プロポキシ]プロポキシ]−2,2’,4’−トリヒドロキシベンゾフェノンを含有する固形分濃度63質量%のシリル化紫外線吸収剤溶液を得た。シリル化紫外線吸収剤溶液の固形分は69%が(a)紫外線吸収剤成分、31%が(b)バインダー成分として算出される。
・TINUVIN360分散液: TINUVIN360(BASF社製、2,2’−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]) 4g、DISPERBYK−190(ビックケミー・ジャパン社製、酸価10mgKOH/g、分子量2,200の分散剤の40質量%水溶液) 5.0g、純水 31gを仕込み48時間ボールミルで攪拌したのち所定量の純水で希釈し、固形分濃度8質量%のTINUVIN360分散液を得た。
・テトラエトキシシラン(TEOS):純正化学社製、商品名:テトラエトキシシラン
・SiO2微粒子分散液: 日産化学工業社製、商品名:メタノールシリカゾル
<抗菌活性物質(c)>
・硝酸銀水溶液: 硝酸銀(純正化学赦社製)を純水に溶解し、金属銀換算で1質量%濃度または10質量%濃度の硝酸銀水溶液を調整した。
・酢酸銀水溶液: 酢酸銀(純正化学赦社製)を純水に溶解し、金属銀換算で1質量%濃度の硝酸銀水溶液を調整した。
・Polon MF−50:信越化学工業株式会社製、商品名;4級アンモニウム塩含有シランカップリング剤
・ソルミックスAP−1(日本アルコール販売社製、商品名;エタノール:2−プロパノール:メタノール=85.5:13.4:1.1(質量比)の混合溶媒)
<第1のキレート剤(e)>
・エチレンジアミン四酢酸二アンモニウム塩一水和物(純正化学社製:分子量344.32;EDTA−2NH4)。なお、以下の実施例および比較例において、第1のキレート剤は、液状組成物を調製する前に、硝酸銀または酢酸銀水溶液に、硝酸銀、または酢酸銀と等モル量添加することでキレート化硝酸銀水溶液またはキレート化酢酸銀水溶液を予め調製して用いた。
・ITO分散液: ITO超微粒子(三菱マテリアル社製;平均一次粒子径20nm)の11.9g、DISPERBYK−190(ビックケミー・ジャパン社製、酸価10mgKOH/g、分子量2,200の分散剤の40質量%水溶液)の3.0g、ソルミックスAP−1の24.2gをボールミルを用いて48時間分散処理し、その後さらにソルミックスAP−1を添加してITO固形分濃度が20質量%となるように希釈し、赤外線吸収剤であるITO超微粒子を含有するITO分散液を得た。
・第2のキレート剤:ノンポールPMA−50W(日油社製 固形分濃度50%のマレイン酸重合物水溶液)
<表面撥油剤(i)>
・TSL8257(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、商品名:フルオロアルキルシラン;バインダー成分(b)15%、表面撥油剤成分(i)85%)
<酸触媒>
・マレイン酸(純正化学社製、商品名:マレイン酸)
・塩酸水溶液:純正化学社製 塩酸特級 を純水で0.7質量%濃度に希釈し、塩酸水溶液を得た。
<樹脂;可撓性付与成分>
・SR−SEP: 阪本薬品工業社製、商品名;ソルビトール系ポリグリシジルエーテル
・ポリオールG300: ADEKA社製 ポリエーテルポリオール
<表面調整剤>
・BYK307(ビックケミー・ジャパン社製、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン)
(例1)
シリル化紫外線吸収剤 12.8g、テトラエトキシシラン 15.3g、SiO2微粒子分散液 0.7g、ソルミックスAP−1 50.6g、純水 19.5g、SR−SEP 1.1g、マレイン酸 0.116g、ノンポールPMA−50W 0.081g、BYK307 0.060gを仕込み、50℃で2時間撹拌した後に1質量%濃度硝酸銀水溶液 0.1g、を添加して、紫外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液1を得た(該塗布液1の固形分中の銀含有量は0.01質量%である)。
1質量%濃度硝酸銀水溶液を0.7g、純水を19.0gとした以外は例1と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液2を得た(該塗布液2の固形分中の銀含有量は0.05質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液1を抗菌膜形成用塗布液2とした以外は例1と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板2を得た。
1質量%濃度硝酸銀水溶液を2.8g、純水を16.9gとした以外は例1と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液3を得た(該塗布液3の固形分中の銀含有量は0.2質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液1を抗菌膜形成用塗布液3とした以外は例1と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板3を得た。
(例4)
硝酸銀水溶液を使用せず(0.0g)、純水を19.7gとした以外は例1と同一の操作により紫外線吸収能を有する膜形成用の液状組成物塗布液4を得た(該塗布液4の固形分中の銀含有量は0.0質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液1を膜形成用塗布液4とした以外は例1と同一の操作により紫外線吸収能を有する膜付きガラス板4を得た。
(例5)
シリル化紫外線吸収剤 11.7g、テトラエトキシシラン 14.0g、ソルミックスAP−1 53.7g、純水 17.9g、SR−SEP 1.0g、マレイン酸 0.012g、ノンポールPMA−50W 0.081g、BYK307 0.060gを仕込み、50℃で2時間撹拌した後にITO分散液 7.0g、1質量%濃度硝酸銀水溶液 0.14g、を添加して、紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液5を得た(該塗布液5の固形分中の銀含有量は0.01質量%である)。
1質量%濃度硝酸銀水溶液を0.0014g、純水を18.1gとした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液6を得た(該塗布液6の固形分中の銀含有量は0.0001質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液5を抗菌膜形成用塗布液6とした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板6を得た。
1質量%濃度硝酸銀水溶液を0.70g、純水を17.4gとした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液7を得た(該塗布液7の固形分中の銀含有量は0.05質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液5を抗菌膜形成用塗布液7とした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板7を得た。
1質量%濃度硝酸銀水溶液を2.79g、純水を15.3gとした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液8を得た(該塗布液8の固形中の銀含有量は0.2質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液5を抗菌膜形成用塗布液8とした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板8を得た。
シリル化紫外線吸収剤 11.5g、テトラエトキシシラン 13.7g、ソルミックスAP−1 54.5g、純水 14.9g、SR−SEP 1.0g、マレイン酸 0.116g、ノンポールPMA−50W 0.081g、BYK307 0.060gを仕込み、50℃で2時間撹拌した後にITO分散液 6.9g、10質量%濃度硝酸銀水溶液 2.75g、を添加して、紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液9を得た(該塗布液9の固形分中の銀含有量は1.96質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液5を抗菌膜形成用塗布液9とした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板9を得た。
1質量%濃度硝酸銀水溶液 2.79gを1質量%濃度酢酸銀水溶液 2.79gとした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液10を得た(該塗布液10の固形分中の銀含有量は0.2質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液5を抗菌膜形成用塗布液10とした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板10を得た。
シリル化紫外線吸収剤 11.7g、テトラエトキシシラン 8.0g、PolonMF−50 6.93g、ソルミックスAP−1 64.6g、純水 10.2g、マレイン酸 0.116g、ノンポールPMA−50W 0.081g、BYK307 0.060gを仕込み、50℃で2時間撹拌した後にITO分散液 7.0g、を添加して、紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液11を得た(該塗布液11の固形分中のPolonMF50含有量は19.8質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液5を抗菌膜形成用塗布液11とした以外は例5と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板11を得た。
TINUVIN360分散液 34.6g、テトラエトキシシラン 39.6g、ソルミックスAP−1 21.7g、ポリオールG300 0.63g、0.7質量%濃度塩酸水溶液 3.2gを仕込み50℃で2時間撹拌した後に10質量%濃度硝酸銀水溶液 0.23gを添加して、紫外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液12を得た。該塗布液12の固形分中の銀含有量は0.2質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液5を抗菌膜形成用塗布液12とした以外は例5と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板12を得た。
(例13)
硝酸銀水溶液を使用せず(0.00g)、純水を18.1gとした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する膜形成用塗布液13を得た(該塗布液13の固形分中の銀含有量は0.0質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液5を膜形成用塗布液13とした以外は例5と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する膜付きガラス板13を得た。
(例14)
シリル化紫外線吸収剤 11.7g、テトラエトキシシラン 14.0g、ソルミックスAP−1 53.5g、純水 17.9g、SR−SEP 1.0g、マレイン酸 0.012g、ノンポールPMA−50W 0.081g、TSL8257 0.14g、BYK307 0.060gを仕込み、50℃で2時間撹拌した後にITO分散液 7.0g、1質量%濃度硝酸銀水溶液 0.14g、を添加して、紫外線吸収能、赤外線吸収能および表面撥水性を有する抗菌膜形成用塗布液14を得た(該塗布液14固形分中の銀含有量は0.01質量%である)。
〈抗菌活性〉
例1〜3,5〜12、14により得られた抗菌膜付きガラス板1〜3,5〜12、14および例4,13により得られた膜付きガラス板4,13について、JIS Z 2801:2010(抗菌性試験方法)に基づき、フィルム密着法による抗菌活性試験を実施した。比較用の抗菌未処理試験として被覆フィルムのみでの試験を実施した結果を用いて抗菌活性値を算出した。
例1〜3,5〜12、14により得られた抗菌膜付きガラス板1〜3,5〜12、14および例4,13により得られた膜付きガラス板4,13について、分光光度計(日立製作所製、商品名:U−4100)を用いて測定し、JIS R 3212:1998に従って可視光線透過率(Tv(%))および紫外線透過率(Tuv(%))を算出し、さらにJIS K 7105:1981に従って黄色度(YI(%))を算出した。
注射針から1μLの水またはオレイン酸を1.5cm間隔で6箇所に滴下し、水平方向より撮影した水滴の半径と高さからθ/2法により、それぞれの接触角を算出し、6点の平均値をその膜の接触角とした。
これらの結果を表3および表4に併せて示した。
例7〜例9,例12に示したように、紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜において、銀含有量が増加することで可視光線透過率Tvおよび黄色度YIが悪化し、着色が生じる傾向があり、透明性を求められるガラスにおいて色味が低下する傾向があることがわかった。そこで、本発明者らは、その改善方法について検討した。
(例15)
シリル化紫外線吸収剤 11.7g、テトラエトキシシラン 14.0g、ソルミックスAP−1 53.7g、純水 15.2g、SR−SEP 1.0g、マレイン酸 0.116g、ノンポールPMA−50W 0.081g、BYK307 0.060gを仕込み、50℃で2時間撹拌した後にITO分散液 7.0g、1質量%濃度硝酸銀水溶液 2.79g、を添加して、紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液15を得た(該塗布液15の固形分中の銀含有量は0.2質量%である)。
1質量%濃度硝酸銀水溶液を2.79gを1質量%濃度硝酸銀水溶液2.79gと第1のキレート剤0.057gを混合したキレート化硝酸銀水溶液2.847gとした以外は例15と同一の操作により紫外線および赤外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液16を得た(該塗布液16固形分中の銀含有量は0.2質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液15を抗菌膜形成用塗布液16とした以外は例15と同一の操作により紫外線・赤外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板16を得た。
1質量%濃度硝酸銀水溶液を2.79gを1質量%濃度酢酸銀水溶液2.79gと第1のキレート剤0.058gを混合したキレート化酢酸銀水溶液2.848gとした以外は例15と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液17を得た(該塗布液17の固形分中の銀含有量は0.2質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液15を抗菌膜形成用塗布液17とした以外は例15と同一の操作により紫外線・赤外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板17を得た。
(例18)
マレイン酸を0.046gとした以外は例15と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液18を得た(該塗布液18の固形分中の銀含有量は0.2質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液15を抗菌膜形成用塗布液18とした以外は例15と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板18を得た。
マレイン酸を使用しない(0.000g)こと以外は例15と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜形成用塗布液19を得た(該塗布液19の固形分中の銀含有量は0.2質量%である)。また、抗菌膜形成用塗布液15を抗菌膜形成用塗布液19とした以外は例15と同一の操作により紫外線吸収能を有する抗菌膜付きガラス板19を得た。
次に、例3,6〜8,13の抗菌膜付きガラス板3,6〜8,13について、黄色度の経時変化を、促進耐候性試験(SXe照射試験)および50℃95%RH環境における高温高湿試験により調べた。その結果を表10に示した。
Claims (17)
- ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される1種以上を含む紫外線吸収剤(a)と、
酸化ケイ素系マトリクス原料成分を主体とするバインダー成分(b)と、
銀、銅、亜鉛および抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物から選ばれる少なくとも1種の抗菌活性物質(c)と、
液状媒体(d)と、
を含有することを特徴とする液状組成物。 - 前記抗菌活性物質(c)が銀であり、銀単体または銀イオンの状態で存在し、その前記液状媒体中の固形分における含有量が0.00001〜1質量%である請求項1に記載の液状組成物。
- 前記抗菌活性物質(c)が銅であり、銅単体または銅イオンの状態で存在し、その前記液状媒体中の固形分における含有量が0.00001〜1質量%である請求項1に記載の液状組成物。
- 前記抗菌活性物質(c)が亜鉛であり、亜鉛単体または亜鉛イオンの状態で存在し、その前記液状媒体中の固形分における含有量が0.00001〜1質量%である請求項1に記載の液状組成物。
- 前記抗菌活性物質(c)が抗菌活性基を有する加水分解性ケイ素化合物であり、該抗菌活性基が4級アンモニウム基であり、その前記液状媒体中の固形分における含有量が1〜25質量%である請求項1に記載の液状組成物。
- 前記抗菌活性物質(c)が銀、銅および亜鉛から選ばれる金属であって、前記金属とキレート形成能を有する第1のキレート剤(e)を含有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 前記第1のキレート剤(e)が、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸(HEDP)およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種のキレート剤である請求項6に記載の液状組成物。
- 前記液状組成物のpHが2〜5である請求項1〜7のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 前記紫外線吸収剤(a)として水酸基含有ベンゾフェノン系化合物を含有する請求項1〜8のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 前記紫外線吸収剤(a)として、加水分解性基を有するシリル基を含有するベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される1種以上を含有する請求項9に記載の液状組成物。
- 前記バインダー成分(b)として、4官能性アルコキシシラン化合物を含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 錫ドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫、および複合タングステン酸化物から選択される1種以上を含む赤外線吸収剤(f)をさらに含む請求項1〜11のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 表面張力が17.5〜30mN/mのケイ素化合物を含む表面撥油剤(i)をさらに含む請求項1〜12のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 基体と、前記基体の表面に請求項1〜13のいずれか1項に記載の液状組成物を用いて形成された紫外線吸収・抗菌性膜と、を有することを特徴とする紫外線吸収能を有する抗菌性物品。
- 前記基体が、ガラス基材である請求項14に記載の抗菌性物品。
- 前記抗菌性物品のJIS R3212(1998年)にしたがい測定される可視光透過率が70%以上であり、ISO−9050(1990年)にしたがい測定される紫外線透過率が3%以下である請求項14または15に記載の抗菌性物品。
- 前記紫外線吸収・抗菌性膜の厚みが1.0〜7.0μmである、請求項14〜16のいずれか1項に記載の抗菌性物品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014093200 | 2014-04-28 | ||
JP2014093200A JP2017025120A (ja) | 2014-04-28 | 2014-04-28 | 液状組成物および抗菌性物品 |
PCT/JP2015/062251 WO2015166858A1 (ja) | 2014-04-28 | 2015-04-22 | 液状組成物および抗菌性物品 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015166858A6 JPWO2015166858A6 (ja) | 2017-04-20 |
JPWO2015166858A1 true JPWO2015166858A1 (ja) | 2017-04-20 |
JP6481685B2 JP6481685B2 (ja) | 2019-03-13 |
Family
ID=54358589
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014093200A Pending JP2017025120A (ja) | 2014-04-28 | 2014-04-28 | 液状組成物および抗菌性物品 |
JP2016516338A Active JP6481685B2 (ja) | 2014-04-28 | 2015-04-22 | 液状組成物および抗菌性物品 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014093200A Pending JP2017025120A (ja) | 2014-04-28 | 2014-04-28 | 液状組成物および抗菌性物品 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3138880A4 (ja) |
JP (2) | JP2017025120A (ja) |
CN (1) | CN106255727B (ja) |
WO (1) | WO2015166858A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6542716B2 (ja) * | 2015-08-25 | 2019-07-10 | 富士フイルム株式会社 | 抗菌液、抗菌膜、スプレー、クロス |
WO2017033926A1 (ja) | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 抗菌液、抗菌膜、スプレー、クロス |
JP6232161B1 (ja) * | 2017-07-27 | 2017-11-15 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
CN107459893A (zh) * | 2017-08-03 | 2017-12-12 | 合肥隆延科技有限公司 | 抗菌水性木器涂料 |
CN107987722B (zh) * | 2017-11-30 | 2019-11-05 | 深圳南玻应用技术有限公司 | 有机硅杀菌液、有机硅杀菌剂、抗菌玻璃、其制备方法及应用 |
EP3810699A1 (en) | 2018-06-21 | 2021-04-28 | University College Cork-National University of Ireland Cork | A coating composition comprising integrated functionality |
CN109811421B (zh) * | 2018-12-28 | 2021-03-23 | 福建省银河服饰有限公司 | 一种抗菌无机填料及制备方法 |
CN111807711B (zh) * | 2020-07-24 | 2022-05-13 | 江苏秀强玻璃工艺股份有限公司 | 一种超亲水长寿命有机硅季铵盐抗菌玻璃的制造工艺 |
JP7047171B1 (ja) | 2021-02-05 | 2022-04-04 | 住友化学株式会社 | 積層体 |
WO2022168660A1 (ja) * | 2021-02-05 | 2022-08-11 | 住友化学株式会社 | 積層体 |
DE112022005217T5 (de) | 2021-11-29 | 2024-08-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Beschichtungszusammensetzung und Gegenstand |
KR20230152508A (ko) * | 2022-04-27 | 2023-11-03 | 엘지전자 주식회사 | 고내열성 항균 유리 조성물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 사출물 |
WO2024091448A1 (en) * | 2022-10-24 | 2024-05-02 | Microban Products Company | Durable omniphobic and/or hydrophobic antimicrobial coating |
CN116496653B (zh) * | 2023-04-25 | 2024-07-19 | 厦门耀铭科技有限公司 | 一种含紫外线吸收剂接枝纳米二氧化硅防雾液的制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009123020A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 株式会社クレハ | 銅塩組成物、並びに、これを用いた樹脂組成物、赤外吸収膜及び光学部材 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2856754B2 (ja) * | 1989-02-17 | 1999-02-10 | 株式会社東芝 | 紫外線抑制発光源、紫外線抑制発光源用塗布剤、及び紫外線抑制発光源の製造方法 |
JP2776259B2 (ja) * | 1994-08-31 | 1998-07-16 | 松下電工株式会社 | 抗菌性無機塗料 |
EP0882555B1 (en) * | 1997-06-04 | 2005-04-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Methods for preparing antibacterial/antifungal compositions of wood with inorganic matter |
JPH11199777A (ja) * | 1998-01-14 | 1999-07-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 抗菌・防カビ性オルガノポリシロキサン組成物 |
JP2000159509A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-13 | Kansai Shingijutsu Kenkyusho:Kk | 無機粒子の製造方法および無機粒子 |
JP3926117B2 (ja) * | 2001-07-17 | 2007-06-06 | リンテック株式会社 | ハードコートフィルム |
CN102892851A (zh) * | 2010-05-14 | 2013-01-23 | 旭硝子株式会社 | 紫外线吸收膜形成用涂布液和紫外线吸收玻璃物品 |
EP2690145A4 (en) * | 2011-03-24 | 2014-10-08 | Asahi Glass Co Ltd | LIQUID COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND GLASS ARTICLE |
-
2014
- 2014-04-28 JP JP2014093200A patent/JP2017025120A/ja active Pending
-
2015
- 2015-04-22 CN CN201580023990.3A patent/CN106255727B/zh active Active
- 2015-04-22 WO PCT/JP2015/062251 patent/WO2015166858A1/ja active Application Filing
- 2015-04-22 JP JP2016516338A patent/JP6481685B2/ja active Active
- 2015-04-22 EP EP15785890.3A patent/EP3138880A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009123020A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 株式会社クレハ | 銅塩組成物、並びに、これを用いた樹脂組成物、赤外吸収膜及び光学部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017025120A (ja) | 2017-02-02 |
CN106255727B (zh) | 2021-06-15 |
EP3138880A4 (en) | 2017-11-15 |
EP3138880A1 (en) | 2017-03-08 |
CN106255727A (zh) | 2016-12-21 |
WO2015166858A1 (ja) | 2015-11-05 |
JP6481685B2 (ja) | 2019-03-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6481685B2 (ja) | 液状組成物および抗菌性物品 | |
JPWO2015166858A6 (ja) | 液状組成物および抗菌性物品 | |
US10450223B2 (en) | Coating solution for forming ultraviolet-absorbing film, and ultraviolet-absorbing glass article | |
CN103443224B (zh) | 液状组合物及其制造方法以及玻璃物品 | |
US10301214B2 (en) | Liquid composition, glass article and method of forming coating film | |
US9783455B2 (en) | Liquid composition and glass article | |
WO2011142463A1 (ja) | 紫外線吸収膜形成用塗布液および紫外線吸収ガラス物品 | |
JP6617699B2 (ja) | ガラス物品 | |
WO2015166863A1 (ja) | 液状組成物およびガラス物品 | |
JP2017136696A (ja) | 被膜つき透明基体 | |
WO2015174373A1 (ja) | 防曇性物品および輸送機器用物品 | |
WO2017154703A1 (ja) | 被膜つき透明基体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170405 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181002 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20181115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190115 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190128 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6481685 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |